JP3251343B2 - 縦型熱処理装置 - Google Patents

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明は、縦型熱処理装置に関す
る。

【０００２】

【従来の技術】一般に、半導体ウエハに対して熱拡散や
ＣＶＤ等の熱処理を施す場合には、多数枚のウエハを縦
方向に所定間隔を隔ててウエハボートに搭載し、ウエハ
の搭載されたウエハボートを保温筒に載置して、これを
搬出搬入機構を介して反応容器内に搬入する。そして、
ウエハボートの下方に設けた回転機構を駆動することに
よりウエハボートを回転させながら、この反応容器内に
処理ガスを導入し、各ウエハに所望の熱処理を施すよう
になっている。

【０００３】これを図４及び図５に基づいて説明する
と、天井部を有し底部が開放されて円筒体状に形成され
た石英製の反応容器２内の処理空間Ｓには、石英製の保
温筒４上に載置された石英製のウエハボート６が設けら
れている。このウエハボート６内には、多数、例えば５
０枚程度の半導体ウエハＷが上下方向に所定の間隔を隔
てて積層されている。そして、反応容器２の下部の一側
には、この処理容器Ｓ内にＨＣｌガスやＣＦ系のガスな
どの処理ガスを導入するために図示しない処理ガス源に
接続された処理ガス導入管８が接続されると共に他側に
は図示しない真空ポンプ等に接続されたガス排出管１０
が接続されている。反応容器２の底部は、例えばステン
レス等よりなる底板１２がＯリング１４を介して着脱可
能に取り付けられており、反応容器２内を密閉状態にし
得るようになされている。この底板１２全体は例えばボ
ールベアリング等よりなる昇降手段１５により上下動可
能になされている。

【０００４】図５に示すように底板１２の中央部には、
ウエハの熱処理時にウエハボート６を回転させるための
回転機構１３が取り付けられる。この回転機構１３は、
底板１２にボルト１７により取り付け固定された軸受ケ
ーシング１６を有しており、内部は処理空間Ｓに連通さ
れた軸受空間１８として構成される。この軸受空間１８
内には上下方向に所定の中心間距離Ｌ１を隔てて配置し
た２個の軸受２０を介して回転シャフト２２が回転可能
に支持されると共にこの回転シャフト２２の上端には保
温筒４が載置されている。そして、この２個の軸受２０
によりウエハ等の全体荷重を支承するようになってい
る。

【０００５】この軸受２０としては、処理空間Ｓ内の汚
染の原因となる潤滑油を使用しなくて済むように軸受２
０の外輪２０Ａ、内輪２０Ｂがステンレスにより形成さ
れると共に玉２０Ｃがセラミックにより構成された、い
わゆるセラミック軸受が用いられている。回転シャフト
２２の下部からは磁石取り付けシャフト２４が下方に延
びており、このシャフト２４には、その周方向に沿って
１２極に分割された従動側永久磁石２６が固定されてい
る。そして、上記軸受ケーシング１６の下端には、上記
従動側永久磁石２６を被った磁石ケーシング２８が連設
されると共に、この磁石ケーシング２８の下端部にはプ
ーリ用シャフト３０が取り付けられている。

【０００６】このプーリ用シャフト３０には、所定の中
心間距離Ｌ２になされた２つのプーリ用軸受３２を介し
てプーリ３４が回転可能に取り付けられている。このプ
ーリ３４はモータ３６の回転軸との間に介設されたベル
ト３８により回転駆動される。また、プーリ３４には、
上記磁石ケーシング２８の側部を、これより僅かに離間
させて被う容器状の駆動側磁石ケーシング４０が一体的
に設けられている。そして、このケーシング４０の内側
面には、上記従動側永久磁石２６に対向させてこれと磁
気的に結合する駆動側永久磁石４２がその周方向に、例
えば１２極に分割させて設けられている。

【０００７】従って、軸受ケーシング１６、磁石ケーシ
ング２８及びプーリ用シャフト３０は、底板１２側へ固
定されて動かず、プーリ３４を回転することによりこれ
と一体的に駆動側永久磁石４２はその周方向へ回転し、
これと同時にこの磁石４２に磁気的に結合されている従
動側永久磁石２６も回転してウエハボート６を回転する
ことになる。従って、磁気結合を用いることによって軸
受空間１８内を外気から密閉した状態で回転シャフト２
２に回転駆動力が伝達されることになる。尚、図示され
ていないが反応容器２の側部には加熱用ヒータが配置さ
れている。

【０００８】

【発明が解決しようとする課題】ところで、通常ウエハ
の熱処理は例えば１０００℃程度の高温、高真空状態で
行われ、処理ガスとしてはＨＣｌやＣＦ系等の腐食性ガ
スが使用される。従って、軸受２０や結合用の永久磁石
２６の近傍も２００℃程度の高温となる。そのため、従
動側永久磁石２６としては、耐熱性に優れて磁力も強い
例えば希土類元素よりなる磁石が用いられるが、この種
の磁石は比較的硬いが脆い特性を有するために、発生し
たパーティクルが軸受空間１８から処理空間Ｓに流れて
金属コンタミネーションを引き起こす場合が生ずる。こ
の磁石によるウエハの金属コンタミネーションを防止す
るために、従動側永久磁石２６の全体に渡って例えばニ
ッケルメッキのコーティングが施されている。

【０００９】しかしながら、このように永久磁石２６に
コーティングが施されていても、磁石が何らかの衝撃を
受けた時、或いは従動側永久磁石２６の組み付け時にコ
ーティングが剥離してパーティクルの発生及び金属コン
タミネーションを引き起こすという改善点を有してい
た。特に、コーティングの剥離により磁石材料が露出す
ると、軸受空間１８内に侵入する腐食性の処理ガスによ
り磁石が腐食され、ますますパーティクルを発生させる
という改善点を有していた。本発明は、以上のような問
題点に着目し、これを有効に解決すべく創案されたもの
である。本発明の目的は、回転機構から発生するパーテ
ィクルが処理空間内に侵入することを防止することがで
きる縦型熱処理装置を提供することにある。

【００１０】

【課題を解決するための手段】第１の発明は、上記問題
点を解決するために、処理空間内に収容されたウエハボ
ートを支える回転シャフトを、前記処理空間の下方に設
けた軸受空間内の軸受により回転可能に支持し、前記回
転シャフトに従動側永久磁石を形成すると共に前記軸受
空間の外側に前記従動側永久磁石と磁気的に結合しつつ
これを回転させる駆動側永久磁石を配置してなる縦型熱
処理装置において、前記軸受空間内の従動側永久磁石を
密閉状態で被うための被い部材を形成したものである。

【００１１】第２の発明は、上記問題点を解決するため
に、前記軸受及び従動側永久磁石よりも前記処理空間側
の軸受空間に臨ませて、この軸受空間内に不活性ガスを
導入する不活性ガス導入口と、導入された不活性ガスを
前記軸受空間内のパーティクルと共に排出するための不
活性ガス排出口とを設けたものである。 第３の発明は、
処理空間内に収容されたウエハボートを支える回転シャ
フトを、前記処理空間の下方に設けた固定側のケーシン
グとの間に介設される軸受を介して回転可能に支持した
縦型熱処理装置において、前記回転シャフトと前記ケー
シングとの間に形成される空間であって、前記軸受より
も前記処理空間側に位置する部分に臨ませて設けられて
不活性ガスを導入する不活性ガス導入口と、前記空間内
の雰囲気を排出するための不活性ガス排出口と、前記回
転シャフト内に形成されて前記空間の下部の雰囲気を前
記不活性ガス排出口に向けて流すための連通路と、を設
けるようにしたものである。

【００１２】

【作用】第１の発明によれば、駆動側永久磁石と磁気的
に結合されて従動する軸受空間内の従動側永久磁石は、
例えばステンレス箔等よりなる被い部材により完全に密
閉状態で被われるので、この永久磁石からコーティング
等が剥離してパーティクルが発生してもこれが処理空間
側に侵入することを防止することが可能となる。第２の
発明によれば、回転シャフトを支持する軸受を収容する
軸受空間において、軸受及び従動側永久磁石よりも処理
空間側に不活性ガス導入口及び不活性ガス排出口を設け
るようにしたので、上記永久磁石及び軸受から発生する
パーティクルは軸受空間内に導入された不活性ガスと共
に不活性ガス排出口から排出されてしまい、従って、パ
ーティクルが処理空間側に侵入することを防止すること
が可能となる。第３の発明によれば、処理空間側からこ
の軸受空間内側へ腐食性の処理ガスが侵入することを防
止することができる。このため、軸受空間内の金属材料
が腐食することを防止できる。

【００１３】

【実施例】以下に、本発明に係る縦型熱処理装置の一実
施例を添付図面に基づいて詳述する。図１は本発明に係
る縦型熱処理装置の回転機構を示す断面図、図２は本発
明の縦型熱処理装置を示す概略断面図である。尚、図４
及び図５に示す部分と同一部分については同一符号を付
す。まず、この縦型熱処理装置の全体は、図４に示す場
合と同様に構成されており、その全体構成を図２に基づ
いて説明する。

【００１４】この縦型熱処理装置４４は、天井部を有
し、底部が開放されて円筒体状に成形された反応容器２
を有し、この反応容器２内の処理空間Ｓには石英製の保
温筒４上に載置された石英製のウエハボート６が設けら
れる。このウエハボート６内には、例えば５０枚程度の
半導体ウエハＷが上下方向に所定の間隔を隔てて積層さ
せて収容されている。そして、反応容器２の下部の一側
には、処理空間Ｓ内にＨＣｌガスやＣＦ系のガスなどの
処理ガスを導入するために図示しない処理ガス源に接続
された処理ガス導入管８が接続されると共に他側には図
示しない真空ポンプ等に接続されたガス排出管１０が接
続されている。この反応容器２の側部には加熱用ヒータ
１１が配置されており、容器２内のウエハＷを加熱し得
るようになっている。

【００１５】反応容器２の底部は、例えばステンレス等
よりなる底板１２がＯリング１４を介して着脱可能に取
り付けられており、反応容器２内を密閉状態にし得るよ
う構成されている。この底板１２全体は、例えばボール
ベアリング等よりなる昇降手段１５により上下動可能に
なされている。図１にも示すようにこの底板１２の中央
部には、ウエハの熱処理時にウエハボート６を回転させ
るための本発明の特長とする回転機構４７が取り付けら
れる。

【００１６】具体的には、この回転機構４７は、底板１
２にボルト１７により取り付け固定された例えばステン
レス製の軸受ケーシング４６を有しており、この内部は
処理空間Ｓに連通されている。この軸受ケーシング４６
の下部には従動側永久磁石２６を収容するための例えば
ステンレス製の磁石ケーシング４８がその内部を連通さ
せて一体的に形成されると共にその下部は密閉されてい
る。従って、軸受ケーシング４６内と磁石ケーシング４
８内が連通されて軸受空間５０として構成される。この
軸受空間５０内には、その上端に保温筒４が載置される
回転シャフト５２が上下方向に挿入されており、この回
転シャフト５２の上部と軸受ケーシング４６の内壁の間
及び回転シャフト５２の下部と磁石ケーシング４８の内
壁の間にはそれぞれ軸受５４、５６が介設されて上記回
転シャフト５２を回転可能に支承している。この場合、
上側の大型の軸受５４によりウエハ等の上部構造体の全
体荷重を受けている。このように２つのセラミック軸受
５４、５６間の距離を大きく設定することにより回転シ
ャフト５２のガタツキを減少させることが可能となる。

【００１７】これらの軸受５４、５６としては、処理空
間Ｓ内の汚染の原因となる潤滑油を使用しなくて済むよ
うにその外輪５４Ａ、５６Ａ及び内輪５４Ｂ、５６Ｂが
ステンレスにより形成されると共に玉５４Ｃ、５６Ｃが
セラミックにより構成された、いわゆるセラミック軸受
が用いられている。２つのセラミック軸受５４、５６の
間の回転シャフト５２には、その周方向に沿って例えば
１２極に分割された従動側永久磁石２６が固設されてい
る。そして、上記磁石ケーシング４８の下端部にはプー
リ用シャフト５８が取り付けられると共にこのシャフト
５８には、プーリ用軸受６０を介してプーリ６３が回転
可能に取り付けられている。このプーリ６３はモータ３
６の回転軸との間に介設されたベルト３８により回転駆
動される。また、このプーリ６３には、上記磁石ケーシ
ング４８の側部を、これより僅かに離間させて被う容器
状の駆動側磁石ケーシング６２が一体的に設けられてい
る。そして、このケーシング６２の内側面には、上記従
動側永久磁石２６に対向させてこれと磁気的に結合する
駆動側永久磁石４２がその周方向に、例えば１２極に分
割させて設けられている。

【００１８】従って、軸受ケーシング４６、磁石ケーシ
ング４８及びプーリ用シャフト５８は底板１２側へ固定
されて動かず、プーリ６３を回転することによりこれと
一体的に駆動側永久磁石４２はその周方向へ回転し、こ
れと同時に磁石４２に磁気的に結合されている従動側永
久磁石２６も回転してウエハボート６を回転することに
なる。従って、磁気結合を用いることによって軸受空間
５０内を外気から密閉した状態で回転シャフト５２に回
転駆動力が伝達されることになる。そして、駆動側磁石
ケーシング６２の上部と軸受ケーシング４６の外周との
間には通常のプーリ用受軸６４が介設されており、２つ
のプーリ用受軸６０、６４との間の間隔を大きくとるこ
とにより、駆動側磁石ケーシング６２の回転ブレ等を抑
制するように構成されている。

【００１９】そして、上記従動側永久磁石２６を密閉状
態で被うために第１の発明の特長とする被い部材６６が
形成されている。具体的には、この被い部材６６は、上
記従動側永久磁石２６の上下の回転シャフト５２に取り
付けられて、その磁石２６の半径よりも大きくなされた
例えばステンレス製の一対のリング板６８と、これら上
下のリング板６８の外周側間に渡って溶接等によって接
続された例えばステンレス箔よりなる被い箔７０とによ
り構成されており、従動側永久磁石２６を完全に密閉
し、この内部と軸受空間５０との間の通気を遮断してお
り、内部で発生するパーティクル等が軸受空間５０内に
浮遊しないように構成されている。この被い部材６６の
材質としては、ステンレスに限定されず、高温に耐え、
しかも耐腐食性に優れた材料であればどのようなもので
もよい。

【００２０】また、上側のセラミック軸受５４及び従動
側永久磁石２６よりも上方、すなわち処理空間Ｓ側に位
置する軸受空間５０Ａに臨ませて、軸受ケーシング４６
には第２の発明の特長とする不活性ガス導入口７２と、
不活性ガス排出口７４が設けられる。具体的には、この
不活性ガス導入口７２には例えば直径約６ｍｍ程度のス
テンレス製の不活性ガス導入管７６が水平状態に接続さ
れると共にこの導入管７６には図示しないガス源が接続
されており、回転シャフト５２に対して垂直方向にガス
を導入するようになっている。不活性ガスとしては例え
ば窒素ガス（Ｎ₂ ）を使用することができるが、他にア
ルゴンガスやヘリウムガスを使用することができ、例え
ば０．５リットル／分程度の流量を流すようになってい
る。

【００２１】不活性ガス導入口７２に対向する回転シャ
フト５２の上下には、一対の環状のラビリンスリング７
８、８０が形成されており、処理空間Ｓ側すなわち上側
のラビリンスリング７８の直径は、セラミック軸受５４
側すなわち下側のラビリンスリング８０の直径よりも僅
かに大きく設定されており、これらラビリンスリング７
８、８０内にリング状の僅かに雰囲気圧力の高いラビリ
ンス空間８３を形成すると共に、上方よりも下方向に流
れる不活性ガスの流量が多くなるように設定されてい
る。

【００２２】そして、上記不活性ガス排出口７４は、回
転シャフト５２を中心として１８０°反対側に位置され
ると共に下側ラビリンスリング８０よりも僅かな距離だ
け下方へ位置されており、導入された不活性ガスをセラ
ミック軸受５４等から発生したパーティクルと伴に効率
的に排出し得るように構成されている。そして、この不
活性ガス排出口７４には、途中に図示しない真空ポンプ
等が介設された例えばステンレス製の不活性ガス排出管
８２が接続されている。また、上記回転シャフト５２に
は、その下端部の空間と上方の軸受空間５０Ａとを連通
するための連通路８４が形成されており、軸受空間５０
の下部の部分の雰囲気を上記不活性ガス排出口７４から
効率的に排出し得るように構成されている。

【００２３】次に、以上のように構成された本実施例の
動作について説明する。まず、多数枚の半導体ウエハＷ
を搭載したウエハボート６を昇降手段１５により上昇さ
せて反応容器２内に搬入し、底板１２により反応容器２
の下端開口部を密閉シールする。処理容器２内は、予め
加熱用ヒータ１１を作動させることにより所定の熱処理
温度例えば９００〜１２００℃に維持されており、処理
ガス導入管８から酸化或いは熱拡散等に必要な所定の処
理ガス、例えばＨＣｌガスやＣＦ系ガス及びキャリアガ
スを導入し、これと同時に図示しない真空ポンプにより
ガス排気管１０を介して反応容器２内を真空引きし、処
理空間Ｓを所定の圧力に維持し、所定の熱処理をウエハ
Ｗに施す。

【００２４】この熱処理を行っている間は、ウエハＷの
均熱処理を行うために、反応容器２の下部に設けた回転
機構４６を駆動し、ウエハボート６全体を例えば３〜５
回／ｒｐｍの割合で回転する。すなわち回転機構４６の
モータ３６を回転駆動することによりその回転力はベル
ト３８を介してプーリ６３に伝達され、プーリ６３及び
駆動側永久磁石４２の取り付けられた駆動側磁石ケーシ
ング６２を３〜５回／ｒｐｍの割合で回転させる。この
場合は、このケーシング６２は、比較的大きな距離だけ
離間された２つのプーリ用軸受６０、６４に支持されて
軸受ケーシング４６及び磁石ケーシング４８を固定軸と
してこの周囲を回転することになる。

【００２５】そして、駆動側磁石ケーシング６２が回転
するとこれに磁気的に結合されている従動側永久磁石２
６は、追従して回転し、この結果、回転シャフト５２は
２つの離間させて設けたセラミック軸受５４、５６にて
支持された状態で回転し、前述のようにウエハボート６
が回転することになる。また、セラミック軸受５４、５
６や従動側永久磁石２６の収容されている軸受空間５０
内は上方の処理空間Ｓ側と連通されており、この軸受空
間５０内には不活性ガス導入管７６を介して窒素ガス等
の不活性ガスが例えば０．５リットル／ｍｉｎの流量で
導入されると共に不活性ガス排出管８２からは導入され
た不活性ガスが真空引きされて排出されている。

【００２６】このような状態において、コーティング処
理された従動側永久磁石２６から、この組み付け時や何
らかの衝撃によってパーティクルが発生したとしても、
この磁石２６はステンレス等よりなる被い部材６６によ
り完全に密閉されて被い部材内部の雰囲気が軸受空間５
０内へ洩出しないようになされているので、磁石２６に
て発生したパーティクルが処理空間Ｓ側へ侵入すること
を確実に阻止することができる。また、上記被い部材６
６の作用により、処理空間Ｓ側から腐食性処理ガスの侵
入してくる可能性のある軸受空間５０内の雰囲気により
従動側永久磁石２６が曝されることも防止することがで
きるので、腐食し易い希土類元素からなる磁石２６が腐
食されることを防止することもできる。

【００２７】このように、従動側永久磁石２６は被い部
材６６により完全に密閉されてしまうので、この磁石２
６に起因して発生するパーティクルはこの被い部材６６
内に閉じ込められてしまい、外部に影響を及ぼすことを
阻止でき、これに起因する金属コンタミネーションを防
止できる。一方、回転シャフト５２の回転にともなって
２つのセラミック軸受５４、５６からはセラミックの玉
５４Ｃ、５６Ｃよりも軟らかいステンレス製の外輪５４
Ａ、５６Ａ及び内輪５４Ｂ、５６Ｂからパーティクルが
発生する傾向となるが、これら軸受よりも処理空間Ｓ側
の軸受空間５０Ａには窒素ガスなどの不活性ガスが導入
されているので、発生したパーティクルはこの不活性ガ
スと伴に不活性ガス排出管８２から排出されるので、こ
のパーティクルが処理空間Ｓ側に侵入して金属コンタミ
ネーションを引き起こすことを防止することができる。
また、万一被い部材６６が破損等して磁石２６からのパ
ーティクルが洩出しても、そのパーティクルは排出管８
２から排出される。

【００２８】特に、この不活性ガスの導入に際して、不
活性ガス導入口７２に対向する部分には環状のラビリン
ス空間８３が設けてあるのでこの空間８３における雰囲
気圧力が周囲よりも幾分高くなり、従って、このラビリ
ンス空間８３を中心として矢印Ａ及び矢印Ｂに示すよう
に上下方向への不活性ガスの流れを強制的に生ぜしめて
いる。しかも、下側のラビリンスリング８０よりも僅か
に下方に位置する箇所に不活性ガス排出口７４を位置さ
せているので、矢印Ｂに示す下方向へのガス流によって
セラミック軸受５４、５６から発生するパーティクルが
不活性ガス排出口７４に向けて案内されて排出されてし
まい、結果的に、このパーティクルが上方の処理空間Ｓ
側へ侵入する可能性を大幅に減らすことができる。更に
は、下側のラビリンス８０の径を上側のラビリンス７８
の径よりも小さく設定することにより下側ラビリンス８
０の周縁部と軸受ケーシング４６の内壁との間の間隔を
その上側の間隔よりも大きく設定しているので、矢印Ｂ
に示す下方向への不活性ガス流量が多くなり、その結
果、上方へのパーティクルの侵入を確実に阻止すること
ができる。

【００２９】また、矢印Ａに示すように上方向への不活
性ガスのガス流により処理空間Ｓ側からこの軸受空間５
０内側へ腐食性の処理ガスが侵入することを防止するこ
とができる。このため、軸受空間５０内の金属材料が腐
食することを防止でき、特に、被い部材６６が破損して
いても内部の磁石２６と処理ガスとの接触を断つことが
できるので、この磁石自体が腐食することを防止するこ
とができる。尚、導入される不活性ガスの種類及び流量
は、熱処理中のウエハＷに施されるプロセス条件に影響
を与えない種類及び流量が選択される。また、軸受空間
５０の下部は、下部のセラミック軸受５６から発生する
パーティクルを含んだ雰囲気が澱む傾向となるが、この
部分の空気は回転シャフト５２に形成した連通路８４を
介して不活性ガス排出管８２側へ吸引されるので下部の
セラミック軸受５６にて発生するパーティクルを効率的
に排出することが可能となる。

【００３０】また、回転シャフト５２や駆動側磁石ケー
シング６２に対する各種軸受は、熱処理時、例えば２０
０℃において軸受の玉が精度良く締められるように寸法
設定される。そのため、ウエハ移載を行う時など常温に
て軸受を回転させる場合には、軸受自体に僅かではある
がガタが生じ、回転シャフト５２や駆動側磁石ケーシン
グ６２に僅かなガタツキを生ずる可能性が発生する。し
かしながら、本実施例にあっては、２つのセラミック軸
受５４、５６間及び２つの通常のプーリ用軸受６０、６
４間に従来装置と比較してそれぞれ所定の大きなスパン
を設けて回転シャフト５２及び駆動側磁石ケーシング６
２を支持させるようにしたので室温回転時におけるこれ
らのガタツキを大幅に抑制することが可能となる。

【００３１】尚、上記実施例にあっては、第１の発明の
特長である被い部材６６と第２の発明の特長である不活
性ガス導入口７６及び不活性ガス排出口７４をともに設
けた場合について説明したが、これらの内のいずれか１
つの構成を設けるようにしてもよい。また、上記実施例
にあっては、各軸受を上下に離間させて所定のスパンを
設けた構造の回転機構に本発明を適用した場合について
説明したが、これに限定されず、図３に示すように、図
５の従来装置で説明したと同様な構成の回転機構に、例
えば被い部材６６や不活性ガス導入口、不活性ガス排出
口（図示せず）を設けるようにしてもよい。

【００３２】

【発明の効果】以上説明したように、本発明の縦型熱処
理装置によれば、次のような優れた作用効果を発揮する
ことができる。第１の発明によれば、磁気結合の従動側
永久磁石を被い部材で被うようにしたので、磁石より発
生するパーティクルを閉じ込めてこれが処理空間に侵入
するのを防止することができ、金属コンタミネーション
の発生を抑制することができる。第２の発明によれば、
軸受空間内に不活性ガスを導入し、これより排出させる
ことにより発生するパーティクルを除去するようにした
ので、軸受空間内で発生するパーティクルを処理空間に
侵入するのを防止することができ、金属コンタミネーシ
ョンの発生を抑制することができる。第３の発明によれ
ば、処理空間側からこの軸受空間内側へ腐食性の処理ガ
スが侵入することを防止することができる。このため、
軸受空間内の金属材料が腐食することを防止できる。ま
た、特に第３の発明によれば、軸受空間にて発生したパ
ーティクルを回転シャフトに形成した連通路を介して系
外へ排出することができる。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明に係る縦型熱処理装置の回転機構を示す
断面図である。

【図２】本発明に係る縦型熱処理装置を示す概略断面図
である。

【図３】本発明の変形例の回転機構を示す断面図であ
る。

【図４】従来の縦型熱処理装置を示す概略断面図であ
る。

【図５】従来の縦型熱処理装置の回転機構を示す断面図
である。

【符号の説明】

２ 反応容器 ６ ウエハボート ２６ 従動側永久磁石 ４２ 駆動側永久磁石 ４８ 磁石ケーシング ５０ 軸受空間 ５２ 回転シャフト ５４，５６ セラミック軸受 ６２ 駆動側磁石ケーシング ６６ 被い部材 ６８ リング板 ７０ 被い箔 ７２ 不活性ガス導入口 ７４ 不活性ガス排出口 ７６ 不活性ガス導入管 ８２ 不活性ガス排出管 ８３ ラビリンス空間

Claims (3)

(57)【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 処理空間内に収容されたウエハボートを
   支える回転シャフトを、前記処理空間の下方に設けた軸
   受空間内の軸受により回転可能に支持し、前記回転シャ
   フトに従動側永久磁石を形成すると共に前記軸受空間の
   外側に前記従動側永久磁石と磁気的に結合しつつこれを
   回転させる駆動側永久磁石を配置してなる縦型熱処理装
   置において、前記軸受空間内の従動側永久磁石を密閉状
   態で被うための被い部材を形成したことを特徴とする縦
   型熱処理装置。
2. 【請求項２】 前記軸受及び従動側永久磁石よりも前記
   処理空間側の軸受空間に臨ませて、この軸受空間内に不
   活性ガスを導入する不活性ガス導入口と、導入された不
   活性ガスを前記軸受空間内のパーティクルと共に排出す
   るための不活性ガス排出口とを設けたことを特徴とする
   請求項１記載の縦型熱処理装置。
3. 【請求項３】 処理空間内に収容されたウエハボートを
   支える回転シャフトを、前記処理空間の下方に設けた固
   定側のケーシングとの間に介設される軸受を介して回転
   可能に支持した縦型熱処理装置において、前記回転シャ
   フトと前記ケーシングとの間に形成される空間であっ
   て、前記軸受よりも前記処理空間側に位置する部分に臨
   ませて設けられて不活性ガスを導入する不活性ガス導入
   口と、前記空間内の雰囲気を排出するための不活性ガス
   排出口と、前記回転シャフト内に形成されて前記空間の
   下部の雰囲気を前記不活性ガス排出口に向けて流すため
   の連通路と、を設けたことを特徴とする縦型熱処理装
   置。