JP2000021784A - 処理容器およびヒーターの移替え治具および移替え方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】 処理容器およびヒーターの移替えを容易にす
る。 【解決手段】 熱処理装置Ｄの処理容器３およびヒータ
ー４を移替えるための治具４５であって、床面上を移動
可能な治具本体４６と、この治具本体４６から熱処理装
置Ｄ側に掛け渡されるレール部材４７と、このレール部
材４７に沿って治具本体４６上から熱処理装置Ｄ側へ進
退移動可能に設けられ処理容器３もしくはヒーター４を
載置して移動する移動台４８とを備えている。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、処理容器およびヒ
ーターの移替え治具および移替え方法に関する。

【０００２】

【従来の技術】半導体デバイスの製造プロセスにおいて
は、被処理基板である半導体ウエハに酸化、拡散、成
膜、アニール等の処理を施すために、各種の熱処理装置
が使用されている。この熱処理装置としては、一度に多
数枚のウエハの熱処理が可能なバッチ式の熱処理装置
と、ウエハを一枚ずつ熱処理する枚葉式の熱処理装置と
が知られている。特に、枚葉式熱処理装置は、ウエハの
面内均一な熱処理および急速な昇降温を要する熱処理が
比較的容易に可能であることから、ウエハサイズの大型
化および半導体素子の微細化に伴い多く使用されるよう
になってきている。

【０００３】この枚葉式熱処理装置は、基板保持部によ
り被処理基板を一枚ずつ下部の炉口から上昇させて所定
の熱処理を行う処理容器と、この処理容器を上方から覆
って加熱するヒーターと、前記処理容器から降下された
被処理基板の受渡しを行うために炉口を熱遮蔽する遮熱
シャッターを有するシャッター室とを備えて構成されて
いる。

【０００４】

【発明が解決しようとする課題】ところで、前記熱処理
装置においては、処理容器の洗浄等のための交換や、ヒ
ーターのメンテナンス等のために、これら処理容器およ
びヒーターを移替える必要が生じる場合がある。しかし
ながら、前記処理容器およびヒーターは、高い位置に設
置されているだけでなく、重量も比較的に重いことか
ら、これらを移替えるのに多くの手間がかかるという問
題がある。

【０００５】そこで、本発明は、前述した課題を解決す
べくなされたもので、処理容器およびヒーターの移替え
が容易にできる処理容器およびヒーターの移替え治具お
よび移替え方法を提供することを目的としている。

【０００６】

【課題を解決するための手段】本発明のうち請求項１に
係る発明は、熱処理装置の処理容器およびヒーターを移
替えるための治具であって、床面上を移動可能な治具本
体と、この治具本体から熱処理装置側に掛け渡されるレ
ール部材と、このレール部材に沿って治具本体上から熱
処理装置側へ進退移動可能に設けられ処理容器もしくは
ヒーターを載置して移動する移動台とを備えたことを特
徴とする。

【０００７】請求項２に係る発明は、請求項１記載の処
理容器およびヒーターの移替え治具において、前記治具
本体には、治具本体から熱処理装置側へ進退して移動台
の両側部をスライド可能に案内するスライドガイドが設
けられていることを特徴とする。

【０００８】請求項３に係る発明は、請求項１記載の処
理容器およびヒーターの移替え治具において、前記治具
本体には、治具本体上に移動された移動台から処理容器
を下方へ移動するための昇降機構が設けられていること
を特徴とする。

【０００９】請求項４に係る発明は、熱処理装置の処理
容器およびヒーターを移替える方法であって、床面上を
移動可能な移替え治具を前記熱処理装置に接近させ、こ
の移替え治具上から熱処理装置側に移動台を移動させ、
この移動台上に前記処理容器もしくはヒーターを載置し
て熱処理装置側から移替え治具上に移動させ、この移替
え治具により処理容器およびヒーターを搬送して移替え
ることを特徴とする。

【００１０】

【発明の実施の形態】以下に、本発明を添付図面に基い
て詳述する。図１は本発明の実施の形態である移替え治
具を示す側面図、図２は図１のＡ−Ａ線断面図、図３は
図１のＢ−Ｂ矢視正面図、図４は処理容器を移替え治具
上に移動した状態を示す断面図、図５は図４のＣ−Ｃ矢
視断面図、図６は枚葉式熱処理装置の全体の構成を概略
的に示す側面図、図７は同熱処理装置の全体の構成を概
略的に示す平面図、図８は同熱処理装置の要部を示す縦
断面図である。

【００１１】枚葉式熱処理装置Ｄは、図８に示すよう
に、被処理基板である例えば半導体ウエハＷを基板保持
部（ウエハホルダーともいう）１により支持して一枚ず
つ下部の炉口２から上昇させて所定の熱処理、例えば酸
化処理等を行うための熱処理炉を構成する処理容器３を
備えている。この処理容器３の周囲には、これを上方か
ら覆って加熱するためのヒーター４が設けられており、
処理容器３の下部には処理容器３から降下された処理済
みウエハＷの受渡しを行うために、炉口２を熱遮蔽する
遮熱シャッター５を有するシャッター室６が設けられて
いる。

【００１２】前記処理容器３は、上端が閉塞され下端が
開口された石英製の円筒状の反応管からなっている。こ
の処理容器３は、同心状に配置された外管３ａと内管３
ｂの二重管構成になっていることが好ましい。外管３ａ
の下側部には処理ガス等を外管３ａと内管３ｂとの間に
導入するためのガス導入ノズル７が設けられている。ガ
ス導入ノズル７には、処理ガス等のガス源に通じる配管
が接続される（図示省略）。外管３ａには、酸素（Ｏ
2）ガスをパージしてヒータ４からウエハＷへの重金属
汚染を抑制ないし防止するためのガスパージ部８が表面
を覆うように一体形成されていることが好ましい。

【００１３】内管３ｂの頂部（上端部）には，ガス流入
口９が形成されており、内管３ｂの下側部には処理ガス
等を排気するためのガス排気ノズル１０が外管３ａを貫
通して設けられている。ガス排気ノズル１０には、処理
容器３内を減圧処理、微減圧処理ないし常圧処理のため
に例えば５０〜７６０Ｔｏｒｒの範囲で減圧排気が可能
な真空ポンプを備えた排気系が接続されている（図示省
略）。

【００１４】前記内管３ｂは、シャッター室６の上面部
（ベースプレートともいう）に開口形成された炉口２と
連通するようにしてシャッター室６の上面部に載置さ
れ、フランジ押え１１により固定されている。前記外管
３ａは、前記内管３ｂのフランジ押え１１の上面部に載
置され、フランジ押え１２により固定されている。これ
ら内管３ｂと外管３ａからなる処理容器３は、洗浄等の
ために取外可能（交換可能）になっている。

【００１５】前記ヒータ４は、処理容器３の上方にウエ
ハＷと対向するように面状に配置された抵抗発熱体から
なる主発熱体１３と、ウエハＷの周囲を囲むように配置
された抵抗発熱体からなる補助発熱体１４とを備えてい
る。これら主発熱体１３および補助発熱体１４を個別に
制御することによりウエハＷを面内均一に加熱できるよ
うになっている。主発熱体１３および補助発熱体１４
は、例えば発熱量の大きい二ケイ化モリブデン等からな
っていることが好ましい。

【００１６】前記ヒータ４は、処理容器３に覆い被せら
れる、上部が閉塞された円筒状の断熱材１５を有し、こ
の断熱材１５の天井部と内周上側部に前記主発熱体１３
と補助発熱体１４が取付けられている。また、断熱材１
５の内側には、発熱体１３，１４からウエハＷへの重金
属汚染の抑制ないし防止と、均熱性を図るために、例え
ば炭化ケイ素（ＳｉＣ）からなる均熱壁１６が設けられ
ていることが好ましい。また、断熱材１５の外側は、図
示しない冷却ジャケットで覆われている。前記ヒータ４
は、外管３ａのフランジ押え１２の上方に環状の断熱体
１７を介して支持されていると共に、内管３ｂのフラン
ジ押え１１にボルト１８で連結されて固定されている。

【００１７】前記シャッター室６は、金属材例えばアル
ミニウム合金により形成されている。このシャッター室
６内の露出部には、腐食性ガスの接触による腐食を防止
するために耐食性を有する被覆材がコーティングされて
いる（図示省略）。また、シャッター室６の壁部には、
内壁面に付着した腐食性ガスの結露を防止すべく内壁面
を所定の温度例えば１２０℃程度に加熱するための加熱
手段として、熱媒体温度制御装置であるチラーにより所
定の温度に制御された熱媒体例えばガルデン（商品名）
を循環させるため熱媒体通路１９が設けられている。

【００１８】前記基板保持部１は、ウエハＷを水平に載
置可能な形状に例えば石英により形成されており、下部
には例えば不透明石英からなる遮熱板２０を介して例え
ば石英製の昇降軸２１が連結されている。前記シャッタ
ー室６の底部には、処理容器３内から降下搬出された前
記基板保持部１の遮熱板２０を収容するための補助室２
２が設けられており、この補助室２２の底部を垂直に前
記昇降軸２１が昇降可能に貫通している。

【００１９】補助室２２の底部には、昇降軸２１の貫通
部をシールするための例えばＮ_２等の不活性ガスシール
からなる軸シール部材２５が設けられている。この軸シ
ール部材２５は、Ｎ_２等でのパージが可能であり、例え
ば９０〜１２０℃に温度制御されている。また、シール
性を向上させるために、軸シール部材２３と昇降機構２
４の昇降アーム２５との間には昇降軸２１を覆うように
ベローズ（図示省略）が設けられていることが好まし
い。前記昇降軸２１の下端は、ボールネジおよびリニア
ガイドからなる昇降機構２４の昇降アーム２５に連結さ
れており、これにより基板保持部１の昇降が行われるよ
うになっている。

【００２０】前記遮熱シャッター５は、炉口２を非接触
で開閉すべく一端の回動軸２６を中心に水平回動可能に
シャッター室６内に設けられている。この回動軸２６
は、シャッター室６の底部を回動可能に貫通しており、
シャッター室６の底部には、前記回動軸２６の貫通部を
シールするための例えば磁性流体シールからなる軸シー
ル部材２７が設けられている。前記回動軸２６には、モ
ータ等の回動機構２８が連結されている。

【００２１】遮熱シャッター５には、ウエハＷを移替え
が可能な温度例えば６００℃以下に冷却するために、遮
熱シャッターを所定の温度、例えば１００〜１５０℃程
度に冷却するために、熱媒体を循環させるための熱媒体
通路２９が遮熱シャッター５の全面に渡って設けられて
いる。この熱媒体通路２９を設けるには、遮熱シャッタ
ー５を厚さ方向に二分割して、その分割面に熱媒体通路
２９を加工した後、両者をろう付けにより結合すればよ
い。前記シャッター室６の熱媒体通路１９に供給される
熱媒体と、前記遮熱シャッター５の熱媒体通路２９に供
給される熱媒体とは、例えばチラーにより個別に温度制
御されるようになっている。前記遮熱シャッター５の表
面には、耐熱性および耐食性のために、例えばセラミッ
クコート等が施されている。

【００２２】前記遮熱シャッター５は、炉口２を覆う遮
熱体３０を上面部に有している。遮熱シャッター５およ
び遮熱体３０は、炉口２からウエハＷに入射する副遮熱
を遮断するために炉口２の口径よりも大きく形成されて
いることが好ましい。この遮熱体３０は、耐熱性および
耐食性に優れ、しかも輻射熱を通さない材料、例えば内
部に多数の気泡を有する不透明石英からなる厚さの薄い
複数枚の遮熱板３０ａと、これら遮熱板３０ａを上下方
向に適宜間隔で積層した状態に支持するスペーサ部材３
０ｂとから構成されている。

【００２３】前記遮熱体３０は、洗浄や交換等のメンテ
ナンスのために遮熱シャッター５の上面部に着脱可能に
取付けられている。前記シャッター室６の側部（一側
部）には、遮熱シャッター５の一部が突出可能なメンテ
ナンス用の開口部３１が設けられ、遮熱シャッター５や
遮熱体３０のメンテナンスが容易にできるようになって
いる。前記開口部３１には、これを開閉可能に塞ぐ蓋３
２が取付けられている。

【００２４】また、前記シャッター室６の側部（他側
部）には、基板保持部１をシャッター室６内に降下さ
せ、遮熱シャッター５を閉じた状態で、側方から基板保
持部１に対するウエハＷの受渡しを行うための搬出入口
３３が設けられ、この搬出入口３３にはウエハＷの移替
えを行う多関節アームからなる移替えアーム（基板移替
えアーム）３４を内部に具備した移替え室３５がゲート
バルブ３６を介して連結されている（図７参照）。移替
え室３５の周囲には、図７に示すように、前記シャッタ
ー室６の他に、複数枚例えば２５枚程度のウエハＷを収
納したカセット（図示省略）を気密に収容してセットす
るためのカセット室３７と、シャッター室６で移替え可
能な温度まで冷却された処理済みのウエハＷを更にカセ
ットに収納可能な温度例えば１００℃程度に冷却するた
めの基板冷却室３８とが設けられている。

【００２５】前記シャッター室６、基板冷却室３８およ
びカセット室３７は、移替え室３５を中心としてその周
囲に配置されており、ウエハＷを効率よく移替えできる
ように構成されている。そして、前記移替え室３５の移
替えアーム３４は、カセット室３７のカセットから未処
理のウエハＷを取り出してシャッター室６の基板保持部
１に移載し、熱処理後に基板保持部１から処理済みのウ
エハＷを受け取り前記基板冷却室３８を介してカセット
に戻すように構成されている。この場合、基板冷却室３
８でウエハＷを冷却している間に、カセット室３７のカ
セットから未処理のウエハＷを取り出してカセット室６
内の基板保持部１上に移載するようにすることがスルー
プットの向上を図る上で好ましい。

【００２６】前記シャッター室６の近傍には、図７に示
すように、そのメンテナンス用の開口部３１に臨んでメ
ンテナンスエリア３９が設けられている。従来の熱処理
装置では後方および側方の多方向をメンテナンスエリア
として確保しておかなければならなかったが、本発明の
熱処理装置においては一方向のみで容易にメンテナンス
が可能である。このメンテナンスエリア４３を囲むよう
に処理ガス等の供給を行うガスユニット、制御ボック
ス、チラー等を含む熱媒体制御分配ユニット等が配設さ
れている（図示省略）。また、前記ヒーター４の近傍に
は、図６に示すように、ヒーター４を取り囲むように架
台４３が立設されており、この架台４３には、ヒーター
４の周囲を着脱可能に支持して昇降移動するためのヒー
ター昇降機構４４が設けられている。

【００２７】このように構成された枚葉式熱処理装置Ｄ
における処理容器３の交換やヒーター４のメンテナンス
等を行うために、処理容器３およびヒーター４を移替え
るための移替え治具４５が用いられる（図１参照）。処
理容器３の交換等を行う場合、移替え治具４５はメンテ
ナンスエリア３９から前記熱処理装置Ｄに接近される。
この移替え治具４５は、図１ないし図２に示すように、
床面上を移動可能な治具本体４６と、この治具本体４６
から熱処理装置Ｄ側に掛け渡されるレール部材４７と、
このレール部材４７に沿って治具本体４６上から熱処理
装置Ｄ側へ進退移動可能に設けられ処理容器３もしくは
ヒーター４を載置して移動する移動台４８とを備えてい
る。

【００２８】前記治具本体４６は、金属製例えばステン
レススチール製のフレームにより前記熱処理装置Ｄの処
理容器３の設置面とほぼ同じ高さの直方体状に形成され
ており、下部に走行移動用のキャスター４９を有してい
る。治具本体４６の上部には、処理容器３が上下方向に
通過可能な開口部５０を有する固定プレート５１が設け
られ、固定プレート５１の両側部および後部には、側枠
５２および後枠５３が設けられている。

【００２９】また、治具本体４６を架台４３に対して位
置決め固定する位置決め固定手段として、図４にも示す
ように、架台４３には基準部材５４が複数例えば３個所
設けられ、治具本体４６には基準部材５４と対応する位
置に位置決め固定部材５５が設けられている。前記基準
部材５４は凹部５６とネジ孔５７を有しているのに対
し、前記位置決め固定部材５５はその凹部５６に係合す
る凸部と５８、ネジ孔５７に螺合する固定ネジ５９を有
している。

【００３０】前記レール部材４７は、治具本体４６の上
部前縁部の両側に一対、処理容器３の両側に位置するよ
うに前方へ平行に張り出した状態に着脱可能に取付けら
れ、不使用時（例えば移替え治具４５の移動時）には取
外せるようになっている。治具本体４６の上部前縁部の
両側には、レール部材４７の基端部を嵌合するための突
軸６０が上向きに突設されている。レール部材４７の先
端部を支持するために、図３にも示すように、シャッタ
ー室６の下部に設けられた支持プレート６１上には、シ
ャッター室６上の処理容器３よりも奥側へ位置される水
平な支持枠６２が支柱６３を介して取付けられている。
この支持枠６２の左右両端部には、レール部材４７の先
端部を係止するための支軸６４が突設されている。

【００３１】前記移動台４８は、前記固定プレート５１
と同様に処理容器３が上下方向に通過可能な開口部６５
を有する台板６６を備えており、この台板６６の周縁部
には周縁枠すなわち前枠６７、後枠６８および両側の側
枠６９が設けられている。移動台４８の両側枠６９の下
部には、前記レール部材４７上を走行する車輪７０が取
付けられている。移動台４８の台板６６上には、処理容
器３が開口部６５から落下しないように係止する係止部
材例えばフランジ押え１２を介して載置されるようにな
っている。なお、ヒーター４は、移動台４８の周縁枠６
７〜６９上に掛け渡される図示しない載置板を介して載
置されるようになっている。

【００３２】移動台４８を治具本体４６上からレール部
材４７上にまたはその逆に円滑且つ正確に移動可能に支
持するために、治具本体４６には治具本体４６から熱処
理装置Ｄ側へ進退して前記移動台４８の両側部をスライ
ド可能に案内する左右一対のスライドガイド７１が設け
られている。両スライドガイド７１は、治具本体４６上
の両側枠５２の内側にリニアガイド７２を介して水平前
後方向にスライド可能に支持されており、両スライドガ
イド７１の内側にリニアガイド７３を介して移動台４８
の両側枠６９が水平前後方向にスライド可能に支持され
ている。両スライドガイド７１の後端部は、連結枠７４
を介して互いに連結されている。

【００３３】架台４３側の支持枠６２には、熱処理装置
Ｄ側へ前進移動された移動台４８を当接させて位置決め
停止させるためのストッパー７５が設けらており、移動
台４８の前枠６７には、そのストッパー７５に螺合して
移動台４８を固定するための固定ネジ７６が取付けられ
ている。また、治具本体４６側へ後退移動された移動台
４８は、治具本体４６上の後枠５３に当接してを位置決
め停止されるようになっており、この後枠５３には移動
台４８の後枠６８に螺合して移動台４８を固定するため
の固定ネジ７７が取付けられている。

【００３４】移動台４８により治具本体４６上に移動さ
れた処理容器３の取扱いが低い位置で容易に行えるよう
にするために、前記治具本体４６には移動台４８から下
方へ移動するための昇降機構（処理容器昇降機構ともい
う）７８が設けられている。この昇降機構７８は、図
１、図４ないし図５に示すように、ハンドル７９の回転
操作によりベベルギア８０を介して回転駆動される垂直
なボールネジ８１と、リニアガイド８２とによって昇降
移動される昇降アーム８３を有している。

【００３５】この昇降アーム８３には、台座８４を介し
て複数例えば４本の支持棒８５が立設され、これら支持
棒８５の上端部には、軸芯が一致された固定プレート５
１と移動台４８の開口部５０，６５を通過して処理容器
３の底部を支持するための支持体８６が取付けられてい
る。前記台座８４および支持体８６は、処理容器３に対
して軸心合せができるように前後左右方向の移動調整が
可能に構成されていることが好ましい。なお、昇降機構
７８の上部と下部には、ボールネジ８１等に塵埃が付着
しないように昇降アーム８３と連動して前面を覆う無端
状のカバー材８７を巻き掛けるドラム８８，８９が設け
られている。

【００３６】次に、前記移替え治具４５を用いて処理容
器３およびヒーター４の移替えを行う場合について説明
する。先ず、移替え治具４５を走行移動させてメンテナ
ンスエリア３９から熱処理装置Ｄに接近させ、位置決め
手段である基準部材５４と位置決め固定部材５５を用い
て治具本体４６を架台４３に位置決め固定する。治具本
体４６の固定後、レール部材４７の基端部を治具本体４
６の突軸６０に嵌合させると共にレール部材４７の先端
部を熱処理装置Ｄ側の支軸６４に係止することにより、
一対のレール部材４７を治具本体４６から熱処理装置Ｄ
側に掛け渡した状態にセットする。

【００３７】また、シャッター室６に対するヒーター４
および処理容器３の固定を解除し、ヒーター昇降機構４
４によりヒーター４と共に処理容器３をシャッター室６
上から予め上昇させておく。この状態で、前記移動台４
８を治具本体４６上からレール部材４７に沿って熱処理
装置Ｄ側へ移動させ、その移動台４８上に処理容器３を
降下させて載置する。この作業時に、移動台４８が勝手
に移動しないように移動台４８をストッパー７５に固定
ネジ７６で固定しておくことが好ましい。

【００３８】前記処理容器３は、ヒーター昇降機構４４
によりヒーター４と共に降下され、移動台４８の台板６
６上に係止部材であるフランジ押え１１を介して載置さ
れる。処理容器３を移動台４８上に載置したなら、ヒー
ター４と処理容器３の連結を解除し、ヒーター４のみを
ヒーター昇降機構４４により上昇退避させる。そして、
処理容器３を移動台４８ごと治具本体４６上に移動し、
昇降機構７８により支持体８６を固定プレート５１およ
び移動台４８の開口部５０，６５から上昇させて処理容
器３を持ち上げ、係止部材であるフランジ押え１１を取
外してから処理容器３を下方へ降下させればよい。この
作業時あるいは移替え治具４５の移動時には、移動台４
８が勝手に移動しないように移動台４８を固定ネジ７７
で治具本体４６の後枠５３に固定しておくことが好まし
い。

【００３９】ヒーター４を処理容器３と一緒に移替える
場合には、前記移動台４８を再度熱処理装置Ｄ側へ移動
させ、ヒーター昇降機構４４によりヒーター４を降下さ
せ、移動台４８上に図示しない載置板を介して載置し、
ヒーター４を移動台４８ごと治具本体４６上に移動すれ
ばよく、一台の移替え治具４５で処理容器３とヒーター
４の移替えを容易に行うことができる。移替え治具４５
上に処理容器３およびヒーター４を載せたなら、レール
部材４７を取外すと共に位置決め固定手段である基準部
材５４と位置決め固定部材５５による固定を解除し、移
替え治具４５により処理容器３およびヒーター４を所定
の場所へ搬送し、処理容器３およびヒーター４を移替え
治具４５から降ろして処理容器３の洗浄やヒーター４の
メンテナンス等を行えばよい。

【００４０】洗浄の済んだ処理容器３やメンテナンスの
済んだヒーター４を熱処理装置Ｄの元の位置に戻す場合
には、前述した手順とは逆の手順で行えばよい。なお、
前記移替え治具４５は、処理容器３の移替えとヒーター
４の移替えを別々に行うことも勿論可能である。

【００４１】このように前記移替え治具４によれば、床
面上を移動可能な治具本体４６と、この治具本体４６か
ら熱処理装置Ｄ側に掛け渡されるレール部材４７と、こ
のレール部材４７に沿って治具本体４６上から熱処理装
置Ｄ側へ進退移動可能に設けられ処理容器３もしくはヒ
ーター４を載置して移動する移動台４８とを備えている
ため、処理容器３およびヒーター４の移替えを容易に行
うことが可能となり、作業性の向上が図れる。

【００４２】また、前記治具本体４５には治具本体４６
から熱処理装置Ｄ側へ進退して移動台４８の両側部をス
ライド可能に案内するスライドガイド７１が設けられて
いるため、移動台４８を治具本体４６上からレール部材
４７上に円滑且つ正確に移動させることが可能となり、
作業性の更なる向上が図れる。更に、前記治具本体４６
には治具本体４６上に移動された移動台４８から処理容
器３を下方へ移動するための昇降機構７８が設けられて
いるため、処理容器３を低い位置で容易に取扱うことが
可能となり、作業性の更なる向上が図れる。

【００４３】以上、本発明の実施の形態を図面により詳
述してきたが、本発明は前記実施の形態に限定されるも
のではなく、本発明の要旨を逸脱しない範囲での種々の
設計変更等が可能である。例えば、被処理基板として
は、半導体ウエハに限定されず、例えばガラス基板、Ｌ
ＣＤ基板等であってもよい。また、本発明は、酸化以外
に、例えば窒化、ＣＶＤ、拡散、アニール等の各種の熱
処理にも適用可能である。更に、本発明は、枚葉式熱処
理装置以外に、バッチ式熱処理装置にも適用可能であ
る。

【００４４】

【発明の効果】以上要するに本発明によれば、次のよう
な効果を奏することができる。

【００４５】（１）請求項１に係る発明によれば、熱処
理装置の処理容器およびヒーターを移替えるための治具
であって、床面上を移動可能な治具本体と、この治具本
体から熱処理装置側に掛け渡されるレール部材と、この
レール部材に沿って治具本体上から熱処理装置側へ進退
移動可能に設けられ処理容器もしくはヒーターを載置し
て移動する移動台とを備えているため、処理容器および
ヒーターの移替えを容易に行うことが可能となり、作業
性の向上が図れる。

【００４６】（２）請求項２に係る発明によれば、請求
項１記載の処理容器およびヒーターの移替え治具におい
て、前記治具本体には、治具本体から熱処理装置側へ進
退して移動台の両側部をスライド可能に案内するスライ
ドガイドが設けられているため、移動台を治具本体上か
らレール部材上に円滑且つ正確に移動させることが可能
となり、作業性の更なる向上が図れる。

【００４７】（３）請求項３に係る発明によれば、請求
項１記載の処理容器およびヒーターの移替え治具におい
て、前記治具本体には、治具本体上に移動された移動台
から処理容器を下方へ移動するための昇降機構が設けら
れているため、処理容器を低い位置で容易に取扱うこと
が可能となり、作業性の更なる向上が図れる。

【００４８】（４）請求項４に係る発明によれば、熱処
理装置の処理容器およびヒーターを移替える方法であっ
て、床面上を移動可能な移替え治具を前記熱処理装置に
接近させ、この移替え治具上から熱処理装置側に移動台
を移動させ、この移動台上に前記処理容器もしくはヒー
ターを載置して熱処理装置側から移替え治具上に移動さ
せ、この移替え治具により処理容器およびヒーターを搬
送して移替えるようにしたので、熱処理装置の処理容器
およびヒーターを容易に移し替えることが可能となり、
作業性の向上が図れる。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明の実施の形態である移替え治具を示す側
面図である。

【図２】図１のＡ−Ａ線断面図である。

【図３】図１のＢ−Ｂ矢視正面図である。

【図４】処理容器を移替え治具上に移動した状態を示す
断面図である。

【図５】図４のＣ−Ｃ矢視断面図である。

【図６】枚葉式熱処理装置の全体の構成を概略的に示す
側面図である。

【図７】同熱処理装置の全体の構成を概略的に示す平面
図である。

【図８】同熱処理装置の要部を示す縦断面図である。

【符号の説明】

Ｄ 熱処理装置 ４５ 移替え治具 ４６ 治具本体 ４７ レール部材 ７１ スライドガイド ７８ 昇降機構

Claims (4)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 熱処理装置の処理容器およびヒーターを
   移替えるための治具であって、床面上を移動可能な治具
   本体と、この治具本体から熱処理装置側に掛け渡される
   レール部材と、このレール部材に沿って治具本体上から
   熱処理装置側へ進退移動可能に設けられ前記処理容器も
   しくはヒーターを載置して移動する移動台とを備えたこ
   とを特徴とする処理容器およびヒーターの移替え治具。
2. 【請求項２】 前記治具本体には、治具本体から熱処理
   装置側へ進退して移動台の両側部をスライド可能に案内
   するスライドガイドが設けられていることを特徴とする
   請求項１記載の処理容器およびヒーターの移替え治具。
3. 【請求項３】 前記治具本体には、治具本体上に移動さ
   れた移動台から処理容器を下方へ移動するための昇降機
   構が設けられていることを特徴とする請求項１記載の処
   理容器およびヒーターの移替え治具。
4. 【請求項４】 熱処理装置の処理容器およびヒーターを
   移替える方法であって、床面上を移動可能な移替え治具
   を前記熱処理装置に接近させ、この移替え治具上から熱
   処理装置側に移動台を移動させ、この移動台上に前記処
   理容器もしくはヒーターを載置して熱処理装置側から移
   替え治具上に移動させ、この移替え治具により処理容器
   およびヒーターを搬送して移替えることを特徴とする処
   理容器およびヒーターの移替え方法。