JP3281389B2 - イオン性化合物およびその化合物を用いたオレフィン重合用触媒 - Google Patents
イオン性化合物およびその化合物を用いたオレフィン重合用触媒Info
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- C08F4/44—Metals; Metal hydrides; Metallo-organic compounds; Use thereof as catalyst precursors selected from light metals, zinc, cadmium, mercury, copper, silver, gold, boron, gallium, indium, thallium, rare earths or actinides
- C08F4/60—Metals; Metal hydrides; Metallo-organic compounds; Use thereof as catalyst precursors selected from light metals, zinc, cadmium, mercury, copper, silver, gold, boron, gallium, indium, thallium, rare earths or actinides together with refractory metals, iron group metals, platinum group metals, manganese, rhenium technetium or compounds thereof
- C08F4/62—Refractory metals or compounds thereof
- C08F4/639—Component covered by group C08F4/62 containing a transition metal-carbon bond
- C08F4/63908—Component covered by group C08F4/62 containing a transition metal-carbon bond in combination with an ionising compound other than alumoxane, e.g. (C6F5)4B-X+
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08F—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED BY REACTIONS ONLY INVOLVING CARBON-TO-CARBON UNSATURATED BONDS
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Description
物を用いたオレフィン重合用触媒成分、およびその成分
を含有するオレフィン重合用触媒に関するものである。
ルミノキサンを触媒として用いるオレフィンの製造方法
が知られている。例えば、特開昭58−19309号公報には
ビスシクロペンタジエニルジルコニウムジクロライドと
線状あるいは環状メチルアルミノキサンとを触媒とする
エチレンおよびエチレンと炭素数3〜12のα−オレフィ
ンとの(共)重合体の製造方法が開示されている。特開
昭61−130314号公報には、2個のインデニル基がエチレ
ン基を介して結合した化合物を配位子とするジルコニウ
ム化合物とアルミノキサンとからなる触媒を用いて、立
体規則性ポリプロピレンを製造する方法が開示されてい
る。また、特開平2−41303号公報には、シンジオタク
チシティーの良好なポリ−α−オレフィンの製造法が開
示されている。
いる。Taubeらは、[Cp2TiMe(THF)]−[BPh4]+(C
p:シクロペンタジエニル基、Me:メチル基、THF:テトラ
ヒドロフラニル基、Ph:フェニル基)で表されるメタロ
センを用いてエチレンの重合を行っている(J.Organome
tall.Chem.,347,C9(1988))。Jordanらは、J.Am.Che
m.Soc.,109,4111(1987)で[Cp2ZrR(L)]−(Cp:シ
クロペンタジエニル基、R:メチル基、ベンジル基、L:ル
イス塩基)で示されるジルコニウム錯体がエチレン重合
の触媒として機能することを報告している。特表平1−
501950号公報、特表平1−502036号公報にはシクロペン
タジエニル金属化合物およびシクロペンタジエニル金属
カチオンを安定化することのできるイオン性化合物から
なる触媒を用いてオレフィンを重合する方法が開示され
ている。Zambelliらは、シクロペンタジエンの誘導体を
配位子とするジルコニウム化合物とトリメチルアルミニ
ウムとフルオロジメチルアルミニウムとを組み合わせた
触媒により、アイソタクティックポリプロピレンが製造
できることを報告している(Macromolecules,22,2186
(1989))。
ロセスや気相系プロセスに用いると、生成する重合体が
嵩比重の低い微粉となり取扱が困難となる上、生成した
重合体が反応容器の内壁に付着する等の問題を生じてい
た。
体に担持する試みがなされている。
特開昭63−280703号、特開昭63−22804号、特開昭63−5
1405号、特開昭63−51407号、特開昭63−55403号、特開
昭63−61010号、特開昭63−248803号、特開平4−10080
8号、特開平3−74412号、特開平3−709号、特開平4
−7306号の各公報には、シリカ、アルミナ、シリカ−ア
ルミナなどの無機金属酸化物にメタロセン化合物とメチ
ルアルミノキサンを担持させた固体触媒を用いたオレフ
ィンの重合法が開示されている。
05号、特開昭64−11104号、特開昭64−11105号公報に
は、メタロセン化合物とアルミノキサンを有機マグネシ
ウム化合物に担持した触媒を用いる方法が開示されてい
る。
開平3−74411号公報には、ポリエチレン、ポリスチレ
ンなどのポリマーにメタロセン化合物とアルミノキサン
を担持した触媒を用いる方法が開示されている。
てはメチルアルミノキサンのみを担持した金属酸化物と
メタロセン化合物を用いた重合法が開示されている。
開平6−56928号、特開平6−56929号公報には、特殊な
配位子を持つメタロセン化合物をシリカ等の多孔質金属
酸化物担体に担持した触媒を用いる方法が開示されてお
り、特開平4−234405号公報には、ポリ(ハロゲン化メ
チルスチレン)に結合させたシクロペンタジエニル基を
用いて錯体を形成させて触媒を固体化する方法が開示さ
れている。
化の検討がなされている。例えば、特開平3−234709
号、特開平5−247128号、特開平5−239138号、特開平
5−148316号、特開平5−155926号、特表平5−502906
号公報等には、非配位性のホウ素化合物と反応させたカ
チオン型のメタロセン化合物をシリカなどの無機金属化
合物に担持した触媒を用いる方法が開示されている。し
かし、これらの担持方法では、ホウ素化合物が担体に結
合していないので、重合時に活性種の担体表面からの脱
離が生じ、生成樹脂の反応器への付着が生じてしまう。
は、ポリアニオン性遷移金属触媒組成物、すなわち、コ
ア成分からの側鎖としてコア成分に化学結合した複数の
金属またはメタロイド原子含有非配位性アニオン基を含
んでなるポリアニオン部分と会合しかつ安定化された遷
移金属カチオン成分を含んでなる、オレフィン重合に有
用なイオン活性化遷移金属触媒組成物を用いる方法が開
示されている。ここで、コア部分は、(1)メタロイド
原子を含む重合性のアニオン部分と有機カチオンとの塩
をメタロセンの存在下でオリゴマー化したもの、(2)
スチレン系などの架橋ポリマー粒子、あるいは(3)ガ
ラス、シリカ、金属などの無機粒子である。同公報に
は、前二者((1),(2))をコアに用いた例につい
て重合触媒としての効果を確認した実施例が記載されて
いる。しかし、本発明者らが、その記載例を追試したと
ころ、オレフィン重合活性、製造されるポリオレフィン
の粉体性状、重合体の反応器への付着性のいずれの点で
も満足できるものではなかった。
合体が反応器壁に付着するという従来法における問題点
を解消した担体担持型のオレフィン重合用触媒、および
これに用いるイオン性化合物の提供を目的とするもので
ある。
行った結果、担体結合性の官能基を有する第13族元素、
(無機化学命名法1990年規則による。)含有イオン性化
合物を見出し、そのイオン性化合物を化学的に結合させ
た担体、有機金属および周期律表第4、5または6族遷
移金属化合物を成分とするオレフィン重合用触媒を用い
てオレフィンの重合を行うと、高活性で、重合体の反応
器内への付着がない重合体が得られることを見出した。
の製造方法、その化合物からなるオレフィン重合用触媒
成分およびこれを用いたオレフィン重合用触媒を提供す
る。
炭素数1〜20の炭化水素基、置換炭化水素基、アルコキ
シド基またはハロゲン原子であり、 R4は、ハロゲン原子またはハロゲン化炭化水素基によ
り置換された、アルキレン基、フェニレン基、シラニレ
ン基、シラアルキレン基、またはオキサシラニレン基で
あり、k、l、mは、それぞれ0または1〜3の整数、
nは1〜4の整数で、k+l+m+n=4であり、 Lは、R4に化学的に結合している、以下の一般式(I
I)または一般式(III) SiR5R6R7 (II) R8R9R10SiYSiR11R12 (III) (式中、R5〜R12は、各々同一でも異なっていてもよ
く、炭素数1〜20の炭化水素基、置換炭化水素基、アル
コキシド基、またはハロゲン原子であり、それぞれSiに
化学的に結合しており、R5、R6、R7のうちの少なくとも
一つ、およびR8、R9、R10のうち少なくとも一つはハロ
ゲン原子であり、 Yは、−O−、炭素数1〜20のアルキレン基、置換ア
ルキレン基、フェニレン基、置換フェニレン基、または −(Z1SiZ2Z3Z4)r− (式中、Z1およびZ4は各々同一でも異なっていてもよ
く、アルキレン基、置換アルキレン基、フェニレン基も
しくは置換フェニレン基、−O−、オキシアルキレン
基、置換オキシアルキレン基、オキシフェニレン基また
は置換オキシフェニレン基を表わし、Z2およびZ3は各々
同一でも異なっていてもよく、水素原子、アルキル基、
置換アルキル基、フェニル基もしくは置換フェニル基で
あり、rは1以上の整数を表わす。))で示される基で
あり、 nが2以上の場合、各々のR4−Lは各々同一でも異な
っていてもよく、 Dは、カルボニウム、アニリニウム、アンモニウム、
フェロセニウム、フォスフォニウム、ナトリウム、カリ
ウムおよびリチウムから選択される1価のカチオンを表
わす。)。
物。
合物。
基である前記第1項に記載のイオン性化合物。
る前記第1項に記載のイオン性化合物。
基またはジメチルクロロシリル基である前記第1項に記
載のイオン性化合物。
のイオン性化合物。
は臭素原子を表わし、R4は炭素数1〜20のアルキレン
基、置換アルキレン基、置換フェニレン基、シラニレン
基、置換シラニレン基、シラアルキレン基、置換シラア
ルキレン基、オキサシラニレン基、置換オキサシラニレ
ン基、オキサシラアルキレン基を表す。)で示される化
合物; (2)一般式(V) MR1R2R3 (V) (式中、Mは第13族の元素であり、 R1、R2およびR3は各々同一でも異なっていてもよく、
炭素数1〜20の炭化水素基、置換炭化水素基、アルコキ
シド基またはハロゲン原子である。)で示される化合
物; (3)一般式(VI)または(VII) SiR5R6R7R13 (VI) R8R9R10SiYSiR11R12R14 (VII) (式中、R5〜R12は、各々同一でも異なっていてもよ
く、炭素数1〜20の炭化水素基、置換炭化水素基、アル
コキシド基、またはハロゲン原子であり、それぞれSiに
化学的に結合しており、R5、R6、R7のちの少なくとも一
つ、およびR8、R9、R10のうち少なくとも一つはハロゲ
ン原子であり、R13およびR14は、各々独立して炭素数1
〜20の炭化水素基、置換炭化水素基、アルコキシド基ま
たはハロゲン原子を表わし、 Yは、−O−、炭素数1〜20のアルキレン基、置換ア
ルキレン基、フェニレン基、置換フェニレン基、または −(Z1SiZ2Z3Z4)r− (式中、Z1およびZ4は各々同一でも異なっていてもよ
く、アルキレン基、置換アルキレン基、フェニレン基も
しくは置換フェニレン基、−O−、オキシアルキレン
基、置換オキシアルキレン基、オキシフェニレン基また
は置換オキシフェニレン基を表わし、Z2およびZ3は各々
同一でも異なっていてもよく、水素原子、アルキル基、
置換アルキル基、フェニル基もしくは置換フェニル基で
あり、rは1以上の整数を表わす。)で示される基を表
わす。)で示されるケイ素化合物;および (4)1価のカチオンの塩化物; を用いて、これらを反応させることを特徴とする一般式
(I) [M(R1)k(R2)l(R3)m(R4−L)n]−[D]+ (I) (式中、M、R1、R2、R3およびR4は前記と同じ意味を表
わし、 Lは、R4に化学的に結合している、以下の一般式(II)
または一般式(III) SiR5R6R7 (II) R8R9R10SiYSiR11R12 (III) (式中の記号は前記と同じ意味を表わす。)で示される
基を表わし、 k、l、mは、それぞれ0または1〜3の整数、nは1
〜4の整数で、k+l+m+n=4であり、 Dは、カルボニウム、アニリニウム、アンモニウム、フ
ェロセニウム、フォスフォニウム、ナトリウム、カリウ
ムおよびリチウムから選択される1価のカチオンを表わ
す。)で示されるイオン性化合物の製造方法。
す。)で示される化合物の臭素または水素を有機リチウ
ムによりリチウムに置換してリチウム置換物を得る工
程; (ロ)前記リチウム置換物を一般式(V) MR1R2R3 (V) (式中の記号は前記第8項の記載と同じ意味を表わ
す。)で示される第13族元素含有化合物と反応させるこ
とにより一般式(VIII) [M(R1)k(R2)l(R3)m(R4−A)n]−[Li]+ (VIII) (式中、AはR4と化学的に結合している、水素または臭
素であり、その他の記号は前記と同じ意味を表わす。)
で示されるリチウム化合物を得る工程; (ハ)前記一般式(VIII)の化合物を有機リチウムによ
りリチオ化し、下記一般式(VI)または(VII) SiR5R6R7R13 (VI) R8R9R10SiYSiR11R12R14 (VII) (式中の記号は前記第8項の記載と同じ意味を表わ
す。)で示されるケイ素化合物と反応させることにより
一般式(IX) [M(R1)k(R2)l(R3)m(R4−L)n]−[Li]+ (IX) (式中の記号は前記第8項の記載と同じ意味を表わ
す。)で示される化合物を得る工程;および (ニ)前記一般式(IX)で示される化合物を1価のカチ
オンの塩化物と反応させる工程;を含むことを特徴とす
る一般式(I) [M(R1)k(R2)l(R3)m(R4−L)n]−[D]+ (I) (式中の記号は前記第8項の記載と同じ意味を表わ
す。)で示されるイオン性化合物の製造方法。
(IV a) (式中の記号は、前記第8項の記載と同じ意味を表わ
す。)で表される化合物である前記第8項または第9項
に記載のイオン性化合物の製造方法。
的に結合しているオレフィン重合用触媒成分。
ルキル金属またはアミンである。)で示される官能基を
有する固体である前記第11項に記載のオレフィン重合用
触媒成分。
載のオレフィン重合用触媒成分。
ある前記第11項に記載のオレフィン重合用触媒成分。
必須成分とするオレフィン重合用触媒。
メタロセンである前記第15項に記載のオレフィン重合用
触媒。
式(I)で表されるものがあげられる。
素、アルミニウムであり、特に好ましいのは、ホウ素で
ある。
は各々同一でも異なっていてもよく、炭素数1〜20の炭
化水素基、置換炭化水素基もしくはアルコキシド基また
はハロゲンから選択される。好ましくは炭素数1〜20の
芳香族炭化水素基、ハロゲン置換芳香族炭化水素基、ハ
ロゲン化炭化水素置換芳香族炭化水素基であり、さらに
好ましくはフェニル基、2−フルオロフェニル基、3−
フルオロフェニル基、4−フルオロフェニル基、2,4−
ジフルオロフェニル基、2,5−ジフルオロフェニル基、
3,5−ジフルオロフェニル基、3,4,5−トリフルオロフェ
ニル基、2,3,4,5−テトラフルオロフェニル基、ペンタ
フルオロフェニル基、3,5−ビス(トリフルオロメチ
ル)フェニル基であり、特に好ましくは、ペンタフルオ
ロフェニル基である。
る。但し、後述のnとの間にk+l+m+n=4の関係
を有する。
ン基、置換アルキレン基、置換フェニレン基、シラニレ
ン基、置換シラニレン基、シラアルキレン基、置換シラ
アルキレン基、オキサシラニレン基、置換オキサシラニ
レン基、オキサシラアルキレン基である。
換基が触媒活性や生成する重合体の性質に大きな影響を
与えること、好ましいフェニレンの置換基は、ハロゲ
ン、ハロゲン化炭化水素であることを確認した。好まし
い置換フェニレン基は、2−フルオロフェニレン基、3
−フルオロフェニレン基、2,5−ジフルオロフェニレン
基、3,5−ジフルオロフェニレン基、2,3,5−トリフルオ
ロフェニレン基、3,5−ビス(トリフルオロメチル)フ
ェニレン基2,3,5,6−テトラフルオロフェニレン基であ
り、中でも2,3,5,6−テトラフルオロフェニレン基が特
に好ましい。
る。担体結合性官能基とは、担体表面と化学的な結合を
形成可能な官能基のことである。例えば、担体表面に水
酸基がある場合、クロロシリル基を持つ化合物は水酸基
と反応してケイ素−酸素結合を形成する。この場合のク
ロロシリル基が担体結合性官能基である。具体的には以
下の一般式(II)、(III)で表される官能基: −SiR5R6R7 (II) −R11R12SiYSiR8R9R10 (III) (R5〜R12(いずれもSiに結合している。)は各々同一
でも異なっていてもよく、炭素数1〜20の炭化水素基、
置換炭化水素基、アルコキシド基、ハロゲン原子であ
る。R5、R6、R7のうち少なくとも一つ、R8、R9、R10の
うちの少なくとも一つはハロゲンであり、 Yは、−O−、炭素数1〜20のアルキレン基、置換ア
ルキレン基、フェニレン基、置換フェニレン基または −(Z1SiZ2Z3Z4)r− (式中、Z1およびZ4は各々同一でも異なっていてもよ
く、アルキレン基、置換アルキレン基、フェニレン基も
しくは置換フェニレン基、−O−、オキシアルキレン
基、置換オキシアルキレン基、オキシフェニレン基また
は置換オキシフェニレン基を表わし、Z2およびZ3は各々
同一でも異なっていてもよく、水素原子、アルキル基、
置換アルキル基、フェニル基もしくは置換フェニル基で
あり、rは1以上の整数を表わす。)で示される基であ
る。
クロロシリル基、ジメチルクロロシリル基、エチルジク
ロロシリル基、ジエチルクロロシリル基、フェニルジク
ロロシリル基、ジェニルクロロシリル基、トリメトキシ
シリル基、メチルジメトキシシリル基、ジメチルクロロ
シリル基、エチルジメトキシシリル基、ジエチルメトキ
シシリル基、トリエトキシシリル基、メチルジエチルシ
リル基、ジメチルエトキシシリル基、エチルジエトキシ
シリル基、ジエチルエトキシシリル基、フェニルジエト
キシシリル基、ジフェニルエトキシシリル基、トリヒド
ロキシシリル基、ジヒドロキシフェニルシリル基、2−
(ジメチルクロロシリル)エチルジメチルシリル基、6
−(ジメチルクロロシリル)ヘキシルジメチルクロロシ
リル基、8−(ジメチルクロロシリル)オクチルジメチ
ルクロロシリル基、2−(トリクロロシリル)エチルジ
クロロシリル基、6−(トリクロロシリル)ヘキシルジ
クロロシリル基、8−(トリクロロシリル)オクチルジ
クロロシリル基等があげられる。このうちトリクロロシ
リル基、トリメトキシシリル基、トリエトキシシリル
基、トリヒドロキシシリル基、ジメチルクロロシリル
基、ジメチルメトキシシリル基、ジメチルエトキシシリ
ル基、ジメチルヒドロキシシリル基、メチルジクロロシ
リル基、メチルジメトキシシリル基、メチルジエトキシ
シリル基、メチルジヒドロキシシリル基が好ましく、ト
リクロロシリル基、メチルジクロロシリル基、ジメチル
クロロシリル基が特に好ましい。
異なる基の組み合わせであってもよい。
ニウム、アンモニウム、フェロセニウム、フォスフォニ
ウム、ナトリウム、カリウム、リチウム等を意味する。
エチルアンモニウム、トリプロピルアンモニウム、トリ
ブチルアンモニウム、N,N−ジメチルアンモニウム、N,N
−ジエチルアンモニウム、N,N−2,4,5−ペンタメチルア
ニリニウム、トリフェニルフォスフォニウム、トリ(p
−トリル)フォスフォニウム、トリフェニルカルベニウ
ム等を例示することができる。このうち、N,N−ジメチ
ルアニリニウム、トリフェニルカルベニウムが好まし
い。
ジメチルアニリニウム塩、例えば、以下の化合物が挙げ
られる。
ェニル)p−トリクロロシリルテトラフルオロフェニル
ボレート、 N,N−ジメチルアニリニウムトリス(ペンタフルオロフ
ェニル)p−メチルジクロロシリルテトラフルオロフェ
ニルボレート、 N,N−ジメチルアニリニウムトリス(ペンタフルオロフ
ェニル)p−ジメチルクロロシリルテトラフルオロフェ
ニルボレート、 N,N−ジメチルアニリニウムトリス(ペンタフルオロフ
ェニル)p−トリメトキシシリルテトラフルオロフェニ
ルボレート、 N,N−ジメチルアニリニウムトリス(ペンタフルオロフ
ェニル)p−ジメトキシメチルシリルテトラフルオロフ
ェニルボレート、 N,N−ジメチルアニリニウムトリス(ペンタフルオロフ
ェニル)p−メトキシジメチルシリルテトラフルオロフ
ェニルボレート、 N,N−ジメチルアニリニウムトリス(ペンタフルオロフ
ェニル)p−トリエトキシシリルテトラフルオロフェニ
ルボレート、 N,N−ジメチルアニリニウムトリス(ペンタフルオロフ
ェニル)p−ジエトキシメチルシリルテトラフルオロフ
ェニルボレート、 N,N−ジメチルアニリニウムトリス(ペンタフルオロフ
ェニル)p−エトキシジメチルシリルテトラフルオロフ
ェニルボレート、 N,N−ジメチルアニリニウムトリス(ペンタフルオロフ
ェニル)p−トリヒドロキシシリルテトラフルオロフェ
ニルボレート、 N,N−ジメチルアニリニウムトリス(ペンタフルオロフ
ェニル)p−ジヒドロキシメチルシリルテトラフルオロ
フェニルボレート、 N,N−ジメチルアニリニウムトリス(ペンタフルオロフ
ェニル)p−ヒドロキシジメチルシリルテトラフルオロ
フェニルボレート、 トリフェニルカルベニウムトリス(ペンタフルオロフェ
ニル)p−トリクロロシリルテトラフルオロフェニルボ
レート、 トリフェニルカルベニウムトリス(ペンタフルオロフェ
ニル)p−メチルジクロロシリルテトラフルオロフェニ
ルボレート、 トリフェニルカルベニウムトリス(ペンタフルオロフェ
ニル)p−ジメチルクロロシリルテトラフルオロフェニ
ルボレート、 トリフェニルカルベニウムトリス(ペンタフルオロフェ
ニル)p−トリメトキシシリルテトラフルオロフェニル
ボレート、 トリフェニルカルベニウムトリス(ペンタフルオロフェ
ニル)p−ジメトキシメチルシリルテトラフルオロフェ
ニルボレート、 トリフェニルカルベニウムトリス(ペンタフルオロフェ
ニル)p−メトキシジメチルシリルテトラフルオロフェ
ニルボレート、 トリフェニルカルベニウムトリス(ペンタフルオロフェ
ニル)p−トリエトキシシリルテトラフルオロフェニル
ボレート、 トリフェニルカルベニウムトリス(ペンタフルオロフェ
ニル)p−ジエトキシメチルシリルテトラフルオロフェ
ニルボレート、 トリフェニルカルベニウムトリス(ペンタフルオロフェ
ニル)p−エトキシジメチルシリルテトラフルオロフェ
ニルボレート、 トリフェニルカルベニウムトリス(ペンタフルオロフェ
ニル)p−トリヒドロキシシリルテトラフルオロフェニ
ルボレート、 トリフェニルカルベニウムトリス(ペンタフルオロフェ
ニル)p−ジヒドロキシメチルシリルテトラフルオロフ
ェニルボレート、 トリフェニルカルベニウムトリス(ペンタフルオロフェ
ニル)p−ヒドロキシジメチルシリルテトラフルオロフ
ェニルボレート、 等を挙げることができる。
リニウムトリス(ペンタフルオロフェニル)4−(トリ
クロロシリル)−2,3,5,6−テトラフルオロフェニルボ
レート、N,N−ジメチルアニリニウムトリス(ペンタフ
ルオロフェニル)4−(メチルジクロロシリル)−2,3,
5,6−テトラフルオロフェニルボレート、およびN,N−ジ
メチルアニリニウムトリス(ペンタフルオロフェニル)
4−(ジメチルクロロシリル)−2,3,5,6−テトラフル
オロフェニルボレートが好ましい。
て製造することができる。
わし、R4は前記と同じ意味を表わす。)で表わされる化
合物、 (2)式(V): MR1R2R3 (V) (M、R1、R2およびR3はそれぞれ前記と同じ意味を表わ
す。)で表わされる化合物、 (3)式(VI)または(VII): SiR5R6R7R13 (VI) R8R9R10SiYSiR11R12R14 (VII) (R5〜R12はそれぞれ前記と同じ意味を表わす、R13およ
びR14は、各々独立して炭素数1〜20の炭化水素基、置
換炭化水素基、アルコキシド基またはハロゲン原子を表
わす。)で表される化合物、および (4)1価のカチオンの塩化物。
の手順が考えられるが、最終的に一般式(I) (式中の記号は前記と同じ意味を表わす。)で示される
化合物を得られるものであればどの様な方法でもよい。
を含む反応プロセスを挙げることができる。この反応プ
ロセスは、簡単に述べれば、R4基を含む化合物を活性化
し(第1工程)、これを13族元素(M)含有化合物と結
合させ(第2工程)、得られた化合物に担体結合性官能
基(L)の導入し(第3工程)、しかる後、カチオン
[D]+との塩を形成するものである(第4工程)。
低い化合物ではその少なくとも一方が臭素である必要が
ある。)の臭素または水素を有機リチウム化合物により
リチウムに置換(リチオ化)する。
具体的には、上記式(IV)で表される化合物と有機リチ
ウム化合物とを非反応性溶媒中で混合することにより反
応させる。
る化合物に応じて選択されるが、前述の通り、ハロゲン
化アリール、ハロゲン化炭化水素置換アリールが好まし
い。特に好ましいのは下記式(IV a) で表わされるテトラフルオロ−モノ(またはジ)ブロモ
ベンゼンである。
合物であれば特に限定なく用いることができる。例え
ば、n−ブチルリチウム、t−ブチルリチウム、フェニ
ルリチウムが挙げられる。ヘキサン等の不活性溶媒に溶
解してリチオ化に供することが好ましい。好ましい反応
溶媒は、ジエチルエーテル、テトラヒドロフラン等のエ
ーテル系の溶媒である。
物との反応は、1:1〜1:10(モル比)。好ましくは1:1
(モル比)程度で行なう。反応温度は、−100〜0℃、
好ましくは−80〜−20℃である。反応は有機リチウムを
少量ずつ添加し緩やかに進めるのが好ましい。反応時間
は30分以上が好ましい。
(VIII) (Aは水素、臭素である。)のリチウム塩を得る。
しいのはホウ素、アルミニウムであり、特に好ましいの
は、ホウ素である。また、同式中、R1、R2およびR3は、
各々同一でも異なっていてもよく、炭素数1〜20の炭化
水素基、置換炭化水素基もしくはアルコキシド基または
ハロゲンであってもよい。好ましくはフェニル基、2−
フルオロフェニル基、3−フルオロフェニル基、4−フ
ルオロフェニル基、2,4−ジフルオロフェニル基、2,5−
ジフルオロフェニル基、3,5−ジフルオロフェニル基、
3,4,5−トリフルオロフェニル基、2,3,4,5−テトラフル
オロフェニル基、ペンタフルオロフェニル基、3,5−ビ
ス(トリフルオロメチル)フェニル基であり、特に好ま
しくは、ペンタフルオロフェニル基である。
ものに第1工程で得られたリチオ化物を、リチオ化物と
一般式(V)の化合物とのモル比が1.0以上となる割合
で混合することにより行うことができる。好ましい混合
比は1.0〜2.0である。リチオ化物を添加する際には、溶
液の温度を低温に保つことが好ましい。具体的には、−
100℃〜50℃、より好ましくは、−20〜30℃とする。一
般式(V)の化合物を溶解させる溶媒としては、リチオ
化物および一般式(V)の化合物と非反応性の液体を用
いることが出来る。好ましい溶媒は、炭素数10〜20の炭
化水素、エーテルである。特に好ましいのはトルエン、
ヘプタン、デカン、イソパラフィン、ジエチルエーテ
ル、テトラヒドロフランである。反応時間は30分以上が
好ましい。反応後、未反応物は洗浄等により取り除くこ
とが好ましい。一般式(V)の化合物はエーテル等の溶
媒が付加した状態で用いても良い。
化し、一般式(VI)または一般式(VII) SiR5R6R7R13 (VI) R8R9R10SiYSiR11R12R14 (VII) (R5〜R12はそれぞれ前記と同じ意味を表わし、R13およ
びR14は、炭素数1〜20の炭化水素基、置換炭化水素
基、アルコキシド基またはハロゲン原子を表わす。)で
表されるケイ素化合物と反応させることにより一般式
(IX) (式中の記号は前記と同じ意味を表わす。)で示される
化合物を得る。
モル比で前者に対して後者が1倍〜100倍であり、好ま
しくは2倍〜20倍である。室温で一定時間撹拌を行なっ
て反応を完結させる。しかる後、反応液に該溶媒より高
沸点の炭化水素を添加し、反後溶媒を留去し、炭化水素
溶媒を除去する。炭化水素溶媒で洗浄した後、洗浄溶媒
を除去する。得られた化合物をジクロロメタン等の溶媒
に溶解する。
反応させることにより、目的の一般式(I) (式中の記号は前記と同じ意味を表わす。)で示される
イオン性化合物が得られる。
ことにより、1価のカチオンDを生じる化合物である。
具体的には、トリメチルアミン塩酸塩、トリエチルアミ
ン塩酸塩、トリプロピルアミン塩酸塩、トリブチルアミ
ン塩酸塩、N,N−ジメチルアニリン塩酸塩、N,N−ジエチ
ルアミン塩酸塩、N,N−2,4,5,−ペンタメチルアニリン
塩酸塩、トリフェニルフォスフィン塩酸塩、トリフェニ
ルクロロメタン等を例示することができる。このうち好
ましいのはN,N−ジメチルアニリン塩酸塩、トリフェニ
ルクロロメタンである。
は、20〜150℃である。反応時間は1時間以上が好まし
い。ハロゲン化リチウムが析出するのでこれを除去する
ことで目的物が得られる。本化合物は溶液状態で用いて
もよいし、乾燥して固体状態で用いても良い。
結合しているオレフィン重合用触媒成分について説明す
る。
金属結合、配位結合のことをいう。
オン性化合物と化学結合を形成することができる表面を
有し、その表面が、重合反応時に複数個の重合活性点を
形成することができる程度の広がりおよび性質を有する
固体のことである。
物、有機高分子化合物を用いることができる。具体的に
は、シリカ、アルミナ、シリカ−アルミナ、マグネシ
ア、チタニア、ジルコニア、カルシア等の無機化合物、
または塩化ビニル、ビニルアルコール、メタクリル酸、
アクリル酸等の重合物、またはスチレン、ジビニルベン
ゼンとの共重合物、更にα−オレフィンのホモポリマ
ー、またはコポリマーを化学変性してイオン性化合物の
担体結合性官能基と反応してイオン性化合物と化学結合
を形成する官能基を有するようにしたものの群から選ば
れる1種または2種以上を使用することが出来る。シリ
カ、アルミナもしくはシリカ−アルミナの群の1種もし
くは2種以上を使用することが好ましい。
ル基、アルキル金属、アミンである。このうち水素、メ
チル基、エチル基、ナトリウム、リチウムが好ましく、
最も好ましいのは、水素である。
的に修飾するために大きな表面積、細孔径、および表面
に官能基を必要とする。また、担持されたイオン性化合
物は遷移金属化合物とイオンペアになることにより重合
活性種を形成するので、担体にはイオンペアを形成でき
るだけの空間が必要になる。また、触媒当たりの重合活
性は担体上で形成されたイオンペアの量が多いほど高く
なるので、担体は表面積が大きくかつ平均細孔径が大き
いものが望ましい。本発明における担体としては、平均
粒子径が5〜200μm、比表面積が100〜1000m2/g、平均
細孔径20オングストローム以上の微粒子を用いることが
好ましい。
ン性化合物の反応は、種々の方法で行うことができる。
一般には有機溶媒中で行われる。具体的には、ペンタ
ン、ヘキサン、ヘプタン、オクタン、ノナン、デカン等
の脂肪族炭化水素、メチルシクロペンタン、シクロペン
タン、シクロオクタン等の脂環族炭化水素、ベンゼン、
トルエン、キシレン、クメン、シメン等の芳香族炭化水
素、クロロホルム、ジクロロメタン等の脂肪族ハロゲン
化炭化水素、クロロベンゼン、ジクロロベンゼン等の芳
香族ハロゲン化炭化水素、メタノール、エタノール等の
アルコール、ジエチルエーテル、テトラヒドロフラン等
のエーテル等を用いることができる。
は目的とする結合が形成される限り任意であるが、一般
的には次の条件が望ましい。
℃〜150℃である。担体結合性官能を有するイオン性化
合物と担体表面の官能基との反応は十分に進行させるこ
とが好ましい。
に規定できないが、通常1〜50時間行う。
m、担体は1〜50wt%程度の濃度として結合反応を行う
ことができる。
物と担体の反応量比は特に制限はない。担体表面の官能
基数が担体結合性官能基の等当量以上である場合は、未
反応の担体表面の官能基が遷移金属化合物と反応し、重
合活性種を形成できなくなることが考えられるので、担
体表面の官能基を別の化合物と反応させることにより、
遷移金属化合物と反応しないようにすることが出来る。
例えば、未反応の官能基が水酸基の場合、水酸基をトリ
メチルクロロシラン等で処理することにより遷移金属化
合物と担体表面の未反応の官能基との反応を抑制するこ
とが出来る。
より分離し、未反応の担体結合性官能基を有するイオン
性化合物を洗浄により取り除く。洗浄溶媒としては上記
の有機溶媒を用いることが出来る。洗浄温度は−30℃〜
120℃であり、好ましくは0℃〜100℃である。洗浄は洗
液中に担体結合性官能基を有するイオン性化合物が実質
的に検出されなくなるまで行うことが好ましい。洗浄終
了後、イオン性化合物を担持した固体成分は乾燥する
か、もしくは有機溶媒存在下で使用することが出来る。
合物と担体とが化学結合を形成していることは、反応に
より減少する担体上の官能基量の定量や、担体表面の官
能基とイオン性化合物の担体結合性官能基の反応の結果
発生する化合物を定量することにより確認できる。ま
た、反応の結果生じる新しい結合のIR吸収ピークやNMR
ピークにより確認できる。
明する。
オレフィン重合用触媒成分、 (b)有機金属化合物、および (c)周期律表第4、5または6族の遷移金属化合物を
使用することを特徴とする。
金属化合物(成分(b))において、金属元素として
は、リチウム、ナトリウム、マグネシウム、アルミニウ
ム、スズ、亜鉛、チタンが一般的である。これらの金属
と結合して、有機金属化合物を形成すべき有機基は、ア
ルキル基(炭素数1〜10)および、フェニル基、シクロ
ペンタジエニル基やその誘導体が一般的である。
うな有機基で充足されている必要があるが、残りの原子
価は、他の原子ないし原子団で充足されていてもよい。
そのような原子ないし原子団は、例えば、ハロゲン原
子、水素原子、アルコキシ基等をあげることができる。
ウム、t−ブチルリチウム、フェニルリチウム等の有機
リチウム化合物、シクロペンタジエニルナトリウム、メ
チルナトリウム等の有機ナトリウム化合物、ブチルエチ
ルマグネシウム、ブチルオクチルマグネシウム、エチル
マグネシウムブロミド、ブチルマグネシウムブロミド等
の有機マグネシウム化合物、トリメチルアルミニウム、
トリエチルアルミニウム、トリイソブチルアルミニウ
ム、ジエチルアルムニウムハライド、ジエチルアルミニ
ウムクロライド、ジエチルアルミニウムブロマイド、ジ
エチルアルミニウムエトキシド、エチルアルミイウムセ
スキクロライド、イソブチルアルミノキサン等の有機ア
ルミニウム化合物、テトラエチルスズ、テトラブチルス
ズ、トリブチルスズクロライド、テトラフェニルスズ等
の有機スズ化合物、ジエチル亜鉛、ジブチル亜鉛等の有
機亜鉛、ジシクロペンタジエニルチタニウムジメチル等
の有機チタン化合物等が例示される。これらのうち好ま
しい化合物は、有機アルミニウム化合物および有機マグ
ネシウム化合物である。
属化合物成分は2種以上組み合わせて用いることもでき
る。
律表第4、5または6族遷移金属化合物(成分(c))
としては、一般式(XI)、一般式(XII)、または一般
式(XIII) 〔式中、R15〜R24は、同一でも異なっていてもよく、各
々水素または炭化水素基(炭素数1〜20を有するアルキ
ル、アルケニル、アリール、アルキルアリール、アリー
ルアルキルなどである)、アルキルシリル基、アルキル
ゲルミル基、または炭素炭素結合を持つ4〜6員環であ
り、それぞれ同一でも異なってもよく、R25は炭素数1
〜20のアルキレン基、アルキルゲルミレンまたはアルキ
ルシリレンであり、 複数のQ1、およびQ2、Q3は、同一でも異なっていても
よく、各々炭素数1〜20個のアリール、アルキル、アル
ケニル、アルキルアリール、アリールアルキル等の炭化
水素基、アルコキシ、アリロキシ、シロキシ、水素もし
くはハロゲンであり、Yaは−O−、−S−、−NR26−、
−PR26−であるか、あるいは、−OR26、−SR26、−NR26
R27、−PR26R27(R26およびR27は水素または炭素数1〜
20個のアルキル、アルケニル、アリール、アルキルアリ
ール、アリールアルキルなどの炭化水素基あるいはハロ
ゲン化アルキルまたはハロゲン化アリールである。)か
らなる電子供与体リガンドであり、Meは周期表の第3、
4、5および6族の遷移金属であり、pは0または1で
ある。〕で表される遷移金属化合物が好ましい。
び6族(族は無機化学命名法1990年規則による。)の遷
移金属元素は、好ましくは周期律表4族の遷移金属元
素、すなわちチタニウム、ジルコニウム、ハフニウムか
ら選ばれ、特に好ましいのは、ジルコニウム、ハフニウ
ムである。
は、例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル
基、イソブチル基、t−ブチル基、アミル基、イソアミ
ル基、ヘキシル基、ヘプチル基、オクチル基、ノニル
基、デシル基、セチル基、フェニル基などが、またアル
キルシリル基としては、トリメチルシリル基などが、ア
ルキルゲルミル基としてはトリメチルゲルミル基などが
例示できる。上記のようなシクロペンタジエニル配位子
としては、たとえばシクロペンタジエニル基、メチルシ
クロペンタジエニル基、エチルシクロペンタジエニル
基、n−ブチルシクロペンタジエニル基、t−ブチルシ
クロペンタジエニル基、トリメチルシリルシクロペンタ
ジエニル基、ジメチルシクロペンタジエニル基、ペンタ
メチルシクロペンタジエニル基等のアルキル置換シクロ
ペンタジエニル基、また同様の置換基を有する、あるい
は有さないインデニル基、フルオレニル基等が例示でき
る。
は、メチレン基、エチレン基、プロピレン基、イソプロ
ピリデン基、シクロペンチリデン基、シクロヘキシリデ
ン基、テトラヒドロピラン−4−イリデン基、ジフェニ
ルメチレン基などが例示でき、またアルキルシリレン基
としては、ジメチルシリレン基、ジフェニルシリレン基
などを例示でき、またアルキルゲルミレン基としては、
ジメチルゲルミレン基、ジフェニルゲルミレン基などが
例示できる。
は、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、イソ
ブチル基、t−ブチル基、アミル基、イソアミル基、ヘ
キシル基、ヘプチル基、オクチル基、ノニル基、デシル
基、セチル基、フェニル基、ベンジル基等が挙げられ
る。
しい。
遷移金属化合物についてMeがジルコニウムである場合の
具体的な化合物を例示する。
ロライド、 ビス(n−ブチルシクロペンタジエニル)ジルコニウム
ジクロライド、 ビス(n−ブチルシクロペンタジエニル)ジルコニウム
ジメチル、 ビス(1,3−ジメチルシクロペンタジエニル)ジルコニ
ウムジクロライド、 ビス(ペンタメチルシクロペンタジエニル)ジルコニウ
ムジクロライド、 (シクロペンタジエニル)(メチルシクロペンタジエニ
ル)ジルコニウムジクロライド、 (シクロペンタジエニル)(n−ブチルシクロペンタジ
エニル)ジルコニウムジクロライド、 (シクロペンタジエニル)(インデニル)ジルコニウム
ジクロライド、 (シクロペンタジエニル)(フルオレニル)ジルコニウ
ムジクロライド、 シクロペンタジエニルジルコニウムトリクロライド、 シクロペンタジエニルジルコニウムトリメチル、 ペンタメチルシクロペンタジエニルジルコニウムトリク
ロライド、 ペンタメチルシクロペンタジエニルジルコニウムトリメ
チル等が挙げられる。
ては、 ジメチルシリレンビス(メチルシクロペンタジエニル)
ジルコニウムジクロライド、 イソプロピリデンビス(メチルシクロペンタジエニル)
ジルコニウムジクロライド、 エチレンビス(インデニル)ジルコニウムジクロライ
ド、 エチレンビス(4,5,6,7,−テトラヒドロ−1−インデニ
ル)ジルコニウムジクロライド、 イソプロピリデン(シクロペンタジエニル)(フルオレ
ニル)ジルコニウムジクロライド、 イソプロピリデン(シクロペンタジエニル)(インデニ
ル)ジルコニウムジクロライド、 イソプロピリデン(t−ブチルシクロペンタジエニル)
(t−ブチルインデニル)ジルコニウムジクロライド、 イソプロピリデン(t−ブチルシクロペンタジエニル)
(t−ブチルインデニル)ジルコニウムジメチル、ジメ
チルシリレン−ビス{1−(2−メチル−4−ベンゾイ
ンデニル)}ジルコニウムジクロライド、 ジメチルシリレン−ビス{1−(2−メチル−4−フェ
ニルインデニル)}ジルコニウムジクロライド、 ジメチルシリレン−ビス{1−(2−メチル−4−ナフ
チルインデニル)}ジルコニウムジクロライド等が例示
できる。
ては、 エチレン(t−ブチルアミド)(テトラメチルシクロペ
ンタジエニル)ジルコニウムジクロライド、 エチレン(メチルアミド)(テトラメチルシクロペンタ
ジエニル)ジルコニウムジクロライド、 ジメチルシリレン(t−ブチルアミド)(テトラメチル
シクロペンタジエニル)ジルコニウムジクロライド、 ジメチルシリレン(t−ブチルアミド)(テトラメチル
シクロペンタジエニル)ジルコニウムジベンジル、 ジメチルシリレン(ベンジルアミド)(テトラメチルシ
クロペンタジエニル)ジルコニウムジベンジル、 ジメチルシリレン(フェニルアミド)(テトラメチルシ
クロペンタジエニル)ジルコニウムジクロライド等が例
示できる。
挙げてその例を挙げたが、上記のようなジルコニウム化
合物において、ジルコニウムをハフニウムあるいはチタ
ニウムに代えた遷移金属化合物も本発明においては有用
である。
は、上述した遷移金属化合物から1種あるいは2種以上
を組み合わせて使用することが出来る。
(b)、(c)中の遷移金属化合物と第13族元素のモル
比は重合時、遷移金属が第13族元素の0.01〜10倍、好ま
しくは0.1〜1倍である。重合時の遷移金属化合物の濃
度は0.01〜100ppmで行うことができる。好ましくは0.1
〜10ppmである。
(a)、(b)および(c)を溶媒中もしくはモノマー
存在下に接触させることにより用いられる。各成分の接
触方法に特に制限はないが、不活性溶媒中で、成分
(a)と成分(b)を接触させ、成分(c)と混合する
方法が好ましい。
溶媒を留去して用いてもよい。また、炭化水素等の溶媒
で洗浄してスラリーとして用いてもよいし、その後に溶
媒を留去して用いてもよい。
る。この際、重合反応器中に前記の有機金属化合物を予
め添加しておくことが好ましい。特に炭化水素溶媒によ
る洗浄を行わない場合は、予め重合反応器中に有機金属
化合物(例えば有機リチウム化合物)を添加しておくの
が好ましい。
重合条件は特に制限はなく、例えば、溶液重合法、溶融
重合法、スラリー重合法、懸濁重合、気相重合法等を挙
げることができる。本発明の趣旨に沿えば、特に重合体
が不均一系であるプロセスに有効である。具体的には、
スラリー法、気相法を挙げることができる。
0℃、重合圧力としては常圧〜100kg/cm2、好ましくは常
圧〜50kg/cm2の範囲である。重合反応は回分式、半連続
式、連続式いずれの方法を用いても行うことができる。
更に、多段重合を行なうこともできる。
合温度により制御できる。
系溶媒としては、例えば、プロパン、ブタン、イソブタ
ン、ペンタン、ヘキサン、ヘプタン、オクタン、ノナ
ン、デカン等の脂肪族炭化水素、メチルシクロペンタ
ン、シクロペンタン、シクロオクタン等の脂環族炭化水
素、ベンゼン、トルエン、キシレン、クメン、シメン等
の芳香族炭化水素等が挙げられる。これらの溶媒は1種
を単独で、もしくは2種以上を混合して使用することが
できる。
ピレン、1−ブテン、3−メチル−1−ブテン、1−ヘ
キセン、4−メチル−1−ペンテン、1−オクテン、1
−デセン、1−ドデセン、1−テトラデセン、1−ヘキ
サデセン、1−オクタデセン、1−エイコセン、シクロ
ペンテン、シクロヘプテン、ノルボルネン、5−メチル
−2−ノルボルネン、テトラシクロドデセン等を挙げる
ことができる。さらに、スチレン、ビニルシクロヘキサ
ン、ビニルシクロヘキセン、ジビニルベンゼン、ジエン
などを挙げることできる。
ず、例えば、エチレンとプロピレン、エチレンと1−ブ
テン等の共重合体を製造することもできる。
備重合を行なうことができる。予備重合法には特別制限
はなく既知の方法を用いることができる。予備重合に用
いるオレフィンに限定はなく、上記オレフィンを用いる
ことができる。予備重合温度は、通常−20〜300℃、好
ましくは−10〜200℃、より好ましくは0〜100℃であ
る。溶媒としては、不活性炭化水素、脂肪族炭化水素、
芳香族炭化水素、モノマー等を用いることができる。好
ましいのは脂肪族炭化水素である。また、予備重合は無
溶媒で行ってもよい。
高く、これを用いてスラリープロセス、気相プロセス等
によりオレフィンの重合を行うと、粉体性状がよい重合
体が得られ、重合体の反応器への付着がなくなる。
に説明するが、本発明は、以下の例のみに限定されるも
のではない。なお、下記の例中、「%」は特に記載がな
い限り重量を基準とするものである。
2,3,5,6−テトラフルオロフェニルトリス(ペンタフル
オロフェニル)ボレート〔イオン性化合物〕の製造 1−ブロモ−2,3,5,6−テトラフルオロベンゼン3.85g
(1.86mmol)をジエチルエーテル50mlに溶解し、ドライ
アイス/変性アルコールバス中で冷却した。この溶液に
n−ブチルリチウム1.6mol/ヘキサン溶液10.5mlを滴
下し、30分撹拌し、1−ブロモ−2,3,5,6−テトラフル
オロベンゼンのリチオ化物(2,3,5,6−テトラフルオロ
フェニルリチウム)を調製した。
フルオロフェニル)ボラン5.07g(9.9mmol)のヘキサン
溶液200mlに添加し、25℃で20分間撹拌したところ、生
成物(A)が析出した。溶液層を除去しヘキサンで洗浄
後真空乾燥した。
溶解し、ドライアイス/変性アルコールバス中で冷却し
た。この溶液にn−ブチルリチウム1.6mol/ヘキサン
溶液1.5mlを滴下し、45分間撹拌した後、溶液を四塩化
珪素2.7mlをテトラヒドロフラン10mlに溶解した溶液に
添加し、25℃で15分間撹拌した。さらにヘプタン100ml
を添加し、テトラヒドロフランを留去した。ヘプタン層
を除去し、ヘキサン洗浄後真空乾燥した。生成物をジク
ロロメタン50mlに溶解し、析出した塩化リチウムを除去
後真空乾燥し生成物(B)1.65gを得た。
ジメチルアニリニウムクロライド0.31gを添加し、25℃
で5分間撹拌した。析出した塩化リチウムを除去し真空
乾燥し、ジメチルアニリニウム4−トリクロロシリル−
2,3,5,6−テトラフルオロフェニルトリス(ペンタフル
オロフェニル)ボレート1.7g得た。NMR測定データ(そ
の一部を以下に示す。)から、その構造が確認された。
H),11.5(1H); 19FNMR(CD2Cl2):δ−131.0,−131.6,−132.9,−16
3.4,−167.3。
ル−2,3,5,6−テトラフルオロフェニルトリス(ペンタ
フルオロフェニル)ボレート〔イオン性化合物〕の製造 1,2,4,5−テトラフルオロベンゼン7.5g(50mmol)を
ジエチルエーテル50mlに溶解し、ドライアイス/変性ア
ルコール中で冷却した。この溶液にn−ブチルリチウム
1.6mol/ヘキサン溶液31.3mlを滴下し、30分間撹拌し
た。得られた溶液をトリス(ペンタフルオロフェニル)
ボランの2.9%イソパラフィン溶液883ml(50mmol)に添
加し、25℃で30分間撹拌した。この際、生成物(C)が
析出した。溶液層を除去し、ヘキサンで洗浄後真空乾燥
した。得られた生成物(C)をジエチルエーテルで再結
晶した(収量34.5g)。
30mlに溶解し、ドライアイス/変性アルコールバス中で
冷却した。この溶液にn−ブチルリチウム1.6mol/ヘ
サン溶液6.25mlを滴下し、45分間撹拌した後、ジメチル
ジクロロシラン12ml(10mmol)を溶解したテトラヒドロ
フラン50mlに添加し、25℃で30分間撹拌した。撹拌後、
ヘプタン100mlを添加し、テトラヒドロフランを留去し
た。ヘプタン層を除去し、ヘキサン洗浄後真空乾燥し
た。得られた生成物をジクロロメタン30mlに溶解し、N,
N−ジメチルアニリン塩酸塩2.99g(19.0mmol)のジクロ
ロメタン溶液20mlを添加し、30分間撹拌し、析出した塩
化リチウムを除去し真空乾燥した。ジメチルアニリニウ
ム4−ジメチルクロロシリル−2,3,5,6−テトラフルオ
ロフェニルトリス(ペンタフルオロフェニル)ボレート
1.6gを得た。NMR測定データ(その一部を以下に示
す。)から、その構造が確認された。
H),7.57(3H),11.5(1H); 19FNMR(CD2Cl2):δ−128.6,−129.1,−130.0,−15
9.8,−163.6。
ロロシリル)オクチルジクロロシリル)−2,3,5,6−テ
トラフルオロフェニルトリス(ペンタフルオロフェニ
ル)ボレート〔イオン性化合物〕の製造 ジメチルジクロロルシランの代わりに1,8−ビス(ジ
メチルクロロシリル)オクタンを用をいた以外は実施例
2と同様にして、ジメチルアニリニウム4−(8−(ジ
メチルクロロシリル)オクチルジクロロシリル)−2,3,
5,6−テトラフルオロフェニルトリス(ペンタフルオロ
フェニル)ボレート2.3gを得た。
ルフェニルトリス(ペンタフルオロフェニル)ボレート
〔イオン性化合物〕の製造 1,2,4,5−テトラフルオロベンゼンの代わりに1,4−ジ
ブロモベンゼンを用いた以外は実施例2と同様にして、
目的物であるジメチルアニリニウム4−ジメチルクロロ
シリルフェニルトリス(ペンタフルオロフェニル)ボレ
ート0.8gを得た。
成分の調製 ジクロロメタン30mlに150℃、0.5mmHgで4時間乾燥し
たシリカ0.5gを添加し、実施例1で得られた担体結合性
官能基を有するイオン性化合物56μmol/mlのジクロロメ
タン溶液6mlを撹拌下に添加し、2時間還流した。これ
を40℃のジクロロメタン20mlで3回洗浄し真空乾燥し
た。
合高周波プラズマ(ICP)分光分析によりホウ素含有量
を測定した結果、触媒成分1g当たり実施例1のイオン性
化合物が0.25mmolの割合で担持されていることが確認さ
れた。また、担持後にシリカ表面の水酸基量を、シリカ
表面の水酸基とトリエチルアルミニウムとの反応の結果
生じるエタン量を測定することにより定量したところ、
シリカ分の水酸基がおよそ0.25mmol/g減少していること
が確認された。この結果から、シリカに担持されたイオ
ン性化合物は実質的にすべてがシリカ表面の水酸基と反
応していることがわかる。なお、反応溶媒に用いたジク
ロロメタンの気相を水に接触させた後、これを炭酸ナト
リウムで中和し、クロム酸カリウムを指示薬として、硝
酸銀水溶液で滴定することにより、イオン性化合物とシ
リカの反応時に塩化水素が発生していることが確認され
た。
沸騰ジクロロメタンにより3回洗浄したが、イオン性化
合物の担持量は殆ど変化せず、イオン性化合物と担体と
の結合が十分に強固なものであることが確認された。
成分の調製 担体結合性官能基を有するイオン性化合物として、実
施例2の化合物を用いた以外は実施例4と同様にしてオ
レフィン重合用触媒成分を調製した。イオン性化合物の
担持量は0.27(mmolイオン性化合物/g触媒成分)であっ
た。
成分の調製 担体結合性官能基を有するイオン性化合物として、実
施例3の化合物を用いた以外は実施例4と同様にしてオ
レフィン重合用触媒成分を調製した。イオン性化合物の
担持量は0.23(mmolイオン性化合物/g触媒成分)であっ
た。
成分の調製 担体結合性官能基を有するイオン性化合物として、比
較例1の化合物を用いた以外は実施例4と同様にしてオ
レフィン重合用触媒成分を調製した。イオン性化合物の
担持量は0.17(mmolイオン性化合物/g触媒成分)であっ
た。
に、N,N−ジメチルアニリニウムテトラキス(ペンタフ
ルオロフェニル)ボレートを用いた以外は実施例4と同
様にして比較用オレフィン重合用触媒成分を調製した。
得られたオレフィン重合用触媒成分のイオン性化合物の
担持量は0.005(mmolイオン性化合物/g触媒成分)未満
であった。
媒の調製とオレフィンの重合 〔触媒の調製〕 rac−エチレン−ビスインデニルジルコニウムジクロ
ライド(以下、EBIZと略記する。)0.5mmol/トルエン
溶液4mlとトリイソブチルアルミニウム0.5mol/トルエ
ン溶液0.2mlとを接触させ、これに実施例4のオレフィ
ン重合用触媒成分30mgを添加し2分間撹拌後、トルエン
を除去し、ヘキサン5.0mlを加えてヘキサンスラリーと
した。
の0.5mol/ヘキサン溶液6mlとプロピレン8molを仕込
み、50℃に昇温した後、上述のスラリー状オレフィン重
合用触媒を添加し60分間重合した。重合活性は85000g/g
錯体/h、2000g/g触媒/hであった。結果を表1に示す。
得られた重合体の嵩密度は0.40g/mlと高く、重合体の器
壁への付着はなかった。
媒の調製とオレフィンの重合 〔触媒の調製〕 実施例4のオレフィン重合用触媒成分30mgをトリイソ
ブチルアルミニウム0.5mol/トルエン溶液1.0mlと接触
させこれにEBIZ0.5mol/トルエン溶液4.0mlを添加し、
3分間撹拌後、上澄みを除去し、トルエン5mlで洗浄
し、ヘキサン5.0mlを加えヘキサンスラリーとした。
と同様に行った。顆粒状の重合体が得られた。結果を表
1に示す。
0.5mol/ヘキサン溶液6mlとプロピレン8molを仕込み、
50℃に昇温後エチレン分圧1kg/cm2になるように加圧
し、これに上述のオレフィン重合用触媒を添加し30分間
重合した。結果を表2に示す。重合活性は130000g/g錯
体/h/atm、10000g/g触媒/hであった。得られた重合体は
顆粒状であり、嵩密度は0.35g/mlと高く反応器への重合
体の付着はなかった。
の0.5mol/トルエン溶液8ml、オレフィン重合用触媒10
0mg、イソブタン700mlを仕込み、70℃に昇温後エチレン
分圧10kg/cm2で30分間重合した。重合活性は150000g/g
錯体/h/atm、1000g/g触媒/h/atmであった。結果を表3
に示す。得られた重合体の嵩密度は0.35g/mlと高く反応
器への重合体の付着はなかった。
媒の調製とオレフィンの重合 〔触媒の調製〕 上澄み除去、トルエン洗浄、ヘキサンスラリー化を行
わなかった以外は実施例8と同様にしてオレフィン重合
用触媒を調製した。
ヘキサン溶液1mlとプロピレン8molを仕込み、50℃に昇
温後、上述のオレフィン重合用触媒を添加し、60分間重
合した。結果を表1に示す。得られた重合体は、顆粒状
であり、反応器への重合体の付着はなかった。
ヘキサン溶液1.0mlとプロピレン8molを仕込み、50℃
に昇温後エチレン分圧が1.0kg/cm2になるように加圧
し、これに上述のオレフィン重合触媒を添加し、30分間
重合した。結果を表2に示す。得られた重合体は顆粒状
であり、重合体の反応器への付着はなかった。
ヘキサン溶液1.0mlとイソブタン700mlを仕込み、70℃
に昇温後エチレン分圧が10.0kg/cm2になるように加圧
し、上述のオレフィン重合用触媒を添加し、60分間重合
した。結果を表3に示す。得られた重合体は顆粒状であ
り、反応器への重合体の付着はなかった。
触媒の調製とオレフィンの重合 〔触媒の調製〕 実施例5のオレフィン重合用触媒成分を用いた以外
は、実施例8と同様にしてオレフィン重合用触媒を調製
した。
8のプロピレン重合と同様に行った。顆粒状の重合体が
得られた。結果を表1に示す。
8のプロピレンとエチレンの共重合と同様に行った。顆
粒状の重合体が得られた。結果を表2に示す。
8のエチレンの重合と同様に行った。結果を表3に示
す。
触媒の調製とオレフィンの重合 〔触媒の調製〕 実施例6のオレフィン重合用触媒成分を用いた以外
は、実施例8と同様にしてオレフィン重合用触媒を調製
した。
8のプロピレンの重合と同様に行った。顆粒状の重合体
が得られた。結果を表1に示す。
8のプロピレンとエチレンの共重合と同様に行った。顆
粒状の重合体が得られた。結果を表2に示す。
8のエチレンの重合と同様に行った。結果を表3に示
す。
触媒の調製とオレフィンの重合 〔触媒の調製〕 EBIZの代わりにrac−イソプロピリデン(3−t−ブ
チルシクロペンタジエニル){1−(3−t−ブチルイ
ンデニル)}ジルコニウムジクロライド(以下、CTITZ
と略記する。)を用いた以外は実施例8と同様にしてオ
レフィン重合用触媒を調製した。
8のプロピレン重合と同様に行った。顆粒状の重合体が
得られた。結果を表1に示す。
8のプロピレンとエチレンの共重合と同様に行った。顆
粒状の重合体が得られた。結果を表2に示す。
8のエチレンの重合と同様に行った。結果を表3に示
す。
触媒の調製とオレフィンの重合 〔触媒の調製〕 EBIZの代わりにrac−ジメチルシリレンビス{1−
(2−メチル−4−ベンゾインデニル)}ジルコニウム
ジクロライド(以下、2MBIZと略記する。)を用いた以
外は実施例8と同様にしてオレフィン重合用触媒を調製
した。
8のプロピレン重合と同様に行った。顆粒状の重合体が
得られた。結果を表1に示す。
8のプロピレンとエチレンの共重合と同様に行った。顆
粒状の重合体が得られた。結果を表2に示す。
8のエチレンの重合と同様に行った。結果を表3に示
す。
触媒の調製とオレフィンの重合 〔触媒の調製〕 EBIZの代わりにrac−ジメチルシリレン−ビス{1−
(2−メチル−4−フェニルインデニル)}ジルコニウ
ムジクロライド(以下、2MPIZと略記する。)を用いた
以外は実施例8と同様にしてオレフィン重合用触媒を調
製した。
8のプロピレンの重合と同様に行った。顆粒状の重合体
が得られた。結果を表1に示す。
8のプロピレンとエチレンの共重合と同様に行った。顆
粒状の重合体が得られた。結果を表2に示す。
8のエチレンの重合と同様に行った。結果を表3に示
す。
触媒の調製とオレフィンの重合 〔触媒の調製〕 EBIZの代わりにrac−ジメチルシリレン−ビス{1−
(2−メチル−4−ナフチルインデニル)}ジルコニウ
ムジクロライド(以下、2MNIZと略記する。)を用いた
以外は実施例8と同様にしてオレフィン重合用触媒を調
製した。
8のプロピレンの重合と同様に行った。顆粒状の重合体
が得られた。結果を表1に示す。
8のプロピレンとエチレンの共重合と同様に行った。顆
粒状の重合体が得られた。結果を表2に示す。
8のエチレンの重合と同様に行った。結果を表3に示
す。
媒の調製とオレフィンの重合 〔触媒の調製〕 比較例3のオレフィン重合用触媒成分を用いた以外
は、実施例8と同様にしてオレフィン重合用触媒を調製
した。
8のプロピレンの重合と同様に行った。結果を表1に示
す。重合活性は殆ど認められなかった。
8のプロピレンとエチレンの共重合と同様に行った。結
果を表2に示す。重合活性は殆ど認められなかった。
8のエチレンの重合と同様に行った。結果を表3に示
す。重合活性は殆ど認められなかった。
ンの重合 〔触媒の調製〕 EBIZ0.5mmol/トルエン溶液4mlとトリイソブチルア
ルミニウム0.5mol/トルエン溶液0.2mlとを接触させ、
これにN,N−ジメチルアニリニウムテトラキス(ペンタ
フルオロフェニル)ボレートの1mmol/トルエン溶液2m
lを加え2分間撹拌後、トルエン30mlとシリカ(450℃で
4時間乾燥)0.5gを添加し5分間撹拌した。トルエンを
除去しヘキサン洗浄後ヘキサンスラリーとした。
の0.5mol/ヘキサン溶液6mlとプロピレン8molを仕込
み、50℃に昇温した後、上述の重合用触媒を添加し30分
間重合した。重合活性は7400g/g錯体/h、130g/g触媒/h
であった。結果を表1に示す。得られた重合体の嵩密度
は0.12g/mlと低く、微粉であり、重合体の器壁への付着
があった。
8のプロピレンとエチレンの共重合と同様に行った。結
果を表2に示す。得られた重合体は微粉であり、反応器
への重合体の付着があった。
8のエチレンの重合と同様に行った。結果を表3に示
す。
媒の調製とオレフィンの重合 〔触媒の調製〕 比較例2のオレフィン重合用触媒成分を用いた以外
は、実施例8と同様にしてオレフィン重合用触媒を調製
した。
8のプロピレンの重合と同様に行った。顆粒状の重合体
が得られた。結果を表1に示す。
8のプロピレンとエチレンの共重合と同様に行った。顆
粒状の重合体が得られた。結果を表2に示す。
8のエチレンの重合と同様に行った。結果を表3に示
す。
よび周期律表第4〜6族の遷移金属化合物との組合わせ
により、スラリープロセス、気相プロセス等によるオレ
フィンの重合触媒成分として有用である。本発明のイオ
ン性化合物から担体との結合性に優れた触媒が得られ、
粉体性状がよく反応器内壁への生成物の付着の問題のな
いポリオレフィンの製造が可能である。
ン、3−メチル−1−ブテン、1−ヘキセン、4−メチ
ル−1−ペンテン、1−オクテン、1−デセン、1−ド
デセン、1−テトラデセン、1−ヘキサデセン、1−オ
クタデセン、1−エイコセン、シクロペンテン、シクロ
ヘプテン、ノルボルネン、5−メチル−2−ノルボルネ
ン、テトラシクロドデセン、さらに、スチレン、ビニル
シクロヘキサン、ビニルシクロヘキセン、ジビニルベン
ゼン、ジエンなどの幅広い種類のポリマーの製造に有用
である。
Claims (16)
- 【請求項1】以下の一般式(I)で表されるイオン性化
合物 [M(R1)k(R2)l(R3)m(R4−L)n]−[D]+ (I) (式中、Mは第13族の元素であり、 R1、R2およびR3は各々同一でも異なっていてもよく、炭
素数1〜20の炭化水素基、置換炭化水素基、アルコキシ
ド基またはハロゲン原子であり、 R4は、ハロゲン原子またはハロゲン化炭化水素基により
置換された、アルキレン基、フェニレン基、シラニレン
基、シラアルキレン基、またはオキサシラニレン基であ
り、k、l、mは、それぞれ0または1〜3の整数、n
は1〜4の整数で、k+l+m+n=4であり、 Lは、R4に化学的に結合している、以下の一般式(II)
または一般式(III) SiR5R6R7 (II) R8R9R10SiYSiR11R12 (III) (式中、R5〜R12は、各々同一でも異なっていてもよ
く、炭素数1〜20の炭化水素基、置換炭化水素基、アル
コキシド基、またはハロゲン原子であり、それぞれSiに
化学的に結合しており、R5、R6、R7のうちの少なくとも
一つ、およびR8、R9、R10のうち少なくとも一つはハロ
ゲン原子であり、 Yは、−O−、炭素数1〜20のアルキレン基、置換アル
キレン基、フェニレン基、置換フェニレン基、または −(Z1SiZ2Z3Z4)r− (式中、Z1およびZ4は各々同一でも異なっていてもよ
く、アルキレン基、置換アルキレン基、フェニレン基も
しくは置換フェニレン基、−O−、オキシアルキレン
基、置換オキシアルキレン基、オキシフェニレン基また
は置換オキシフェニレン基を表わし、Z2およびZ3は各々
同一でも異なっていてもよく、水素原子、アルキル基、
置換アルキル基、フェニル基もしくは置換フェニル基で
あり、rは1以上の整数を表わす。))で示される基で
あり、 nが2以上の場合、各々のR4−Lは各々同一でも異なっ
ていてもよく、 Dは、カルボニウム、アニリニウム、アンモニウム、フ
ェロセニウム、フォスフォニウム、ナトリウム、カリウ
ムおよびリチウムから選択される1価のカチオンを表わ
す。)。 - 【請求項2】nが1である請求の範囲第1項に記載のイ
オン性化合物。 - 【請求項3】Mがホウ素である請求の範囲第1項に記載
のイオン性化合物。 - 【請求項4】R1、R2およびR3が、各々ペンタフルオロフ
ェニル基である請求の範囲第1項に記載のイオン性化合
物。 - 【請求項5】R4が2,3,5,6−テトラフルオロフェニレン
基である請求の範囲第1項に記載のイオン性化合物。 - 【請求項6】Lがトリクロロシリル基、メチルジクロロ
シリル基またはジメチルクロロシリル基である請求の範
囲第1項に記載のイオン性化合物。 - 【請求項7】Dがアニリニウムイオンである請求の範囲
第1項に記載のイオン性化合物。 - 【請求項8】下記(1)〜(4)で示される成分: (1)一般式(IV) X1−R4−X2 (IV) (式中、X1およびX2は、それぞれ独立して水素原子また
は臭素原子を表わし、R4は炭素数1〜20のアルキレン
基、置換アルキレン基、置換フェニレン基、シラニレン
基、置換シラニレン基、シラアルキレン基、置換シラア
ルキレン基、オキサシラニレン基、置換オキサシラニレ
ン基、オキサシラアルキレン基を表す。)で示される化
合物; (2)一般式(V) MR1R2R3 (V) (式中、Mは第13族の元素であり、 R1、R2およびR3は各々同一でも異なっていてもよく、炭
素数1〜20の炭化水素基、置換炭化水素基、アルコキシ
ド基またはハロゲン原子である。)で示される化合物; (3)一般式(VI)または(VII) SiR5R6R7R13 (VI) R8R9R10SiYSiR11R12R14 (VII) (式中、R5〜R12は、各々同一でも異なっていてもよ
く、炭素数1〜20の炭化水素基、置換炭化水素基、アル
コキシド基、またはハロゲン原子であり、それぞれSiに
化学的に結合しており、R5、R6、R7のちの少なくとも一
つ、およびR8、R9、R10のうち少なくとも一つはハロゲ
ン原子であり、R13およびR14は、各々独立して炭素数1
〜20の炭化水素基、置換炭化水素基、アルコキシド基ま
たはハロゲン原子を表わし、 Yは、−O−、炭素数1〜20のアルキレン基、置換アル
キレン基、フェニレン基、置換フェニレン基、または −(Z1SiZ2Z3Z4)r− (式中、Z1およびZ4は各々同一でも異なっていてもよ
く、アルキレン基、置換アルキレン基、フェニレン基も
しくは置換フェニレン基、−O−、オキシアルキレン
基、置換オキシアルキレン基、オキシフェニレン基また
は置換オキシフェニレン基を表わし、Z2およびZ3は各々
同一でも異なっていてもよく、水素原子、アルキル基、
置換アルキル基、フェニル基もしくは置換フェニル基で
あり、rは1以上の整数を表わす。)で示される基を表
わす。)で示されるケイ素化合物;および (4)1価のカチオンの塩化物; を用いて、これらを反応させることを特徴とする一般式
(I) [M(R1)k(R2)l(R3)m(R4−L)n]−[D]+ (I) (式中、M、R1、R2、R3およびR4は前記と同じ意味を表
わし、 Lは、R4に化学的に結合している、以下の一般式(II)
または一般式(III) SiR5R6R7 (II) R8R9R10SiYSiR11R12 (III) (式中の記号は前記と同じ意味を表わす。)で示される
基を表わし、 k、l、mは、それぞれ0または1〜3の整数、nは1
〜4の整数で、k+l+m+n=4であり、 Dは、カルボニウム、アニリニウム、アンモニウム、フ
ェロセニウム、フォスフォニウム、ナトリウム、カリウ
ムおよびリチウムから選択される1価のカチオンを表わ
す。)で示されるイオン性化合物の製造方法。 - 【請求項9】(イ)一般式(IV) X1−R4−X2 (IV) (式中の記号は請求の範囲第8項の記載と同じ意味を表
わす。)で示される化合物の臭素または水素を有機リチ
ウムによりリチウムに置換してリチウム置換物を得る工
程; (ロ)前記リチウム置換物を一般式(V) MR1R2R3 (V) (式中の記号は請求の範囲第8項の記載と同じ意味を表
わす。)で示される第13族元素含有化合物と反応させる
ことにより一般式(VIII) [M(R1)k(R2)l(R3)m(R4−A)n]−[Li]+ (VIII) (式中、AはR4と化学的に結合している、水素または臭
素である。)で示されるリチウム化合物を得る工程; (ハ)前記一般式(VIII)の化合物を有機リチウムによ
りリチオ化し、下記一般式(VI)または(VII) SiR5R6R7R13 (VI) R8R9R10SiYSiR11R12R14 (VII) (式中の記号は請求の範囲第8項の記載と同じ意味を表
わす。)で示されるケイ素化合物と反応させることによ
り一般式(IX) [M(R1)k(R2)l(R3)m(R4−L)n]−[Li]+ (IX) (式中の記号は請求の範囲第8項の記載と同じ意味を表
わす。)で示される化合物を得る工程;および (ニ)前記一般式(IX)で示される化合物を1価のカチ
オンの塩化物と反応させる工程;を含むことを特徴とす
る一般式(I) [M(R1)k(R2)l(R3)m(R4−L)n]−[D]+ (I) (式中の記号は請求の範囲第8項の記載と同じ意味を表
わす。)で示されるイオン性化合物の製造方法。 - 【請求項10】前記一般式(IV)で表される化合物が、
一般式(IV a) (式中の記号は、請求の範囲第8項の記載と同じ意味を
表わす。)で表される化合物である請求の範囲第8項ま
たは第9項に記載のイオン性化合物の製造方法。 - 【請求項11】請求の範囲第1項に記載のイオン性化合
物が担体に化学的に結合しているオレフィン重合用触媒
成分。 - 【請求項12】担体が一般式(X) −OR (X) (式中、Rは水素原子、炭素数1〜20のアルキル基、ア
ルキル金属またはアミンである。)で示される官能基を
有する固体である請求の範囲第11項に記載のオレフィン
重合用触媒成分。 - 【請求項13】担体が水酸基を有する固体である請求の
範囲第12項に記載のオレフィン重合用触媒成分。 - 【請求項14】担体がシリカ、アルミナまたはそれらの
混合物である請求の範囲第11項に記載のオレフィン重合
用触媒成分。 - 【請求項15】下記の成分 (a)請求の範囲第11項に記載のオレフィン重合用触媒
成分、 (b)有機金属化合物、および (c)周期律表第4、5または6族の遷移金属化合物を
必須成分とするオレフィン重合用触媒。 - 【請求項16】周期律表第4、5または6族の遷移金属
化合物がメタロセンである請求の範囲第15項に記載のオ
レフィン重合用触媒。
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