JP2022516119A - テレケリックポリオレフィンを含む硬化性組成物 - Google Patents
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Abstract
Description
本出願は、2018年12月28日出願の米国仮出願第62/786119号に対する優先権の利益を主張し、参照によりそれらの全体が本明細書に組み込まれる。
A1L1L2A2(I)、
式中、L1が、ポリオレフィンであり、
A1が、ビニル基、式CH2=C(Y1)-のビニリデン基、式Y1CH=CH-のビニレン基、ビニル基と式Y1CH=CH-のビニレン基との混合物、ビニル基と式CH2=C(Y1)-のビニリデン基との混合物、式CH2=C(Y1)-のビニリデン基と式Y1CH=CH-のビニレン基との混合物、およびビニル基と式CH2=C(Y1)-のビニリデン基と式Y1CH=CH-のビニレン基との混合物からなる群から選択され、
Y1が、出現ごとに独立して、C1~C30ヒドロカルビル基であり、
L2が、C1~C32ヒドロカルビレン基であり、
A2が、立体障害のある二重結合(hindered double bond)を含むヒドロカルビル基である、組成物に関する。
1)(A)モノマー成分、(B)連鎖移動剤成分、および(C)触媒成分、を含む出発材料を組み合わせて溶液を形成し、溶液中の10mol%超~99mol%以下の(A)モノマー成分を重合することと、
2)溶液を加熱することと、
3)テレケリックポリオレフィンを含む組成物を含む生成物を回収することと、を含み、
(B)連鎖移動剤成分が、式Al(CH2CH(Y2)A2)3の有機アルミニウム化合物を含み、
Y2が、出現ごとに独立して、水素またはC1~C30ヒドロカルビル基であり、
A2が、出現ごとに独立して、立体障害のある二重結合を含むヒドロカルビル基である、プロセスに関する。
本明細書における元素周期表への全ての言及は、CRC Press,Inc.によって2003年に出版および著作権化されている元素周期表を指すものとする。また、族へのいずれの参照も、族の付番のためにIUPACシステムを使用して、元素のこの周期表に反映された族に対するものとする。反対のことが記載されないか、文脈から示唆されないか、または当該技術分野で慣習的でない限り、全ての部およびパーセントは、重量に基づく。米国特許実務の目的のため、本明細書で参照される任意の特許、特許出願、または刊行物の内容は、特に当該技術分野における合成技法、定義(本明細書に提供される任意の定義と矛盾しない程度において)、および一般的な知識に関して、参照によってそれらの全体が本明細書に組み込まれる(または、それらの同等の米国版が、参照によってそのように組み込まれる)。
本開示は、式A1L1L2A2のテレケリックポリオレフィン、ならびにそのようなテレケリックポリオレフィンを含む組成物に関する。
A1L1L2A2(I)、
式中、L1が、ポリオレフィンであり、
A1が、ビニル基、式CH2=C(Y1)-のビニリデン基、式Y1CH=CH-のビニレン基、ビニル基と式Y1CH=CH-のビニレン基との混合物、ビニル基と式CH2=C(Y1)-のビニリデン基との混合物、式CH2=C(Y1)-のビニリデン基と式Y1CH=CH-のビニレン基との混合物、およびビニル基と式CH2=C(Y1)-のビニリデン基と式Y1CH=CH-のビニレン基との混合物からなる群から選択され、
Y1が、出現ごとに独立して、C1~C30ヒドロカルビル基であり、
L2が、C1~C32ヒドロカルビレン基であり、
A2が、立体障害のある二重結合を含むヒドロカルビル基であり、
式(I)のテレケリックポリオレフィンが、1,000~10,000,000g/molの重量平均分子量を含む。
本開示はさらに、テレケリックポリオレフィン、またはテレケリックポリオレフィンを含む組成物を調製するためのプロセスに関し、本プロセスは、
1)(A)モノマー成分、(B)連鎖移動剤成分、および(C)プロ触媒を含む触媒成分、を含む出発材料を組み合わせて溶液を形成し、溶液中の10mol%超~99mol%以下の(A)モノマー成分を重合することと、
2)溶液を少なくとも160℃の温度に加熱し、溶液を少なくとも160℃の温度で少なくとも30秒の時間の間保持することと、
3)テレケリックポリオレフィン、またはテレケリックポリオレフィンを含む組成物を含む生成物を回収することと、を含み、
(B)連鎖移動剤成分は、式Al(CH2CH(Y2)A2)3の有機アルミニウム化合物を含み、
Y2は、出現ごとに独立して、水素またはC1~C30ヒドロカルビル基であり、
A2は、出現ごとに独立して、立体障害のある二重結合を含むヒドロカルビル基である。
式(I): A1L1L2A2(I)、のテレケリックポリオレフィンを含む組成物を調製するためのプロセスに関し、本プロセスは、
1)(A)モノマー成分、(B)連鎖移動剤成分、および(C)プロ触媒を含む触媒成分、を含む出発材料を組み合わせて溶液を形成し、溶液中の10mol%超~99mol%以下の(A)モノマー成分を重合することと、
2)溶液を少なくとも160℃の温度に加熱し、溶液を少なくとも160℃の温度で少なくとも30秒の時間の間保持することと、
3)式(I)のテレケリックポリオレフィン、または式(I)のテレケリックポリオレフィンを含む組成物を含む生成物を回収することと、を含み、
(B)連鎖移動剤成分は、式Al(CH2CH(Y2)A2)3の有機アルミニウム化合物を含み、
L1は、ポリオレフィンであり、
L2は、C1~C32ヒドロカルビレン基であり、
A1は、ビニル基、式CH2=C(Y1)-のビニリデン基、式Y1CH=CH-のビニレン基、ビニル基と式Y1CH=CH-のビニレン基との混合物、ビニル基と式CH2=C(Y1)-のビニリデン基との混合物、式CH2=C(Y1)-のビニリデン基と式Y1CH=CH-のビニレン基との混合物、およびビニル基と式CH2=C(Y1)-のビニリデン基と式Y1CH=CH-のビニレン基との混合物からなる群から選択され、
Y1は、出現ごとに独立して、C1~C30ヒドロカルビル基であり、
Y2は、出現ごとに独立して、水素またはC1~C30ヒドロカルビル基であり、
A2は、出現ごとに独立して、立体障害のある二重結合を含むヒドロカルビル基であり、
式(I)のテレケリックポリオレフィンは、1,000~10,000,000g/molの重量平均分子量を含む。
(A)モノマー成分は、L1に関して本明細書で論じられるモノマーおよびコモノマーから選択される任意のモノマーを含む。好適なモノマーおよびコモノマーの例には、エチレン、ならびにプロピレン、1-ブテン、1-ペンテン、3-メチル-1-ブテン、1-ヘキセン、4-メチル-1-ペンテン、3-メチル-1-ペンテン、3,5,5-トリメチル-1-ヘキセン、1-オクテン、1-デセン、1-ドデセン、1-テトラデセン、1-ヘキサデセン、5-エチル-1-ノネン、1-オクタデセン、および1-エイコセンなどの3~30個の炭素原子、好ましくは3~20個の炭素原子のアルファ-オレフィン;ブタジエン、イソプレン、4-メチル-1,3-ペンタジエン、1,3-ペンタジエン、1,4-ペンタジエン、1,5-ヘキサジエン、1,4-ヘキサジエン、1,3-ヘキサジエン、1,5-ヘプタジエン、1,6-ヘプタジエン、1,3-オクタジエン、1,4-オクタジエン、1,5-オクタジエン、1,6-オクタジエン、1,7-オクタジエン、1,9-デカジエン、7-メチル-1,6-オクタジエン、4-エチリデン-8-メチル-1,7-ノナジエン、および5,9-ジメチル-1,4,8-デカトリエン、5-メチル-1,4-ヘキサジエン、3,7-ジメチル-1,6-オクタジエン、3,7-ジメチル-1,7-オクタジエン、およびジヒドロミルセンとジヒドロオシメンとの混合異性体などの共役または非共役ジエン;5-エチリデン-2-ノルボルネン、5-ビニル-2-ノルボルネン、ジシクロペンタジエン、5-メチレン-2-ノルボルネン、5-プロペニル-2-ノルボルネン、5-イソプロピリデン-2-ノルボルネン、5-(4-シクロペンテニル)-2-ノルボルネン、5-シクロヘキシリデン-2-ノルボルネン、およびノルボルナジエンなどのノルボルネンおよびアルケニル、アルキリデン、シクロアルケニル、およびシクロアルキルデンノルボルネン;(スチレン、o-メチルスチレン、t-メチルスチレン、m-メチルスチレン、p-メチルスチレン、o,p-ジメチルスチレン、o-エチルスチレン、m-エチルスチレン、およびp-エチルスチレンを含む)スチレン、モノまたはポリアルキルスチレンなどの芳香族ビニル化合物が挙げられるが、これらに限定されない。
特定の実施形態では、(B)連鎖移動剤成分は、式Al(CH2CH(Y2)A2)3の有機アルミニウム化合物を含み、式中、Y2が、出現ごとに独立して、水素またはC1~C30ヒドロカルビル基であり、A2が、出現ごとに独立して、立体障害のある二重結合を含むヒドロカルビル基である。さらなる実施形態では、(B)連鎖移動剤成分は、式Al(CH2CH(Y2)A2)3の有機アルミニウム化合物である。Y2およびA2は、式(I)のテレケリックポリオレフィンに関するY2およびA2の前述の実施形態のうちのいずれかであり得る。特定の実施形態では、式Al(CH2CH(Y2)A2)3の有機アルミニウム化合物のY2は、水素、メチル基、およびエチル基からなる基から選択され得る。特定の実施形態では、式Al(CH2CH(Y2)A2)3の有機アルミニウム化合物のA2は、前述の(AA)~(AZ)および(AZ1)の中から選択され得る。さらなる実施形態では、式Al(CH2CH(Y2)A2)3の有機アルミニウム化合物のA2は、(AC)、(AF)、(AM)、(AO)、(AP)、(AS)、および(AZ1)からなる群から選択される。(AF)のペンダントメチル基は、環員である任意の炭素原子に結合し得る。
特定の実施形態では、(C)触媒成分は、プロ触媒を含む。これらの実施形態では、プロ触媒は、助触媒を用いずに不飽和モノマーを重合するための活性触媒になる。さらなる実施形態では、(C)触媒成分は、プロ触媒および助触媒を含み、それにより、活性触媒は、プロ触媒と助触媒との組み合わせによって形成される。これらの実施形態では、(C)活性触媒成分は、1:2、または1:1.5、または1:1.2のプロ触媒対助触媒の比を含み得る。
Mは、元素周期表の3~15族、好ましくは3~10族、より好ましくは4~10族、最も好ましくは4族から選択される金属であり、
Kは、出現ごとに独立して、それを介してKがMに結合される非局在化π電子または1以上の電子対を含有する基であり、該K基は、水素原子を含まない最大50個の原子を含有し、任意選択で、2つ以上のK基は、一緒になって接合して架橋構造を形成してもよく、さらに任意選択で1個以上のK基は、Z、XまたはZとXの両方に結合してもよく、
Xが、出現ごとに独立して、最大40個の非水素原子を有する一価のアニオン性部分であり、任意選択で1つ以上のX基は一緒になって結合し、それによって二価または多価アニオン基を形成してもよく、さらに任意選択で、1つ以上のX基および1つ以上のZ基が、一緒になって結合し、それによってMに共有結合しそれに配位している部分を形成してもよく、あるいは2つのX基が、一緒になって最大40個の非水素原子の二価アニオン性配位子基を形成するか、または一緒に非局在化π電子によってMに結合した4~30個の非水素原子を有する共役ジエンであり、その際、Mが、+2の形式的な酸化状態にあり、
Zが、出現ごとに独立して、ZがMに配位する少なくとも1つの非共有電子対を含有する最大50個の非水素原子の中性ルイス塩基ドナー配位子であり、
kは、0~3の整数であり、xは、1~4の整数であり、Zは、0~3の数であり、
和、k+xは、Mの形式酸化状態に等しい。
Mは、4族の金属であり、
Kは、KがMに結合される非局在化π電子を含有する基であり、該K基は、水素原子を含まない最大50個の原子を含有し、任意選択で、2つのK基は、一緒になって接合して架橋構造を形成してもよく、さらに任意選択で1個のK基は、XまたはZに結合してもよく、
Xは、出現ごとに、最大40個の非水素原子を有する一価のアニオン性部分であり、任意選択で1つ以上のXおよび1つ以上のK基は、一緒になって結合して金属環を形成し、さらに任意選択で1つ以上のX基および1つ以上のZ基は一緒になって結合し、それによりMに共有結合し、かつそれに配位している部分を形成し、
Zが、出現ごとに独立して、ZがMに配位する少なくとも1つの非共有電子対を含有する最大50個の非水素原子の中性ルイス塩基ドナー配位子であり、
kは、0~3の整数であり、xは、1~4の整数であり、Zは、0~3の数であり、和、k+xは、Mの形式酸化状態に等しい。
Mは、+2または+4の形式酸化状態にあるチタン、ジルコニウム、またはハフニウム、好ましくはジルコニウムまたはハフニウムであり、R3は、出現ごとに独立して、水素、ヒドロカルビル、シリル、ゲルミル、シアノ、ハロ、およびそれらの組み合わせからなる群から選択され、該R3は、20個の非水素原子を有し、または隣接R3基が一緒になって二価誘導体(すなわち、ヒドロカルバジイル、シラジイルまたはゲルマジイル基)を形成し、それにより縮合環系を形成し、
X”は、出現ごとに独立して、40個までの非水素原子のアニオン性配位子基であり、または、2つのX”基が一緒になって最大40個の非水素原子の二価アニオン性配位子基を形成し、もしくは一緒になって、非局在化π電子によりMに結合した4~30個の非水素原子を有する共役ジエンであり、Mは、+2の形式酸化状態にあり、
R’、E、およびeは、以前に定義されたとおりである。
K1は、1~5個のR2基で任意選択で置換された非局在化π結合配位子基であり、
R2は、出現ごとに独立して、水素、ヒドロカルビル、シリル、ゲルミル、シアノ、ハロ、およびそれらの組み合わせからなる群から選択され、該R2は、20個までの非水素原子を有し、または、隣接R2基が一緒になって二価誘導体(即ち、ヒドロカルバジイル、シラジイル、またはゲルマジイル基)を形成し、それにより縮合環系を形成し、
各Xは、ハロ、ヒドロカルビル、ヘテロヒドロカルビル、ヒドロカルビルオキシまたはシリル基であり、該基は、20個までの非水素原子を有し、または、2個のX基が一緒になって中性C5~30共役ジエンもしくはその二価誘導体を形成し、
xは、1または2であり、
Yは、-O-、-S-、-NR’-、-PR’-であり、
X’は、SiR’2、CR’2、SiR’2SiR’2、CR’2CR’2、CR’=CR’、CR’2SiR’2、またはGeR’2であり、式中、
R’は、出現ごとに独立して、水素、またはシリル、ヒドロカルビル、ヒドロカルビルオキシ、およびそれらの組み合わせから選択される基であり、該R’は、最大30個の炭素原子またはケイ素原子を有する。
Arは、水素を含まない6~30個の原子のアリール基であり、
R4は、出現ごとに独立して、水素、Ar、または、ヒドロカルビル、トリヒドロカルビルシリル、トリヒドロカルビルゲルミル、ハロゲン化物、ヒドロカルビルオキシ、トリヒドロカルビルシロキシ、ビス(トリヒドロカルビルシリル)アミノ、ジ(ヒドロカルビル)アミノ、ヒドロカルバジイルアミノ、ヒドロカルビルイミノ、ジ(ヒドロカルビル)ホスフィノ、ヒドロカルバジイルホスフィノ、ヒドロカルビルスルフィド、ハロ置換ヒドロカルビル、ヒドロカルビルオキシ置換ヒドロカルビル、トリヒドロカルビルシリル置換ヒドロカルビル、ビス(トリヒドロカルビルシリル)アミノ置換ヒドロカルビル、ジ(ヒドロカルビル)アミノ置換ヒドロカルビル、ヒドロカルビレンアミノ置換ヒドロカルビル、ヒドロカルビレンホスフィノ置換ヒドロカルビル、もしくはヒドロカルビルスルフィド置換ヒドロカルビルから選択されるAr以外の基であり、該R基は、水素原子を含まない40個までの原子を有し、任意選択で2つの隣接R4基が一緒になって接合して多環式縮合環基を形成してもよく、
Mは、チタンであり、
X’が、SiR6 2、CR6 2、SiR6 2SiR6 2、CR6 2CR6 2、CR6=CR6、CR6 2SiR6 2、BR6、BR6L”、またはGeR6 2であり、
Yは、-O-、-S、-NR5-、-PR5-、-NR5 2、または-PR5 2であり、
R5は、出現ごとに独立して、ヒドロカルビル、トリヒドロカルビルシリル、またはトリヒドロカルビルシリルヒドロカルビルであり、該R5は、水素以外の20個までの原子を有し、任意選択で2つのR5基またはR5とYまたはZとが一緒になって環系を形成し、
R6は、出現ごとに独立して、水素、またはヒドロカルビル、ヒドロカルビルオキシ、シリル、ハロゲン化アルキル、ハロゲン化アリール、-NR5 2およびそれらの組み合わせから選択されるメンバーであり、該R6は、20個までの非水素原子を有し、任意選択で2つのR6基またはR6とZとが一緒になって環系を形成し、
Zは、任意選択でR5、R6、またはXに結合した中性ジエンまたは単座もしくは多座ルイス塩基であり、
Xは、水素原子、水素原子を含まない最大60個の原子を有する一価のアニオン性配位子基、または2つのX基が、一緒になって接合し、それにより二価配位子基を形成し、
xは、1または2であり、
zは、0、1、または2である。
R7は、出現ごとに独立して、水素化物、ヒドロカルビル、シリル、ゲルミル、ハロゲン化物、ヒドロカルビルオキシ、ヒドロカルビルシロキシ、ヒドロカルビルシリルアミノ、ジ(ヒドロカルビル)アミノ、ヒドロカルビレンアミノ、ジ(ヒドロカルビル)ホスフィノ、ヒドロカルビレン-ホスフィノ、ヒドロカルビルスルフィド、ハロ置換ヒドロカルビル、ヒドロカルビルオキシ置換ヒドロカルビル、シリル置換ヒドロカルビル、ヒドロカルビルシロキシ置換ヒドロカルビル、ヒドロカルビルシリルアミノ置換ヒドロカルビル、ジ(ヒドロカルビル)アミノ置換ヒドロカルビル、ヒドロカルビレンアミノ置換ヒドロカルビル、ジ(ヒドロカルビル)ホスフィノ置換ヒドロカルビル、ヒドロカルビレン-ホスフィノ置換ヒドロカルビル、またはヒドロカルビルスルフィド置換ヒドロカルビルであり、該R7基は、水素を含まない40個までの原子を有し、任意選択で2つ以上の前述の基が一緒になって二価誘導体を形成してもよく、
R8は、金属錯体の残りの部分と縮合系を形成する二価ヒドロカルビレンまたは置換ヒドロカルビレン基であり、該R8は、水素を含まない1~30個の原子を含み、
Xaが、二価部分、または1つのπ結合およびMと配位共有結合を形成することができる中性の2つの電子対とを含む部分であり、該Xaが、ホウ素、または元素周期表の14族のメンバーを含み、また窒素、リン、硫黄または酸素を含み、
Xは、環式、非局在化、π結合配位子基である配位子のクラスを除く60個までの原子を有する一価のアニオン性配位子基であり、任意選択で2つのX基が一緒になって二価配位子基を形成し、
Zは、出現ごとに独立して、20個までの原子を有する中性配位化合物であり、
xは、0、1、または2であり、
zは、ゼロまたは1である。
XbおよびYbは、それぞれ独立して、窒素、硫黄、酸素およびリンからなる群から選択され、より好ましくは、XbおよびYbの両方が窒素であり、
RbおよびRb’は、出現ごとに独立して、水素または1個以上のヘテロ原子を任意選択で含むC1~50ヒドロカルビル基もしくはそれらの不活性に置換された誘導体である。好適なRbおよびRb’基の非限定的な例としては、アルキル、アルケニル、アリール、アラルキル、(ポリ)アルキルアリール、およびシクロアルキル基、ならびにそれらの窒素、リン、酸素、およびハロゲン置換誘導体が挙げられる。好適なRbおよびRb’基の具体例には、メチル、エチル、イソプロピル、オクチル、フェニル、2,6-ジメチルフェニル、2,6-ジ(イソプロピル)フェニル、2,4,6-トリメチルフェニル、ペンタフルオロフェニル、3,5-トリフルオロメチルフェニル、およびベンジルが挙げられ、
gおよびg’は、それぞれ独立して、0または1であり、
Mbは、元素周期表の3~15族、またはランタニド系列から選択される金属元素である。好ましくは、Mbは、3~13族金属であり、より好ましくは、Mbは、4~10族金属であり、
Lbは、水素を含まない1~50個の原子を含む一価、二価、または三価のアニオン性配位子である。好適なLb基の例としては、ハロゲン化物;水素化物;ヒドロカルビル、ヒドロカルビルオキシ、ジ(ヒドロカルビル)アミド、ヒドロカルビレンアミド、ジ(ヒドロカルビル)ホスフィド;ヒドロカルビルスルフィド;ヒドロカルビルオキシ、トリ(ヒドロカルビルシリル)アルキル;およびカルボキシレートが挙げられる。より好ましいLb基は、C1~20アルキル、C7~20アラルキル、およびクロリドであり、
hおよびh’は、それぞれ独立して、1~6、好ましくは1~4、より好ましくは1~3の整数であり、jは、1または2であり、h×jの値は、電荷平衡を提供するように選択され、
Zbは、Mbに配位した中性配位子基であり、水素を含まない原子を最大50個含有する。好ましいZb基としては、脂肪族および芳香族アミン、ホスフィン、ならびにエーテル、アルケン、アルカジエン、およびそれらの不活性に置換された誘導体が挙げられる。好適な不活性置換基としては、ハロゲン、アルコキシ、アリールオキシ、アルコキシカルボニル、アリールオキシカルボニル、ジ(ヒドロカルビル)アミン、トリ(ヒドロカルビル)シリル、およびニトリル基が挙げられる。好ましいZb基としては、トリフェニルホスフィン、テトラヒドロフラン、ピリジン、および1,4-ジフェニルブタジエンが挙げられ、
fは、1~3の整数であり、
Tb、Rb、およびRb’のうちの2つまたは3つは、一緒になって接合して、単一または複数の環構造を形成してもよく、
hは、1~6、好ましくは1~4、より好ましくは1~3の整数であり、
各Rdは、C1~10ヒドロカルビル基、好ましくはメチル、エチル、n-プロピル、i-プロピル、t-ブチル、フェニル、2,6-ジメチルフェニル、ベンジル、またはトリルである。各Reは、C1~10ヒドロカルビル、好ましくはメチル、エチル、n-プロピル、i-プロピル、t-ブチル、フェニル、2,6-ジメチルフェニル、ベンジル、またはトリルである。加えて、2つ以上のRd基もしくはRe基、またはRd基とRe基との混合物が一緒になって、1,4-ブチレン、1,5-ペンチレン、または環式環、または多環式縮合環、ナフタレン-1,8-ジイルなどの多価ヒドロカルビルもしくはヘテロヒドロカルビル基などのヒドロカルビル基の二価または多価誘導体を形成し得る。
d’は、4であり、
Mb’は、4族金属、好ましくはチタンもしくはハフニウム、または10族金属、好ましくはNiもしくはPdであり、
Lb’は、水素を含まない50個までの原子の一価配位子、好ましくはハロゲン化物もしくはヒドロカルビルであるか、または2つのLb’基が一緒になって二価もしくは中性配位子基、好ましくはC2~50ヒドロカルビレン、ヒドロカルバジイルもしくはジエン基である。
R11は、アルキル、シクロアルキル、ヘテロアルキル、シクロヘテロアルキル、アリール、および水素を含まない1~30個の原子を含むそれらの不活性に置換された誘導体またはそれらの二価誘導体から選択され、
T1は、水素以外の1~41個の原子、好ましくは水素以外の1~20個の原子の二価架橋基、最も好ましくはモノ-またはジ-C1~20ヒドロカルビル置換メチレンまたはシラン基であり、
R12は、ルイス塩基官能基を含むC5~20ヘテロアリール基、特にピリジン-2-イル-もしくは置換ピリジン-2-イル基、またはそれらの二価誘導体であり、
M1は、4族金属、好ましくはハフニウムであり、
X1は、アニオン性、中性またはジアニオン性の配位子基であり、
x’は、そのようなX1基の数を示す0~5の数であり、結合、任意選択の結合および電子供与性相互作用は、それぞれ線、点線および矢印で表される。
R13、R14、R15、およびR16が、水素、ハロ、または水素を含まない最大20個の原子のアルキル、シクロアルキル、ヘテロアルキル、ヘテロシクロアルキル、アリール、もしくはシリル基であるか、あるいは隣接するR13、R14、R15、またはR16基が、一緒になって接合し、それによって縮合環誘導体を形成してもよく、結合、任意選択の結合、および電子対供与性相互作用が、それぞれ線、点線、および矢印で表される。前述の金属錯体の好適例は、以下の式に対応し、
M1、X1、およびx’は、以前に定義されたとおりであり、
R13、R14、R15およびR16が、以前に定義されたとおりであり、好ましくは、R13、R14、およびR15が、水素、またはC1~4アルキルであり、R16は、C6~20アリール、最も好ましくはナフタレニルであり、
Raは、出現ごとに独立して、C1~4アルキルであり、aは、1~5であり、最も好ましくは、窒素への2つのオルト位置のRaは、イソプロピルまたはt-ブチルであり、
R17およびR18は、出現ごとに独立して、水素、ハロゲン、またはC1~20アルキルもしくはアリール基であり、最も好ましくは、R17およびR18の一方が水素であり、他方がC6~20アリール基、特に2-イソプロピル、フェニルまたは縮合多環式アリール基、最も好ましくはアントラセニル基であり、結合、任意選択の結合および電子対供与性相互作用は、それぞれ線、点線および矢印で表される。
Rfは、出現ごとに独立して、水素、ハロゲン、C1~20アルキル、もしくはC6~20アリールであるか、または2つの隣接するRf基が一緒になって接合し、それにより環を形成し、fは1~5であり、
Rcは、出現ごとに独立して、水素、ハロゲン、C1~20アルキル、もしくはC6~20アリールであるか、または2つの隣接するRc基が一緒になって接合し、それにより環を形成し、cは1~5である。
X1は、出現ごとに、ハロゲン化物、N,N-ジメチルアミド、またはC1~4アルキル、好ましくはメチルである。
[N-(2,6-ジ(1-メチルエチル)フェニル)アミド)(o-トリル)(α-ナフタレン-2-ジイル(6-ピリジン-2-ジイル)メタン)]ジメチルハフニウム、
[N-(2,6-ジ(1-メチルエチル)フェニル)アミド)(o-トリル)(α-ナフタレン-2-ジイル(6-ピリジン-2-ジイル)メタン)]ハフニウムジ(N,N-ジメチルアミド)、
[N-(2,6-ジ(1-メチルエチル)フェニル)アミド)(o-トリル)(α-ナフタレン-2-ジイル(6-ピリジン-2-ジイル)メタン)]ハフニウムジクロリド、
[N-(2,6-ジ(1-メチルエチル)フェニル)アミド)(2-イソプロピルフェニル)(α-ナフタレン-2-ジイル(6-ピリジン-2-ジイル)メタン)]ジメチルハフニウム、
[N-(2,6-ジ(1-メチルエチル)フェニル)アミド)(2-イソプロピルフェニル)(α-ナフタレン-2-ジイル(6-ピリジン-2-ジイル)メタン)]ハフニウムジ(N,N-ジメチルアミド)、
[N-(2,6-ジ(1-メチルエチル)フェニル)アミド)(2-イソプロピルフェニル)(α-ナフタレン-2-ジイル(6-ピリジン-2-ジイル)メタン)]ハフニウムジクロリド、
[N-(2,6-ジ(1-メチルエチル)フェニル)アミド)(フェナントレン-5-イル)(α-ナフタレン-2-ジイル(6-ピリジン-2-ジイル)メタン)]ジメチルハフヒウム(hafhium)、
[N-(2,6-ジ(1-メチルエチル)フェニル)アミド)(フェナントレン-5-イル)(α-ナフタレン-2-ジイル(6-ピリジン-2-ジイル)メタン)]ハフヒウム(ジ(N,N-ジメチルアミド)、および
[N-(2,6-ジ(1-メチルエチル)フェニル)アミド)(フェナントレン-5-イル)(α-ナフタレン-2-ジイル(6-ピリジン-2-ジイル)メタン)]ハフニウムジクロリド。
R20は、水素を含まない5~20個の原子を含む芳香族もしくは不活性に置換された芳香族基、またはそれらの多価誘導体であり、
T3は、水素を含まない1~20個の原子を有するヒドロカルビレンもしくはヒドロカルビルシラン基、またはそれらの不活性に置換された誘導体であり、
M3は、4族金属、好ましくはジルコニウムまたはハフニウムであり、
Gは、アニオン性、中性またはジアニオン性配位基;好ましくは、水素を含まない20個までの原子を有するハロゲン化物、ヒドロカルビル、シラン、トリヒドロカルビルシリルヒドロカルビル、トリヒドロカルビルシリル、またはジヒドロカルビルアミド基であり、
gは、そのようなG基の数を示す1~5の数であり、結合および電子供与性相互作用は、それぞれ、線および矢印で表される。
T3は、水素を含まない2~20個の原子の二価架橋基、好ましくは置換または非置換のC3~6アルキレン基であり、
Ar2は、出現ごとに独立して、水素を含まない6~20個の原子のアリーレンまたはアルキルもしくはアリール置換アリーレン基であり、
M3は、4族金属、好ましくはハフニウムまたはジルコニウムであり、
Gは、出現ごとに独立して、アニオン性、中性またはジアニオン性配位基であり、
gは、そのようなX基の数を示す1~5の数であり、電子供与性相互作用は矢印で表される。
Ar4が、C6~20アリールまたはその不活性に置換された誘導体、特に、3,5-ジ(イソプロピル)フェニル、3,5-ジ(イソブチル)フェニル、ジベンゾ-1H-ピロール-1-イル、またはアントラセン-5-イルであり、
T4は、出現ごとに独立して、C3~6アルキレン基、C3~6シクロアルキレン基、またはそれらの不活性に置換された誘導体を含み、
R21は、出現ごとに独立して、水素、ハロ、ヒドロカルビル、トリヒドロカルビルシリル、または水素を含まない最大50個の原子のトリヒドロカルビルシリルヒドロカルビルであり、
Gは、出現ごとに独立して、ハロ、または水素を含まない最大20個の原子のヒドロカルビルもしくはトリヒドロカルビルシリル基であるか、あるいは2個のG基は、一緒になって、前述のヒドロカルビルまたはトリヒドロカルビルシリル基の二価誘導体である。
R21は、水素、ハロ、またはC1~4アルキル、特にメチルであり、
T4は、プロパン-1,3-ジイルまたはブタン-1,4-ジイルであり、
Gは、クロロ、メチル、またはベンジルである。
Mが、ジルコニウムまたはハフニウムであり、
R20は、出現ごとに独立して、水素を含まない5~20個の原子を含有する二価の芳香族基または不活性に置換された芳香族基であり、
T3は、水素を含まない3~20個の原子を有する二価の炭化水素もしくはシラン基、またはそれらの不活性に置換された誘導体であり、
RDは、出現ごとに独立して、水素を含まない1~20個の原子の一価配位子基であるか、または2つのRD基は、一緒になって、水素を含まない1~20個の原子の二価配位子基である。
Ar2は、出現ごとに独立して、水素を含まない6~20個の原子または任意の置換基の任意の原子の、アリーレン、またはアルキル、アリール、アルコキシ、もしくはアミノ置換アリーレン基であり、
T3は、水素を含まない3~20個の原子の二価炭化水素架橋基、好ましくは、酸素原子を隔てる少なくとも3個の炭素原子を有する二価の置換または非置換C3~6脂肪族、脂環式、またはビス(アルキレン)置換脂環式の基であり、
RDは、出現ごとに独立して、水素を含まない1~20個の原子の一価配位子基であるか、または2つのRD基は、一緒になって、水素を含まない1~40個の原子の二価配位子基である。
Ar4は、出現ごとに独立して、C6~20アリールまたはその不活性に置換された誘導体、特に、3,5-ジ(イソプロピル)フェニル、3,5-ジ(イソブチル)フェニル、ジベンゾ-1H-ピロール-1-イル、ナフチル、アントラセン-5-イル、1,2,3,4,6,7,8,9-オクタヒドロアントラセン-5-イルであり、
T4は、出現ごとに独立して、プロピレン-1,3-ジイル基、ビス(アルキレン)シクロヘキサン-1,2-ジイル基、または各々最大20個の炭素を有する1~5個のアルキル、アリール、もしくはアラルキル置換基で置換された、それらの不活性に置換された誘導体であり、
R21は、出現ごとに独立して、水素、ハロ、水素を含まない最大50個の原子のヒドロカルビル、トリヒドロカルビルシリル、トリヒドロカルビルシリルヒドロカルビル、アルコキシ、またはアミノであり、
RDは、出現ごとに独立して、ハロ、または水素を含まない最大20個の原子のヒドロカルビルもしくはトリヒドロカルビルシリル基であるか、あるいは2つのRD基は、一緒になって、水素を含まない最大40個の原子の二価ヒドロカルビレン、ヒドロカルバジイル、またはトリヒドロカルビルシリル基である。
R21は、出現ごとに独立して、水素、ハロ、水素を含まない最大50個の原子のヒドロカルビル、トリヒドロカルビルシリル、トリヒドロカルビルシリルヒドロカルビル、アルコキシ、またはアミノであり、
T4は、プロパン-1,3-ジイルまたはビス(メチレン)シクロヘキサン-1,2-ジイルであり、
RDは、出現ごとに独立して、ハロ、または水素を含まない最大20個の原子のヒドロカルビルもしくはトリヒドロカルビルシリル基であるか、あるいは2つのRD基は、一緒になって、水素を含まない最大40個の原子のヒドロカルビレン、ヒドロカルバジイル、またはヒドロカルビルシランジイル基である。
A)ビス((2-オキソイル-3-(1,2,3,4,6,7,8,9-オクタヒドロアントラセン-5-イル)-5-(メチル)フェニル)-2-フェノキシ)-1,3-プロパンジイルハフニウム(IV)ジメチル、
ビス((2-オキソイル-3-(1,2,3,4,6,7,8,9-オクタヒドロアントラセン-5-イル)-5-(メチル)フェニル)-2-フェノキシ)-1,3-プロパンジイルハフニウム(IV)ジクロリド、
ビス((2-オキソイル-3-(1,2,3,4,6,7,8,9-オクタヒドロアントラセン-5-イル)-5-(メチル)フェニル)-2-フェノキシ)-1,3-プロパンジイルハフニウム(IV)ジベンジル、
ビス((2-オキソイル-3-(ジベンゾ-1H-ピロール-1-イル)-5-(メチル)フェニル)-2-フェノキシ)-1,3-プロパンジイルハフニウム(IV)ジメチル、
ビス((2-オキソイル-3-(ジベンゾ-1H-ピロール-1-イル)-5-(メチル)フェニル)-2-フェノキシ)-1,3-プロパンジイルハフニウム(IV)ジクロリド、
ビス((2-オキソイル-3-(ジベンゾ-1H-ピロール-1-イル)-5-(メチル)フェニル)-2-フェノキシ)-1,3-プロパンジイルハフニウム(IV)ジベンジル、
B)ビス((2-オキソイル-3-(1,2,3,4,6,7,8,9-オクタヒドロアントラセン-5-イル)-5-(メチル)フェニル)-2-フェノキシメチル)-1,4-ブタンジイルハフニウム(IV)ジメチル、
ビス((2-オキソイル-3-(1,2,3,4,6,7,8,9-オクタヒドロアントラセン-5-イル)-5-(メチル)フェニル)-2-フェノキシメチル)-1,4-ブタンジイルハフニウム(IV)ジクロリド、
ビス((2-オキソイル-3-(1,2,3,4,6,7,8,9-オクタヒドロアントラセン-5-イル)-5-(メチル)フェニル)-2-フェノキシメチル)-1,4-ブタンジイルハフニウム(IV)ジベンジル、
ビス((2-オキソイル-3-(ジベンゾ-1H-ピロール-1-イル)-5-(メチル)フェニル)-2-フェノキシメチル)-1,4-ブタンジイルハフニウム(IV)ジメチル、
ビス((2-オキソイル-3-(ジベンゾ-1H-ピロール-1-イル)-5-(メチル)フェニル)-2-フェノキシメチル)-1,4-ブタンジイルハフニウム(IV)ジクロリド、
ビス((2-オキソイル-3-(ジベンゾ-1H-ピロール-1-イル)-5-(メチル)フェニル)-2-フェノキシメチル)-1,4-ブタンジイルハフニウム(IV)ジベンジル、
C)ビス((2-オキソイル-3-(1,2,3,4,6,7,8,9-オクタヒドロアントラセン-5-イル)-5-(メチル)フェニル)-2-フェノキシ)-2,4-ペンタンジイルハフニウム(IV)ジメチル、
ビス((2-オキソイル-3-(1,2,3,4,6,7,8,9-オクタヒドロアントラセン-5-イル)-5-(メチル)フェニル)-2-フェノキシ)-2,4-ペンタンジイルハフニウム(IV)ジクロリド、
ビス((2-オキソイル-3-(1,2,3,4,6,7,8,9-オクタヒドロアントラセン-5-イル)-5-(メチル)フェニル)-2-フェノキシ)-2,4-ペンタンジイルハフニウム(IV)ジベンジル、
ビス((2-オキソイル-3-(ジベンゾ-1H-ピロール-1-イル)-5-(メチル)フェニル)-2-フェノキシ)-2,4-ペンタンジイルハフニウム(IV)ジメチル、
ビス((2-オキソイル-3-(ジベンゾ-1H-ピロール-1-イル)-5-(メチル)フェニル)-2-フェノキシ)-2,4-ペンタンジイルハフニウム(IV)ジクロリド、
ビス((2-オキソイル-3-(ジベンゾ-1H-ピロール-1-イル)-5-(メチル)フェニル)-2-フェノキシ)-2,4-ペンタンジイルハフニウム(IV)ジベンジル、
D)ビス((2-オキソイル-3-(1,2,3,4,6,7,8,9-オクタヒドロアントラセン-5-イル)-5-(メチル)フェニル)-2-フェノキシメチル)-メチレンtrans-1,2-シクロヘキサンジイルハフニウム(IV)ジメチル、
ビス((2-オキソイル-3-(1,2,3,4,6,7,8,9-オクタヒドロアントラセン-5-イル)-5-(メチル)フェニル)-2-フェノキシメチル)-メチレンtrans-1,2-シクロヘキサンジイルハフニウム(IV)ジクロリド、
ビス((2-オキソイル-3-(1,2,3,4,6,7,8,9-オクタヒドロアントラセン-5-イル)-5-(メチル)フェニル)-2-フェノキシメチル)-メチレンtrans-1,2-シクロヘキサンジイルハフニウム(IV)ジベンジル、
ビス((2-オキソイル-3-(ジベンゾ-1H-ピロール-1-イル)-5-(メチル)フェニル)-2-フェノキシメチル)-メチレンtrans-1,2-シクロヘキサンジイルハフニウム(IV)ジメチル、
ビス((2-オキソイル-3-(ジベンゾ-1H-ピロール-1-イル)-5-(メチル)フェニル)-2-フェノキシメチル)-メチレンtrans-1,2-シクロヘキサンジイルハフニウム(IV)ジクロリド、および
ビス((2-オキソイル-3-(ジベンゾ-1H-ピロール-1-イル)-5-(メチル)フェニル)-2-フェノキシメチル)-メチレンtrans-1,2-シクロヘキサンジイルハフニウム(IV)ジベンジル。
M2は、元素周期表の4~10族の金属、好ましくは4族金属、Ni(II)またはPd(II)、最も好ましくはジルコニウムであり、
T2は、窒素、酸素、またはリン含有基であり、
X2は、ハロ、ヒドロカルビル、またはヒドロカルビルオキシであり、
tは、1または2であり、
x”は、電荷平衡を提供するように選択される数であり、
T2およびNは、架橋配位子によって連結されている。
そのような触媒は、以前に、他の開示の中でも、J.Am.Chem.Soc.,118,267-268(1996)、J.Am.Chem.Soc.,117,6414-6415(1995)、およびOrganometallics,16,1514-1516,(1997)に開示されている。
M2、X2、およびT2は、以前に定義されたとおりであり、
Rdは、出現ごとに独立して、水素、ハロゲン、またはReであり、
Reは、出現ごとに独立して、C1~20ヒドロカルビルまたはそのヘテロ原子、特にそのF、N、SまたはP置換誘導体、より好ましくはC1~20ヒドロカルビルまたはそのFまたはN置換誘導体、最も好ましくはアルキル、ジアルキルアミノアルキル、ピロリル、ピペリデニル、ペルフルオロフェニル、シクロアルキル、(ポリ)アルキルアリール、またはアラルキルである。
X2は、以前に定義されたとおりであり、好ましくはC1~10ヒドロカルビル、最も好ましくはメチルまたはベンジルであり、
Re’は、メチル、イソプロピル、t-ブチル、シクロペンチル、シクロヘキシル、2-メチルシクロヘキシル、2,4-ジメチルシクロヘキシル、2-ピロリル、N-メチル-2-ピロリル、2-ピペリデニル、N-メチル-2-ピペリデニル、ベンジル、o-トリル、2,6-ジメチルフェニル、ペルフルオロフェニル、2,6-ジ(イソプロピル)フェニル、または2,4,6-トリメチルフェニルである。
Mは、4族金属であり、
K2は、それを介してK2がMに結合される非局在化π電子を含有する基であり、該K2基は、水素原子を含まない最大50個の原子を含有し、fは、1または2である。
各Z1は、独立して、中性、モノアニオン性、またはジアニオン性の単座または多座配位子であり、nnは整数であり、Z1およびnnは、式(i)の金属-配位子錯体が全体として中性であるように選択され、
各Q1およびQ10は、独立して、(C6~C40)アリール、置換(C6~C40)アリール、(C3~C40)ヘテロアリール、および置換(C3~C40)ヘテロアリールからなる群から選択され、
各Q2、Q3、Q4、Q7、Q8、およびQ9は、独立して、水素、(C1~C40)ヒドロカルビル、置換(C1~C40)ヒドロカルビル、(C1~C40)ヘテロヒドロカルビル、置換(C1~C40)ヘテロヒドロカルビル、ハロゲン、およびニトロ(NO2)からなる群から選択され、
各Q5およびQ6は、独立して、(C1~C40)アルキル、置換(C1~C40)アルキル、および[(Si)1-(C+Si)40]置換オルガノシリルからなる群から選択され、
各Nは、独立して、窒素であり、
任意選択で、Q1~5基のうちの2つ以上は、一緒に組み合わさって、環構造を形成することができ、かかる環構造は、いずれの水素原子も除いて環中に5~16個の原子を有し、
任意選択で、Q6~10基のうちの2つ以上は、一緒に組み合わさって、環構造を形成することができ、かかる環構造は、いずれの水素原子も除いて環中に5~16個の原子を有する。
Mが、SmまたはYであり、Rが、水素を含まない最大50個の原子の一価配位子、好ましくはハロゲン化物もしくはヒドロカルビルであるか、または2つのLb’基が一緒になって二価もしくは中性配位子基、好ましくはC2-50ヒドロカルビレン、ヒドロカルバジイル、もしくはジエン基である。
(L*-H)g +(A)g-、によって表すことができ、式中、
L*は、中性ルイス塩基であり、
(L*-H)+は、L*の共役ブレンステッド酸であり、
Ag-は、g-の電荷を有する非配位性の相溶性アニオンであり、gは1~3の整数である。
M’は、+3の形式的な酸化状態のホウ素またはアルミニウムであり、
Qは、各出現ごとに独立して、ヒドリド、ジアルキルアミド、ハロゲン化物、ヒドロカルビル、ヒドロカルビルオキシド、ハロ置換ヒドロカルビル、ハロ置換ヒドロカルビルオキシ、およびハロ置換シリルヒドロカルビルラジカル(過ハロゲン化ヒドロカルビル-過ハロゲン化ヒドロカルビルオキシ-および過ハロゲン化シリルヒドロカルビルラジカルを含む)から選ばれ、各Qは、1回以下の出現において、Qがハロゲン化物であるという条件で、最大20個の炭素を有する。好適なヒドロカルビルオキシドQ基の例は、米国特許第5,296,433号に開示されている。
(L*-H)+(BQ4)-によって表すことができ、式中、
L*は前に定義した通りであり、
Bは、3の形式的なホルマール酸化状態のホウ素であり、
Qは、最大20個の非水素原子のヒドロカルビル-、ヒドロカルビルオキシ-、フッ素化ヒドロカルビル-、フッ素化ヒドロカルビルオキシ-、またはフッ素化シリルヒドロカルビル基である(但し、1度限りにおいて、Qはヒドロカルビルである)。
トリメチルアンモニウムテトラキス(ペンタフルオロフェニル)ボレート、
トリエチルアンモニウムテトラキス(ペンタフルオロフェニル)ボレート、
トリプロピルアンモニウムテトラキス(ペンタフルオロフェニル)ボレート、
トリ(n-ブチル)アンモニウムテトラキス(ペンタフルオロフェニル)ボレート、
トリ(sec-ブチル)アンモニウムテトラキス(ペンタフルオロフェニル)ボレート、
N、N-ジメチルアニリニウムテトラキス(ペンタフルオロフェニル)ボレート、
N、N-ジメチルアニリニウムn-ブチルトリス(ペンタフルオロフェニル)ボレート、
N、N-ジメチルアニリニウムベンジルトリス(ペンタフルオロフェニル)ボレート、
N、N-ジメチルアニリニウムテトラキス(4-(t-ブチルジメチルシリル)-2,3,5,6テトラフルオロフェニル)ボレート、
N、N-ジメチルアニリニウムテトラキス(4-(トリイソプロピルシリル)-2,3,5,6-テトラフルオロフェニル)ボレート、
N、N-ジメチルアニリニウムペンタフルオロフェノキシトリス(ペンタフルオロフェニル)ボレート、
N、N-ジエチルアニリニウムテトラキス(ペンタフルオロフェニル)ボレート、
N、N-ジメチル-2,4,6-トリメチルアニリニウムテトラキス(ペンタフルオロフェニル)ボレート。
ジメチルオクタデシルアンモニウムテトラキス(ペンタフルオロフェニル)ボレート、
メチルジオクタデシルアンモニウムテトラキス(ペンタフルオロフェニル)ボレート。
多くのジアルキルアンモニウム塩、例えば、
ジ-(i-プロピル)アンモニウムテトラキス(ペンタフルオロフェニル)ボレート、
メチルオクタデシルアンモニウムテトラキス(ペンタフルオロフェニル)ボレート、
メチルオクタドデシルアンモニウムテトラキス(ペンタフルオロフェニル)ボレート、および
ジオクタデシルアンモニウムテトラキス(ペンタフルオロフェニル)ボレート;
様々な三置換ホスホニウム塩、例えば、
トリフェニルホスホニウムテトラキス(ペンタフルオロフェニル)ボレート、
メチルジオクタデシルホスホニウムテトラキス(ペンタフルオロフェニル)ボレート、および
トリ(2,6-ジメチルフェニル)ホスホニウムテトラキス(ペンタフルオロフェニル)ボレート;
二置換オキソニウム塩、例えば、
ジフェニルオキソニウムテトラキス(ペンタフルオロフェニル)ボレート、
ジ(o-トリル)オキソニウムテトラキス(ペンタフルオロフェニル)ボレート。
ジ(オクタデシル)オキソニウムテトラキス(ペンタフルオロフェニル)ボレート、ならびに
二置換スルホニウム塩、例えば、
ジ(o-トリル)スルホニウムテトラキス(ペンタフルオロフェニル)ボレート、および
メチルコタデシルスルホニウムテトラキス(ペンタフルオロフェニル)ボレートが挙げられる。
(Oxh+)g(Ag-)hで表される非配位性の相溶性アニオンとを含み、式中、
Oxh+は、h+の電荷を有するカチオン性酸化剤であり、
hは、1~3の整数であり、
Ag-およびgは、先に定義した通りである。
[C]+A-で表される非配位性の相溶性アニオンである化合物であることができ、
式中、
[C]+は、C1~20カルベニウムイオンであり、
これは、-1の電荷を有する非配位性の相溶性アニオンである。例えば、うまく機能する1つのカルベニウムイオンは、トリチルカチオン、すなわちトリフェニルメチリウムである。
(Q1 3Si)+A-で表される非配位性の相溶性アニオンである化合物を含み、
式中、
Q1は、C1~10ヒドロカルビルであり、A-は先に定義した通りである。
A*+はカチオン、特にプロトン含有カチオンであり、1または2個のC10~40アルキル基を含有するトリヒドロカルビルアンモニウムカチオン、特にメチルジ(C14~20アルキル)アンモニウムカチオンであることができ、
Q3は、各出現ごとに独立して、水素、または水素を含まない最大30個の原子のハロ、ヒドロカルビル、ハロカルビル、ハロヒドロカルビル、シリルヒドロカルビル、またはシリル(例えば、モノ-、ジ-およびトリ(ヒドロカルビル)シリル)基、例えば、C1~20アルキルなどであり、
Q2は、トリス(ペンタフルオロフェニル)ボラン、またはトリス(ペンタフルオロフェニル)アルマン)である。
ビス(トリス(ペンタフルオロフェニル)ボラン)イミダゾリド、
ビス(トリス(ペンタフルオロフェニル)ボラン)-2-ウンデシルイミダゾリド、
ビス(トリス(ペンタフルオロフェニル)ボラン)-2-ヘプタデシルイミダゾリド、
ビス(トリス(ペンタフルオロフェニル)ボラン)-4,5-ビス(ウンデシル)イミダゾリド、
ビス(トリス(ペンタフルオロフェニル)ボラン)-4,5-ビス(ヘプタデシル)イミダゾリド、
ビス(トリス(ペンタフルオロフェニル)ボラン)イミダゾリニド、
ビス(トリス(ペンタフルオロフェニル)ボラン)-2-ウンデシルイミダゾリニド、
ビス(トリス(ペンタフルオロフェニル)ボラン)-2-ヘプタデシルイミダゾリニド、
ビス(トリス(ペンタフルオロフェニル)ボラン)-4,5-ビス(ウンデシル)イミダゾリニド、
ビス(トリス(ペンタフルオロフェニル)ボラン)-4,5-ビス(ヘプタデシル)イミダゾリニド、
ビス(トリス(ペンタフルオロフェニル)ボラン)-5,6-ジメチルベンズイミダゾリド、
ビス(トリス(ペンタフルオロフェニル)ボラン)-5,6-ビス(ウンデシル)ベンズイミダゾリド、
ビス(トリス(ペンタフルオロフェニル)アルマン)イミダゾリド、
ビス(トリス(ペンタフルオロフェニル)アルマン)-2-ウンデシルイミダゾリド、
ビス(トリス(ペンタフルオロフェニル)アルマン)-2-ヘプタデシルイミダゾリド、
ビス(トリス(ペンタフルオロフェニル)アルマン)-4,5-ビス(ウンデシル)イミダゾリド、
ビス(トリス(ペンタフルオロフェニル)アルマン)-4,5-ビス(ヘプタデシル)イミダゾリド、
ビス(トリス(ペンタフルオロフェニル)アルマン)イミダゾリニド、
ビス(トリス(ペンタフルオロフェニル)アルマン)-2-ウンデシルイミダゾリニド、
ビス(トリス(ペンタフルオロフェニル)アルマン)-2-ヘプタデシルイミダゾリニド、
ビス(トリス(ペンタフルオロフェニル)アルマン)-4,5-ビス(ウンデシル)イミダゾリニド、
ビス(トリス(ペンタフルオロフェニル)アルマン)-4,5-ビス(ヘプタデシル)イミダゾリニド、
ビス(トリス(ペンタフルオロフェニル)アルマン)-5,6-ジメチルベンズイミダゾリド、および
ビス(トリス(ペンタフルオロフェニル)アルマン)-5,6-ビス(ウンデシル)ベンズイミダゾリド。
本開示のテレケリックポリオレフィンは、鋳造、ブロー、カレンダー、または押し出しプロセスによって調製された物体;ブロー成形、射出成形、または回転成形物品などの成形物品;押し出し物;繊維;および織布または不織布を含む、有用な物品を製造するための多様な従来の製造プロセスで用いることができる。本開示のテレケリックポリオレフィンを含む組成物は、限定されないが、他の天然または合成ポリマー、油、UV安定剤、顔料、粘着付与剤、充填剤(タルク、炭酸カルシウム、ガラス繊維、炭素繊維など)、添加剤、炭酸カルシウムまたは炭酸マグネシウム、それらの脂肪酸および塩などの強化剤、難燃性添加剤、スコーチ抑制剤、抗酸化剤、安定剤、着色剤、増量剤、カーボンブラック、架橋剤、発泡剤、酸化亜鉛またはステアリン酸亜鉛などの活性化剤、シリカ、ケイ酸アルミニウム、ジカルボン酸のジアルキルエステルなどの可塑剤、劣化防止剤、軟化剤、ワックス、(ポリ)アルコール、(ポリ)アルコールエーテル、ポリエステル、金属塩、捕捉剤、核剤、安定性制御剤、難燃剤、潤滑剤、加工助剤、押し出し助剤、ならびに化学防護剤がさらに挙げられ得る。
以下は、本発明を例示し、本出願における任意の特許請求の範囲について詳細な開示を提供する、非限定的な実施形態である。特に明記しない限り、以下の実施形態で測定された特性または特徴評価は、本明細書に開示の試験方法に従う。
1.式(I)のテレケリックポリオレフィンを含む組成物であって、
A1L1L2A2(I)、
式中、L1が、ポリオレフィンであり、
A1が、ビニル基、式CH2=C(Y1)-のビニリデン基、式Y1CH=CH-のビニレン基、ビニル基と式Y1CH=CH-のビニレン基との混合物、ビニル基と式CH2=C(Y1)-のビニリデン基との混合物、式CH2=C(Y1)-のビニリデン基と式Y1CH=CH-のビニレン基との混合物、およびビニル基と式CH2=C(Y1)-のビニリデン基と式Y1CH=CH-のビニレン基との混合物からなる群から選択され、
Y1が、出現ごとに独立して、C1~C30ヒドロカルビル基であり、
L2が、C1~C32ヒドロカルビレン基であり、
A2が、立体障害のある二重結合を含むヒドロカルビル基である、組成物。
2.Lが、-CH2CH(Y2)-であり、式中、Y2が、水素またはC1~C30ヒドロカルビル基である、実施形態1に記載の組成物。
3.L1が、エチレンから誘導された単位を含むエチレンホモポリマーである、実施形態1または2に記載の組成物。
4.A1が、ビニル基である、実施形態3に記載の組成物。
5.A1が、式Y1CH=CH-のビニレン基であり、式中、Y1が、C1~C30アルキル基である、実施形態3に記載の組成物。
6.Y1が、メチル基である、実施形態5に記載の組成物。
7.A1が、ビニル基と式Y1CH=CH-のビニレン基との混合物であり、式中、Y1が、C1~C30アルキル基である、実施形態3に記載の組成物。
8.Y1が、メチル基である、実施形態7に記載の組成物。
9.A1が、0.99:0.1~0.1:0.99のビニル基対式Y1CH=CH-のビニレン基の比を含む、実施形態7または8に記載の組成物。
10.L1が、プロピレンから誘導された単位を含むプロピレンホモポリマーである、実施形態1または2に記載の組成物。
11.A1が、式CH2=C(Y1)-のビニリデン基であり、式中、Y1が、メチル基である、実施形態10に記載の組成物。
12.A1が、式Y1CH=CH-のビニレン基であり、式中、Y1が、メチル基である、実施形態10に記載の組成物。
13.A1が、式CH2=C(Y1)-のビニリデン基と式Y1CH=CH-のビニレン基との混合物であり、式中、Y1が、出現ごとに独立して、メチル基である、実施形態10に記載の組成物。
14.A1が、0.99:0.01~0.01:0.99の式CH2=C(Y1)-のビニリデン基対式Y1CH=CH-のビニレン基の比を含む、実施形態13に記載の組成物。
15.L1が、エチレンから誘導された単位およびC3~C30アルファ-オレフィンを含むエチレン/アルファ-オレフィンコポリマーである、実施形態1または2に記載の組成物。
16.C3~C30アルファ-オレフィンが、プロピレン、1-ブテン、1-ヘキセン、および1-オクテンからなる群から選択される、実施形態15に記載の組成物。
17.C3~C30アルファ-オレフィンが、プロピレンであり、L1が、エチレン/プロピレンコポリマーである、実施形態16に記載の組成物。
18.A1が、ビニル基である、実施形態17に記載の組成物。
19.A1が、式CH2=C(Y1)-のビニリデン基であり、式中、Y1が、メチル基である、実施形態17に記載の組成物。
20.A1が、式Y1CH=CH-のビニレン基であり、式中、Y1が、メチル基である、実施形態17に記載の組成物。
21.A1が、ビニル基と式Y1CH=CH-のビニレン基との混合物であり、式中、Y1が、メチル基である、実施形態17に記載の組成物。
22.A1が、0.99:0.1~0.1:0.99のビニル基対式Y1CH=CH-のビニレン基の比を含む、実施形態21に記載の組成物。
23.A1が、ビニル基と式CH2=C(Y1)-のビニリデン基との混合物であり、式中、Y1が、メチル基である、実施形態17に記載の組成物。
24.A1が、0.99:0.1~0.1:0.99のビニル基対式CH2=C(Y1)-のビニリデン基の比を含む、実施形態23に記載の組成物。
25.A1が、ビニル基と式CH2=C(Y1)-のビニリデン基と式Y1CH=CH-のビニレン基との混合物であり、式中、Y1が、出現ごとに独立して、メチル基である、実施形態17に記載の組成物。
26.A1が、0.99:0.01~0.01:0.99のビニル基対式Y1CH=CH-のビニレン基と式CH2=C(Y1)-のビニリデン基とビニル基との合計の比を含む、実施形態25に記載の組成物。
27.C3~C30アルファ-オレフィンが、1-ブテンであり、L1が、エチレン/1-ブテンコポリマーである、実施形態16に記載の組成物。
28.A1が、ビニル基である、実施形態27に記載の組成物。
29.A1が、式CH2=C(Y1)-のビニリデン基であり、式中、Y1が、エチル基である、実施形態27に記載の組成物。
30.A1が、式Y1CH=CH-のビニレン基であり、式中、Y1が、エチル基である、実施形態27に記載の組成物。
31.A1が、ビニル基と式Y1CH=CH-のビニレン基との混合物であり、式中、Y1が、エチル基である、実施形態27に記載の組成物。
32.A1が、0.99:0.1~0.1:0.99のビニル基対式Y1CH=CH-のビニレン基の比を含む、実施形態31に記載の組成物。
33.A1が、ビニル基と式CH2=C(Y1)-のビニリデン基との混合物であり、式中、Y1が、エチル基である、実施形態27に記載の組成物。
34.A1が、0.99:0.1~0.1:0.99のビニル基対式CH2=C(Y1)-のビニリデン基の比を含む、実施形態33に記載の組成物。
35.A1が、ビニル基と式CH2=C(Y1)-のビニリデン基と式Y1CH=CH-のビニレン基との混合物であり、式中、Y1が、出現ごとに独立して、エチル基である、実施形態27に記載の組成物。
36.A1が、0.99:0.01~0.01:0.99のビニル基対式Y1CH=CH-のビニレン基と式CH2=C(Y1)-のビニリデン基とビニル基との合計の比を含む、実施形態35に記載の組成物。
37.C3~C30アルファ-オレフィンが、1-ヘキセンであり、L1が、エチレン/1-ヘキセンコポリマーである、実施形態16に記載の組成物。
38.A1が、ビニル基である、実施形態37に記載の組成物。
39.A1が、式CH2=C(Y1)-のビニリデン基であり、式中、Y1が、ブチル基である、実施形態37に記載の組成物。
40.A1が、式Y1CH=CH-のビニレン基であり、式中、Y1が、ブチル基である、実施形態37に記載の組成物。
41.A1が、ビニル基と式Y1CH=CH-のビニレン基との混合物であり、式中、Y1が、ブチル基である、実施形態37に記載の組成物。
42.A1が、0.99:0.1~0.1:0.99のビニル基対式Y1CH=CH-のビニレン基の比を含む、実施形態41に記載の組成物。
43.A1が、ビニル基と式CH2=C(Y1)-のビニリデン基との混合物であり、式中、Y1が、ブチル基である、実施形態37に記載の組成物。
44.A1が、0.99:0.1~0.1:0.99のビニル基対式CH2=C(Y1)-のビニリデン基の比を含む、実施形態43に記載の組成物。
45.A1が、ビニル基と式CH2=C(Y1)-のビニリデン基と式Y1CH=CH-のビニレン基との混合物であり、式中、Y1が、出現ごとに独立して、ブチル基である、実施形態37に記載の組成物。
46.A1が、0.99:0.01~0.01:0.99のビニル基対式Y1CH=CH-のビニレン基と式CH2=C(Y1)-のビニリデン基とビニル基との合計の比を含む、実施形態45に記載の組成物。
47.C3~C30アルファ-オレフィンが、1-オクテンであり、L1が、エチレン/1-オクテンコポリマーである、実施形態16に記載の組成物。
48.A1が、ビニル基である、実施形態47に記載の組成物。
49.A1が、式CH2=C(Y1)-のビニリデン基であり、式中、Y1が、C6アルキル基である、実施形態47に記載の組成物。
50.A1が、式Y1CH=CH-のビニレン基であり、式中、Y1が、C6アルキル基である、実施形態47に記載の組成物。
51.A1が、ビニル基と式Y1CH=CH-のビニレン基との混合物であり、式中、Y1が、C6アルキル基である、実施形態47に記載の組成物。
52.A1が、0.99:0.1~0.1:0.99のビニル基対式Y1CH=CH-のビニレン基の比を含む、実施形態51に記載の組成物。
53.A1が、ビニル基と式CH2=C(Y1)-のビニリデン基との混合物であり、式中、Y1が、C6アルキル基である、実施形態47に記載の組成物。
54.A1が、0.99:0.1~0.1:0.99のビニル基対式CH2=C(Y1)-のビニリデン基の比を含む、実施形態53に記載の組成物。
55.A1が、ビニル基と式CH2=C(Y1)-のビニリデン基と式Y1CH=CH-のビニレン基との混合物であり、式中、Y1が、出現ごとに独立して、C6アルキル基である、実施形態47に記載の組成物。
56.A1が、0.99:0.01~0.01:0.99のビニル基対式Y1CH=CH-のビニレン基と式CH2=C(Y1)-のビニリデン基とビニル基との合計の比を含む、実施形態55に記載の組成物。
57.L1が、プロピレンから誘導された単位およびエチレンまたはC4~C30アルファ-オレフィンのいずれかを含むプロピレン/アルファ-オレフィンコポリマーである、実施形態1または2に記載の組成物。
58.C4~C30アルファ-オレフィンが、1-ブテン、1-ヘキセン、および1-オクテンからなる群から選択される、実施形態57に記載の組成物。
59.各L1が、プロピレン/エチレンコポリマーである、実施形態57に記載の組成物。
60.A1が、ビニル基である、実施形態59に記載の組成物。
61.A1が、式CH2=C(Y1)-のビニリデン基であり、式中、Y1が、メチル基である、実施形態59に記載の組成物。
62.A1が、式Y1CH=CH-のビニレン基であり、式中、Y1が、メチル基である、実施形態59に記載の組成物。
63.A1が、ビニル基と式Y1CH=CH-のビニレン基との混合物であり、式中、Y1が、メチル基である、実施形態59に記載の組成物。
64.A1が、0.99:0.1~0.1:0.99のビニル基対式Y1CH=CH-のビニレン基の比を含む、実施形態63に記載の組成物。
65.A1が、ビニル基と式CH2=C(Y1)-のビニリデン基との混合物であり、式中、Y1が、メチル基である、実施形態59に記載の組成物。
66.A1が、0.99:0.1~0.1:0.99のビニル基対式CH2=C(Y1)-のビニリデン基の比を含む、実施形態65に記載の組成物。
67.A1が、ビニル基と式CH2=C(Y1)-のビニリデン基と式Y1CH=CH-のビニレン基との混合物であり、式中、Y1が、出現ごとに独立して、メチル基である、実施形態59に記載の組成物。
68.A1が、0.99:0.01~0.01:0.99のビニル基対式Y1CH=CH-のビニレン基と式CH2=C(Y1)-のビニリデン基とビニル基との合計の比を含む、実施形態67に記載の組成物。
69.Y2が水素である、任意の実施形態2~68に記載の組成物。
70.Y2が、C1~C10アルキル基である、実施形態2~68のいずれかに記載の組成物。
71.Y2が、エチル基である、実施形態70に記載の組成物。
72.立体障害のある二重結合が、ビニリデン基の二重結合、ビニレン基の二重結合、三置換アルケンの二重結合、および分岐アルファ炭素に結合したビニル基の二重結合からなる群から選択される、実施形態1~71のいずれかに記載の組成物。
73.A2が、C3~C30環式ヒドロカルビル基またはC3~C30非環式ヒドロカルビル基である、実施形態1~72のいずれかに記載の組成物。
74.A2が、非置換シクロアルケン、アルキル置換シクロアルケン、および非環式アルキル基からなる群から選択される、実施形態1~73のいずれかに記載の組成物。
75.A2が、以下からなる群から選択される、実施形態1~74のいずれかに記載の組成物。
77.式(I)のテレケリックポリオレフィンが、1,000~10,000,000g/mol、1,000~5,000,000g/mol、1,000~1,000,000g/mol、1,000~750,000g/mol、1,000~500,000g/mol、および1,000~250,000g/molからなる群から選択される重量平均分子量(Mw)範囲を含むかまたは有する、実施形態1~76のいずれかに記載の組成物。
78.式(I)のテレケリックポリオレフィンが、1,000~10,000,000g/mol、1,000~5,000,000g/mol、1,000~1,000,000g/mol、1,000~750,000g/mol、1,000~500,000g/mol、および1,000~250,000g/molからなる群から選択される数平均分子量(Mn)範囲を含むかまたは有する、実施形態1~77のいずれかに記載の組成物。
79.式(I)のテレケリックポリオレフィンが、1,000~10,000,000g/mol、1,000~5,000,000g/mol、1,000~1,000,000g/mol、1,000~750,000g/mol、1,000~500,000g/mol、5,000~500,000g/mol、および10,000~500,000g/molからなる群から選択される平均モル質量(Mz)範囲を含むかまたは有する、実施形態1~78のいずれかに記載の組成物。
80.式(I)のテレケリックポリオレフィンが、1~10、1~7、1~5、1.5~4、および2~4からなる群から選択されるMw/Mn(PDI)範囲を含むかまたは有する、実施形態1~79のいずれかに記載の組成物。
81.式(I)のテレケリックポリオレフィンが、ASTM D-792、方法Bによって測定して、0.850~0.965g/cc、0.854~0.950g/cc、0.854~0.935g/cc、0.854~0.925g/cc、0.854~0.910g/cc、0.854~0.900g/cc、0.854~0.885g/cc、0.854~0.880g/cc、および0.854~0.875g/ccからなる群から選択される密度範囲を含むかまたは有する、実施形態1~80のいずれかに記載の組成物。
82.式(I)のテレケリックポリオレフィンが、ASTM D-1238、条件190℃/2.16kgによって測定して0.01~2000g/10分、0.01~1,500g/10分、0.01~1,000g/10分、0.01~500g/10分、0.01~100g/10分、0.5~50g/10分、および0.5~30g/10分からなる群から選択されるメルトインデックス(I2)範囲を含むかまたは有する、実施形態1~81のいずれかに記載の組成物。
83.式(I)のテレケリックポリオレフィンが、-25℃~165℃、-25℃~150℃、-25℃~125℃、-25℃~100℃、0℃~80℃、および10℃~60℃からなる群から選択されるTm範囲を含むかまたは有する、実施形態1~82のいずれかに記載の組成物。
84.式(I)のテレケリックポリオレフィンが、ASTM D-3236によって測定して、10~108cP、10~107cP、10~106cP、10~750,000cP、10~500,000cP、10~250,000cP、10~100,000cP、10~75,000cP、10~50,000 cP、および10~40,000cPからなる群から選択される177℃でのBrookfield粘度範囲を含むかまたは有する、実施形態1~83のいずれかに記載の組成物。
85.式(I)のテレケリックポリオレフィンが、0~235J/g、0~200J/g、10~175J/g、10~150J/g、10~125J/g、および20~117J/gからなる群から選択されるn融解エンタルピー(ΔHm)範囲を含む、実施形態1~84のいずれかに記載の組成物。
86.式(I)のテレケリックポリオレフィンが、-80~100℃、-80~75℃、-80~50℃、-80~25℃、-80~0℃、-80~-15℃、および-70~-30℃からなる群から選択されるTg範囲を含むかまたは有する、実施形態1~85のいずれかに記載の組成物。
87.式(I)のテレケリックポリオレフィンが、ジエンモノマーから誘導された単位を0重量%~0.001重量%含む、実施形態1~86のいずれかに記載の組成物。
88.式(I)のテレケリックポリオレフィンが、1.1以上、1.2以上、1.3以上、1.4以上、1.5以上、1.6以上、1.7以上、1.8以上、および1.9以上からなる群から選択される範囲の不飽和度の総数を含むかまたは有する、実施形態88に記載の組成物。
89.式(I)のテレケリックポリオレフィンが、292J/gのPEΔHmに基づいて、0~80%、0~60%、5~50%、および7~40%からなる群から選択される結晶化度重量%範囲を含むかまたは有する、実施形態3~9、15~56、および69~88のいずれかに記載の組成物。
90.L1が、炭素-炭素単結合を通じてA1およびL2の各々に共有結合し、L2が、炭素-炭素単結合を通じてA2に共有結合している、実施形態1~89のいずれかに記載の組成物。
91.L1が、水素が2つ欠けているポリオレフィンであり、A1およびL2の各々に共有結合している、実施態様1~90のいずれかに記載の組成物。
92.実施形態1~91のいずれかに記載の式(I)の、テレケリックポリオレフィン。
1a.テレケリックポリオレフィン、またはテレケリックポリオレフィンを含む組成物を調製するためのプロセスであって、
1)(A)モノマー成分、(B)連鎖移動剤成分、および(C)プロ触媒を含む触媒成分、を含む出発材料を組み合わせて溶液を形成し、溶液中の10mol%超~99mol%以下の(A)モノマー成分を重合することと、
2)溶液を加熱することと、
3)テレケリックポリオレフィン、またはテレケリックポリオレフィンを含む組成物を含む生成物を回収することと、を含み、
(B)連鎖移動剤成分が、式Al(CH2CH(Y2)A2)3の有機アルミニウム化合物を含み、
Y2が、出現ごとに独立して、水素またはC1~C30ヒドロカルビル基であり、
A2が、出現ごとに独立して、立体障害のある二重結合を含むヒドロカルビル基である、プロセス。
2a.出発材料が、D)溶媒をさらに含む、実施形態1aに記載のプロセス。
3a.ステップ2)が、溶液を少なくとも160℃、または少なくとも180℃、または少なくとも200℃、または少なくとも220℃の温度に加熱し、溶液を少なくとも160℃、または少なくとも180℃、または少なくとも200℃、または少なくとも220℃の温度で、少なくとも30秒、または少なくとも1分間、または少なくとも5分間の時間の間保持することである、実施形態1aまたは2aに記載のプロセス。
4a.ステップ2)が、溶液を少なくとも160℃、または少なくとも180℃、または少なくとも200℃、または少なくとも220℃の温度で、少なくとも30秒、または少なくとも1分間、または少なくとも5分間の時間加熱することである、実施形態1a~3aのいずれかに記載のプロセス。
5a.ステップ2)が、溶液を220℃~290℃の温度で5分~20分間の時間加熱することである、実施形態1a~4aのいずれかに記載のプロセス。
6a.ステップ2)が、溶液を220℃~290℃の温度に加熱し、溶液を220℃~290℃の温度で5分間~20分間の時間保持することである、実施形態1a~5aのいずれかに記載のプロセス。
7a.プロ触媒が、上記の(触媒1)~(触媒17)からなる群から選択される、実施形態1a~6aのいずれかに記載のプロセス。
8a.プロ触媒が、上記の(触媒1)、(触媒13)、(触媒14)、または(触媒17)である、実施形態7aに記載のプロセス。
9a.触媒成分が、助触媒をさらに含む、実施形態1a~8aのいずれかに記載のプロセス。
10a.助触媒が、[(C16-18H33-37)2CH3NH]テトラキス(ペンタフルオロフェニル)ホウ酸塩である、実施形態1a~9aのいずれかに記載のプロセス。
11a.(B)連鎖移動剤成分が、式Zn(d)2のアルキル亜鉛をさらに含み、式中、dが、出現ごとに独立して、C1~C10アルキル基である、実施形態1a~10aのいずれかに記載のプロセス。
12a.(B)連鎖移動剤成分が、65mol%~99mol%の式Al(CH2CH(Y2)A2)3の有機アルミニウム化合物および1mol%~35mol%の式Zn(d)2のアルキル亜鉛を含む、実施形態11aに記載のプロセス。
13a.(B)連鎖移動剤成分が、式Al(CH2CH(Y2)A2)3の有機アルミニウム化合物および式Zn(CH2CH(Y2)A2)2の有機亜鉛化合物を含み、式中、Y2が、出現ごとに独立して、水素またはC1~C30ヒドロカルビル基であり、A2が、出現ごとに独立して、立体障害のある二重結合を含むヒドロカルビル基である、実施形態1a~10aのいずれかに記載のプロセス。
14a.(B)連鎖移動剤成分が、20:80~40:60の式Al(CH2CH(Y2)A2)3の有機アルミニウム化合物対式Zn(CH2CH(Y2)A2)2の有機亜鉛化合物の比を含む、実施形態13aに記載のプロセス。
15a.テレケリックポリオレフィンを含む組成物が、実施形態1~91のいずれかに記載の組成物である、実施形態1a~14aのいずれかに記載のプロセス。
16a.テレケリックポリオレフィンが、実施形態92に記載のテレケリックポリオレフィンである、実施形態1a~15aのいずれかに記載のプロセス。
1B.(a)実施形態1~91のいずれかに記載の組成物、または実施形態92に記載のテレケリックポリオレフィンを含む、硬化性配合物。
2B.(a)実施形態1~91に記載のいずれかの組成物または実施形態92に記載のテレケリックポリオレフィンを80重量%~99.99重量%、および(b)架橋剤を含む硬化成分を0.01重量%~20重量%を含む、実施形態1Bに記載の配合物。
3B.(b)硬化成分が、助剤をさらに含む、実施形態2Bに記載の配合物。
4B.架橋剤が、過酸化物である、実施形態2Bまたは3Bに記載の配合物。
5B.(c)添加剤成分をさらに含む、実施形態2B~4Bのいずれかに記載の配合物。
6B.(c)添加剤成分が、酸化亜鉛および/またはステアリン酸を含む、実施形態2B~5Bのいずれかに記載の配合物。
7B.
式(I)のテレケリックポリオレフィンが、100g/10分未満のメルトインデックス、1000炭素当たり0.2超の不飽和度、およびジエンモノマーから誘導された単位を0重量%~0.001重量%含み、
本明細書に記載の方法に従って180℃で30分間硬化させると、配合物が、8.8dNm超~30dNm未満(または8.8dNm超~25dNm未満、または8.8dNm超~20dNm未満)のMH-MLを含む、実施形態1B~6Bのいずれかに記載の配合物。
8B.
式(I)のテレケリックポリオレフィンが、100g/10分未満のメルトインデックス、1000炭素当たり0.2超の不飽和度、およびジエンモノマーから誘導された単位を0重量%~0.001重量%含み、
本明細書に記載の方法に従って180℃で30分間硬化させると、配合物が、2.1dNm/分超~60dNm/分未満の硬化速度を含む、実施形態1B~6Bのいずれかに記載の配合物。
9B.
式(I)のテレケリックポリオレフィンが、30,000g/mol超の重量平均分子量を含み、
本明細書に記載の方法に従って180℃で30分間硬化させると、配合物が、8.8dNm超~30dNm未満(または8.8dNm超~25dNm未満、または8.8dNm超~20dNm未満)のMH-MLを含む、実施形態1B~6Bのいずれかに記載の配合物。
10B.
式(I)のテレケリックポリオレフィンが、30,000g/mol超の重量平均分子量を含み、
本明細書に記載の方法に従って180℃で30分間硬化させると、配合物が、2.1dNm/分超~60dNm/分未満の硬化速度を含む、実施形態1B~6Bのいずれかに記載の配合物。
11B.
式(I)のテレケリックポリオレフィンが、100g/10分未満のメルトインデックス、1000炭素当たり0.2超の不飽和度、およびジエンモノマーから誘導された単位を0重量%~0.001重量%含み、
配合物を本明細書に記載の方法に従って180℃で30分間硬化させると、配合物が、ENGAGE(商標)8100と比較して、20%超(または30%超、または40%超、または50%超、または60%超)のMH-MLを含む、実施形態1B~6Bのいずれかに記載の配合物。
12B.
式(I)のテレケリックポリオレフィンが、30,000g/mol超の重量平均分子量を含み、
配合物を本明細書に記載の方法に従って180℃で30分間硬化させると、配合物が、ENGAGE(商標)8100と比較して、20%超(または30%超、または40%超、または50%超、または60%超)のMH-MLを含む、実施形態1B~6Bのいずれかに記載の配合物。
13B.
式(I)のテレケリックポリオレフィンが、100g/10分未満のメルトインデックス、1000炭素当たり0.2超の不飽和度、およびジエンモノマーから誘導された単位を0重量%~0.001重量%含み、
配合物を本明細書に記載の方法に従って180℃で30分間硬化させると、配合物が、ENGAGE(商標)8100と比較して、50%超(または75%超、または100%超、または125%超、または150%超、または175%超、または200%超、または225%超)の硬化速度を含む、実施形態1B~6Bのいずれかに記載の配合物。
14B.
式(I)のテレケリックポリオレフィンが、30,000g/mol超の重量平均分子量を含み、配合物を本明細書に記載の方法に従って180℃で30分間硬化させると、配合物が、ENGAGE(商標)8100と比較して、50%超(または75%超、または100%超、または125%超、または150%超、または175%超、または200%超、または225%超)の硬化速度を含む、実施形態1B~6Bのいずれかに記載の配合物。
15B.
式(I)のテレケリックポリオレフィンが、100g/10分超のメルトインデックス、1000炭素当たり0.5超の不飽和度、およびジエンモノマーから誘導された単位を0重量%~0.001重量%含み、
本明細書に記載の方法に従って180℃で30分間硬化させると、配合物が、2dNm超~30dNm未満(または7.5dNm超~20dNm未満、または10dNm超~15dNm未満)のMH-MLを含む、実施形態1B~6Bのいずれかに記載の配合物。
16B.
式(I)のテレケリックポリオレフィンが、100g/10分超のメルトインデックス、1000炭素当たり0.5超の不飽和度、およびジエンモノマーから誘導された単位を0重量%~0.001重量%含み、
本明細書に記載の方法に従って180℃で30分間硬化させると、配合物が、0.20dNm/分超~5dNm/分未満の硬化速度を含む、実施形態1B~6Bのいずれかに記載の配合物。
17B.
式(I)のテレケリックポリオレフィンが、30,000g/mol未満の重量平均分子量を含み、
本明細書に記載の方法に従って180℃で30分間硬化させると、配合物が、2dNm超~30dNm未満(または7.5dNm超~20dNm未満、または10dNm超~15dNm未満)のMH-MLを含む、実施形態1B~6Bのいずれかに記載の配合物。
18B.
式(I)のテレケリックポリオレフィンが、30,000g/mol未満の重量平均分子量を含み、
本明細書に記載の方法に従って180℃で30分間硬化させると、配合物が、0.20dNm/分超~5dNm/分未満の硬化速度を含む、実施形態1B~6Bのいずれかに記載の配合物。
19B.本明細書に記載の方法に従って180℃で30分間硬化させると、配合物が、75(dNm/分)/(g/mol)*1000000超の硬化速度/Mnを含む、実施形態1B~6Bのいずれかに記載の配合物。
20B.本明細書に記載の方法に従って180℃で30分間硬化させると、配合物が、75(dNm/分)/(g/mol)*1000000超かつ3000(dNm/分)/(g/mol)*1000000未満の硬化速度/Mnを含む、実施形態1B~6Bのいずれかに記載の配合物。
21B.本明細書に記載の方法に従って180℃で30分間硬化させると、配合物が、300(dNm)/(g/mol)*1000000超の(MH-ML)/Mnを含む、実施形態1B~6Bのいずれかに記載の配合物。
22B.本明細書に記載の方法に従って180℃で30分間硬化させると、配合物が、300(dNm)/(g/mol)*1000000超かつ25,000(dNm/分)/(g/mol)*1000000未満の(MH-ML)/Mnを含む、実施形態1B~6Bのいずれかに記載の配合物。
特に明記しない限り、前述の開示および以下の実施例で論じられる測定可能な特性は、以下の分析方法に従っている。
密度を測定した試料を、全体が参照により本明細書に組み込まれるASTM D-1928に従って調製した。測定は、全体が参照により本明細書に組み込まれるASTM D-792、方法Bを使用して、試料プレスの1時間以内に行った。
メルトインデックス(I2)は、参照によりその全体が本明細書に組み込まれるASTM D-1238、条件190℃/2.16kgに従って測定し、10分当たりに溶出したグラム数で報告した。メルトフローレート(I10)は、ASTM D-1238、条件190℃/10kgに従って測定し、10分当たりに溶出したグラム数で報告した。
以下に従ってGPCを介して、試料ポリマーのそれらの特性について試験した。
Mポリエチレン=A(Mポリスチレン)B(1)
試料調製:13C NMR用に、10mm NMRチューブ内でおよそ2.7gのストック溶媒を0.20~0.40gの試料に添加することによって、試料を調製した。ストック溶媒は、0.025Mのクロムアセチルアセトナート(緩和剤)を含有するテトラクロロエタン-d2である。試料に蓋をして、テフロンテープで密封した。チューブおよびその内容物を135℃~140℃に加熱することにより、試料を溶解させ、均一化させた。
Brookfield粘度は、Brookfield RV-DV-II-Pro粘度計およびスピンドルSC-31を使用して、ASTM D-3236に従って、177℃で測定した。
電子衝撃イオン化(EI)を用いたタンデムガスクロマトグラフィー/低分解能質量分析は、Agilent Technologies 5975不活性XL質量選択検出器およびAgilent Technologies Capillaryカラム(HP1MS、15m×0.25mm、0.25ミクロン)を装備したAgilent Technologies 6890Nシリーズガスクロマトグラフ上で70eVで、以下に関して実施される:
プログラムされた方法:
50℃で0.5分間のオーブン平衡化時間
次いで、200 ℃まで25 ℃/分、および5分間保持
実行時間11分
示差走査熱量測定(DSC)は、RCS冷却ユニットおよびオートサンプラーを装備したTA Instruments Discovery DSCを使用して実施した。50 mL / 分の窒素パージガス流量を使用した。高分子量試料(190℃で<50dg/分のメルトインデックス)を、Carver Hydraulicプレスで190℃、圧力20,000psiで4分の時間の間、薄いフィルムにプレスし、続いて23℃の温度、20,000psiの圧力で1分の時間の間冷却した。約3~10 mgの材料をプレスフィルムから切り取り、重量を測定し、軽いアルミニウムのパンに入れ、圧着して閉じた。低分子量試料(190℃で>50dg/分のメルトインデックス)では、受け取ったままの包みから約3~10mgの材料を切り取り、秤量し、軽いアルミニウム鍋に入れ、圧着して閉じた。サンプルの熱挙動は、以下の温度プロファイルを使用して調査した。サンプルは急速に180℃に加熱され、5分間等温で保持された。次に、サンプルを10℃ / 分で-90℃に冷却し、5分間等温で保持した。次いで、試料を10℃/分で150℃に加熱した。冷却曲線および第2の加熱曲線を分析に使用した。ガラス転移温度(Tg)、融解温度(Tm)、およびエンタルピー熱(ΔHm)は、2番目の熱データから取得された。結晶化温度(Tc)は、最初のクールデータから取得された。Tgは、半値高法(half-height method)を使用して決定された。TmおよびTcは、それぞれ融解吸熱および結晶化発熱のピークとして決定された。第2の熱曲線から決定した融解熱(Hf)を、PEの場合292J/gの理論融解熱で除算し、この量に100を乗算することによって、結晶化度パーセントを計算する(例えば、結晶化度%=(Hf/292J/g)×100(PEの場合))。実施例が大部分のプロピレンを含有する場合、PPの理論上の融解熱165J/gを使用する。
レオロジーは、「25mm」ステンレス鋼平行板を装備したAdvanced Rheometric Expansion System(ARES)で測定した。0.1~100rad/sの周波数範囲での一定温度の動的周波数掃引は、190℃の窒素パージ下で実行された。約「直径25.4mm」および「厚さ3.2mm」のサンプルを、Carver油圧式ホットプレスで、温度190℃、圧力20,000psiで4分間圧縮成形し、その後、温度23℃、圧力20,000psi、1分間冷却した。サンプルを下部プレートに置き、5分間融解させた。次に、プレートを2.0mmのギャップまで閉じ、サンプルを「直径25mm」にトリミングした。テストを開始する前に、サンプルを190℃で5分間平衡化させた。複素粘度は、10%の一定の歪み振幅で測定された。0.1rad/s(V0.1)および100rad/s(V100)での粘度と、2つの粘度値の比(V0.1/V100)が報告されている。
Alpha Technology RPA-2000またはMDR-2000機器を使用して、180℃での各配合物の硬化速度プロファイル(硬化曲線としても知られている)を測定した。2枚のポリエステルMelinex Sフィルムの間に、樹脂の4グラムの試料を置いた。あるいは、Carverプレスを20℃および200psiで使用して調製した圧縮パティから、以下に詳述するHaakeブレンド手順に従って得た樹脂を約4gの材料に打ち抜き、その後2枚のポリエステルMelinex Sフィルムの間に置いた。1.67Hzの周波数および0.5度の角度、180℃で30分間の期間をかけて、試験を行った。各配合組成物についての時間の関数としてのレオロジーまたはトルク曲線を、未硬化のブランケットの試料から測定し、次いでこれを分析中に硬化させた。最小S’トルク(ML)、最大S’トルク(MH)、MLでのタンデルタ、MHでのタンデルタ、および硬化状態の一定割合に達するまでの時間(例えば、90%硬化状態に達するまでの時間(分)に対応するt90)などの粘弾特性を、硬化サイクル中に測定した。硬化直後に、機器を70℃に冷却するように設定し、次いで、いくつかの配合物のレオロジー特性を、1.67Hzの周波数、0.2度の角度、70、55、40、および25℃で評価した。G”、G’、位相角の接線(TanD)、およびS”トルクなどの粘弾特性を測定した。温度掃引の直後に、0.02Hz~15.92Hzまでの16ステップの周波数掃引(0.02、0.03、0.04、0.06、0.10、0.16、0.25、0.40、0.63、1.00、1.5、2.52、4.00、6.34、10.04、15.92Hz)、25℃および0.2度の角度で、G”、G’、位相角の接線(TanD)、およびS”トルクなどの室温でのレオロジー特性を記録した。
溶媒としてキシレンを使用して、ASTMD-2765手順Aに従って、試料ポリマーのゲル含有量を測定した。
圧縮永久歪みを、23℃および100℃で、ASTM D395に準拠して測定した。直径29mm(±0.5mm)および厚さ12.7mm(±0.5mm)のディスクを、以下の実施例に見られる圧縮成形の項で説明するように調製した。各ボタン試料は、ノッチ、不均一な厚さおよび不均一性について検査され、選定したボタン(これらの欠陥なし)を試験した。圧縮永久歪みは、指定された温度で、各試料の2つの試験片に対して実行し、2つの試験片の平均結果を報告した。ボタン試料は、一緒に押すことができ、ボタン試料の元の高さの75%で所定の位置にロックできる2つの金属板を備えた圧縮装置に配置された。次いで、圧縮された試料と共に圧縮装置をオーブンに入れ、特定の時間の間、適切な温度で(23℃または100℃で22時間)平衡化した。この試験では、応力を試験温度で解放し、試料の厚さは室温で30分間の平衡期間後に測定した。圧縮永久歪みは、圧縮後の試料の回復度の測定値であり、式CS=(H0-H2)/(H0-H1)(式中、H0は、試料の元の厚さ、H1は使用するスペーサバーの厚さ、H2は圧縮力を除去した後の試料の最終厚さである)に従って計算する。
引張特性は、ASTM D-1708に記載されている寸法を有する、小さな「犬の骨」型の微小引張ダイを使用してダイカットした試験片を使用して測定した。ダイカットした試験片は、圧縮成形のセクションで説明しているように準備した圧縮成形プラークから切断した。INSTRU-MET製のINSTRONモデル1122で方法ASTM D-412に従って、引張特性(50%弾性率、100%弾性率、破断時のひずみ、および破断時の応力)を室温で測定した。
圧縮成形セクションで説明したように準備された圧縮成形プラークから試料試験片を切り取った。ショアA硬度は、Durometer Standモデル902を備えたINSTRON製のShore A Durometerモデル2000で、ASTM D2240に準拠して測定した。この方法では、初期インデント、特定の期間後のインデント、またはその両方に基づいた硬度測定が可能である。本明細書で使用される場合、インデントは、10秒の指定された時間に測定した。
ASTM D-624タイプC、またはASTM D-1938、ズボンの引裂き(T-引裂き)に従って、周囲条件下で試料ポリマーの引裂き強度を測定した。ダイアンドパンチプレスを使用して、圧縮成形プラークから試験片を切り取った。
特に明記されない限り、全ての出発試薬および材料は、Sigma-Aldrichから入手した。以下の実施例で使用されるプロ触媒(触媒1)、(触媒13)、(触媒14)、および(触媒17)、ならびに任意の他のものは、前述のものと同じであり、前述の方法に従って調製する。プロ触媒(触媒1)はまた、[N-(2,6-ジ(1-メチルエチル)フェニル)アミド)(2-イソプロピルフェニル)(α-ナフタレン-2-ジイル(6-ピリジン-2-ジイル)メタン)]ジメチルハフニウムとして同定することができる。「助触媒A」は、以下の実施例で使用される助触媒であり、ビス(水素化タローアルキル)メチル、テトラキス(ペンタフルオロフェニル)ボレート(1-)アミンである。
式A1L1L2A2のテレケリックポリオレフィンの3セットの非限定的な実施例を、以下のようにバッチ反応器を介して合成した。
表1A~1Cを参照すると、セット1は、以下のように調製した、実験BR1~BR12で作製した本発明のテレケリックポリマーを含む。各実験では、1ガロンの撹拌オートクレーブ反応器に、Isopar(商標)E混合アルカン溶媒(~1.3kg)、所望の質量のプロピレン、またはオクテン、および/またはエチリデンノルボルネン(ENB)(60g)、ならびにCTAを充填する。反応器を120℃に加熱し、エチレン(20g)を充填する。不活性雰囲気下のドライボックス内で、プロ触媒と活性化剤混合物(1.2当量の助触媒Aと10当量の修飾メチルアルミノキサン(MMAO-3A)との混合物)とを混合することにより、活性触媒溶液(活性触媒溶液が、1:1.2のプロ触媒対助触媒Aの比を有する)を調製する。活性触媒溶液を反応器に注入して、重合を開始する。重合中にエチレンを供給し、必要に応じて反応器を冷却することによって、反応器圧力および温度を一定に保持する。10分後、反応器を200℃に加熱し、その温度で20分間保持した。エチレンの供給を遮断し、窒素パージした樹脂ケトルにポリマー溶液を移動させる。リン安定剤およびフェノール系抗酸化剤(トルエン中2:1の重量比のIrgafos(登録商標)168およびIrganox(登録商標)1010)を含有する添加剤溶液を添加して、ポリマー中およそ0.1%の総添加剤含有量を得る。真空オーブンで、ポリマーを完全に乾燥させる。
表2を参照すると、セット2は、セット1と同様の手順を介して実験B1~B7で作製した本発明のテレケリックポリマーを含む。実験B1は、1:1.2:10の(触媒1):助触媒A:捕捉剤比を有する捕捉剤MMAO-3Aを使用した。実験B2~B7は、1:1.2のプロ触媒対助触媒の比を使用した。表2の全ての実験は、水素を用いずに行った。全ての実験は、以下の条件:エチレン(g):20、1-オクテン(g):60、圧力(psi):55、溶媒(Isopar E、g):1325を有した。CTA5の充填は、移動可能な基の数に基づいた。実験B1、B2、B4、およびB6は、120℃で10分間であった。実験B3、B5、およびB7は、200℃で20分間(120~200℃への移行時間を除く)の追加の加熱ステップを含んだ。
セット3は、本発明のテレケリックポリエチレンポリマーを合成するための以下の実施例を含む。
式A1L1L2A2のテレケリックポリオレフィンの非限定的な例は、以下のように連続溶液重合を介して作製した。
本発明のポリオレフィンTP1~TP10を含む本発明の硬化性配合物(Inv.1~30)を調製した。また、上述の比較ポリマーAおよびB、ならびに比較ポリマー「0ENB」、「1ENB」、「2.4ENB」、「8.8ENB」、「8100」、「8200」、および「8407」を含む比較配合物(Comp.A~V)を調製した。
Claims (14)
- (a)テレケリックポリオレフィンと、(b)架橋剤を含む硬化成分と、を含む、硬化性配合物であって、前記テレケリックポリオレフィンが、式(I)を有し、
A1L1L2A2(I)、
式中、L1が、ポリオレフィンであり、
A1が、ビニル基、式CH2=C(Y1)-のビニリデン基、式Y1CH=CH-のビニレン基、ビニル基と式Y1CH=CH-のビニレン基との混合物、ビニル基と式CH2=C(Y1)-のビニリデン基との混合物、式CH2=C(Y1)-のビニリデン基と式Y1CH=CH-のビニレン基との混合物、およびビニル基と式CH2=C(Y1)-のビニリデン基と式Y1CH=CH-のビニレン基との混合物からなる群から選択され、
Y1が、出現ごとに独立して、C1~C30ヒドロカルビル基であり、
L2が、C1~C32ヒドロカルビル基であり、
A2が、立体障害のある二重結合(hindered double bond)を含むヒドロカルビル基である、硬化性配合物。 - 前記配合物が、前記(a)式(I)のテレケリックポリオレフィンを80重量%~99.99重量%、および前記架橋剤を含む前記(b)硬化成分を0.01重量%~20重量%含む、請求項1に記載の配合物。
- L1が、エチレンから誘導された単位およびC3~C30アルファ-オレフィンを含むエチレン/アルファ-オレフィンコポリマーである、請求項1または2のいずれかに記載の配合物。
- 前記C3~C30アルファ-オレフィンが、プロピレン、1-ブテン、1-ヘキセン、および1-オクテンからなる群から選択される、請求項3のいずれかに記載の配合物。
- 前記立体障害のある二重結合が、ビニリデン基の二重結合、ビニレン基の二重結合、三置換アルケンの二重結合、および分岐アルファ炭素に結合したビニル基の二重結合からなる群から選択される、請求項1~4のいずれかに記載の配合物。
- A2、C3~C30環式ヒドロカルビル基またはC3~C30非環式ヒドロカルビル基、請求項1~5のいずれかに記載の配合物。
- A2が、非置換シクロアルケン、アルキル置換シクロアルケン、および非環式アルキル基からなる群から選択される、請求項1~6のいずれかに記載の配合物。
- 式(I)の前記テレケリックポリオレフィンが、1,000~1,000,000g/molの重量平均分子量(Mw)範囲を含む、請求項1~8のいずれかに記載の配合物。
- L1が、炭素-炭素単結合を通じてA1およびL2の各々に共有結合し、L2が、炭素-炭素単結合を通じてA2に共有結合している、請求項1~9のいずれかに記載の組成物。
- 前記(b)硬化成分が、助剤をさらに含む、請求項1~10のいずれかに記載の配合物。
- 前記架橋剤が、過酸化物である、請求項1~11のいずれかに記載の配合物。
- (c)添加剤成分をさらに含む、請求項1~12のいずれかに記載の配合物。
- 前記(C)添加剤成分が、酸化亜鉛および/またはステアリン酸を含む、請求項1~13のいずれかに記載の配合物。
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