JP2003128720A - オレフィン重合用固体助触媒成分、オレフィン重合用触媒およびイオン含有化合物 - Google Patents
オレフィン重合用固体助触媒成分、オレフィン重合用触媒およびイオン含有化合物Info
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Abstract
有するイオン含有化合物を使用した、高い重合活性でオ
レフィン重合体を与える、保存安定性の良好なオレフィ
ン重合用触媒を提供する。 【解決手段】 [R4 M]+ (Rは、水素原子および置
換されていないかもしくは置換された、アリール基を除
く炭素数1〜30の炭化水素基の中から選ばれ、各Rは
互いに結合して環を形成していてもよく、少なくとも1
つのRはアリール基を除く炭素数1〜30の炭化水素基
であり、Mは窒素またはリンである)のカチオンと非配
位性アニオンである[A]- とからなるイオン含有化合
物が微粒子担体に化学結合されたオレフィン重合用固体
助触媒成分を用いる。
Description
に有用なオレフィン重合用固体助触媒成分ならびにオレ
フィン重合用触媒に関する。本発明は、特に、安価なア
ミンより誘導されるカチオンと非配位性アニオンからな
るイオン含有化合物を使用した場合にも、高い重合活性
でオレフィン重合体を与えることが可能なオレフィン重
合用固体助触媒成分およびそれより得られるオレフィン
重合用触媒に関する。
化合物をメタロセン触媒の助触媒成分として用いること
は公知であり、例えば、特表平1−502036号公報
にはアンモニウムイオンと非配位性アニオンからなるイ
オン含有化合物とメタロセン化合物によりオレフィンが
重合されることが記載されている。
カチオンとしてトリアルキルアンモニウムイオンのよう
な酸性度の低いものを使用した場合には、触媒の添加か
ら重合開始までに誘導期が存在することが記載されてい
る。このような誘導期間の存在は、急激な重合開始にと
もなう微粉粒子の生成と重合反応器のファウリングある
いは塊状重合体の生成といった問題を抑制するのに有効
な場合がある。
ルキルアンモニウムイオンのような酸性度の低いものを
使用した場合には、重合活性が著しく低下することが知
られている。例えば、平成9年2月20日開催の(株)
技術情報協会主催のセミナーにおけるテキスト21頁の
秋元明氏の発表データには、トリアルキルアミンなどの
塩基性の高いアミンから誘導されるアンモニウムイオン
を含むイオン含有化合物を使用すると、重合活性が極端
に低下することが記載されている。
は、トリアルキルアミンなどから誘導される酸性度の低
いアンモニウムイオンを含むイオン含有化合物を使用し
てスチレンの重合を行った場合には、やはり著しい活性
の低下をもたらすことが報告されている。
などの非芳香族アミンに由来するアンモニウムイオン
は、前記の利点にもかかわらずほとんど使用されておら
ず、一般的にイオン含有化合物のカチオンとしてはジメ
チルアニリニウムなどの芳香族環にアミノ基が直接結合
したアミン(以下、芳香族アミンと称することがある)
に由来する酸性度の高いアンモニウムイオンが用いられ
ている。
いアンモニウムイオンを使用した触媒は、重合活性は高
いものの触媒調製後の活性の経時低下が大きく、触媒調
製直後に直ちに使用しなければならないという問題があ
る。
ルアミンなどの安価なアミンから誘導されるアンモニウ
ムイオンを含有するイオン含有化合物を使用した、高い
重合活性でオレフィン重合体を与えるオレフィン重合用
固体助触媒成分ならびにそれより得られる保存安定性の
良好なオレフィン重合用触媒を提供することを目的とす
る。
のカチオンと非配位性アニオンを含むイオン含有化合物
を微粒子担体上に化学結合させたオレフィン重合用固体
助触媒成分が、高い重合活性でオレフィン重合体を与え
ることを見出し、本発明を完成するに至ったものであ
る。
く、水素原子および置換されていないかもしくは置換さ
れた、アリール基を除く炭素数1〜30の炭化水素基の
中から選ばれ、各Rは互いに結合して環を形成していて
もよく、少なくとも1つのRはアリール基を除く炭素数
1〜30の炭化水素基であり、Mは窒素またはリンであ
る)で表される、[R4 M]+ のカチオンと非配位性ア
ニオンである[A]- とからなるイオン含有化合物が微
粒子担体に化学結合されたオレフィン重合用固体助触媒
成分、 (2) 一般式(1)で表されるイオン含有化合物が、
下記一般式(2) [M1 (R1 )a (R2 )b (R3 )c (R4 −L)d ]- ・[R4 M]+ (2) (式中、M1 はホウ素またはアルミニウムであり、R
1 、R2 およびR3 は、それぞれ独立に、置換されてい
ないかもしくは置換された、炭素数1〜20の炭化水素
基、アルコキシ基、フェノキシ基またはハロゲン原子で
あり、これらは互いに同一であっても異なっていてもよ
く、R4 はヘテロ原子を含んでいてもよい、炭素数1〜
20の炭化水素基であり、Lはシリル基、ヒドロキシル
基、カルボキシル基またはアミノ基であり、a、bおよ
びcは0または1〜3の整数であり、dは1〜4の整数
であり、かつ、a+b+c+d=4であり、RおよびM
は前記(1)式の規定に同一のものである)で表され
る、上記(1)のオレフィン重合用固体助触媒成分、 (3) (A)上記(1)または(2)のオレフィン重
合用固体助触媒成分、(B)メタロセン化合物および
(C)有機アルミニウム化合物からなるオレフィン重合
用触媒、および (4) 上記一般式(2)で表されるイオン含有化合物
を提供する。
触媒成分は、上記一般式(1)で表される、[R4 M]
+ のカチオンと非配位性アニオンである[A]- とから
なるイオン含有化合物が微粒子担体に化学結合されたも
のである。ここで、化学結合としては、共有結合、イオ
ン結合、配位結合等が例示される。なお、イオン含有化
合物が化学結合しているか否かは、洗浄前後における固
体助触媒成分中の前記化合物の含有量の変化を測定する
ことにより判断することができる。なお、この化学結合
の有無は、例えば、ジクロロメンタ等の非配位性イオン
含有化合物や担体に対して不活性な極性溶媒による室温
での洗浄後において、非配位性イオン含有化合物または
この化合物に含有されるホウ素原子等が微粒子担体上に
残存するか否かを測定することにより検出可能である。
各Rは互いに同一でもよく、異なっていてもよく、水素
原子および置換されていないかもしくは置換された、ア
リール基を除く炭素数1〜30の炭化水素基の中から選
ばれ、あるいは各Rは互いに結合して環を形成してもよ
い。また、少なくとも1つのRは置換されていないかも
しくは置換された、アリール基を除く炭素数1〜30の
炭化水素基である。また、Mは窒素またはリンであり、
好ましくは窒素である。
素基の例としては、メチル基、エチル基、n−プロピル
基、i−プロピル基、n−ブチル基、i−ブチル基、t
−ブチル基、シクロヘキシル基等の鎖状もしくは環状ア
ルキル基、ベンジル基、1−フェニルエチル基、2−フ
ェニルエチル基、クミル基等のアリールアルキル基など
が例示される。なかでも、アリールアルキル基および環
状アルキル基が好ましい。また、これらの炭化水素基
は、その水素原子の一部もしくは全部がハロゲン原子、
アルコキシ基、シリル基等により置換されていてもよ
い。
3 基およびSiH3 基の水素原子が他の原子もしくは原
子団によって置換された置換シリル基を含む。この置換
基としては、炭素数1〜20のアルキル基、アリール
基、アリールアルキル基等の炭化水素基、ハロゲン原
子、アルコキシ基、フェノキシ基、アシルオキシ基等が
挙げられる。
の具体例としては、トリメチルアンモニウムイオン、ト
リエチルアンモニウムイオン、トリ−n−プロピルアン
モニウムイオン、トリ−i−プロピルアンモニウムイオ
ン、トリ−n−ブチルアンモニウムイオン、ジ−i−プ
ロピルアンモニウムイオン、ジ−i−ブチルアンモニウ
ムイオン、ベンジルアンモニウムイオン、N−メチルベ
ンジルアンモニウムイオン、N,N−ジメチルベンジル
アンモニウムイオン、N−エチルベンジルアンモニウム
イオン、N,N−ジエチルベンジルアンモニウムイオ
ン、1−フェニルエチルジメチルアンモニウムイオン、
2−フェニルエチルジメチルアンモニウムイオン、クミ
ルアンモニウムイオン、N,N−ジメチルクミルアンモ
ニウムイオン、N,N−ジエチルクミルアンモニウムイ
オンなどが挙げられる。これらのなかでもRとして水素
原子を持つものが好ましく、さらにはN,N−ジメチル
ベンジルアンモニウムイオンなどの、Rとして水素原子
およびアリールアルキル基を有するものが好ましい。
オンである。ここでいう非配性アニオンは、重合触媒と
してメタロセン化合物とともに用いたときに、メタロセ
ン化合物から誘導されるメタロセンカチオンに配位しな
いか、あるいは配位してもごく弱く配位し、中性ルイス
酸によって置換される程不安定のままであるアニオンを
意味する。
含む化合物から誘導されるアニオンである。第13族の
原子としては、ホウ素およびアルミニウムが挙げられ
る。
助触媒成分としては、上記一般式(2)で示されるよう
な、イオン含有化合物(a−1)と微粒子状担体(a−
2)を接触させて得られるものが好ましい。
式(1)における規定と同一であり、M1 はホウ素また
はアルミニウムであり、好ましくはホウ素である。ま
た、R 1 、R2 およびR3 は、それぞれ独立に、置換さ
れていないかもしくは置換された、炭素数1〜20の炭
化水素基、アルコキシ基、フェノキシ基またはハロゲン
原子であり、これらは互いに同一であっても異なってい
てもよい。炭化水素基としては、メチル基、エチル基、
n−プロピル基、i−プロピル基、n−ブチル基、i−
ブチル基、t−ブチル基等のアルキル基、フェニル基、
トリル基、ジメチルフェニル基等のアリール基が挙げら
れ、置換炭化水素基としては、前記炭化水素基の水素原
子の一部または全部をハロゲン原子、アルコキシ基、シ
リル基等で置換したものであってよく、例としてハロゲ
ン化アリール基等が挙げられる。アルコキシ基として
は、メトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基等が挙げら
れる。これらのうちで好ましいものは、アルキル基、ア
リール基およびハロゲン化アリール基であり、特に好ま
しいものはアリール基およびハロゲン化アリール基であ
る。
4−フルオロフェニル基等のフルオロフェニル基、2,
4−ジフルオロフェニル基、3,5−ジフルオロフェニ
ル基等のジフルオロフェニル基、2,4,5−トリフル
オロフェニル基、2,4,6−トリフルオロフェニル基
等のトリフルオロフェニル基、2,3,5,6−テトラ
フルオロフェニル基等のテトラフルオロフェニル基、ペ
ンタフルオロフェニル基、3,4−ビス(トリフルオロ
メチル)フェニル基、3,5−ビス(トリフルオロメチ
ル)フェニル基等のビス(トリフルオロメチル)フェニ
ル基、2,3,5−トリス(トリフルオロメチル)フェ
ニル基、2,4,6−トリス(トリフルオロメチル)フ
ェニル基等のトリス(トリフルオロメチル)フェニル
基、2,3,5,6−テトラキス(トリフルオロメチ
ル)フェニル基等のテトラキス(トリフルオロメチル)
フェニル基、ペンタキス(トリフルオロメチル)フェニ
ル基等およびこれらのフッ素原子を塩素原子、臭素原子
等の他のハロゲン原子に置き換えたものなどが挙げられ
る。
トリフルオロフェニル基、テトラフルオロフェニル基、
ペンタフルオロフェニル基などのフルオロフェニル基が
好ましく、さらにはテトラフルオロフェニル基およびペ
ンタフルオロフェニル基が好ましく、特にペンタフルオ
ロフェニル基が好ましい。
て、R4 はヘテロ原子を含んでいてもよい、炭素数1〜
20の炭化水素基であり、具体的にはメチレン基、エチ
レン基、プロピレン基、ブチレン基、エチリデン基、プ
ロピリデン基、o−フェニレン基、m−フェニレン基、
p−フェニレン基、4−フルオロ−m−フェニレン基、
2−フルオロ−p−フェニレン基等のフルオロフェニレ
ン基、4,5−ジフルオロ−m−フェニレン基、3,5
−ジフルオロ−p−フェニレン基等のジフルオロフェニ
レン基、2,4,5−トリフルオロ−m−フェニレン
基、2,4,6−トリフルオロ−m−フェニレン基、
4,5,6−トリフルオロ−m−フェニレン基、2,
3,5−トリフルオロ−p−フェニレン基、2,3,6
−トリフルオロ−p−フェニレン基等のトリフルオロフ
ェニレン基、3,4,5,6−テトラフルオロ−o−フ
ェニレン基、2,4,5,6−テトラフルオロ−m−フ
ェニレン基、2,3,5,6−テトラフルオロ−p−フ
ェニレン基等のテトラフルオロフェニレン基が挙げられ
る。あるいは、式−(C6 H4 )−X−(ここで、−
(C6H4 )−はo−,m−またはp−フェニレン基で
あり、Xは−(Cn H2n)−(nは1〜10の整数)、
−O−,−S−,−P−または−N−であり、フェニレ
ン基の水素原子の一部または全部はフッ素等のハロゲン
原子により置換されていてもよい)で表される基であっ
てもよい。
−トリフルオロ−m−フェニレン基、2,4,6−トリ
フルオロ−m−フェニレン基、4,5,6−トリフルオ
ロ−m−フェニレン基、2,3,5−トリフルオロ−p
−フェニレン基、2,3,6−トリフルオロ−p−フェ
ニレン基、3,4,5,6−テトラフルオロ−o−フェ
ニレン基、2,4,5,6−テトラフルオロ−m−フェ
ニレン基、2,3,5,6−テトラフルオロ−p−フェ
ニレン基であり、特に好ましいものは2,4,5,6−
テトラフルオロ−m−フェニレン基、2,3,5,6−
テトラフルオロ−p−フェニレン基である。
ル基、ヒドロキシル基、カルボキシル基、アミノ基のい
ずれかであり、好ましくはシリル基またはヒドロキシル
基である。シリル基としては、下記一般式(3)−[S
i(Z1 Z2 )−Z6 −]n SiZ3 Z4 Z5
(3)(式中、Z1 、Z2 、Z3 、Z4 およびZ5
は、それぞれ、ハロゲン原子、アルコキシ基、フェノキ
シ基、アシルオキシ基、炭素数1〜20の炭化水素基の
中から選ばれ、Z3 、Z4 、Z5 のうちの少なくとも1
つはハロゲン原子、アルコキシ基、フェノキシ基、アシ
ルオキシ基である。Z6 は、酸素原子、イミノ基、炭素
数1〜20のアルキレン基、炭素数1〜20のアリーレ
ン基、炭素数1〜20のオキサアルキレン基のいずれか
である。nは0または1〜10の整数である。好ましく
はn=0であり、Z3 、Z4 、Z5 のうちの少なくとも
1つはハロゲン原子である)で表わされるものが挙げら
れる。
ロシリル基等のトリハロゲノシリル基、メチルジクロロ
シリル基、エチルジクロロシリル基等のアルキルジハロ
ゲノシリル基、ジメチルクロロシリル基、ジエチルクロ
ロシリル基等のジアルキルハロゲノシリル基、フェニル
ジクロロシリル基、p−トリルジクロロシリル基等のア
リールジハロゲノシリル基、ジフェニルクロロシリル基
等のジアリールハロゲノシリル基、トリメトキシシリル
基、トリエトキシシリル基等のトリアルコキシシリル
基、メチルジメトキシシリル基等のアルキルジアルコキ
シシリル基、ジメチルメトキシシリル基、ジメチルエト
キシシリル基等のジアルキルアルコキシシリル基、フェ
ニルジメトキシシリル基、トリルジメトキシシリル基等
のアリールジアルコキシシリル基、ジフェニルメトキシ
シリル基、ジトリルメトキシシリル基、ジフェニルエト
キシシリル基等のジアリールアルコキシシリル基、トリ
アセトキシシリル基等のトリアシルオキシシリル基、メ
チルジアセトキシシリル基等のアルキルジアシルオキシ
シリル基、ジメチルアセトキシシリル基等のジアルキル
アシルオキシシリル基、フェニルジアセトキシシリル基
等のアリールジアシルオキシシリル基、ジフェニルアセ
トキシシリル基等のジアリールアシルオキシシリル基や
ジメチルヒドロキシシリル基等のアルキルヒドロキシシ
リル基等が挙げられる。
ロシリル基、メチルジクロロシリル基、ジメチルクロロ
シリル基、トリメトキシシリル基、メチルジメトキシシ
リル基、ジメチルメトキシシリル基、トリエトキシシリ
ル基、メチルジエトキシシリル基、ジメチルエトキシシ
リル基、トリアセトキシシリル基、メチルジアセトキシ
シリル基、ジメチルアセトキシシリル基、トリヒドロキ
シシリル基、メチルジヒドロキシシリル基、ジメチルヒ
ドロキシシリル基であり、特に好ましいものはトリクロ
ロシリル基、メチルジクロロシリル基、ジメチルクロロ
シリル基である。
いて、a、bおよびcは、それぞれ、0または1〜3の
整数であり、dは1〜4の整数であり、かつa+b+c
+d=4である。これらのうちでも好ましいものはd=
1の化合物である。
イオン性化合物(a−1)の具体例としては、 N, N−ジメチルベンジルアンモニウム〔4−(クロロ
ジメチルシリル)−2,3,5,6−テトラフルオロフ
ェニル〕トリス(ペンタフルオロフェニル)ボラート、 N, N−ジメチルベンジルアンモニウム〔4−(ジクロ
ロメチルシリル)−2,3,5,6−テトラフルオロフ
ェニル〕トリス(ペンタフルオロフェニル)ボラート、 N,N−ジメチルベンジルアンモニウム(4−トリクロ
ロシリル−2,3,5,6−テトラフルオロフェニル)
トリス(ペンタフルオロフェニル)ボラート、 N, N−ジメチルベンジルアンモニウム〔4−(クロロ
ジメチルシリル)−フェニル〕トリス(ペンタフルオロ
フェニル)ボラート、 N, N−ジメチルベンジルアンモニウム〔4−(ジクロ
ロメチルシリル)−フェニル〕トリス(ペンタフルオロ
フェニル)ボラート、 N,N−ジメチルベンジルアンモニウム(4−トリクロ
ロシリルフェニル)トリス(ペンタフルオロフェニル)
ボラート、 N,N−ジメチルベンジルアンモニウム(4−ヒドロキ
シフェニル)トリス(ペンタフルオロフェニル)ボラー
ト、 N, N−ジメチルシクロヘキシルアンモニウム〔4−
(クロロジメチルシリル)−2,3,5,6−テトラフ
ルオロフェニル〕トリス(ペンタフルオロフェニル)ボ
ラート、 N, N−ジメチルシクロヘキシルアンモニウム〔4−
(ジクロロメチルシリル)−2,3,5,6−テトラフ
ルオロフェニル〕トリス(ペンタフルオロフェニル)ボ
ラート、 N,N−ジメチルシクロヘキシルアンモニウム(4−ト
リクロロシリル−2,3,5,6−テトラフルオロフェ
ニル)トリス(ペンタフルオロフェニル)ボラート、 N, N−ジメチルシクロヘキシルアンモニウム〔4−
(クロロジメチルシリル)−フェニル〕トリス(ペンタ
フルオロフェニル)ボラート、 N, N−ジメチルシクロヘキシルアンモニウム〔4−
(ジクロロメチルシリル)−フェニル〕トリス(ペンタ
フルオロフェニル)ボラート、 N,N−ジメチルシクロヘキシルアンモニウム(4−ト
リクロロシリルフェニル)トリス(ペンタフルオロフェ
ニル)ボラート、 N,N−ジメチルシクロヘキシルアンモニウム(4−ヒ
ドロキシフェニル)トリス(ペンタフルオロフェニル)
ボラート、 トリエチルアンモニウム〔4−(クロロジメチルシリ
ル)−2,3,5,6−テトラフルオロフェニル〕トリ
ス(ペンタフルオロフェニル)ボラート、 トリエチルアンモニウム〔4−(ジクロロメチルシリ
ル)−2,3,5,6−テトラフルオロフェニル〕トリ
ス(ペンタフルオロフェニル)ボラート、 トリエチルアンモニウム(4−トリクロロシリル−2,
3,5,6−テトラフルオロフェニル)トリス(ペンタ
フルオロフェニル)ボラート、 トリ−n−ブチルアンモニウム〔4−(クロロジメチル
シリル)−2,3,5,6−テトラフルオロフェニル〕
トリス(ペンタフルオロフェニル)ボラート、 トリ−n−ブチルアンモニウム〔4−(ジクロロメチル
シリル)−2,3,5,6−テトラフルオロフェニル〕
トリス(ペンタフルオロフェニル)ボラート、 トリ−n−ブチルアンモニウム(4−トリクロロシリル
−2,3,5,6−テトラフルオロフェニル)トリス
(ペンタフルオロフェニル)ボラート、 トリ−n−ブチルアンモニウム〔4−(クロロジメチル
シリル)−フェニル〕トリス(ペンタフルオロフェニ
ル)ボラート、 トリ−n−ブチルアンモニウム〔4−(ジクロロメチル
シリル)−フェニル〕トリス(ペンタフルオロフェニ
ル)ボラート、 トリ−n−ブチルアンモニウム(4−トリクロロシリル
フェニル)トリス(ペンタフルオロフェニル)ボラー
ト、 トリ−n−ブチルアンモニウム(4−ヒドロキシフェニ
ル)トリス(ペンタフルオロフェニル)ボラート などが挙げられる。
により合成することが可能である。具体的には、トリア
リールボランとアリールリチウムもしくはアリールマグ
ネシウムハライド等を反応させてイオン含有化合物を合
成し、これにシリル基等の担体との反応性を有する反応
基を導入する方法が例示される。
−2)としては、金属酸化物、金属ハロゲン化物、金属
水酸化物、金属アルコキシド、炭酸塩、硫酸塩、酢酸
塩、珪酸塩や有機高分子化合物等が挙げられる。これら
は、必要に応じて、単独であるいは複数を組み合わせて
用いることができる。これらは、有機アルミニウムや有
機珪素化合物などで処理されていてもよい。
カ、アルミナ、チタニア、マグネシア、ジルコニア、カ
ルシア、酸化亜鉛等が挙げられる。上記金属ハロゲン化
物としては、例えば、塩化マグネシウム、塩化カルシウ
ム、塩化バリウム、塩化ナトリウム等が挙げられる。上
記金属水酸化物としては、例えば、水酸化アルミニウ
ム、水酸化マグネシウム等が挙げられる。上記金属アル
コキシドとしては、例えば、マグネシウムエトキシド、
マグネシウムメトキシド等が挙げられる。また、上記炭
酸塩としては、例えば、炭酸カルシウム、塩基性炭酸カ
ルシウム、炭酸マグネシウム、塩基性炭酸マグネシウ
ム、炭酸バリウム等が挙げられる。上記硫酸塩として
は、例えば、硫酸カルシウム、硫酸マグネシウム、硫酸
バリウム等が挙げられる。上記酢酸塩としては、例え
ば、酢酸カルシウム、酢酸マグネシウム等が挙げられ
る。珪酸塩としては、例えば、雲母、タルク等の珪酸マ
グネシウムや珪酸カルシウム、珪酸ナトリウム等が挙げ
られる。これらのうち好ましいのは、シリカ、アルミ
ナ、雲母やタルク等の珪酸マグネシウムや珪酸カルシウ
ム、珪酸ナトリウムなどの珪酸塩である。
ポリエチレン、ポリプロピレン、エチレン−プロピレン
共重合体、エチレン−ビニルエステル共重合体、エチレ
ン−ビニルエステル共重合体の部分あるいは完全鹸化物
等のポリオレフィンおよびその変性物、ポリアミド、ポ
リカーボネート、ポリエステル等の熱可塑性樹脂、フェ
ノール樹脂、エポキシ樹脂、尿素樹脂、メラミン樹脂な
どの熱硬化性樹脂などが挙げられる。
しいものは、水酸基、カルボキシル基、アミノ基、アミ
ド基等の極性基を有するものであり、具体的には水酸基
含有不飽和化合物、不飽和カルボン酸等でグラフト変性
した変性ポリオレフィン、エチレン−ビニルエステル共
重合体の部分あるいは完全鹸化物等が挙げられる。
制限はないが、通常0.1〜2,000μmの範囲であ
り、好ましくは1〜1,000μm、さらに好ましくは
5〜100μmの範囲である。また、比表面積は、特に
制限はないが、通常0.1〜2,000m2 /gの範囲
であり、好ましくは10〜1,500m2 /gであり、
さらに好ましくは100〜1,000m2 /gの範囲で
ある。
状担体(a−2)との化学結合のための接触は、任意の
方法により行うことが可能であり、有機溶剤の非存在下
で直接接触させてもよいが、一般的には有機溶剤中で接
触が行われる。ここで、用いられる有機溶剤としては、
ペンタン、ヘキサン等の脂肪族炭化水素、ベンゼン、ト
ルエン等の芳香族炭化水素、塩化メチレン、クロロベン
ゼン等のハロゲン化炭化水素、ジエチルエーテル、テト
ラヒドロフラン等のエーテル類やN,N−ジメチルホル
ムアミド、N−メチルピロリドン等のアミド類、メタノ
ール、エタノール、プロパノール、n−ブタノール等の
アルコール類およびこれらの混合物等が挙げられる。
状担体(a−2)との接触は、使用する有機溶剤やその
他の条件を考慮して、任意の温度で可能であるが、通常
−80℃〜300℃の範囲で行われる。好ましい接触温
度の範囲は−50℃〜200℃であり、さらに好ましい
範囲は0〜150℃である。得られる固体触媒成分は、
未反応物を洗浄等により除去して用いられてもよく、乾
燥して用いられてもよい。
微粒子状担体(a−2)に対する使用量は、特に制限は
ないが、通常(a−2)100重量部当たり(a−1)
が0.0001〜1,000,000重量部の範囲であ
る。(a−1)の使用量が多くなると触媒の重合活性は
向上する傾向にあるが、重合活性と製造コストのバラン
スを考慮すると(a−1)の使用量は微粒子担体(a−
2)100重量部当たり、好ましくは0.1〜10,0
00重量部の範囲であり、さらに好ましくは1〜1,0
00重量部の範囲である。
いて説明する。本発明のオレフィン重合用触媒は(A)
前記固体助触媒成分および、(B)メタロセン化合物か
らなっていてもよく、あるいはこれらに加えて(C)有
機アルミニウム化合物を含んでいてもよい。
物としては、公知のものが使用可能であり、プロピレン
重合体の製造に使用する場合には、プロピレンを立体規
則的に重合させるものであるのが好ましい。具体的に
は、ビス(2,3−ジメチルシクロペンタジエニル)ジ
メチルシランジルコニウムジクロライド、ビス(2,4
−ジメチルシクロペンタジエニル)ジメチルシランジル
コニウムジクロライド、ビス(2,3,5−トリメチル
シクロペンタジエニル)ジメチルシランジルコニウムジ
クロライド、(メチルシクロペンタジエニル)(1−イ
ンデニル)ジメチルシランジルコニウムジクロライド、
(3−t−ブチルシクロペンタジエニル)(1−インデ
ニル)ジメチルシランジルコニウムジクロライドなどで
ある。
ニル)〔4−t−ブチル−(1−インデニル)〕ジメチ
ルシランジルコニウムジクロライド、(メチルシクロペ
ンタジエニル)(9−フルオレニル)ジメチルシランジ
ルコニウムジクロライド、(3−t−ブチルシクロペン
タジエニル)(9−フルオレニル)ジメチルシランジル
コニウムジクロライド、ビス(1−インデニル)ジメチ
ルシランジルコニウムジクロライド、ビス(2−メチル
−1−インデニル)ジメチルシランジルコニウムジクロ
ライド、ビス(2,4,7−トリメチル−1−インデニ
ル)ジメチルシランジルコニウムジクロライド、ビス
(2,4−ジメチル−1−インデニル)ジメチルシラン
ジルコニウムジクロライド、ビス(2−エチル−1−イ
ンデニル)ジメチルシランジルコニウムジクロライド、
ビス(2−i−プロピル−1−インデニル)ジメチルシ
ランジルコニウムジクロライドなども使用可能である。
報、特開平6−345809号公報などに記載のインデ
ニル骨格にさらに環が縮合した構造を有するメタロセン
化合物、すなわちビス(2−メチル−4,5−ベンゾ−
1−インデニル)ジメチルシランジルコニウムジクロラ
イド、ビス(2−メチル−α−アセナフト−1−インデ
ニル)ジメチルシランジルコニウムジクロライド、ビス
(2−メチル−4,5−ベンゾ−1−インデニル)メチ
ルフェニルシランジルコニウムジクロライド、ビス(2
−メチル−α−アセナフト−1−インデニル)メチルフ
ェニルシランジルコニウムジクロライド、1,2−ビス
(2−メチル−4,5−ベンゾ−1−インデニル)エタ
ンジルコニウムジクロライド、ビス(4,5−ベンゾ−
1−インデニル)ジメチルシランジルコニウムジクロラ
イドなども使用可能である。
−176222号公報などに記載されている、インデニ
ル骨格の4位にアリール基を有するメタロセン化合物、
すなわちビス(2−メチル−4−フェニル−1−インデ
ニル)ジメチルシランジルコニウムジクロライド、(2
−メチル−4−フェニル−1−インデニル)ジメチルシ
ランジルコニウムジクロライド、ビス〔2−メチル−4
−(1−ナフチル)−1−インデニル〕ジメチルシラン
ジルコニウムジクロライド、ビス〔2−メチル−4−
(2−ナフチル)−1−インデニル〕ジメチルシランジ
ルコニウムジクロライド、ビス〔2−メチル−4−(9
−アントラセニル)−1−インデニル〕ジメチルシラン
ジルコニウムジクロライド、ビス〔2−メチル−4−
(9−フェナントリル)−1−インデニル〕ジメチルシ
ランジルコニウムジクロライド、ビス〔2−メチル−4
−(3,5−ジ−i−プロピル−フェニル)−6−i−
プロピル−1−インデニル〕ジメチルシランジルコニウ
ムジクロライド、ビス(2−メチル−4−フェニル−6
−i−プロピル−1−インデニル)ジメチルシランジル
コニウムジクロライドなども使用可能である。
よび特開平10−279588号公報などに記載のアズ
レン骨格を有するメタロセン化合物、すなわち、ビス
(2−メチル−4−フェニル−4−ヒドロ−1−アズレ
ニル)ジメチルシランジルコニウムジクロライド、ビス
(2−エチル−4−フェニル−4−ヒドロ−1−アズレ
ニル)ジメチルシランジルコニウムジクロライド、ビス
〔2−メチル−4−(クロロフェニル)−4−ヒドロ−
1−アズレニル〕ジメチルシランジルコニウムジクロラ
イド、ビス〔2−メチル−4−(フルオロフェニル)−
4−ヒドロ−1−アズレニル〕ジメチルシランジルコニ
ウムジクロライド、ビス(2−メチル−4−フェニル−
4−ヒドロ−1−アズレニル)(クロロメチル)メチル
シランジルコニウムジクロライドなども使用可能であ
る。
ンデニル)〕メチルフェニルシランジルコニウムジクロ
ライド、1,2−ビス(η5 −1−インデニル)エタン
ジルコニウムジクロライド、1,2−ビス〔2−メチル
−(η5 −1−インデニル)〕エタンジルコニウムジク
ロライド、1,2−ビス〔2,4−ジメチル−(η5−
1−インデニル)〕エタンジルコニウムジクロライド、
1,2−ビス〔2,4,7−トリメチル−(η5 −1−
インデニル)〕エタンジルコニウムジクロライド、1,
2−ビス〔2−エチル−(η5 −1−インデニル)〕エ
タンジルコニウムジクロライド、1,2−ビス〔2−n
−プロピル−(η5 −1−インデニル)〕エタンジルコ
ニウムジクロライド、〔2−エチル−(η5 −1−イン
デニル)[2−メチル−(η5 −1−インデニル)〕エ
タンジルコニウムジクロライド、1,2−ビス(η5 −
9−フルオレニル)エタンジルコニウムジクロライド、
2−(3−t−ブチルシクロペンタジエニル)−2−
(η5 −1−インデニル)プロパンジルコニウムジクロ
ライド、2−(3−t−ブチルシクロペンタジエニル)
−2−〔4−t−ブチル−(η5 −1−インデニル)〕
プロパンジルコニウムジクロライド、2−(3−メチル
シクロペンタジエニル)−2−(η5 −9−フルオレニ
ル)プロパンジルコニウムジクロライド、2−(3−t
−ブチルシクロペンタジエニル)−2−(η5 −9−フ
ルオレニル)プロパンジルコニウムジクロライドなどが
使用可能である。
や特開平9−176222号公報などに記載されている
インデニル骨格の4位にアリール基を有するもの、特開
平6−184179号公報や特開平6−345809号
公報などに記載されているインデニル骨格にさらに環が
縮合した構造を有するメタロセン化合物、および特開平
10−226712号公報や特開平10−279588
号公報などに記載のアズレン骨格を有するメタロセン化
合物が好ましく、特にビス〔2−メチル−4,5−ベン
ゾ(η5 −1−インデニル)〕ジメチルシランジルコニ
ウムジクロライド、ビス〔2−メチル−4−フェニル−
(η5 −1−インデニル)〕ジメチルシランジルコニウ
ムジクロライド、ビス〔2−メチル−4−(1−ナフチ
ル)−(η5 −1−インデニル)〕ジメチルシランジル
コニウムジクロライド、ビス(2−メチル−4−フェニ
ル−4−ヒドロ−1−アズレニル)ジメチルシランジル
コニウムジクロライドが好ましい。
ニウムをチタンやハフニウム等の他の金属に代えたも
の、塩素原子を他のハロゲンや水素原子、アミド基、ア
ルコキシ基、メチル基やベンジル基などの炭化水素基に
代えたものも、何ら制限無く使用することができる。
(A)および(B)成分に加えて(C)成分として有機
アルキルアルミニウム化合物を含むのが好ましい。
ミニウム化合物であり、公知のものがなんら制限なく使
用可能である。有機アルミニウム化合物の例としては、
トリメチルアルミニウム、トリエチルアルミニウム、ト
リ−n−プロピルアルミニウム、トリ−n−ブチルアル
ミニウム、トリ−i−ブチルアルミニウム、トリ−n−
ヘキシルアルミニウム、トリ−i−ヘキシルアルミニウ
ム、トリ−n−オクチルアルミニウム、、トリ−i−オ
クチルアルミニウム、トリ−n−デシルアルミニウム、
トリ−i−デシルアルミニウム、トリヘキサデシルアル
ミニウム等のトリアルキルアルミニウム、ジエチルアル
ミニウムジクロライド、エチルアルミニウムジクロライ
ド等のジアルキルアルミニウムハライドやアルキルアル
ミニウムジハライド、ジイソブチルアルミニウムヒドリ
ド等のジアルキルアルミニウムヒドリド、ジエチルアル
ミニウムエトキシド、ジエチルアルミニウムフェノキシ
ドなどが挙げられる。これらの中でもトリアルキルアル
ミニウムが好ましく、具体的にはトリメチルアルミニウ
ム、トリエチルアルミニウム、トリ−n−プロピルアル
ミニウム、トリ−n−ブチルアルミニウム、トリ−i−
ブチルアルミニウム、トリ−n−ヘキシルアルミニウ
ム、トリ−i−ヘキシルアルミニウム、トリ−n−オク
チルアルミニウム、、トリ−i−オクチルアルミニウ
ム、トリ−n−デシルアルミニウム、トリ−i−デシル
アルミニウム、トリヘキサデシルアルミニウムなどであ
り、最も好ましくはトリ−n−ブチルアルミニウム、ト
リ−n−ヘキシルアルミニウム、トリ−n−オクチルア
ルミニウムである。
用触媒には、前記(C)成分の有機アルミニウム化合物
以外の有機金属化合物、すなわち、有機リチウム化合
物、有機マグネシウム化合物、有機亜鉛化合物等の1種
以上を用いることも可能である。
チウム等のアリールリチウムや、メチルリチウム、n−
ブチルリチウム、i−ブチルリチウム、s−ブチルリチ
ウム、t−ブチルリチウム等のアルキルリチウムなどが
挙げられる。有機亜鉛化合物としてはジメチル亜鉛、ジ
エチル亜鉛等があり、有機マグネシウムとしてはジn−
ブチルマグネシウム、n−ブチルエチルマグネシウム、
メチルマグネシウムブロマイド、エチルマグネシウムブ
ロマイド、n−プロピルマグネシウムブロマイド等のジ
アルキルマグネシウム、i−プロピルマグネシウムブロ
マイド、n−ブチルマグネシウムクロライド、i−ブチ
ルマグネシウムクロライド、s−ブチルマグネシウムク
ロライド、t−ブチルマグネシウムクロライド、フェニ
ルマグネシウムブロマイドやこれらの塩素原子や臭素原
子を他のハロゲンに代えたものなどのアルキルマグネシ
ウムハライド等がある。
(A)および(B)、または(A)、(B)および
(C)からなり、これらを任意の方法で接触させること
により調製される。(A)、(B)および(C)を接触
させる場合、これらの接触順序は任意であり、イ.
(B)と(C)を接触させた後、(A)と接触させる方
法、ロ.(A)と(C)を接触させた後、(B)と接触
させる方法、ハ.(A)と(B)を接触させた後、
(C)を接触させる方法、ニ.(A)、(B)および
(C)を同時に接触させる方法、ホ.(B)と(C)を
接触させたものと、(A)と(C)を接触させたものと
を接触させる方法などが挙げられる。
行われ、前記の炭化水素を使用することができる。これ
らのうちで好ましいものは、脂肪族炭化水素および脂環
式炭化水素であり、特にペンタン、ヘキサン、ヘプタ
ン、シクロヘキサン、メチルシクロヘキサンが好まし
い。
常−50℃〜150℃の範囲、好ましくは−20℃〜8
0℃の範囲で行われ、好ましくは−20℃〜70℃の範
囲、さらに好ましくは0〜50℃の範囲で行われる。接
触の時間は、任意であるが、通常10秒〜10時間の範
囲であり、好ましくは1分〜5時間の範囲、さらに好ま
しくは2分〜2時間の範囲である。
濃度は、特に制限はないが、通常0.0001〜100
ミリモル/Lの範囲であり、好ましくは0.001〜1
0ミリモル/Lの範囲、さらに好ましくは0.001〜
1ミリモル/Lの範囲である。
常(B)中に含有されるジルコニウム等の遷移金属1モ
ルに対し、(A)中のイオン含有化合物が0.05〜1
00モルであることが好ましく、より好ましくは0.1
〜50モル、さらに好ましくは1.0〜10モル、特に
好ましくは1.5〜5.0モルの範囲である。
重合方法に適用可能である。具体的には、液体オレフィ
ン中で行う塊状重合、不活性溶剤の存在下に液相中で行
う溶液重合やスラリー重合、気相モノマー中で行う気相
重合が挙げられる。これらのうちで好ましいものは、塊
状重合および気相重合であり、特に好ましくは塊状重合
である。
重合体の分子量を考慮して、任意であるが、通常0〜1
30℃の範囲であり、好ましくは20〜120℃の範囲
であり、さらに好ましくは40〜100℃の範囲であ
り、特に好ましくは56〜95℃、最も好ましくは60
〜90℃の範囲である。圧力は、液相中の重合において
常圧〜7.0MPa、気相中では常圧〜5.0MPaの
範囲が一般的であり、得ようとするオレフィン重合体の
性質や、生産性などを考慮して適当な範囲を選択でき
る。また、重合時には、水素の導入量や温度、圧力の選
定などの任意の手段により分子量を調節することが可能
である。
ン、プロピレン、α−オレフィンの重合あるいは共重合
に適用することが可能である。ここで、使用可能なα−
オレフィンは1−ブテン、1−ペンテン、1−ヘキセ
ン、1−オクテン、3−メチル−1−ブテン、4−メチ
ル−1−ペンテン、1−デセン、ビニルシクロヘキサン
等およびこれらの混合物であり、本発明の主旨を逸脱し
ない範囲においてスチレン、ビニルトルエンといったビ
ニル芳香族化合物やブタジエン、イソプレン、クロロプ
レン、1,4- ヘキサジエンといった共役あるいは非共
役ジエンなどの少量を共重合することも可能である。
重合用触媒を、少量のオレフィンを予備重合した予備重
合触媒とすることも可能である。予備重合を行うこと
で、ファウリングの発生や塊状重合体の生成を抑制する
ことが容易となる。予備重合において、オレフィンは、
前記重合用触媒1g当たり、通常0.01〜2,000
g、好ましくは0.1〜1,000g、さらに好ましく
は1.0〜500g、特に好ましくは1.5〜250g
の範囲となるように重合される。
く、エチレン、プロピレン、1−ブテン、1−ヘキセ
ン、1−オクテン等の直鎖状オレフィンや、4−メチル
−1−ブテン、4−メチル−1−ペンテン等の分枝オレ
フィン、ビニルシクロヘキサン、ビニルシクロヘキセ
ン、ビニルノルボルナン、ビニルノルボルネン、エチリ
デンノルボルネン、ノルボルネン、ジシクロペンタジエ
ン等の環状オレフィンなどが使用される。これらのうち
で好ましいものは、エチレン、プロピレン、1−ブテン
等の直鎖状オレフィン、ビニルシクロヘキサン等の環状
オレフィンであり、特にプロピレンを主成分として含む
ものが好ましい。
希釈剤中で、あるいは希釈剤の非存在下に、液状または
気体のオレフィンと接触させることにより行われる。予
備重合の温度は、特に制限はなく、通常−80℃〜15
0℃の範囲であり、好ましくは0〜100℃、より好ま
しくは10〜90℃、さらに好ましくは20〜80℃の
範囲である。予備重合を行なった後は、そのまま重合に
使用してもよく、また洗浄や乾燥といった工程を経た後
に使用することも可能である。
が、本発明はこれらによって何ら限定されるものではな
い。
担体(a−2)としてシリカ0.5gおよびジクロロメ
タン20mLを加えた。次に、ジクロロメタン10mL
にイオン性化合物(a−1)として、N,N−ジメチル
ベンジルアンモニウム〔4−(クロロジメチルシリル)
−2,3,5,6−テトラフルオロフェニル〕トリス
(ペンタフルオロフェニル)ボラート0.45gを溶解
させた溶液を、前記フラスコに加え、撹拌下に2時間還
流させた。その後、上澄みを除去し、ジクロロメタンで
洗浄することにより成分(A−1)を得た。
いて、イオン性化合物(a−1)としてN,N−ジメチ
ルベンジルアンモニウム〔4−( メチルジクロロシリ
ル) −2,3,5,6−テトラフルオロフェニル〕トリ
ス(ペンタフルオロフェニル)ボラートを用いた以外は
同じ操作を繰り返し、成分(A−2)を得た。
いて、イオン性化合物(a−1)としてN,N−ジメチ
ルシクロヘキシルアンモニウム〔4−( クロロジメチル
シリル) −2,3,5,6−テトラフルオロフェニル〕
トリス(ペンタフルオロフェニル)ボラートを用いた以
外は同じ操作を繰り返し、成分(A−3)を得た。
いて、イオン性化合物(a−1)としてトリ−n−ブチ
ルアンモニウム〔4−( クロロジメチルシリル) −2,
3,5,6−テトラフルオロフェニル〕トリス(ペンタ
フルオロフェニル)ボラートを用いた以外は同じ操作を
繰り返し、成分(A−4)を得た。
30mg採取後、(B)としてビス(2−メチル−4−
フェニル−η5 −1−インデニル)ジメチルシランジル
コニウムジクロライド(以下、MPIZと略す)を1.
0マイクロモルおよび(C)として0.5モル/Lのト
リ−n−オクチルアルミニウム(以下、TNOAと略
す)のヘキサン溶液2.0mLを添加し、室温で5分間
撹拌し、重合用触媒のスラリーを得た。このスラリーを
室温で5日間保存し、以下の重合に用いた。
ル/LのTNOAのヘキサン溶液1mL、およびプロピ
レン8モルを加え、70℃に昇温した後、上記重合用触
媒をオートクレーブ中に圧入し、重合を開始した。触媒
投入から20分後、未反応のプロピレンを除去すること
で重合を停止させ、プロピレン重合体を得た。重合活性
は8,700g/g−成分(A)/時間であった。
ベンジルアンモニウム〔4−(クロロジメチルシリル)
−2,3,5,6−テトラフルオロフェニル〕トリス
(ペンタフルオロフェニル)ボラートの代わりにN,N
−ジメチルアニリニウム〔4−(クロロジメチルシリ
ル)−2,3,5,6−テトラフルオロフェニル〕トリ
ス(ペンタフルオロフェニル)ボラートを使用した以外
は同じ操作を繰り返し、プロピレン重合体を得た。重合
活性は2,000g/g−成分(A)/時間であった。
10mg採取後、(B)としてビス[2−メチル−4−
(1−ナフチル)−(η5 −1−インデニル)]ジメチ
ルシランジルコニウムジクロライド(以下、MNIZと
略す)を0.5マイクロモル、および(C)として0.
5モル/LのTNOAのヘキサン溶液1.0mLを添加
し、50℃で30分間撹拌し、重合用触媒のスラリーを
得た。
ル/LのTNOAのヘキサン溶液1mL、およびプロピ
レン8モルを加え、65℃に昇温した後、上記重合用触
媒をオートクレーブ中に圧入し、重合を開始した。重合
開始1分後、エチレンをその分圧が0.25MPaとな
るまで導入し、70℃でプロピレンとエチレンを共重合
させた。エチレン導入から15分後、メタノールを圧入
して重合を停止させた。未反応のプロピレンを除去し、
プロピレン共重合体を得た。重合活性は79,000g
/g−成分(A)/時間であった。
使用した以外は同じ操作を繰り返し、プロピレン共重合
体を得た。重合活性は81,000g/g−成分(A)
/時間であった。
使用し、オレフィン重合用触媒の調製を60℃で30分
間行った以外は同じ操作を繰り返し、プロピレン共重合
体を得た。重合活性は69,000g/g−成分(A)
/時間であった。
使用し、オレフィン重合用触媒の調製を60℃で60分
間行った以外は同じ操作を繰り返し、プロピレン共重合
体を得た。重合活性は62,000g/g−成分(A)
/時間であった。
シルアルミニウム(以下、TNHAと略す)を使用した
以外は同じ操作を繰り返し、プロピレン重合体を得た。
重合活性は7,500g/g−成分(A)/時間であっ
た。
ベンジルアンモニウム〔4−(クロロジメチルシリル)
−2,3,5,6−テトラフルオロフェニル〕トリス
(ペンタフルオロフェニル)ボラートの代わりにN,N
−ジメチルアニリニウム〔4−(クロロジメチルシリ
ル)−2,3,5,6−テトラフルオロフェニル〕トリ
ス(ペンタフルオロフェニル)ボラートを使用した以外
は同じ操作を繰り返し、プロピレン共重合体を得た。重
合活性は82,000g/g−成分(A)/時間であっ
た。
されるカチオンと非配位性アニオンからなるイオン含有
化合物を使用した場合にも、高い重合活性でオレフィン
重合体を与えることが可能なオレフィン重合用固体助触
媒成分およびそれより得られるオレフィン重合用触媒が
提供される。
フローチャート図である。
Claims (4)
- 【請求項1】 下記一般式(1) [R4 M]+ ・[A]- (1) (式中、Rは、互いに同一でもよく、異なっていてもよ
く、水素原子および置換されていないかもしくは置換さ
れた、アリール基を除く炭素数1〜30の炭化水素基の
中から選ばれ、各Rは互いに結合して環を形成していて
もよく、少なくとも1つのRはアリール基を除く炭素数
1〜30の炭化水素基であり、Mは窒素またはリンであ
る)で表される、[R4 M]+ のカチオンと非配位性ア
ニオンである[A]- とからなるイオン含有化合物が微
粒子担体に化学結合されたオレフィン重合用固体助触媒
成分。 - 【請求項2】 一般式(1)で表されるイオン含有化合
物が、下記一般式(2) [M1 (R1 )a (R2 )b (R3 )c (R4 −L)d ]- ・[R4 M]+ (2) (式中、M1 はホウ素またはアルミニウムであり、R
1 、R2 およびR3 は、それぞれ独立に、置換されてい
ないかもしくは置換された、炭素数1〜20の炭化水素
基、アルコキシ基、フェノキシ基またはハロゲン原子で
あり、これらは互いに同一であっても異なっていてもよ
く、R4 はヘテロ原子を含んでいてもよい、炭素数1〜
20の炭化水素基であり、Lはシリル基、ヒドロキシル
基、カルボキシル基またはアミノ基であり、a、bおよ
びcは0または1〜3の整数であり、dは1〜4の整数
であり、かつ、a+b+c+d=4であり、RおよびM
は前記(1)式の規定に同一のものである)で表され
る、請求項1記載のオレフィン重合用固体助触媒成分。 - 【請求項3】 (A)請求項1または2に記載したオレ
フィン重合用固体助触媒成分、(B)メタロセン化合物
および(C)有機アルミニウム化合物からなるオレフィ
ン重合用触媒。 - 【請求項4】 下記一般式(2) [M1 (R1 )a (R2 )b (R3 )c (R4 −L)d ]- ・[R4 M]+ (2) (式中、M1 はホウ素またはアルミニウムであり、R
1 、R2 およびR3 は、それぞれ独立に、置換されてい
ないかもしくは置換された、炭素数1〜20の炭化水素
基、アルコキシ基、フェノキシ基またはハロゲン原子で
あり、これらは互いに同一であっても異なっていてもよ
く、R4 はヘテロ原子を含んでいてもよい、炭素数1〜
20の炭化水素基であり、Lはシリル基、ヒドロキシル
基、カルボキシル基またはアミノ基であり、a、bおよ
びcは0または1〜3の整数であり、dは1〜4の整数
であり、かつ、a+b+c+d=4であり、RおよびM
は前記(1)式の規定に同一のものである)で表される
イオン含有化合物。
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