JP2589895B2 - シロキサン - Google Patents

シロキサン

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Description

【発明の詳細な説明】
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明はシロキサンに関する。
【０００２】本発明によると、式： 〔式中、Ｆ１はアミノ基、ホルミル基、Ｎ−メチルアミ
ノ基、ｍ−エチルアミノ基、ヒドロキシ基、カルボキシ
基（−ＣＯＯＨ）、カルボメトキシ基、ハロ基、シアノ
基、ｐ−アセチル基、 Ｄはメチレン基、プロピレン基、ブチレン基又はオクチ
レン基を表わし； Ｒ１，Ｒ２，Ｒ３，Ｒ４，Ｒ５及びＲ６は各々炭素数１
〜４個の低級アルキル基、フェニル基、ビニル基、シア
ノエチル基又はアミノプロピル基であり； ｘ，ｙ及びｚは各々０〜１００の値を有する〕で表わさ
れるシロキサンが提供される。
【０００３】
【従来の技術及び問題点】ポリシロキサンの導入により
種々の重合体を変性することが提案されている。これら
のポリシロキサンは例えばα−Ω−ビス（アルキレン）
ポリシロキサンであるが、これらのポリシロキサンを使
用して得られる結果は完全に満足し得るものではない。
これらのポリシロキサンは上昇温度に対して鋭敏であ
り、そのため、高分子量材料を合成することおよび高温
製造法を使用することが困難である。更に、α−Ω−ビ
ス（アルキレン）ポリシロキサンは多くの重合体と容易
に混和しない。
【０００４】
【問題点を解決するための手段、作用及び効果】今般、
本発明者は式： 〔式中Ｑはフェニル基であり； Ｄはメチレン基、プロピレン基、ブチレン基又はオクチ
レン基を表わし；Ｒ1 ，Ｒ2 ，Ｒ3 ，Ｒ4 ，Ｒ5 及びＲ
6 は各々炭素数１〜４個の低級アルキル基、フェニル
基、ビニル基、シアノエチル基又はアミノプロピル基で
あり；ｘ，ｙ及びｚは各々０〜 100の値を有する〕のシ
ロキサン単位の導入により重合体の性質を改善し得るこ
と及びこれらのシロキサン単位を含有する重合体は多く
の用途に適することを知見した。
【０００５】本発明の前記式のシロキサンはビス（官能
性置換）ポリシロキサンとも呼ばれるものである。Ｆ１
はアミノ基、ホルミル基、低級アルキルアミノ基（特に
Ｎ−メチルアミノ基又はｍ−エチルアミノ基）、ヒドロ
キシ基、−ＣＯＯＨ、カルボメトキシ基、ハロ基（特に
ブロモ）、シアノ基、ｐ−アセチル基（即ちフェニル環
上のアセチル置換基がＺ基に対してパラ位にあることを
意味する）、
【０００６】Ｄはメチレン基、プロピレン基、ブチレン
基及びオクチレン基から選ばれた非置換ハイドロカルビ
レン基即ちアルキレン基であり得る。Ｒ1 ，Ｒ2 ，
Ｒ3 ，Ｒ4 ，Ｒ5 及びＲ6 は各々炭素数１〜４個の低級
アルキル基例えばメチル、エチル、プロピル又はブチル
基、フェニル基、炭素数２〜12個のアルケニル基（特に
ビニル基）、置換低級アルキル基特にシアノエチル基又
はアミノプロピル基であり得る。
【０００７】一具体例においては、ｘ，ｙおよびｚがい
ずれも０であり、Ｑがフェニル基であり、そしてポリシ
ロキサン単位は、式： Ｄ1 はメチレン基又は炭素数３〜８個のアルキレン基を
表わし； Ｒ1 は炭素数１〜４個の低級アルキル基である）で示さ
れる。
【０００８】特定の具体例においては、重合体は式： のポリシロキサン単位を含有している。
【０００９】他の態様においては、ポリシロキサン単位
は式： （式中、Ｑ，ＺおよびＤは前記と同一の意義を有し；ｘ
は０〜 100であり；ｙは０〜20であり；ｚは０〜20であ
り；Ｒ1 が低級アルキル基であり、Ｒ2 が低級アルキル
基であり、Ｒ3 がフェニル基又は低級アルキル基であ
り、Ｒ4 が低級アルキル基、フェニル基または炭素数２
〜12個のアルケニル基であり、Ｒ5 が炭素数２〜12個の
アルケニル基または置換低級アルキル基であり、Ｒ6 が
低級アルキル基、フェニル基、炭素数２〜12個のアルケ
ニル基または置換低級アルキル基である）で表わされ
る。
【００１０】一般式： で表わされる幾つかの化合物の製造は公知である。
【００１１】例えば英国特許第 1,062,418号明細書に
は、式： （式中、基Ｒは同一でも異ってもよくかつ一価の有機基
であり、Ｚは一価の有機基，ニトロアリールオキシアル
キル基，アミノアリールオキシアルキル基またはアミノ
ニトロアリールオキシアルキル基であり、ｒおよびｍは
同一でも異ってもよくかつ０または正の整数である）で
表わされる線状ポリシロキサンを、適当な置換基を有す
るフェノールまたはナフトールのナトリウム塩と、γ−
ハロアルキルシロキサンのごとき適当な構造を有するハ
ロアルキルシロキサンとの反応により製造し得ると記載
されている。反応はメタノールまたはエタノールのごと
き溶剤中において、大気圧下〜40気圧の圧力下、20〜 2
00℃の温度で行われる。
【００１２】式：Ｆ1 −Ｑ−Ｚ−Ｍ（式中、Ｆ1 ，Ｑお
よびＺは前記と同一の意義を有し、Ｍはアルカリ金属ま
たはアルカリ土類金属を表わす）で表わされる化合物
と、式： （式中、ＤおよびＲ1 は前記と同一の意義を有し、Ｘは
Ｃｌ，ＢｒまたはＩを表わす）で表わされるビス（ハロ
ハイドロカルビル）ジシロキサンとを双極中性溶剤の存
在下で、周囲圧力下で周囲温度（20℃）〜 200℃の温度
で反応させた場合、85％程度またはそれ以上の収率でポ
リシロキサンが得られることが認められた。
【００１３】この反応は多くの場合、高度に発熱性であ
りかつ酸素の存在により影響を受ける。従ってこの反応
は、反応剤の一方がアルコキシ−またはアリールオキシ
シランまたはポリシロキサンである場合には、不活性雰
囲気下においてかつ痕跡量の水も存在しない状態で行う
ことが好ましい。反応媒体はジメチルスルホキシド，
Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド，テトラメチル尿素，Ｎ
−メチル−２−ピロリドンまたはヘキサメチルホスホル
アミドのごとき双極中性溶剤を含有している。双極中性
溶剤は反応媒体の１〜 100重量％、好ましくは20〜50重
量％を構成する。反応媒体の残部は大気圧下での沸点が
40〜約 200℃の液体炭化水素の少なくとも１種から本質
的になる。液体炭化水素を存在させる目的は反応混合物
中に存在する水の共沸蒸留による除去を促進することに
ある。ビス（ハロアルキル）シロキサンは前記の金属塩
と双極中性溶剤とを含有する反応混合物に、無水条件下
で徐々に添加することが好ましい。添加が終了し、発熱
反応が止んだとき、反応混合物を70〜約 150℃の温度で
数時間加熱して、反応剤を実質的に完全に目的化合物に
転化させることが多くの場合好ましい。その多くは無色
で、高沸点の粘稠な油状物である反応生成物は反応媒体
に可溶性であり従って前記の双極中性溶剤と存在する液
体炭化水素とを除去することにより容易に単離し得る。
この化合物のあるものは長時間、日光または空気に暴露
した場合黒ずむことがある。
【００１４】双極中性溶剤は前記の塩と有機基材との両
者を溶媒和させる作用をするものと考えられる。更に、
カチオン性溶媒和化合物(solvating compound)であるこ
れらの溶剤はカチオンと係合したアニオンを、妨害を受
けないかつ反応性を示す状態に保持する。双極中性溶剤
は、有効なものではあるが、多くの場合、高価であり、
精製し、乾燥しかつ無水状態に保持することが困難であ
りまた、反応が完了した後には回収することが困難であ
る。双極中性溶剤を使用しないことおよびジシロキサン
を直鎖炭化水素溶剤のごとき非極性溶剤中において相間
移動触媒の存在下で製造し得ることが認められた。
【００１５】すなわち、反応を脂肪族炭化水素液体例え
ばヘキサン，ヘプタンおよびオクタンおよび芳香族炭化
水素液体例えばトルエン，キシレンおよびこれらの混合
物のごときアルキル化芳香族化合物中で行い得る。反応
はまたクロルベンゼンおよびジクロルベンゼンのごとき
塩素化炭化水素溶剤中でも行い得る。
【００１６】相間移動触媒は以下に述べるごとき作用を
するものと考えられる；すなわち反応系には前記ジシロ
キサンを含有する炭化水素相と前記金属塩からなる固相
とが存在する。金属塩は炭化水素相に不溶性であるた
め、界面現象が存在しないときは反応は生起しないであ
ろう。しかしながら、相間移動触媒の存在下において
は、この触媒と塩との間でアニオンの交換が生起する；
親核的薬剤(nucleophile)として作用し得るアニオンは
炭化水素相中に移行し、そこで反応が生起して、生成物
が形成される。すなわち、相間移動触媒法はある種の化
合物の触媒効果によるものであり、他の方法の場合には
不溶性のアニオン性親核的薬剤を有機溶剤中に溶解させ
る。非極性媒体中での反応性と溶解度が増大することに
より、反応は比較的温和な条件下で進行する。
【００１７】既知の相間移動触媒としては第４級オニウ
ム(onium) 化合物，大環式クラウンエーテル(crown eth
er) およびクリプテート(cryptate)が挙げられる。第４
級オニウム化合物は燐，砒素，窒素，アンチモンおよび
ビスマスの誘導体であり、一般式： （Ｒ4 Ｍ）+ ｙ（Ｘ）-y （式中、Ｒは各々、炭素数１〜20個のアルキル基，炭素
数２〜20個のアルケニル基，炭素数６〜20個のアリール
基および炭素数７〜40個のアリールアルキレン基または
アルキルアリーレン基から選ばれた基であり； ＭはＰ，Ａｓ，Ｎ，ＳｂまたはＢｉであり； Ｘはアニオンであり； ｙは１または電荷と釣合うそれ以上の数である）で表わ
される。第４級ホスホニウムおよびアンモニウム化合物
が通常、最も入手し易く従って好ましいものである。
【００１８】代表的なアニオンとしては、ハロゲンイオ
ン，スルホン酸根，硫酸根，硼酸根，フルオロ硼酸根，
燐酸根，重硫酸酸根およびフルオロ燐酸根が挙げられ
る。ハロゲンイオンが最も一般的に入手され得る。
【００１９】代表的な第４級オニウム化合物としてはつ
ぎのものを挙げることができる： テトラブチルアンモニウム クロライド テトラブチルアンモニウム ビサルフェート セチルトリメチルアンモニウム ブロマイド トリフェニルベンジルホスホニウム クロライド テトラブチルアンモニオウム シアナイド テトラブチルアンモニオウム フルオロライド テトラブチルアンモニオウム ヨーダイド テトラブチルアンモニオウム水素サルフェート テトラブチルホスホニウム クロライド ベンジルトリエチルアンモニウム ブロマイド ベンジルトリエチルアンモニウム クロライド ベンジルトリメチルアンモニウム クロライド ベンジルトリメチルアンモニウム フルオライド ヘキサデシルトリエチルアンモニウム ブロマイド ヘキサデシルトリエチルホスホニウム ブロマイド ヘキサデシルトリメチルアンモニウム ブロマイド ヘキサデシルトリメチルアンモニウム クロライド ジブチルジメチルアンモニウム クロライド デシルトリエチルアンモニウム ブロマイド ヘキサデシルトリブチルホスホニウム ブロマイド ヘキシルトリエチルアンモニウム ブロマイド ドデシルトリエチルアンモニウム ブロマイド メチルトリノニルアンモニウム クロライド メチルトリフェニルアンモニウム ブロマイド オクチルトリエチルアンモニウム ブロマイド トリカプリルメチルアンモニウム クロライド テトラエチルアンモニウム クロライド トリオクチルエチルホスホニウム ブロマイド トリオクチルメチルアンモニウム クロライド トリオクチルプロピルアンモニウム クロライド テトラプロピルアンモニウム ブロマイド テトラフェニルアルソニウム クロライド テトラフェニルホスホニウム クロライド テトラフェニルホスホニウム ヨーダイド ベンジルトリメチルアンモニウム ヒドロキシド テトラデシルトリメチルアンモニウム ブロマイド テトラエチルアンモニウム ｐ−トルエンスルホネート テトラメチルアンモニウム テトラフルオロボーレート テトラプロピルアンモニウム ヘキサフルオロホスフェ
ート
【００２０】相間移動触媒は大環状クラウンエーテルで
あり得る。大環状クラウンエーテルは当業者に周知のも
のである。Journal of the American Chemical Society
89,(1967), 第7017−36頁に記載の、“Cyclic Poly et
hers and Their Complexes With Metal Salts ”と題す
るC.J.Petersonの報文には、12〜30頁環の環式構造体で
ある大環状クラウンエーテルが記載されている。環形成
元素の多くは酸素である。大環式クラウンエーテルはア
ルカリ金属のごときカチオンと錯体を形成することが知
られている。
【００２１】大環式クラウンエーテルについて記載して
いる他の報文としては、“Chemistry of the Preparati
on of Some Macrocycles”と題する、M.R. Crawford,
S.E.Drewes およびD.A.Scitton のChemistry and Indus
try(1970), 第1351〜1352頁に掲載の報文および“Synth
esis of New Macrocycles, Part I, Monomeric and Dim
eric O-Phthalate Esters”と題する、S.E.Drewesおよ
びP.C.Colemen のJournal Chemical Society, Parkin
I,(1972),第2148−53頁に掲載の報文がある。
【００２２】以下に示す３つのクラウンエーテルは最も
広く使用されているものである： 他のクラウンエーテルとしてはベンゾ−15−クラウン−
５，12−クラウン−４，シクロヘキシル−15−クラウン
−５およびオクタメチルシクロ−テトラフルフリリレン
があげられる。
【００２３】相間移動触媒は、また、式： で表わされる２，２，２−クルプテートのごとき大環状
三環ジアミノポリエーテルであり得る。
【００２４】所望の化学反応を行うのに必要な相間移動
触媒の量は原料全量の0.01モル％という少量から 100モ
ル％またはそれ以上の範囲で変動させ得る。しかしなが
ら 100モル％またはそれ以上使用しても利益はなく、か
つかかる使用量は多くの場合、経済的に実施できない。
約 0.1モル％〜10モル％の相間移動触媒を使用すること
が好ましい。
【００２５】上記の方法を実施するにあたって、前記ア
ルカリ金属塩Ｆ1 −Ｑ−Ｚ−Ｍは適当な先駆化合物とア
ルカリ金属水酸化物溶液との反応により形成する。つい
で共沸溶剤を添加し、混合物を環流させ、水を除去し
て、無水の反応系を形成させる。水が生成しなくなった
とき、温度を反応混合物の沸点より約20℃低い温度に低
下させる。この時点で相間移動触媒を添加し、ついでシ
ロキサン含有ハライドを滴下してカップリング反応を行
わせる。添加終了後、混合物を60〜 200℃の温度で３〜
12時間保持して反応を完結させる。反応混合物を濾過し
て塩を除去しそして生成物を回収する。
【００２６】これまで述べた製造方法はジシロキサン、
すなわちｘ，ｙおよびｚが各々０である場合に関するも
のである。しかしながら、ジシロキサン分子鎖 Ｒ3 ，Ｒ4 ，Ｒ5 およびＲ6 について定義した基から選
ばれたものを表わす）を挿入することができる。
【００２７】この方法はジシロキサン単位の性質を変性
することを希望するときに興味のある方法である。例え
ば、ｘ，ｙおよびｚの値が増大するにつれてシロキサン
単位はよりエラストマー状になり、これを含有する重合
体はより可撓性になる。更に、アルケニルまたはアルキ
ニル基含有シロキシ単位の導入により、ポリシロキサン
を架橋させて、より強じんな、非エラストマー状重合体
を得ることができる。
【００２８】 （式中、Ｒ2-6 は前記と同一の意義を有し、ｓは３また
はそれ以上であり、ｔは０または１〜 100の整数であ
る）の環状ポリシロキサンから得られる。ｔが２または
それ以上の場合、任意の珪素原子上にあるＲ基は他のＲ
基とは無関係である。
【００２９】 挿入され、そしてこの基は環状ポリシロキサンから得ら
れるので、環状ポリシロキサンは上記シロキシ基の供給
源となるためには、切断される必要があることは明らか
である。すなわち、例えば、ヘキサメチルシクロトリシ
ロキサン分子は以下に示すごとき形式で分裂して、３個
のジメチルシロキシ基を生ずる：
【００３０】実際にはジシロキサンは単に、適当なシロ
キシ基の供給源またはその混合物と共に、触媒の存在下
約85〜約 250℃の温度で加熱するだけである。Ｑ上の置
換基がアミノ基のごとき塩基性であるかまたはハロゲン
のごとき中性であるときは、触媒はアルカリ金属水酸化
物、第４級アンモニウムヒドロキシド，第４級ホスホニ
ウムヒドロキシド、または第４級アンモニウムまたはホ
スホニウムシラノレートであるいは、これらと大環状ク
ラウンエーテルとを組合せたものである。代表的な触媒
としては水酸化カリウムおよびナトリウム，テトラメチ
ルアンモニウムヒドロキシドおよびテトラブチルホスホ
ニウムヒドロキシドがあげられる。
【００３１】Ｑ上の置換基がカルボキシル基およびフェ
ノール性水酸基のごとき酸性のものである場合には、触
媒として塩化水素，硫酸，トリフルオロ酢酸，トリフル
オロメタンスルホン酸および他のオルガノスルホン酸の
ごとき強酸が使用される。
【００３２】触媒は３〜５重量％の珪素化合物を生成さ
せるために存在させる珪素化合物 100万重量部当り30〜
50部の範囲で使用される。
【００３３】ｘ，ｙおよびｚについて所与の値を有する
ポリシロキサン単位を得るためには、１モルのジシロ せる。
【００３４】反応混合物の粘度が一定な値に到達したと
き、あるいは反応混合物の温度が最も沸点の高い環状ポ
リシロキサンの沸点以上に上昇し得るようになったと
き、反応が完了する。反応の完了は、更に反応溶液が２
相または多相混合物から単一相混合物に変化することに
よっても示される。
【００３５】反応が完了したとき、触媒を中和する。触
媒が第４級アンモニウムまたはホスホニウムシラノレー
トである場合には、約 160〜 170℃での加熱により、効
果的に分解が行われる。塩基性触媒は鉱酸により中和す
ることができ、一方、酸性触媒はアルカリ金属水酸化物
または炭酸塩により中和し得る。ついで反応混合物を冷
却し、濾過しついで所望ならば減圧下で蒸留することに
より反応生成物を純粋な形で回収する。最終生成物中の
官能基の％は既知の方法に従って滴定により測定し得
る。
【００３６】前記したごとく、ジシロキサンは所望のシ
ロキシ基を生成し得る化合物と反応させる。かかる化合
物としてはつぎのものを挙げることができる： ヘキサメチルシクロトリシロキサン オクタフェニルシクロテトラシロキサン オクタメチルシクロテトラシロキサン １，３，５，７−テトラメチル−１，３，５，７−テト
ラビニルシクロテトラシロキサンおよび １，３，５，７−テトラメチル−１，３，５，７−テト
ラフェニルシクロテトラシロキサン
【００３７】本発明のポリシロキサンは種々の重合体中
にその性質を変性するために配合し得る。ポリシロキサ
ンは可撓性、伸張性および耐衝撃性を付与する；ポリシ
ロキサンはＵ．Ｖおよび他の輻射線に対する耐久性、耐
オゾン性、耐コロナ放電性および耐酸化性を付与する；
ポリシロキサンはガラス転移温度を低下させ、それによ
り高分子量材料の加工と成形を容易にする；ポリシロキ
サンは表面張力を低下させ、摩擦係数を減少させる；ポ
リシロキサンは溶解性を増大させ、耐酸性を増大させま
たガス透過性を増大させる。
【００３８】ポリシロキサン単位により改善される性質
の中で最も重要なものは、その驚くべき耐熱性である。
この熱安定性により、従来のポリシロキサンを使用した
場合に比べて、より高分子量の重合体を得ることができ
る；更に、これらのポリシロキサンおよびこれを含有す
る重合体は上昇温度で加工し得る。更に、フェニル基が
存在することにより、金属と塩を形成して、所与系を腐
蝕し、汚染する性質が減少するため、耐蝕性が増大す
る。
【００３９】本明細書を通じてシロキサン単位は二価で
あるとして記載した：
【００４０】しかしながら、ポリシロキサン単位は多価
の基の形で重合体マトリックスに結合し得ることおよび
該単位を二価の基として記載したのは単純化するために
過ぎないことは明らかである。特に、酸二無水物は四価
のシロキサン単位を生じ、一方、酸無水物は三価のシロ
キサン単位を生ずるであろう。Ｆの他にＱ上の反応性基
および珪素置換基上の反応性基は多価の単位を提供する
であろう。従って二価としてのシロキサン単位の記載は
単なる例示であり、これに限定されるものではない。
【００４１】上記の説明においては種々の分子の構造
と、ポリシロキサン単位によりその驚くべき耐熱性が示
される該単位の用途について述べた。これらのポリシロ
キサンの幾つかの性質と用途を以下の実施例に示す。
【００４２】実施例１ ビス（ｐ−アミノフェニルチオブチル）テトラメチルジ
シロキサンの製造 ガラス反応器に、 43.28部の水酸化ナトリウム50％水溶
液と、 112部のジメチルスルホキシド（ＤＭＳＯ）と 1
20部のトルエンと 68.75部のｐ−アミノチオフェノール
とを装入する。反応物を急速攪拌しながら窒素雰囲気下
に沸点に加熱する。反応器に存在する水を共沸蒸留によ
り除去し、ディーンスターク・トラップに収集する。該
トラップに収集した有機溶剤を反応混合物に返送する。
反応混合物の温度の温度は最初の 110℃から約 122℃に
上昇し、その間に反応混合物を７〜８時間攪拌する。こ
の期間の終了時には水は反応混合物からもはや放散され
ない。次いで反応混合物を約80℃に冷却し、その時に8
6.6部のビス（クロロブチル）テトラメチルジシロキサ
ンを反応混合物に滴下して加える。この添加中に生起す
る化学反応はわずかに発熱性であり、添加速度を調節し
て反応混合物の温度を約80℃に維持する。ジシロキサン
の添加完了時に、反応混合物を約16時間80℃の温度に加
熱する。
【００４３】反応混合物からの試料を定期的に取出し、
気相クロマトグラフィーにより分析する。原料に対して
より長い保持時間を有する新しいピークによって示され
る如く、生成物の量が最大値に達した時に、反応は完了
したと考えられる。反応混合物を次いで濾過し、溶剤の
トルエンとＤＭＳＯとを約10mmHgの減圧下で除去する。
次いで残渣を蒸留し、所望の目的生成物を 0.1mm〜0.5m
m(Hg) の圧力で約 310℃〜 315℃の温度で回収する。化
学構造は赤外分光分析法により確認され、所望生成物、
ビス（ｐ−アミノフェニルチオブチル）テトラメチルジ
シロキサンの構造に相当した。この生成物の収率は約85
％である。
【００４４】実施例２ ビス（ｐ−アミノフェノキシブチル）テトラメチルジシ
ロキサンの製造 ｐ−アミノチオフェノールの代りに 59.95部のｐ−アミ
ノフェノールを用いて実施例１に記載された方法を反復
し、目的生成物を 0.5mm〜約２mmHgの圧力下に295℃〜
約 300℃の温度での蒸留により回収する。目的生成物は
ビス（ｐ−アミノフェノキシブチル）テトラメチルジシ
ロキサンと同定された。この化合物は最初無色の液体で
あるが、最終的に固化して48℃〜49℃で溶融する白色固
体となる。
【００４５】実施例３ ビス（ｍ−アミノフェノキシプロピル）テトラメチルジ
シロキサンの製造 ｐ−アミノチオフェノールの代りに 59.95部のｍ−アミ
ノフェノールを用い且つビス（クロロブチル）テトラメ
チルジシロキサンの代りに78.9部のビス（クロロプロピ
ル）テトラメチルジシロキサンを用いて実施例１に記載
された方法を反復する。目的生成物は 0.5mm〜2.0mmHg
の圧力下に 245℃〜 260℃の温度範囲内での蒸留により
回収する。この生成物はビス（アミノフェノキシプロピ
ル）テトラメチルジシロキサンであると同定され、淡黄
色の液体であり０℃で３日間放置しても固化しなかっ
た。この生成物の純度は過塩素酸での滴定により測定す
ると99％を越えた。
【００４６】実施例４ ビス（ｐ−アミノフェニルスルホキソブチル）テトラメ
チルジシロキサンの製造 実施例１に記載した如く製造したビス（ｐ−アミノフェ
ニルチオブチル）テトラメチルジシロキサンの或る量
を、クロロホルムに溶解させ、得られる溶液を氷浴中で
冷却する。クロロホルムに溶解したｍ−クロロ過安息香
酸の溶液（ジシロキサンに基いて１当モル量）を次いで
攪拌しながら反応混合物に滴下して加え、添加の完了に
続いて攪拌を 0.5時間持続させる。反応混合物の固体相
を濾過により除去し、濾液に存在するクロロホルムを減
圧下で蒸発させると所望の生成物を単離し、これは次式
に相当する。
【００４７】実施例５ ビス（ｐ−アミノフェニルスルホブチル）テトラメチル
ジシロキサンの製造 還流冷却器と攪拌機と窒素の入口とを備えた反応器に、
ジメチルスルホキシドに溶解させたｐ−アミノベンゼン
スルホン酸ナトリウムの１モルを装入する。この溶液に
0.5モルのビス（クロロブチル）テトラメチルジシロキ
サンを徐々に加える。添加速度を調節して反応混合物の
温度を約80℃に維持する。ジシロキサンの添加が完了し
た後に、反応混合物を約16時間の期間80℃の温度に加熱
する。次いで反応混合物を濾過し、溶剤を実施例１に記
載した如く蒸発させて次式に相当する生成物を得る。
【００４８】実施例６ Ａ．ビス（ｐ−アミノフェニルスルファミルブチル）テ
トラメチルジシロキサンの製造 ガラス反応器に34.4ｇのｐ−アミノベンゼンスルファミ
ドと、50％水溶液の形での水酸化ナトリウム16ｇと、60
モルのジメチルスルホキシドと56モルのトルエンとを窒
素下に装入し、急速攪拌しながら窒素雰囲気中で沸点に
加熱する。生成した水を共沸により除去しディーンスタ
ーク・トラップに収集する。もはや水が放出されないこ
とによって明示される如く反応が完了した時に、反応混
合物を約80℃に冷却し、31.5ｇのビス（クロロブチル）
テトラメチルジシロキサンを滴下して加え；該反応はわ
ずかに発熱性であり、加熱速度を調節して反応混合物を
約80℃に維持する。添加の完了時に、該混合物を約80℃
で約16時間攪拌する。反応が完了した後に、溶剤を除去
し、生成物を実施例１の方法により回収する。
【００４９】Ｂ．ビス（ｐ−アミノフェニルカルバモイ
ルプロピル）テトラメチルジシロキサンの製造 窒素下で、ガラス反応器に27.2ｇのｐ−アミノベンズア
ミドと、50％水溶液としての16ｇの水酸化ナトリウム
と、60モルのジメチルスルホキシドと、56モルのトルエ
ンとを装入し、前記の実施例６Ａの如く反応させる。反
応が完了した後に、反応混合物を約80℃に冷却し、28.7
ｇのビス（クロロプロピル）テトラメチルジシロキサン
を滴下して加える。実施例６Ａに記載した反応条件に従
い、生成物を回収し；その構造はＩＲ及びＮＭＲ分析に
より確認した。
【００５０】Ｃ．ビス（ｐ−アミノフェニルカルボニル
オキシブチル）テトラメチルジシロキサンの製造 実施例６Ａの方法に従って、 137ｇのｐ−アミノ安息香
酸と、 200mlの水に溶かした40ｇのNaOHと1000mlのキシ
レンとを反応させる。反応系が無水となる時には、温度
を約 110℃に低下させ、10ｇのテトラブチルホスホニウ
ム・クロライドを一緒に加える。次いで 157.5ｇのビス
（クロロブチル）テトラメチルジシロキサンを滴下し添
加し始める。添加の完了時に、該混合物を 115℃で一夜
攪拌する。生成物を実施例６Ａに示した如く仕上げ、こ
れは粘稠質の油であり、その構造はＩＲ及びＮＭＲ分析
により確認された。生成物は、ビス（アミン二塩酸塩）
のエタノール溶液を形成しそれを再結晶させることによ
り精製された。
【００５１】実施例７ ビス（アミノフェノキシメチル）テトラメチルジシロキ
サンの製造 実施例１に記載された手法に従って、次の諸成分を合
し、窒素下でガラス反応器中で反応させる。 ｍ−アミノフェノール 56.86重量部 トルエン 120.0重量部 ジメチルスルホキシド 112.0重量部 50％NaOH溶液 43.28重量部 水の放出が終了することによって明示される如く反応が
完了した後に、反応温度を75℃に低下させ、63.5重量部
のビス（クロロメチル）テトラメチルジシロキサンの滴
下による添加を開始する。添加完了後に、反応混合物を
75℃で攪拌する。反応の終了時に、反応混合物を濾過
し、溶剤を５〜10mmHgの真空下で除去する。残渣を蒸留
し、生成物は黄色油として７mmHgで 254℃で出て来る。
収率は約85％である。化学構造は次の如くＩＲ及びＮＭ
Ｒ分析により確認された：
【００５２】実施例８ ビス（アミノフェノキシオクチル）テトラメチルジシロ
キサンの製造 １．ビス（８−ブロモオクチル）テトラメチルジシロキ
サンの調製。１，７−オクタジエンにクロロジメチルシ
ランをＰｔの触媒作用下に添加すると７−オクテニルジ
メチルクロロシランを与える。この中間体にＨＢｒを過
酸化物の触媒作用下に添加すると８−ブロモオクチルジ
メチルクロロシランを生成し；これを加水分解するとビ
ス（８−ブロモオクチル）テトラメチルジシロキサンを
得る。２．ビス（クロロメチル）テトラメチルジシロキ
サンの代りに139.32重量部のビス（８−ブロモオクチ
ル）テトラメチルジシロキサンを用いる以外は実施例７
の反応条件を反復する。
【００５３】実施例９ ビス（ｐ−アミノ−ｏ−クロロフェノキシブチル）テト
ラメチルジシロキサンの製造 ｐ−アミノチオフェノールの代りに２−クロロ−４−ア
ミノフェノールを用いて実施例１に記載した方法を反復
し、２−クロロ−４−アミノフェノールを化学量論量
（１：１のモル比）の水酸化ナトリウム50％水溶液と反
応させる。得られるナトリウム・フェノキシド溶液を化
学量論量のビス（クロロブチル）テトラメチルジシロキ
サンと反応させて次式： の生成物を形成する。
【００５４】実施例10 １，３−ビス（ｐ−ホルミルフェノキシプロピル）テト
ラメチルジシロキサンの製造 ｐ−アミノチオフェノールの代りに67.1部のｐ−ホルミ
ルフェノールを用い且つビス（クロロブチル）テトラメ
チルジシロキサンの代りに 91.57部のクロロプロピルジ
メチルメトキシシランを用いて実施例１に記載された方
法を反復する。目的生成物は 0.1mm〜0.5mmHg の圧力下
で 215℃〜 230℃の範囲内の温度での留出により回収す
る。回収した生成物は無色の液体であり、ｐ−ホルミル
フェノキシプロピルジメチルメトキシシランであると同
定された。その純度は気相クロマトグラフィーにより測
定すると99％である。生成物の収率は60％である。次い
でこの物質を、全てのアルコキシシランをジシロキサン
に転化させるに十分な量の 100％過剰の水を含有する大
過剰のメタノールに加える。ＫＯＨのペレットも触媒と
して加える。絶えず攪拌しながら約16時間室温で反応物
を残置する。メタノール及び水を蒸留により除去し、ジ
シロキサンを分子蒸留により回収する。回収した生成物
の化学構造は赤外スペクトル（ＩＲ）及び核磁気共鳴ス
ペクトル（ＮＭＲ）により確認され、１，３−ビス（ｐ
−ホルミルフェノキシプロピル）テトラメチルジシロキ
サンに相当した。
【００５５】実施例11 １，５−ビス−ｍ（Ｎ−メチルアミノフェノキシプロピ
ル）テトラメチルジシロキサンの製造 ｐ−ホルミルフェノールの代りに 67.65部のｍ−（Ｎ−
メチルアミノ）フェノールを用いて実施例10の方法を反
復する。目的生成物は約 0.1mm〜0.5mmHg の圧力下に 1
70℃〜 175℃の範囲内の温度で回収する。この生成物は
きわめて淡黄色の液体であり、ｍ−（Ｎ−メチルアミ
ノ）フェノキシプロピルジメチルメトキシシランである
と同定された。このシラン生成物を実施例10に記載した
のと同じ要領で加水分解して１，３−ビス−ｍ（Ｎ−メ
チルアミノフェノキシプロピル）テトラメチルジシロキ
サンにする。
【００５６】実施例12 １，３−ビス（ｐ−カルボメトキシフェノキシプロピ
ル）テトラメチルジシロキサンの製造 ｐ−ホルミルフェノールの代りに83.6部のｐ−カルボメ
トキシフェノールを用いて実施例10の方法を反復する。
目的生成物は 0.5mm〜2.0mmHg の圧力下に 185℃〜 200
℃の範囲内の温度での蒸留により回収する。この生成物
はｐ−カルボメトキシフェノキシプロピルジメチルメト
キシシランであると同定された無色の液体である。この
シラン生成物を実施例10に記載したのと同じ要領で加水
分解して１，３−ビス−（ｐ−カルボメトキシフェノキ
シプロピル）テトラメチルジシロキサンにする。
【００５７】実施例13 １，３−ビス（ｍ−ヒドロキシフェノキシブチル）テト
ラメチルジシロキサンの製造 ｐ−アミノフェノールの代りに85.3部のレゾルシノール
モノアセテートを用いて実施例１の方法を反復する。抜
取った混合物を 0.1mm〜 0.5mmHgで 270℃〜 280℃の温
度で蒸留する。生成物は１，３−ビス（ｍ−アセトキシ
フェノキシブチル）テトラメチルジシロキサンであり；
このアセテートエステルをＨＣｌで加水分解して所期の
ヒドロキシ化合物を得る。
【００５８】実施例14 １，３−ビス（ｐ−カルボキシフェノキシブチル）テト
ラメチルジシロキサンの製造 200部の水に溶かした８部のNaOHと54.6部の１，３−ビ
ス（ｐ−カルボメトキシフェノキシブチル）テトラメチ
ルジシロキサン（実施例12参照）とよりなる反応混合物
を合し、加熱還流させる。該混合物は最初不均質である
が、３時間後には均質となり、この時点で反応は終了
し、 100mlのトルエンで２回抽出し、過剰のＨＣｌで酸
性化する。白色沈澱物が生成し、これを濾取しペンタン
から再結晶させる。生成物の構造はＩＲ及びＮＭＲによ
り確認された。
【００５９】実施例15 １，３−ビス（ｐ−ブロモフェノキシブチル）テトラメ
チルジシロキサンの製造 三ツ首フラスコに、 43.28部の水酸化ナトリウム50％水
溶液と 112部のジメチルスルホキシド（ＤＭＳＯ）と 1
20部のトルエンと 95.15部のｐ−ブロモフェノールとを
装入する。反応物を急速攪拌しながら窒素雰囲気中で還
流させる。装入した諸成分の水（水酸化物の水溶液）及
び中和反応中に生成した水を共沸により除去しディーン
スターク・トラップ中に捕集する。還流溶剤を反応混合
物に返送する。ポット温度即ち反応混合物の温度は７〜
８時間の攪拌期間中に最初の110℃から約 118℃に上昇
する。この期間の終了時には反応混合物から水はもはや
発生しない。次いで反応混合物を約80℃に冷却する。約
80℃のこの温度で、86.6部のビス（クロロブチル）テト
ラメチルジシロキサンを反応混合物に滴下して加える。
滴下による添加中に生起する化学反応はわずかに発熱性
である。それ故、添加を制御して反応温度を約80℃に保
持する。シロキサンの添加完了時に、通常一夜の期間約
80℃で反応を進行させる。
【００６０】反応は例えばＧＯ（ガスクロマト）分析手
段を用いることにより監視する。ＧＣ分析が、長い保持
時間を有する新しいピークが最大となることを示した時
に、反応は完了する。反応混合物を濾過し、溶剤のトル
エンとＤＭＳＯとを約10mmHgの減圧下で除去する。抜取
った混合物を蒸留し、所望の目的生成物を 0.1mm〜0.5m
mHg で約 170℃〜 180℃の温度で回収する。生成物の化
学構造はＩＲ及びＮＭＲを用いて化学分析により確認さ
れた。
【００６１】実施例16 １，３−ビス（ｍ−エチルアミノフェノキシブチル）テ
トラメチルジシロキサンの製造 ブロモフェノールの代りに 75.35部のｍ−エチルアミノ
フェノールを用いて実施例15の方法を反復する。生成物
は 0.1mm〜0.5mmHg の圧力で 180℃〜 190℃で留出し
た。
【００６２】実施例17 １，３−ビス（シアノフェノキシブチル）テトラメチル
ジシロキサンの製造 65.45部のｐ−シアノフェノールを用いて実施例15の方
法を反復する。生成物は 0.1mm〜0.5mmHg の圧力で 285
℃〜 300℃で留出した。
【００６３】実施例18 １，３−ビス（ｐ−アセチルフェノキシブチル）テトラ
メチルジシロキサンの製造 74.8部のｐ−アセチルフェノールを用いて実施例15の方
法を反復する。生成物は減圧下で留出した。
【００６４】実施例19 相転移触媒を用いてのビス（ｐ−アミノフェニルチオブ
チル）テトラメチルジシロキサンの製造 実施例１は標記ジシロキサンの合成に双性非プロトン溶
剤の使用を説明するものである。本実施例は相転移触媒
を用いての前記ジシロキサンの合成を反復するものであ
る。三ツ首フラスコに、 43.28部の水酸化ナトリウム50
％水溶液と 68.75部のｐ−アミノチオフェノールとを装
入する。装入した成分を50℃に加熱し、 0.5時間連続攪
拌して諸成分の完全な中和を確保させる。232部のトル
エンを三ツ首フラスコに加えて反応混合物を形成する。
反応混合物を急速攪拌させながら窒素雰囲気中で加熱還
流させる。装入した諸成分の水（水酸化物の水溶液）及
び中和反応中に生成した水を共沸により除去しディーン
スターク・トラップに捕集する。還流溶剤を反応混合物
に返送する。ポット温度即ち反応混合物の温度は７〜８
時間の攪拌期間中最初の 110℃から約 120℃に上昇し
た。この期間の終了時には水は反応混合物からもはや発
生しない。
【００６５】次いで反応混合物を約80℃に冷却する。約
80℃のこの温度で、４ｇのテトラブチルアンモニウム・
クロライドを直ちに加え、86.6部のビス（クロロブチ
ル）テトラメチルジシロキサンも反応混合物に滴下して
加える。滴下による添加中に生起した化学反応はわずか
に発熱性である。それ故添加を制御して反応温度を約80
℃に保持するのが好ましい。シラン添加の完了時に、絶
えず攪拌しながら一夜に亘った期間反応を約80℃で進行
させる。
【００６６】反応はＧＣ分析手段の使用によって監視す
る。ＧＣ分析が、長い保持時間を有する新しいピークが
最大となったことを示した時に、反応に完了する。反応
混合物を濾過し、溶剤のトルエンを約10mmHgの減圧下で
除去する。抜取った混合物を蒸留し、所望の目的生成物
は 0.1mm〜0.5mmHg の圧力で約 310℃〜 315℃の温度で
回収する。生成物の化学構造はＩＲ及びＮＭＲ手段によ
り確認した。
【００６７】実施例20 ビス−（ｐ−アミノフェノキシブチル）テトラメチルジ
シロキサンの製造 実施例19と同じ方法を実施するが、但しｐ−アミノチオ
フェノールの代りに 59.95ｇのｐ−アミノフェノールを
用い、テトラブチルアンモニウムクロライドの代りに４
ｇのテトラブチルホスホニウムクロライドを用い、目的
生成物は 0.5mm〜約２mmHgの圧力で回収した。回収した
生成物はビス（ｐ−アミノフェノキシブチル）テトラメ
チルジシロキサンであると同定された。
【００６８】実施例21 相転移触媒として大環式クラウンエーテルを用いてのビ
ス（ｍ−アミノフェノキシブチル）テトラメチルジシロ
キサンの製造 実施例19の方法を再び実施するが、但しｐ−アミノチオ
フェノールの代りに 59.95部のｍ−アミノフェノールを
用い、ビス（クロロブチル）テトラメチルジシロキサン
の代りに78.9部のビス（クロロプロピル）テトラメチル
ジシロキサンを用い、相転移触媒は３ｇの18クラウン−
６エーテルである。目的生成物は 0.5mm〜2.0mmHg の圧
力で 245℃〜 260℃の範囲内の温度で回収する。回収し
た生成物はビス（ｍ−アミノフェノキシプロピル）テト
ラメチルジシロキサンであると同定された。回収した生
成物は０℃で３日間冷所に放置しても固化しない淡黄色
の液体である。その純度は過塩素酸での滴定により測定
すると99％より良い。
【００６９】実施例22 相転移触媒を用いての１，３−ビス（ｐ−ホルミルフェ
ノキシプロピル）テトラメチルジシロキサンの製造 実施例19の方法に再び従うが、但しｐ−アミノチオフェ
ノールの代りに67.1部のｐ−ホルミルフェノールを用
い、ビス（クロロブチル）テトラメチルジシロキサンの
代りに 91.57部のクロロプロピルジメチルメトキシシラ
ンを用いる。相転移触媒は５ｇのセチルトリメチルアン
モニウム・ブロマイドである。目的生成物は約 0.1mm〜
0.5mmHg で 215℃〜 230℃の範囲内の温度で回収する。
回収した目的生成物は無色液体であり、ｐ−ホルミルフ
ェノキシプロピルジメチルメトキシシランであると同定
された。その純度はＧＣによって測定すると99％であ
る。生成物の収率は60％である。次いで前記の目的生成
物を、全てのアルコキシシランをジシロキサンに転化さ
せるに十分な 100％過剰の水を含有する大過剰のメタノ
ールに加える。ＫＯＨの錠剤も触媒として反応物に加え
て反応を促進させる。反応は絶えず攪拌しながら室温で
一夜行う。メタノール及び過剰の水を蒸留により除去
し、目的のジシロキサンを分子蒸留によって回収する。
回収した生成物の化学構造は１，３−ビス（ｐ−ホルミ
ルフェノキシプロピル）テトラメチルジシロキサンであ
るとＩＲ及びＮＭＲによって確認された。
【００７０】実施例23 相転移触媒を用いての１，３−ビス（ｍ−メチルアミノ
フェノキシプロピル）テトラメチルジシロキサンの製造 ｐ−ホルミルフェノールの代りに 67.65部のｍ（Ｎ−メ
チルアミノ）フェノールを用いる以外は実施例22の方法
を実施する。相転移触媒は５ｇのトリフェニルベンジル
ホスホニウム・クロライドである。目的生成物は約 0.1
mm〜0.5mmHg の圧力で 170℃〜 175℃の範囲内の温度で
回収する。回収した目的生成物はきわめて淡黄色の液体
であり、ビス（ｍ−メチルアミノ）フェノキシプロピル
ジメチルメトキシシランであると同定された。このシラ
ン生成物を実施例22に記載されたのと同じ要領で加水分
解して１，３−ビス（ｍ−メチルアミノフェノキシプロ
ピル）テトラメチルジシロキサンにする。
【００７１】実施例24 １，３−ビス（ｐ−カルボメトキシフェノキシプロピ
ル）テトラメチルジシロキサンの製造 ｐ−ホルミルフェノールの代りに83.6部のｐ−カルボメ
トキシフェノールを用いる以外は実施例22の方法を実施
する。目的生成物は 0.5mm〜2.0mmHg の圧力で185℃〜
200℃の範囲内の温度で回収する。回収した目的生成物
はｐ−カルボメトキシフェノキシプロピルジメチルメト
キシシランであると同定された無色の液体である。この
シラン生成物を実施例22に記載されたのと同じ要領で加
水分解して１，３−ビス（ｐ−カルボメトキシフェノキ
シプロピル）テトラメチルジシロキサンにする。同様な
要領で前記実施例の方法を用いることにより、種々の官
能基を含有するシロキサンを製造することができ；これ
らの官能基は前記してありそれらの特定の配置は所望の
特性によって決定されるであろう。
【００７２】実施例25 次式： のポリシロキサンの製造 約 0.1ｇの水酸化カリウムを、窒素雰囲気下に46ｇのビ
ス（ｍ−アミノフェノキシブチル）テトラメチルジシロ
キサン及び44.4ｇのオクタメチルシクロテトラシロキサ
ン（以下では「メチルテトラマー」と記載する）を含有
する反応混合物に加える。反応混合物を次いで５時間沸
点(178℃) に加熱し、その時に沸点は上昇し始める。沸
点が 215℃に達した時に、反応混合物を更に６時間この
温度に維持し、次いで室温に冷却する。１ｇ分の重炭酸
ナトリウムを次いで反応混合物に加え、該混合物を15分
間迅速に攪拌する。次いで反応混合物を濾過して均質な
コハク色の液体である生成物を得る。アミノ含量は0.01
Ｎの過塩素酸を用いてブロモクレゾールパープルの終点
まで生成物の一部分を滴定することにより測定する。滴
定によれば3.32重量％のアミン基が存在することを示し
た。このアミン含量及び原料の量に基づいて、生成物の
一般式を算定する。
【００７３】実施例26 次式 のポリシロキサンの製造 メチルテトラマーに溶かした50ppm のテトラブチルホス
ホニウム・トリメチルシラノレートを含有する溶液の１
cc分を、 612ｇの１，３，５，７−テトラメチル−１，
３，５，７−テトラフェニルシクロテトラシロキサンと
138ｇのビス（ｐ−アミノフェノキシブチル）テトラメ
チルジシロキサンとを含有する反応混合物に窒素雰囲気
下で加える。反応混合物を４時間 115℃に加熱する。こ
の期間中に反応混合物の粘度は増大し次いで一定値に達
することが見出された。４時間の期間終了時に、反応混
合物の温度を３時間 160℃に上昇させて触媒の分解を行
なう。反応混合物を室温に冷却させ、濾過して深コハク
色の目的生成物を得る。目的生成物の一部分を0.01Ｎの
過塩素酸でブロモクレゾールパープルの終点まで滴定す
る。要した過塩素酸の量は生成物中のアミン基の 1.2重
量％に当量である。この数値及び原料の量に基づいて、
生成物の一般式を算定する。
【００７４】実施例27 次式 のポリシロキサンの製造 前記した一般式の平衡したアミノ官能性ポリシロキサン
にビス（ｍ−アミノフェノキシブチル）テトラメチルジ
シロキサンをオクタメチルシクロテトラシロキサン及び
１，３，５，７−テトラメチル−１，３，５，７−テト
ラフェニルシクロテトラシロキサンと平衡させることに
より製造する。約 0.1ｇに当量に水酸化カリウムペレッ
ト２個を、 4.6ｇのビス（ｍ−アミノフェノキシブチ
ル）テトラメチルジシロキサンと14.8ｇのオクタメチル
シクロテトラシロキサンと 2.2ｇの１，３，５，７−テ
トラメチル−１，３，５，７−テトラフェニルシクロテ
トラシロキサンとを含有する反応混合物に窒素雰囲気下
で加える。反応混合物を沸点に加熱し、該沸点は２時間
の加熱期間中に徐々に上昇して 215℃になる。反応混合
物をこの温度に８時間維持し、その後に室温に冷却さ
せ、１ｇのトリスクロロエチルホスファイトを加えて水
酸化カリウム触媒を分解させる。反応混合物を次いで濾
過する。均質なコハク色液体である濾液の一部分を0.01
Ｎの過塩素酸溶液でブロモクレゾールパープルの終点ま
で滴定する。要した過塩素酸の量は生成物中のアミン基
の1.32重量％に当量である。この数値及び原料の量に基
づいて、生成物の一般式を算定する。
【００７５】実施例28 次式 のポリシロキサンの製造
【００７６】前記した一般式の平衡したアミノ官能性ポ
リシロキサンはビス（ｐ−アミノフェノキシブチル）テ
トラメチルジシロキサンをオクタメチルシクロテトラシ
ロキサン及び１，３，５，７−テトラメチル−１，３，
５，７−テトラビニルシクロテトラシロキサンと平衡さ
せることにより製造する。0.5ｇの水酸化テトラブチル
アンモニウムを、 4.6ｇのビス（ｐ−アミノフェノキシ
ブチル）テトラメチルジシロキサンと55.5ｇのオクタメ
チルシクロテトラシロキサンと 6.4ｇの１，３，５，７
−テトラメチル−１，３，５，７−テトラビニルジクロ
テトラシロキサンとを含有する反応混合物に窒素雰囲下
で加える。次いで反応混合物を８時間 110℃の温度に維
持する。反応混合物の温度は次いで160℃に上昇し、こ
の温度に３時間維持し、これに続いて反応混合物を室温
に冷却し、濾過する。均質なコハク色の液体である濾液
の一部分を0.01Ｎの過塩素酸溶液でブロモクレゾールパ
ープルの終点まで滴定する。要した過塩素酸の量は生成
物中に存在するアミン基の0.43重量％に当量である。こ
の数値及び原料の量に基づいて、生成物の一般式を算定
する。
【００７７】実施例29 次式 のポリシロキサンの製造 前記した一般式の平衡したアミノ官能性ポリシロキサン
は、ビス（ｍ−アミノフェノキシブチル）テトラメチル
ジシロキサンを１，３，５，７−テトラメチル−１，
３，５，７−テトラフェニルシクロテトラシロキサン及
び１，３，５，７−テトラメチル−１，３，５，７−テ
トラビニルシクロテトラシロキサンと平衡させることに
より製造する。
【００７８】0.5ｇの水酸化カリウムを、 184ｇのビス
（ｍ−アミノフェノキシブチル）テトラメチルジシロキ
サンと 435.2ｇの１，３，５，７−テトラメチル−１，
３，５，７−テトラフェニルシクロテトラシロキサンと
22.36ｇの１，３，５，７−テトラメチル−１，３，
５，７−テトラビニルシクロテトラシロキサンとを含有
する反応混合物に窒素雰囲気下で加える。反応混合物を
次いで沸点に加熱し、該沸点は２時間の期間に亘って徐
々に 210℃に上昇する。反応混合物をこの温度に10時間
維持し、次いで室温に冷却し、２ｇの重炭酸ナトリウム
を急速攪拌しながら加え、これを15分間持続させる。反
応混合物を次いで濾過し、均質なコハク色の液体である
濾液の一部分を0.01Ｎの過塩素酸溶液でブロモクレゾー
ルパープルの終点まで滴定する。要した過塩素酸の量は
生成物中のアミン基の1.84重量％に当量である。この数
値及び原料の量に基づいて、生成物の一般式を算定す
る。
【００７９】実施例30 次式 のポリシロキサンの製造 前記した一般式の平衡したアミノ官能性ポリシロキサン
はビス（ｍ−アミノフェノキシブチル）テトラメチルジ
シロキサンをオクタメチルシクロテトラシロキサン及び
環式シアノエチルメチルシロキサン類の混合物と平衡さ
せることにより製造する。
【００８０】0.15ｇの水酸化カリウムに当量のペレット
３個を、ビス（ｍ−アミノフェノキシブチル）テトラメ
チルジシロキサン4.60ｇ、オクタメチルシクロテトラシ
ロキサン 148ｇ及び環中に３〜10個のケイ素原子を含有
する環式シアノエチルメチルシロキサン類の混合物22.6
ｇを含有する反応混合物に窒素雰囲気で加える。反応混
合物を沸点に加熱し、２時間の期間に亘って徐々に 210
℃に上昇する。この温度を10時間維持し、その後反応混
合物を室温に冷却する。塩化アンモニウム２ｇを加え反
応混合物を 0.5時間急速攪拌する。反応混合物を次いで
濾過する。均質なコハク色の液体である濾液の一部分を
0.01Ｎの過塩素酸溶液でブロモクレゾールパープルの終
点まで滴定する。要した過塩素酸の量は生成物中に存在
するアミン基の1.32重量％に当量である。この数値及び
原料の量に基づいて、生成物の一般式を算定する。
【００８１】実施例31 次式 のポリシロキサンの製造
【００８２】前記した一般式の平衡したアミノ官能性ポ
リシロキサンはビス（ｐ−アミノフェノキシブチル）テ
トラメチルジシロキサンを１，３，５，７−テトラメチ
ル−１，３，５，７−テトラフェニルシクロテトラシロ
キサン及び環式ｒ−アミノプロピルメチルシロキサン類
と平衡させることにより製造する。水酸化カリウム約
0.1ｇに当量のペレット２個を、ビス（ｐ−アミノフェ
ノキシブチル）テトラメチルジシロキサン4.60ｇ、１，
３，５，７−テトラメチル−１，３，５，７−テトラフ
ェニルジクロテトラシロキサン13.6ｇ及び環中に３〜10
個のケイ素原子を含有する環式ｒ−アミノプロピルメチ
ルシロキサン類の混合物 5.8ｇを含有する反応混合物に
窒素雰囲気下で加える。反応混合物を沸点に加熱し、２
時間の期間に亘って徐々に 225℃に上昇させる。この温
度を10時間維持し、これに続いて反応混合物を室温に冷
却させる。１ｇ分の重炭酸ナトリウムを攪拌しながら反
応混合物に加え、 0.5時間持続させて水酸化カリウム触
媒の中和を達成する。反応混合物を次いで濾過し、均質
な液体の一部分を0.01Ｎの過塩素酸溶液でブロモクレゾ
ールパープルの終点まで滴定する。要した過塩素酸の量
は生成物中のアミン基の1.32重量％に当量である。この
数値及び原料の量に基づいて生成物の一般式を算定す
る。
【００８３】実施例32 次式 のポリシロキサンの製造
【００８４】前記した一般式の平衡したアミノ官能性ポ
リシロキサンにビス（ｍ−アミノフェノキシブチル）テ
トラメチルジシロキサンを環式ビニルメチルシロキサン
類、オクタフェニルシクロテトラシロキサン及びオクタ
メチルシクロテトラシロキサンと平衡させることにより
製造する。水酸化カリウム 0.1ｇに当量のペレット２個
を、ビス（ｍ−アミノフェノキシブチル）テトラメチル
ジシロキサン 4.6ｇ、オクタメチルシクロテトラシロキ
サン14.8ｇ、オクタフェニルシクロテトラシロキサン1.
98ｇ及び１分子当りの環式シロキサンの個数が３〜５個
である環式ビニルメチルシロキサンの混合物 4.3ｇを含
有する反応混合物に加える。反応混合物は絶えず攪拌し
ながら窒素雰囲気下にあり、これを沸点に加熱し、該沸
点は２時間の期間中に徐々に 215℃に上昇する。この温
度での加熱を８時間持続させ、これに続いて反応混合物
を室温に冷却させ、 0.5ccの濃塩酸水溶液を加える。反
応混合物を次いで 0.5時間攪拌して水酸化カリウム触媒
を完全に中和させる。反応混合物を次いで濾過する。均
質なコハク色の液体である濾液の一部分を、0.01Ｎの過
塩素酸溶液でブロモクレゾールパープルの終点まで滴定
する。要した過塩素酸の量は生成物中のアミン基の1.43
重量％に当量である。この数値及び原料の量に基づい
て、生成物の一般式を算定する。
【００８５】実施例33 次式 のポリシロキサンの製造
【００８６】前記した一般式の平衡したアミノ官能性ポ
リシロキサンはビス（ｐ−アミノフェノキシブチル）テ
トラメチルジシロキサンを、オクタメチルシクロテトラ
シロキサン、環式メチルフェニルシロキサン類の混合物
及び環式アミノプロピルメチルシロキサン類の混合物と
平衡させることにより製造する。ビス（ｐ−アミノフェ
ノキシブチル）テトラメチルジシロキサン 4.6ｇ、オク
タメチルシクロテトラシロキサン74ｇ、各環中のシロキ
サン単位の個数が３〜10個である環式メチルフェニルシ
ロキサン類の混合物2.72ｇ、環式アミノプロピルメチル
シロキサン類の混合物９ｇ及び約 0.1ｇに当量の水酸化
ナトリウムペレット２個を合することにより、反応混合
物を窒素雰囲気下に急速攪拌しながら製造する。得られ
た反応混合物を８時間その沸点に加熱し、次いで室温に
冷却する。次いで１ｇの重炭酸ナトリウムを反応混合物
に加え 0.5時間攪拌することにより水酸化カリウム触媒
を中和させる。反応混合物を次いで濾過し、均質なコハ
ク色の液体である濾液の一部分を0.01Ｎの過塩素酸溶液
でブロモクレゾールパープルの終点まで滴定する。要し
た過塩素酸の量は生成物中のアミン基の0.52重量％に当
量である。この数値及び原料の量に基づいて生成物の一
般式を算定する。
【００８７】実施例34 次式 のポリシロキサンの製造 前記した一般式の平衡したアミノ官能性ポリシロキサン
はビス（ｐ−アミノフェニルチオブチル）テトラメチル
ジシロキサンをメチルテトラマーと平衡させることによ
り製造する。メチルテトラマーに溶かしたブチルホスホ
ニウム・トリメチルシラノレート50ppm を含有する溶液
の１cc分を、オクタメチルシクロテトラシロキサン78ｇ
及びビス（ｐ−アミノフェニルチオブチル）テトラメチ
ルジシロキサン49.2ｇよりなる反応混合物に窒素雰囲気
下で加える。反応混合物を４時間 115℃に加熱する。こ
の期間中に、反応混合物の粘度は相対的に一定の値に達
するまで上昇することが見出された。４時間の期間終了
時に、反応混合物の温度を２時間 160℃に上昇させて触
媒の分解を行なう。反応混合物を次いで室温に冷却さ
せ、濾過する。濾液の一部分を0.01Ｎの過塩素酸溶液で
ブロモクレゾールパープルの終点まで滴定する。要した
過塩素酸の量は生成物中のアミン基の 2.5重量％に当量
である。この数値及び原料の量に基づいて、生成物の一
般式を算定する。
【００８８】実施例35 次式 のシロキシサン含有二無水物の製造 ｐ−ブロモフェノールの代りに74ｇの３，４−キシレノ
ールを用いて実施例15の方法を反復する。生成物のビス
（３，４−キシレニルオキシブチル）テトラメチルジシ
ロキサンを次の如く酸化する； 48.6ｇのビス（３，４−キシレニルオキシブチル）テト
ラメチルジシロキサンと 400mlのピリジンと 110mlの水
との溶液を94℃に加熱する。加熱を持続して還流させ、
190ｇの過マンガン酸カリウムを１時間に亘って徐々に
加える。各々の増大する添加に続いて紫色が消失する。
反応が進行するにつれて、ＭｎＯ2 の黒色沈澱物が生成
する。過マンガン酸カリウムの添加が完了すると、反応
混合物を更に１時間98〜 110℃に維持する。この時点で
10mlのメタノールの添加により反応混合物の紫色は脱色
される。該混合物を濾過し、濾液を温水で洗浄する。残
留溶液を蒸発乾固させ；固形分を 200mlの水に溶解さ
せ、この溶液に濃ＨＣｌを加えてpHｌにする。白色沈澱
物が生成した。これを収集し乾燥させる。
【００８９】該生成物を 100mlの酢酸と 100mlのトルエ
ンと50mlの無水酢酸との溶液中に溶解させ、加熱還流さ
せることにより該生成物を環化して二無水物にする。溶
剤を追出すと、二無水物を油状物として回収する。これ
の構造は分析（ＩＲ及びＮＭＲ）によって確認した。
【００９０】実施例36 次式 のシロキサン含有ジエーテル二無水物の製造
【００９１】１．ビス｛４−（３′，４′−キシレノキ
シ）フェノキシブチル｝テトラメチルジシロキサンの製
造 この中間体は３，４−キシレノールのナトリウム塩と
１，３−ビス（ｐ−ブロモフェノキシブチル）テトラメ
チルジシロキサンとの間のウルマン反応によって製造さ
れ、その製造は銅触媒を用いて溶融段階、約 140℃で実
施例15に記載されれる。精製は分子蒸留によって達成す
る。
【００９２】２．酸化及び環化 実施例51に全て記載される如く、前記部分１の生成物を
ピリジン−水混合物中で５倍過剰量の過マンガン酸カリ
ウムで酸化し、続いて中和し環化する。得られた白色固
体の構造は器械による分析（ＩＲ及びＮＭＲ）及び苛性
滴定によりビス｛４−（３′，４′−ジカルボキシフェ
ノキシ）フェノキシブチル｝テトラメチルジシロキサン
二無水物であると確認された。
【００９３】実施例37 次式 のエポキシ官能性シロキサンの製造 ２モルの２−アルキルフェノールナトリウム塩を、トル
エン−ジメチルスルホキシドの溶剤混合物中で約70℃で
１モルのビス（クロロブチル）テトラメチルジシロキサ
ンと結合させてビス（２−プロペニルフェノキシブチ
ル）テトラメチルジシロキサンの異性体混合物を形成
し；その構造は分析により確認される。
【００９４】生成物をクロロホルム溶剤中でｍ−クロロ
過安息香酸でエポキシ化する。反応混合物は最初澄明で
あり反応は温和に発熱性である。反応が進行するにつれ
て、ｍ−クロロ安息香酸が溶液から沈澱してくる。反応
はガスクロマトグラフィーによって監視し；反応が完了
した時に、反応媒質を濾過し、溶解したｍ−クロロ安息
香酸を炭酸ナトリウムの10％溶液で洗い出す。有機層を
乾燥させ、濾過し、溶剤を追い出し；生成物を蒸留によ
り回収する。生成物は 542の分子量と0.37のエポキシ含
量とを有する。27ｇの前記エポキシドを、油浴により 1
20℃に加熱した容器中に配置する。15ｇの溶融無水フタ
ル酸を加え、樹脂中に攪拌させる。該混合物を１時間 1
20℃に保持し、この時点でも該混合物は未だアセトン又
はクロロホルムに可溶性である。しかしながら、２時間
170℃〜 180℃で加熱すると最終的な硬化を生起し、澄
明で不溶性の幾分可撓性の樹脂が得られる。
【００９５】実施例38 次式 の化合物の製造 135ｇの３，４−キシリルオキシブチルジメチルクロロ
シランと 128ｇのｐ−トリルオキシブチルジメチルクロ
ロシランとを合し、１ｌの水に溶かした40ｇのNaOHの溶
液に急速攪拌しながら滴下して加える。添加が完了する
と攪拌を終了させ；２つの層が出現する。上部層を分離
し、等容量のトルエンを加え続いて共沸的な水の分離に
より乾燥させる。最後にトルエンを追い出す。生成物を
ガスクロマトグラフィーにより分析し、３つのピークが
検出され；これは２つのホモ−結合生成物とクロス−結
合生成物とに相当する。精製を分別により行ない、次の
構造： を有する澄明な液体生成物を回収する。
【００９６】この中間体を、４：１のピリジン：水の混
合物中で５倍の過剰量の過マンガン酸カリウム当量を用
いて酸化する。最後に環化を行なって無水物を形成す
る。即ち50ｇのトリカルボン酸を 100mlのトルエンと 1
00mlの氷酢酸と50mlの無水酢酸との混合物中に溶解さ
せ；該混合物を２時間還流させる。該混合物を次いで冷
却し、濾過し；生成物を真空下に75℃で一夜乾燥させ
る。

Claims (1)

    (57)【特許請求の範囲】
  1. 【請求項１】式： 〔式中、Ｆ１はアミノ基、ホルミル基、Ｎ−メチルアミ
    ノ基、ｍ−エチルアミノ基、ヒドロキシ基、カルボキシ
    基（−ＣＯＯＨ）、カルボメトキシ基、ハロ基、シアノ
    基、ｐ−アセチル基、 Ｄはメチレン基、プロピレン基、ブチレン基又はオクチ
    レン基を表わし； Ｒ１，Ｒ２，Ｒ３，Ｒ４，Ｒ５及びＲ６は各々炭素数１
    〜４個の低級アルキル基、フェニル基、ビニル基、シア
    ノエチル基又はアミノプロピル基であり； ｘ，ｙ及びｚは各々０〜１００の値を有する〕で表わさ
    れるシロキサン。
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* Cited by examiner, † Cited by third party
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JPS58218127A (ja) * 1982-06-11 1983-12-19 Hitachi Chem Co Ltd 半導体装置の保護被膜材料用組成物
US4690997A (en) * 1984-01-26 1987-09-01 General Electric Company Flame retardant wire coating compositions
US4621134A (en) * 1984-04-25 1986-11-04 Mitsubishi Petrochemical Co., Ltd. Aromatic polythioetheramide
DE3583817D1 (de) * 1984-05-17 1991-09-26 Ciba Geigy Ag Homo- und copolymere, verfahren zu deren vernetzung und derenverwendung.
US4681928A (en) * 1984-06-01 1987-07-21 M&T Chemicals Inc. Poly(amide-amide acid), polyamide acid, poly(esteramide acid), poly(amide-imide), polyimide, poly(esterimide) from poly arylene diamine
DE3427401A1 (de) * 1984-07-25 1986-01-30 Bayer Ag, 5090 Leverkusen Verfahren zur herstellung von thioindigo-verbindungen
DE3436971A1 (de) * 1984-10-09 1986-06-12 Bayer Ag, 5090 Leverkusen Halbzeuge zur herstellung von leiterplatten
US4586997A (en) * 1984-10-19 1986-05-06 General Electric Company Soluble silicone-imide copolymers
US4968757A (en) * 1984-10-19 1990-11-06 Microsi, Inc. Soluble silicone-imide copolymers
CA1257038A (en) * 1984-10-24 1989-07-04 Robert Edelman Siloxane-containing polymers
ZA858142B (en) * 1984-10-24 1986-06-25 M & T Chemicals Inc Siloxane-containing polymers
US4698295A (en) * 1984-11-16 1987-10-06 Ciba-Geigy Corporation Polyimides, a process for their preparation and their use, and tetracarboxylic acids and tetracarboxylic acid derivatives
JPS61144639A (ja) * 1984-12-19 1986-07-02 Hitachi Ltd 放射線感応性組成物及びそれを用いたパタ−ン形成法
DE3545905A1 (de) * 1984-12-24 1986-10-23 Daicel Chemical Industries, Ltd., Tokio/Tokyo Polyamid-copolymere
DE3506526A1 (de) * 1985-02-25 1986-08-28 Akzo Gmbh, 5600 Wuppertal Gedrucktes schaltelement mit polyimid enthaltender deckschicht
FR2578258B1 (fr) * 1985-03-01 1987-03-20 Elf Aquitaine Procede de modification des proprietes d'un materiau polymere choisi parmi les polyimides et les polyamide-imides
EP0200680A3 (de) * 1985-04-11 1988-10-05 Ciba-Geigy Ag Beschichtetes Material und dessen Verwendung
US4656235A (en) * 1985-09-05 1987-04-07 Polytechnic Institute Of New York Siloxane-containing polyimide coatings for electronic devices
DE3535283A1 (de) * 1985-10-03 1987-04-09 Byk Chemie Gmbh Polyestergruppenhaltige polysiloxane fuer lacke und formmassen und die verwendung hierfuer
JPH0680148B2 (ja) * 1985-11-08 1994-10-12 東レ・ダウコーニング・シリコーン株式会社 粘性流体継手用オルガノポリシロキサン組成物
US4845008A (en) * 1986-02-20 1989-07-04 Fuji Photo Film Co., Ltd. Light-sensitive positive working, o-guinone diazide presensitized plate with mixed solvent
JPH0772799B2 (ja) * 1986-08-13 1995-08-02 ソニー株式会社 レジスト材料
US4740533A (en) * 1987-07-28 1988-04-26 Ciba-Geigy Corporation Wettable, flexible, oxygen permeable, substantially non-swellable contact lens containing block copolymer polysiloxane-polyoxyalkylene backbone units, and use thereof
JPS63278236A (ja) * 1987-02-18 1988-11-15 Mitsubishi Electric Corp 半導体装置
FR2611728B1 (fr) * 1987-02-24 1989-06-16 Rhone Poulenc Chimie Nouveaux bismaleimides siloxanes et leur procede de preparation
US4806608A (en) * 1987-03-16 1989-02-21 Loctite Corporation Curable siloxane maleimide composition
US5296074A (en) * 1987-03-30 1994-03-22 E. I. Du Pont De Nemours And Company Method for bonding small electronic components
CA1299801C (en) * 1987-03-31 1992-04-28 Chung J. Lee Soluble polyimidesiloxanes and methods for their preparation and use
US4822843A (en) * 1987-05-26 1989-04-18 M&T Chemicals Inc. Polysiloxane-modified polyimidesulfone or polyimideketone molding composition
FR2616153B1 (fr) * 1987-06-05 1990-11-23 Rhone Poulenc Chimie Copolymeres thermostables sequences de structure (bloc imide-amide)-(bloc uree-siloxane)
US4954580A (en) * 1987-12-01 1990-09-04 Ciba-Geigy Corporation Epoxysiloxanes
US4853452A (en) * 1988-02-09 1989-08-01 Occidental Chemical Corporation Novel soluble polyimidesiloxanes and methods for their preparation using a flourine containing anhydride
US4829131A (en) * 1988-02-09 1989-05-09 Occidental Chemical Corporation Novel soluble polymidesiloxanes and methods for their preparation and use
US4996278A (en) * 1988-02-09 1991-02-26 Occidental Chemical Corporation Novel polyimidesiloxanes and methods for their preparation and use based on diamines with pendant fluorine groups
US5049627A (en) * 1988-05-13 1991-09-17 Investment Holding Corporation Epoxy-aromatic polysiloxane compositions
EP0342830B1 (en) * 1988-05-17 1995-01-11 Dow Corning Limited Organosilicon compounds
US5206091A (en) * 1988-06-28 1993-04-27 Amoco Corporation Low dielectric constant, low moisture uptake polyimides and copolyimides for interlevel dielectrics and substrate coatings
US5149762A (en) * 1988-11-08 1992-09-22 Mitsubishi Rayon Company Ltd. Process for preparation of silicon-modified thermoplastic resin
JPH02229858A (ja) * 1988-11-12 1990-09-12 Kureha Chem Ind Co Ltd 電子部品封止用樹脂組成物および封止電子部品
US5077370A (en) * 1988-11-14 1991-12-31 Occidental Chemical Corporation Novel polyimidesiloxanes and methods for their preparation and use
USRE33797E (en) * 1988-11-14 1992-01-14 Occidental Chemical Corporation Novel polyimidesiloxanes and methods for their preparation and use
US4931539A (en) * 1989-03-06 1990-06-05 E. I. Du Pont De Nemours And Company Highly-soluble, amorphous siloxane polyimides
US4994207A (en) * 1989-03-09 1991-02-19 National Starch And Chemical Investment Holding Corporation Thermoplastic film die attach adhesives
US5204399A (en) * 1989-03-09 1993-04-20 National Starch And Chemical Investment Holding Corporation Thermoplastic film die attach adhesives
DE3935638A1 (de) * 1989-10-26 1991-05-02 Consortium Elektrochem Ind Organosilylalkylaromaten
US4997908A (en) * 1989-11-13 1991-03-05 Occidental Chemical Corporation Solvent resistant polymidesiloxane
US4960846A (en) * 1990-03-09 1990-10-02 Amoco Corporation Polyimide copolymers containing 4,4'-bis(p-aminophenoxy)biphenyl and siloxane diamine moieties
JPH0415226A (ja) * 1990-05-10 1992-01-20 Chisso Corp ヒドロキシフェニル基を有する感光性耐熱重合体
US5227661A (en) * 1990-09-24 1993-07-13 Texas Instruments Incorporated Integrated circuit device having an aminopropyltriethoxysilane coating
JP2613128B2 (ja) * 1990-10-01 1997-05-21 三菱電機株式会社 半導体装置
KR0159287B1 (ko) * 1991-01-24 1999-01-15 윤종용 실록산 변성 폴리이미드 수지의 제조방법
US5298288A (en) * 1991-02-14 1994-03-29 Microelectronics And Computer Technology Corporation Coating a heat curable liquid dielectric on a substrate
US5300669A (en) * 1991-11-28 1994-04-05 Dow Corning Toray Silicone Co., Ltd. Methylphenethyl functional silicones
JP2547944B2 (ja) * 1992-09-30 1996-10-30 インターナショナル・ビジネス・マシーンズ・コーポレイション 二層レジスト組成物を使用する光学リソグラフによりサブ−ハーフミクロンパターンを形成する方法
US5304627A (en) * 1992-11-02 1994-04-19 The United States Of America As Represented By The Administrator Of The National Aeronautics And Space Administration Polyimides containing pendent siloxane groups
US5502143A (en) * 1992-12-25 1996-03-26 Pi Material Research Laboratory Process for preparing polyimide resins
US5705463A (en) * 1993-02-24 1998-01-06 Tech Spray, Inc. Composition and process for removal of ionic salt deposits
US5604191A (en) * 1993-02-24 1997-02-18 Tech Spray, Inc. Composition for removal of ionic salt deposits
US5412065A (en) * 1993-04-09 1995-05-02 Ciba-Geigy Corporation Polyimide oligomers
US6072019A (en) * 1996-07-19 2000-06-06 3M Innovative Properties Company Water-based polyurethane polymer, release coating, adhesive tape and process of preparation
US5959057A (en) * 1997-01-21 1999-09-28 Dow Corning Toray Silicone Co., Ltd. Polyorganosiloxane and method for the preparation thereof
JP3546727B2 (ja) * 1998-12-02 2004-07-28 信越化学工業株式会社 オルガノポリシロキサンガムの製造方法
DE10051053A1 (de) * 2000-10-14 2002-05-02 Bosch Gmbh Robert Verfahren zum Schutz elektronischer oder mikromechanischer Bauteile
DE10059454A1 (de) * 2000-11-30 2002-06-20 Goldschmidt Ag Th Siloxan-modifizierte Polyolefine und deren Verwendung als Additive für Polymerformulierungen
US6784270B1 (en) 2002-09-26 2004-08-31 The United States Of America As Represented By The Secretary Of The Navy Polymer containing borate and alkynyl groups
MY145980A (en) * 2003-03-26 2012-05-31 Sigmakalon Services B V Process for the preparation of poly(silyl esters)s, and their uses
WO2004107477A2 (en) 2003-05-28 2004-12-09 Toyota Technical Center Usa, Inc. Conductive membranes formed from silanes having functional groups
US20050054116A1 (en) * 2003-09-05 2005-03-10 Potyrailo Radislav A. Method of manufacturing and evaluating sensor coatings and the sensors derived therefrom
US8168726B2 (en) * 2006-06-22 2012-05-01 Sabic Innovative Plastics Ip B.V. Process for making polysiloxane/polymide copolymer blends
US8071693B2 (en) * 2006-06-22 2011-12-06 Sabic Innovative Plastics Ip B.V. Polysiloxane/polyimide copolymers and blends thereof
US8491997B2 (en) * 2006-06-22 2013-07-23 Sabic Innovative Plastics Ip B.V. Conductive wire comprising a polysiloxane/polyimide copolymer blend
DE102006048216A1 (de) * 2006-10-11 2008-04-17 Wacker Chemie Ag Laminate mit thermoplastischen Polysiloxan-Harnstoff-Copolymeren
US20080149164A1 (en) * 2006-12-22 2008-06-26 General Electric Company Luminescent thermoplastic compositions and articles with enhanced edge emission
KR100798014B1 (ko) * 2006-12-29 2008-01-24 제일모직주식회사 저온 충격강도 및 기계적 강도가 우수한폴리카보네이트-폴리실록산 공중합체 수지 조성물
US7847023B2 (en) * 2007-03-12 2010-12-07 Sabic Innovative Plastics Ip B.V. Polysiloxane/polyimide copolymer blends
US20080236864A1 (en) * 2007-03-28 2008-10-02 General Electric Company Cross linked polysiloxane/polyimide copolymers, methods of making, blends thereof, and articles derived therefrom
DE102007038457A1 (de) * 2007-08-14 2009-02-19 Henkel Ag & Co. Kgaa Textilpflegemittel
DE102007038452A1 (de) * 2007-08-14 2009-02-19 Henkel Ag & Co. Kgaa Mittel zur Behandlung harter Oberflächen
DE102007038450A1 (de) * 2007-08-14 2009-02-19 Henkel Ag & Co. Kgaa Farbschützendes Wasch- oder Reinigungsmittel
CN101784583B (zh) * 2007-08-22 2013-05-08 索尼化学&信息部件株式会社 新型聚酰亚胺树脂和感光性聚酰亚胺树脂组合物
CN101784554B (zh) * 2007-08-22 2013-07-17 索尼化学&信息部件株式会社 新型含酰胺基硅氧烷胺化合物
WO2010095738A1 (ja) * 2009-02-21 2010-08-26 ソニーケミカル＆インフォメーションデバイス株式会社 保護膜形成用原料液、保護膜、保護膜付き配線基板
JP5740834B2 (ja) * 2009-05-11 2015-07-01 三菱化学株式会社 液晶性ポリイミド、及びこれを含有する液晶性樹脂組成物、並びに半導体素子用樹脂膜
JP5273248B2 (ja) * 2009-07-01 2013-08-28 旭硝子株式会社 微細凹凸構造を表面に有する物品の製造方法およびワイヤグリッド型偏光子の製造方法
CN102666655B (zh) * 2009-11-25 2014-07-09 大日精化工业株式会社 聚硅氧烷改性聚羟基聚氨酯树脂及其制造方法、以及其应用
JP2011132208A (ja) 2009-11-25 2011-07-07 Dainichiseika Color & Chem Mfg Co Ltd ５員環環状カーボネートポリシロキサン化合物およびその製造方法
US8703648B2 (en) 2009-11-26 2014-04-22 Dainichiseika Color & Chemicals Mfg. Co., Ltd. Polysiloxane-modified polyhydroxy polyurethane resin, method for producing same, heat-sensitive recording material using the resin, imitation leather, thermoplastic polyolefin resin skin material, material for weather strip, and weather strip
DE102010001071A1 (de) * 2010-01-21 2011-07-28 Robert Bosch GmbH, 70469 Tetraaminodisiloxane und damit hergestellte Polyamide
WO2011162237A1 (ja) 2010-06-24 2011-12-29 大日精化工業株式会社 自己架橋型ポリヒドロキシポリウレタン樹脂、該樹脂を含む樹脂材料、該樹脂の製造方法、該樹脂を用いてなる擬革、表皮材及びウェザーストリップ用材料
EP2610276B1 (en) 2010-08-26 2017-11-01 Dainichiseika Color & Chemicals Mfg. Co., Ltd. Self-crosslinking polysiloxane-modified polyhydroxy polyurethane resin, resin material containing same, method for producing same, artificial leather comprising same, and thermoplastic polyolefin skin material comprising same
JP5893040B2 (ja) 2010-11-01 2016-03-23 ビーエーエスエフ ソシエタス・ヨーロピアＢａｓｆ Ｓｅ 誘電体としてのポリイミド
US9187600B2 (en) 2010-11-01 2015-11-17 Basf Se Polyimides as dielectric
EP2698391B1 (en) 2011-04-04 2018-06-13 Dainichiseika Color & Chemicals Mfg. Co., Ltd. Self-crosslinkable polysiloxane-modified polyhydroxy polyurethane resin, process for producing said resin, resin material comprising said resin, and artificial leather produced utilizing said resin
RU2635350C2 (ru) * 2011-06-30 2017-11-13 Конинклейке Филипс Н.В. Гидрофильные каучуковые материалы и способы их получения
US20140123981A1 (en) 2011-06-30 2014-05-08 Koninklijke Philips N.V. Skin-contact product having moisture and microclimate control
CN104271346B (zh) 2012-02-28 2017-10-13 康宁股份有限公司 具有低摩擦涂层的玻璃制品
US11497681B2 (en) 2012-02-28 2022-11-15 Corning Incorporated Glass articles with low-friction coatings
US10737973B2 (en) 2012-02-28 2020-08-11 Corning Incorporated Pharmaceutical glass coating for achieving particle reduction
US10273048B2 (en) 2012-06-07 2019-04-30 Corning Incorporated Delamination resistant glass containers with heat-tolerant coatings
US9034442B2 (en) 2012-11-30 2015-05-19 Corning Incorporated Strengthened borosilicate glass containers with improved damage tolerance
US9127127B2 (en) 2012-10-03 2015-09-08 Sabic Global Technologies B.V. Polyetherimide compositions, methods of manufacture, and articles formed therefrom
JP6000839B2 (ja) * 2012-12-21 2016-10-05 メルクパフォーマンスマテリアルズマニュファクチャリング合同会社 ケイ素酸化物ナノ粒子とシルセスキオキサンポリマーとの複合体およびその製造方法、ならびにその複合体を用いて製造した複合材料
WO2015066161A1 (en) 2013-10-31 2015-05-07 Dow Corning Corporation Cross-linked composition and method of forming the same
CN105636576B (zh) 2013-10-31 2019-03-12 美国陶氏有机硅公司 包含羧基官能化弹性体的化妆品组合物
JP6585066B2 (ja) * 2013-10-31 2019-10-02 ダウ シリコーンズ コーポレーション 架橋組成物及びその生成方法
US10676571B2 (en) 2013-12-02 2020-06-09 Sabic Global Technologies B.V. Polyetherimides with improved melt stability
KR101709689B1 (ko) 2013-12-19 2017-02-23 주식회사 엘지화학 다이싱 필름 점착층 형성용 조성물 및 다이싱 필름
CN106687506A (zh) * 2014-07-03 2017-05-17 莫门蒂夫性能材料股份有限公司 酯官能的聚硅氧烷和由其制成的共聚物
RU2691189C2 (ru) 2014-09-05 2019-06-11 Корнинг Инкорпорейтед Стеклянные изделия и способы повышения надежности стеклянных изделий
CN107075121B (zh) * 2014-09-18 2021-01-22 莫门蒂夫性能材料股份有限公司 聚硅氧烷共聚物或三元共聚物和由其制得的聚合物
JP6702616B2 (ja) 2014-12-23 2020-06-03 モメンティブ パフォーマンス マテリアルズ ゲーエムベーハーＭｏｍｅｎｔｉｖｅ Ｐｅｒｆｏｒｍａｎｃｅ Ｍａｔｅｒｉａｌｓ ＧｍｂＨ 高純度のアミノシロキサン
JP6501312B2 (ja) * 2015-03-05 2019-04-17 エルジー・ケム・リミテッド 光電素子のフレキシブル基板用ポリイミドフィルム用組成物
EP3150564B1 (en) 2015-09-30 2018-12-05 Corning Incorporated Halogenated polyimide siloxane chemical compositions and glass articles with halogenated polylmide siloxane low-friction coatings
KR101840977B1 (ko) * 2017-09-14 2018-03-21 주식회사 엘지화학 폴리이미드 전구체 조성물 및 이를 이용한 폴리이미드 필름
CN114181393B (zh) * 2022-01-27 2023-06-02 中国科学院过程工程研究所 一种半脂环聚酰亚胺材料、半脂环聚酰亚胺薄膜及其制备方法和应用
CN115746305B (zh) * 2022-11-17 2023-09-19 万华化学集团股份有限公司 一种苯基聚硅氧烷及其制备方法与应用

Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
GB1062418A (en) * 1964-01-27 1967-03-22 Ici Ltd New nitrogen-containing siloxanes
US4049691A (en) * 1973-08-17 1977-09-20 Rhone-Progil Aromatic amino silanes and their polymers

Family Cites Families (21)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US2770631A (en) * 1954-05-20 1956-11-13 Dow Corning Hydroxyester substituted siloxanes
NL249876A (ja) * 1960-04-19
US3282897A (en) * 1963-09-25 1966-11-01 Du Pont Process for preparing a polyamide-ester
US3355455A (en) * 1964-08-06 1967-11-28 Dow Corning Certain pyridyl silane derivatives
US3392143A (en) * 1967-05-15 1968-07-09 Gen Electric Polyamide compositions
US3435002A (en) * 1967-05-15 1969-03-25 Gen Electric Polyamide acid resins and polyimides therefrom
GB1277824A (en) * 1968-09-02 1972-06-14 Toray Industries Polyimides
US3740305A (en) * 1971-10-01 1973-06-19 Gen Electric Composite materials bonded with siloxane containing polyimides
US3781378A (en) * 1971-11-24 1973-12-25 Gen Electric High temperature membrane materials
US3926911A (en) * 1973-06-07 1975-12-16 Ciba Geigy Corp Crosslinked polymers containing siloxane groups
FR2245663A1 (en) * 1973-08-17 1975-04-25 Rhone Progil Aminophenoxy alkyl silanes and dimers, polymers - by catalytic hydrogenation of corresponding nitrophenols
US4088670A (en) * 1974-10-01 1978-05-09 Rhone-Poulenc Industries Ethylenic silicon compounds and thermoplastic elastomers obtained therefrom
US4030948A (en) * 1975-07-21 1977-06-21 Abe Berger Polyimide containing silicones as protective coating on semiconductor device
US4051163A (en) * 1975-07-21 1977-09-27 Abe Berger Polyimide containing silicones
US4017340A (en) * 1975-08-04 1977-04-12 General Electric Company Semiconductor element having a polymeric protective coating and glass coating overlay
US4011279A (en) * 1975-09-23 1977-03-08 General Electric Company Process for making polyimide-polydiorganosiloxane block polymers
US4163830A (en) * 1975-12-24 1979-08-07 Bayer Aktiengesellschaft Process for the production of new polysiloxane-polyoxyalkylene copolymers with reduced burning properties
US4139547A (en) * 1978-05-17 1979-02-13 Bergston & Associates, Inc. Silicone containing bis-thioether aromatic amines
DE2835495A1 (de) * 1978-08-12 1980-02-21 Bayer Ag Waessrige silikon-polyester-kombinationsharzsysteme, verfahren zu ihrer herstellung und ihre verwendung
DE2900185A1 (de) * 1979-01-04 1980-07-17 Bayer Ag Siloxanmodifizierte novolake, deren herstellung und verwendung zur herstellung von reibbelaegen
IL59344A (en) * 1979-03-01 1983-06-15 M & T Chemicals Inc Precursor solutions of silicone copolymer materials made from a siloxane containing a bis-amino aryl ether or thioether

Patent Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
GB1062418A (en) * 1964-01-27 1967-03-22 Ici Ltd New nitrogen-containing siloxanes
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