JP2573595B2 - ポリイミド膜 - Google Patents

ポリイミド膜

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Description

【発明の詳細な説明】 (産業上の利用分野) 本発明は、耐熱性樹脂として知られるポリイミド樹脂
に係わるものであり、詳しくは熱的寸法安定性の改良さ
れたポリイミド膜に関するものである。
(従来の技術) ポリイミド樹脂は高度の耐熱性、耐薬品性、電気的特
性、機械的特性、その他優れた諸特性を有していること
が知られており、例えば、特公昭36-10999号公報に見ら
れるような、4,4′−ジアミノジフェニルエーテルとピ
ロメリット酸2無水物から得られるポリイミド樹脂から
なるポリイミド膜は、従来から広く使用されている。こ
のポリイミド膜は伸度等機械的諸特性にすぐれているが
一般に線膨脹係数が大きく、熱的寸法安定性が悪いこと
が知られている。近年、電子電気工業分野などにおいて
ますますその要求が高まっている微細加工プリント基板
や、その他の電子材料例えば高密度磁気記録用分野など
の基材として優れた寸法安定性と機械的諸特性を有する
ポリイミド膜が求められている。優れた寸法安定性を有
するポリイミド膜については種々の検討が行なわれてい
る。例えば、特開昭61-264028、特開昭61-241325、特開
昭61-181828、特開昭61-158025、特開昭58-185624号公
報等には熱的寸法安定性を改良する目的で、パラフェニ
レンジアミンやジメチルベンジジンやピロメリット酸二
無水物などの剛直な分子を用いる方法が記載されてい
る。しかしながらいずれも得られるポリイミド膜は機械
的強度(特に伸度)や耐熱性や耐薬品性に問題を生じ
る。
[発明が解決しようとする問題点] 本発明は熱的寸法安定性にすぐれかつ機械的強度(特
に伸度)を有し他の特性もすぐれているポリイミド膜を
得ることを目的としている。
[問題点を解決するための手段] 上記問題点を解決すべく本発明者らは、鋭意努力の結
果、 一般式(1): (式中、R1は芳香環を形成する炭素原子上に結合手
を有する4価の芳香族基であり、R2は芳香環を形成す
る炭素原子上に結合手を有する2価の芳香族基である) で表わされる反復単位のうち特定の組合せの反復単位を
有し、かつ膜面内の全方向において複屈折率(Δn)が
0.13以上の値を持つことを特徴とするポリイミド膜が線
膨脹係数が小さく熱的寸法安定性に優れていることを見
い出だした。複屈折率(Δn)の測定方法は「新実験化
学講座」第19巻(丸善(株))や「繊維・高分子測定法
の技術」(朝倉書店)等に記載されているが、簡単に説
明すると、試料をくさび形に切断し、ナトリウム光を用
い、偏光顕微鏡で観察すると干渉縞が見られ、この干渉
縞の数をnとすると、複屈折率(Δn)は λ:ナトリウムの波長589nm d:試料の巾(nm) で表わされる。複屈折率(Δn)が0.13以上の値を持つ
ものがすぐれた熱的寸法安定性を示すが0.17以上さらに
は0.18以上の値をもつものがさらに好ましい熱的寸法安
定性を示す。複屈折率が0.13未満になると線膨脹係数が
大きく熱的寸法安定性が劣る。
本発明のポリイミド膜を形成する重合体であるポリイ
ミドは一般式(1)で表わされる反復単位を有してい
る。一般式(1)で表わされる反復単位であれば同じ重
合体中に2種以上のものが存在してもよい。また本発明
の目的、効果が達成される限り一般式(1)で表わされ
る反復単位以外の反復単位が少量存在してもよい。一般
式(1)中R1は芳香環を形成する炭素原子上に結合手
を有する4価の芳香族基であるが、その具体例として
は、 等をあげることができる。入手の容易さ等の理由で が好ましい。
一般式(1)中R2は芳香環を形成する炭素原子上に結
合手を有する2価の芳香族基であるが、その具体例とし
ては、 (式中、R4は2価の有機基を示し、R3は1価の有機
基を示す。) 等をあげることができる。R4としては−O−,−S
−,−SO2−,−CH2−,−C(CH32−,−C(CF32
−等の2価の基をあげることができる。R3としては−C
H3,−OCH3,−OH,−COOH等の1価の置換基をあげるこ
とができる。
本発明の効果を得るのに好ましい反復単位は一般式
(2): または一般式(3): さらには一般式(4): である。本発明のポリイミドを構成する反復単位は、一
般式(4)と一般式(2)で表わされる2種の反復単位
であるかあるいは一般式(4)と一般式(3)で表わさ
れる2種の反復単位である。(これらの式中、R1は前
に定義したものと同様である)。この場合一般式(4)
の反復単位と一般式(2)との反復単位のモル比あるい
は一般式(4)の反復単位と一般式(3)との反復単位
のモル比が1:99から90:10までの値であるものが望まし
い。モル比が90:10をこえると複屈折率(Δn)増大の
効果がやや小さい。勿論、本発明のポリイミドには上記
の反復単位以外の反復単位を有していてもよい。
次にこのポリイミド膜の製造方法について説明する。
このポイミド膜は、その前駆体であるポリアミド酸溶液
から得られるが、ポリアミド酸溶液は、公知の方法で製
造することができる。すなわち、酸無水物成分とジアミ
ン成分を実質等モル使用し、有機極性溶媒中で重合して
得られる。2種以上の繰り返し単位を持つポリアミド酸
溶液については、いかなる共重合方法を用いてもよい。
さらには異種のポリアミド酸溶液の混合により得ること
も可能である。
ポリアミド酸溶液からポリイミド膜を得るには、ポリ
アミド酸溶液に化学量論以上の脱水剤と必要に応じ、触
媒量の第3級アミン類等を加えて脱水するなどの化学的
方法、または脱水剤などを加えず熱的に脱水閉環する方
法を用いることができる。理由は不明であるが本発明の
複屈折率(Δn)が0.13以上のポリイミド膜を得るには
化学的方法を用いるほうがはるかに容易に目的のポリイ
ミド膜を得ることができる。
製膜方法としてはポリアミド酸溶液を支持体上に流延
または塗布して膜状と成し、その膜を150℃以下の温度
で1〜30分間乾燥し、自己支持性の膜を得る。
次いで、これを支持体より引き剥し、固定枠に固定し
た後、100〜500℃まで徐々に加熱し、熱的または化学的
に脱水閉環する方法やポリアミド酸溶液を支持体上に流
延または塗布し、約100〜500℃まで徐々に加熱しそのま
ま支持体上で熱的または化学的に脱水閉環する方法など
があるが、複屈折率が0.13以上のポリイミド膜を得るに
は理由は不明であるが前者の方法すなわち途中で一たん
自己支持性の膜をひきはがす方法が好ましい。特に前者
の方法において化学的脱水方法を用いる場合は非常に容
易に目的のポリアミド膜を得ることができる。
化学的に脱水環化する方法において用いる脱水剤とし
ては例えば脂肪族酸無水物、芳香族酸無水物等が挙げら
れる。また触媒としては、例えばトリエチルアミン等の
脂肪族第3級アミン類、ジメチルアニリン等の芳香族第
3級アミン類、ピリジン、ピコリン,イソキノリン等の
複素環式第3級アミン類などが挙げられる。
(実施例) 以下実施例により本発明を具体的に説明するが、本発
明はこれら実施例のみに限定されるものではない。
線膨脹係数は、熱物理試験機(TMA−10、セイコー電
子(株)製)を用いて、5℃/分の条件で測定し、100
〜200℃の間の平均値で表わした。
比較例1 500ml四つ口フラスコにパラフェニレンジアミン26.78
gを採取し、245.00gのN,N−ジメチルアセトアミドを加
え溶解した。他方、100mlナスフラスコに3,3′,4,4′−
ビフェニルテトラカルボン酸無水物18.22gを採取し、前
記パラフェニレンジアミン溶液中に固形状で添加した。
さらに、このナスフラスコ内に付着残存する3,3′,4,
4′−ビフェニルテトラカルボン酸二無水物を10.00gの
N,N−ジメチルアセトアミドで反応系(四つ口フラス
コ)内へ流し入れた。引き続き3時間撹拌を続け、15重
量%のポリアミド酸溶液を得た。反応温度は、5−10℃
に保った。但し以上の操作で3,3′,4,4′−ビフェニル
テトラカルボン酸二無水物の取り扱いおよび反応系内は
乾燥窒素気流下に置いた。
次にこのポリアミド酸溶液をガラス板状に流延塗布
し、100℃で10分間乾燥後、ポリアミド酸塗膜をガラス
板より剥し、その塗膜を支持枠に固定し、その後100℃
で約30分間、約200℃で約60分間、約300℃で約60分間加
熱し、脱水閉環乾燥後約25ミクロンのポリイミド膜を得
た。この膜の特性を表1に示す。
比較例2 比較例1と同様にして得られたポリアミド酸溶液に、
ポリアミド酸溶液のアミド結合1モルに対して、無水酢
酸4モル、イソキノリン0.5モルを加え、より撹拌した
後、ガラス板状に流延塗布し約100℃で約10分間、約250
℃で約10分間、約350℃で約5分間加熱し、その後ガラ
ス板より剥離し、約25ミクロンのポリイミド膜を得た。
この膜の特性を表1に示す。
比較例3 4,4′−ジアミノジフェニルエーテル21.54g、無水ピ
ロメリット酸23.46gを用いた以外は、比較例1と同様な
方法でポリアミド酸溶液を得た。このポリアミド酸溶液
にポリアミド酸のアミド結合1モルに対して無水酢酸4
モル、イソキノリン0.5モルを加え、よく撹拌した後、
ガラス板上に流延塗布し、約100℃で約10分間、乾燥
後、ポリアミド酸塗膜をガラス板より剥し、その塗膜を
支持枠に固定し、その後約250℃で約10分間、約350℃で
約5分間加熱し、約25ミクロンのポリイミド膜を得た。
この膜の特性を表1に示す。
実施例2 3,3′−ジメチル−4,4′−ジアミノビフェニルと4,
4′−ジアミノジフェニルエーテルとを等モル採取し、
それらと等モルの無水ピロメリット酸を用いた以外は、
比較例3と同様の条件・方法で約25ミクロンのポリイミ
ド膜を得た。このポリイミド膜の特性を表1に示す。
実施例3〜6 4,4′−ジアミノジフェニルエーテルとパラフェニレ
ンジアミンのモル比を種々変え、それらと等モルの無水
ピロメリット膜を用いた以外は、比較例3と同様の条件
・方法で約25ミクロンのポリイミド膜を得た。これらの
膜の特性を表1に示す。
表1から明らかなように複屈折率(Δn)が0.13以上
になるとすぐれた線膨脹係数を有することが明らかであ
る。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (56)参考文献 特開 昭61−264027(JP,A) 特開 昭63−197628(JP,A) 特開 昭61−181833(JP,A)

Claims (2)

    (57)【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】一般式(4): [式中、R1は、 で示される基を主成分とする4価の芳香族基である。] で表わされる反復単位と一般式(2): [式中、R1は前に定義した通りである。] で表わされる反復単位とを有するか、又は一般式(4)
    で表わされる反復単位と一般式(3): [式中、R1は前に定義した通りであり、R3は1価の有
    機基である。] で表わされる反復単位とを有し、膜面内の全方向におい
    て複屈折率(Δn)が0.13以上の値を持つことを特徴と
    するポリイミド膜。
  2. 【請求項2】一般式(4)の反復単位と一般式(2)の
    反復単位とのモル比、又は一般式(4)の反復単位と一
    般式(3)の反復単位とのモル比が、1:99から90:10ま
    での値である特許請求の範囲第1項記載のポリイミド
    膜。
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