JPS60210629A - ポリイミド成形物の製造法 - Google Patents

ポリイミド成形物の製造法

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JPS60210629A
JPS60210629A JP6716584A JP6716584A JPS60210629A JP S60210629 A JPS60210629 A JP S60210629A JP 6716584 A JP6716584 A JP 6716584A JP 6716584 A JP6716584 A JP 6716584A JP S60210629 A JPS60210629 A JP S60210629A
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varnish
molding
molar ratio
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polyimide
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秀一 松浦
Yasuo Miyadera
康夫 宮寺
Masatoshi Yoshida
正俊 吉田
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野) 本発明は惨めて耐熱性及び強哉り丁ぐ扛だポリイミドJ
戎形@す#!造逍法関する。
〔従来技術〕
従来、ポリイミド成形物に用いるポリイミドとしてU 
4.4’−ジアミノジフェニルエーテルとピロメリット
敗二無7X物とからなる紬台物が知られている0しかし
、この紬台吻は耐熱性り一つのb安となるガラス私移自
1糺が400℃以)と低く、ま1ζ引彊9i度tたかた
か17鞄/冒前俊と低いものでめる0そのため400℃
以上で使用する揚台や頻寝の必繁l礪台に0使用できな
いという欠点がある〇 〔発明の目的〕 不発明に耐熱性及び強電に丁ぐ扛たポリイミド成形?l
Jの#適法を提惧丁ゐことt目的とする〇〔発明の構成
〕 すなわち4党明rI4.4’−ジアミノジフェニルエー
テルとp−2エニレンジアミンとのモル比か90:10
〜10:90力島らなるジアミン戟分とピロメリット敲
二無水物とt非プロトン性極性浴媒中、−10℃〜10
0℃で反応させて#たポリアミド赦りニスを成形した俊
イξド化″′すること葡付敵とするポリイミド成形切り
製這法に関する。
本発明において4.4′−ジアミノジフェニルエーテル
とp7.r、ニレンジアミンのモル比は?0:10〜1
0:90とする。p−フェニレンジアミンのセル分率か
0.1より /J> 71いとカラス転移1M度および
箇呟か世<、tJ、9工V多いとポリイミド成形物がも
ろく好’!E L(72い〇−f 7(4,4’−ジア
ミノジフェニルエーテルとp−2二二レンジアミンのモ
ル比a敢形物のMm率の点から90:10〜50:5L
]ざらに灯筐し1ff90:10〜70:3Llとする
ことか好ましい。4.4′−ジアミノジフェニルエーテ
ルのモル分率か0.5より小さいし吸振率が人さくなる
0 不発明において用いる非プロトン江儲性俗媒としてUN
−ノナルー2−ピロリドン% N、N −ジメチルアセ
トアミド%N、N−ジメテルホルムアはド、 N、N−
ジエチルホルムアミド、シメナルスルホキシド、スルホ
ラン、メチルスルホラン、テトラメチル尿素、ヘキサメ
チルホスホルアミド、プナル2クトン等が好lしく、こ
れらの浴媒を単a51あるい一2槍以上【混合して用い
てもよいし、さらにこれらにキシレン、トルエン、ベン
ゼン、フェノール、アセトン、メナルエテルクトン、ジ
アセトンアルコール、セロソルブ、メナルインプテルケ
トン、クレゾール。
ジオキサン、シクロヘキサノン等の浴媒tポリアミドば
か析出しない軛四で冷力口して使用してもよい。
ジアミン成分とピロメリット鋏二無水物とのモル比aは
eま等電で用いるのが好lしいか、いずれか−刀の取分
か他の成分IF対して10モル%以内、好盪しくに5モ
ル%以内であれはよい〇ポリアミドば浴aの衛りぼ分に
5〜25皇鼠%か好ましく15〜20%が籍に望lしい
〇反応御亀に一10℃ん100℃が好ましく1翁に望筐
しくけ0〜50℃である0戊嘉し藺1政が一10℃よV
世いとピロメリット鍍二a水物の俗解性が忌(、また温
度か低重き゛るために反応の完結までに艮時間t*する
。′!Eたioo”czり1髄いとイばド化が進孕丁ざ
樹脂が伯出す/)ために好ましくない。
上記方法によって侍1ζボリアξド敵ワニス0゜流延に
よってフィルム化したvs 専’に=ワニス甲Vこ′&
債し1ζvSあるいに基板上に塗布したりして成形した
挾、100℃以上に加熱するかめるいに脱水剤%例えば
無水gl:m−ピリジンで処理することによってイミド
化し、耐#I注り虫駿及び絶縁性に侵れ1ζポリイミド
成形物とする〇以下本発明τ央厖釣を用いてさらに静軸
に説明するが、本発明の範10以下の冥厖例に限足され
るもので會Jない。
5j!凡ψI11 副度針、撹拌域および塩化カルシウム官tつけた300
m14つ目フラスコに4.4′−ジアミノジフェニルエ
ーテル(υ■1)DKと略す)1人og、p−2エニレ
ンジアばン(以トPPDと略す)1.62gとN、N−
ジメチルアセトアミド229.1g7入れ撹拌し賂解丁
ゐ0この舟歌τ10℃前kVこ保ちながらピロメリット
融二無水物(以下DML)Aと略す)21.8gf保々
に1訓し7c浚6時間撹拌して還元枯寝2.54d〆/
g(浴媒ジメチルアセトアミド、一度IJ、1g/dC
自藏25.0℃ンのボ゛リアミド敗ワニス忙侍た〇こり
ワニスtガ2ス板上に龜処し7ζ袋90℃で30分曲乾
燥してポリアミド叡からなる丈夫なフィルム【侍7Co
フィルムtカラス仮土より剥晦し金枠に1定し200℃
10分j!LL425°Cで10分IJD*シてポリイ
ミドフィルムを侍た◎検侍られたポリイミドフィルムの
引張りシ虫ざおよび1甲び率?!−副定したところそれ
ぞれ20.2kg1at、 72%でありた。ガラス転
移画表1コ407℃であ!7.41]’0℃で30分間
)AJ黙し1c浚の収縮率は(15%で、吸湿率(25
℃、75%量<Hにおける胞和奴湿半)650%でめっ
た◎lたIj1屈曲性は1500(1!1以上lであり
た◎比較例I Dl)E2L1.OgとPMLIA21.8g、ジメチ
ルアセトアミド236.9g?+−用いる以外a英り例
1と同様にして還元粘駿2.08#/gリギリアミド鈑
ワニスを侍罠0夾施?!I 1と同様にして得たポリイ
ミドフィルムの引5Ji強さt’216.8kg/−1
伸び率074%でめった。カラス転移寵駿σ6シ0℃で
あり、400℃で60分間加熱した俊り収縮率a0.6
%で吸砥率a五〇%であった0また耐油曲性oiooo
o回以上でありた0 *mvAJ2 DDE 14.0 g1PPDi24 g、ジメチルホ
ルムアミド156.2 g、PMDA21.8 gk用
いる以外1J東M例1と同様にして還元415度2゜4
5 #/ gリポリアミド販ワニスを侍1ζ0実旙例1
と同様にして4+Iたポリイミドフィルムり引張強さt
ri 22.4 kg/++u+F、 M’ひ4.tl
’158%で69た0力ラス転移編観に420℃であり
、400℃で600+II加熱した後り収縮率6μm5
%で吸湿54/a62%であった。gR屈曲性r=z 
so。
0回以上であった〇 笑1fTf41クリ6 DDE 10.0%、PPD5.4g、N−ノナルー2
−ピロリドン211 g h P M D A l 1
−8 g?用い1反IC)温稜t60℃とした以夕tσ
夾施?L11とIWJ休にして還元枯綻2.33邸/g
のポリアミド欧ワニス忙侍た◇夾y=?t+iと同様に
して侍たポリイミドフィルムの引敏踵ざは25.5■/
−11甲ひ率に42%で、吸湿率6&5%でめっ7C。
ガラス転移自社6440℃でめv、4ζO℃で60分闇
〃口熱し1ζ俊り収縮率00.1%でろっ7Coまた側
屈曲性は15000日以上であった〇夾娼例4 L)DE5.LI g、PPDal g、ジメチルアセ
トアミド198g%PMDA21.8g’2r用い。
反応自問40℃としyc以外は実施力1と同体にして還
元粘藏1.98 dl/ gのボリアばドぼワニスを侍
た◎NtM処理自綻t450℃とする以グia実應例1
とIl’J4j14にして侍だポリイミドフィルA(Q
引張強さta 2 a 5 kg/m、 1EPcV4
rx 35%であった。ガラス転S迦敵に460 ℃で
あり。
400℃で60分間加熱しTc俊り収縮率μa1%で、
吸湿itコ4.6%でありπ。また膚を屈曲性6150
00回以上でめった。
比較例2 DDh、1.0 g、 PPD 10.5 g、 ’)
if)L7セトアミド242.4 g、PMLJA21
.8 g?用いる場外に実施力1と1ムj様にして遡冗
枯叢1.65dl/g(1)ポリアミド敵ワニスを侍だ
。実施力4と同様にし多相たポリイミドフィルムの引張
強さに62.5kg/rut伸び率ね8%であった。カ
ラス転移纏1良は470℃でる9、400℃で60分間
/Jli都し7ζ俊りV、縮率σ0.1%で、吸湿率a
4.9であっ7ζが剛ノ田曲性に2800旧」でめっ7
ζO 〔発明の幼米〕 以上の実施νりからVかる様に本弁明により耐熱性1強
度の後れたポリイミド地形物か得られ7ζ0

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 1,4,4′−ジアミノジンエニルエーテルとp−2エ
    ニレンジアミンとのモル比1i90:10〜10:90
    からなるジアミン取分とピロメリットば二無水物とt非
    プロトン性憔性俗謀中、−10℃〜100℃で反応させ
    て得たポリアミド敵ワニスを成形した俊イミド化するこ
    とt物鑓とするポリイミド成形物の製造法02、 ジア
    ミン取分の4.4′−ジアミノジフェニルエーテルとp
    −フェニレンジアミ20モル比が90:1Q〜50 :
     50である瞥許側氷り範囲第1槍記載りポリイミド成
    形物の製造法03、 ジアミン成分り4.4′−ジアミ
    ノシ2エニルエーテルとp−フェニレンジアミ70モル
    比か90:10〜70:30であるを奸藷求の軛wiJ
    第2項記載のポリイミド成形物の製造法。
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