JP2562606B2 - 光学活性化合物 - Google Patents
光学活性化合物Info
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- JP2562606B2 JP2562606B2 JP62190930A JP19093087A JP2562606B2 JP 2562606 B2 JP2562606 B2 JP 2562606B2 JP 62190930 A JP62190930 A JP 62190930A JP 19093087 A JP19093087 A JP 19093087A JP 2562606 B2 JP2562606 B2 JP 2562606B2
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Description
【発明の詳細な説明】 （産業上の利用分野） 本発明の化合物は、液晶化合物としての用途が期待で
きるものである。特に本化合物の如く側鎖に光学活性基
を含む物質は、カイラルスメクチック相を示す強誘電性
液晶化合物として有用である。
きるものである。特に本化合物の如く側鎖に光学活性基
を含む物質は、カイラルスメクチック相を示す強誘電性
液晶化合物として有用である。
（従来技術） 分子内にベンゾイルオキシ基あるいはベンジルオキシ
基あるいはフェニルオキシカルボニル基あるいはフェニ
ルオキシカルビニル基を有する光学活性な安息香酸エス
テル類およびフェニルエーテル類の中でその側鎖に光学
活性なアルキル基を有する化合物は公知である。（例え
ば、特開昭59−118744、60−32748、60−90290、60−23
5885、60−149547、61−63633）。
基あるいはフェニルオキシカルボニル基あるいはフェニ
ルオキシカルビニル基を有する光学活性な安息香酸エス
テル類およびフェニルエーテル類の中でその側鎖に光学
活性なアルキル基を有する化合物は公知である。（例え
ば、特開昭59−118744、60−32748、60−90290、60−23
5885、60−149547、61−63633）。
しかしながら本発明のように、アルコキシカルボニル
基、ヒドロキシル基、アルコキシ基、ハロゲン原子、モ
ノ，ジ及びトリフルオロメチル基、アリル基及びアリー
ル基で置換された光学活性アルキル基を有する化合物は
知られていなかった。また、不斉炭素上にフッ素原子が
結合したものとして、野平ら（第12回液晶討論会講演予
稿集）のモノフルオロアルキル化合物がある。しかしな
がら本発明のように、不斉炭素上にモノ，ジ及びトリフ
ルオロアルキル基及びアルコキシカルボニル−モノフル
オロアルキル基を有する化合物は知られていなかった。
基、ヒドロキシル基、アルコキシ基、ハロゲン原子、モ
ノ，ジ及びトリフルオロメチル基、アリル基及びアリー
ル基で置換された光学活性アルキル基を有する化合物は
知られていなかった。また、不斉炭素上にフッ素原子が
結合したものとして、野平ら（第12回液晶討論会講演予
稿集）のモノフルオロアルキル化合物がある。しかしな
がら本発明のように、不斉炭素上にモノ，ジ及びトリフ
ルオロアルキル基及びアルコキシカルボニル−モノフル
オロアルキル基を有する化合物は知られていなかった。
（発明の構成） 本発明の化合物は式（１） （但し、式中ｌは１から15、ｍは１又は２、ｎは０から
２、Ｐは０又は１のそれぞれ独立した整数である。Ａは
−CO2−又は−OCO−又は−CH2O−又は−OCH2−であり、
Ｂは−CO2−又は−Ｏ−を示す。但し、ｎ＝０の場合の
み同時にＰ＝0,A＝−CO2−である。Ｒ＊は式（２）から
（６）で表される光学活性基を示す。）で表される光学
活性化合物である。
２、Ｐは０又は１のそれぞれ独立した整数である。Ａは
−CO2−又は−OCO−又は−CH2O−又は−OCH2−であり、
Ｂは−CO2−又は−Ｏ−を示す。但し、ｎ＝０の場合の
み同時にＰ＝0,A＝−CO2−である。Ｒ＊は式（２）から
（６）で表される光学活性基を示す。）で表される光学
活性化合物である。
式（１）においてｌは１から15までの整数、すなわち
炭素数１から15の飽和直鎖状アルキル基である。本化合
物で好ましいのは炭素数４から12のアルキル基、すなわ
ちｎ−ブチル基、ｎ−ペンチル基、ｎ−ヘキシル基、ｎ
−ヘプチル基、ｎ−オクチル基、ｎ−ノニル基、ｎ−デ
シル基、ｎ−ウンデシル基、ｎ−ドデシル基が好適であ
る。ｍは１又は２、ｎは０から２のそれぞれ独立した整
数である。Ａは−CO2−又は−OCO−又は−CH2O−又は−
OCH2−であり、ＢはCO2又は−Ｏ−である。但し、ｎ＝
０の場合のみ同時にＰは0,Aは−CO2−である。
炭素数１から15の飽和直鎖状アルキル基である。本化合
物で好ましいのは炭素数４から12のアルキル基、すなわ
ちｎ−ブチル基、ｎ−ペンチル基、ｎ−ヘキシル基、ｎ
−ヘプチル基、ｎ−オクチル基、ｎ−ノニル基、ｎ−デ
シル基、ｎ−ウンデシル基、ｎ−ドデシル基が好適であ
る。ｍは１又は２、ｎは０から２のそれぞれ独立した整
数である。Ａは−CO2−又は−OCO−又は−CH2O−又は−
OCH2−であり、ＢはCO2又は−Ｏ−である。但し、ｎ＝
０の場合のみ同時にＰは0,Aは−CO2−である。
Ｒ＊は、上記の式（２）から式（６）であらわされる
光学活性な側鎖を示すが、式（２）において、Ｘはそれ
ぞれ独立して０又は１、Ｙはそれぞれ独立して０から３
の整数から選ばれる。R1は炭素数が１から４の直鎖状又
は分岐状アルキル基又はフェニル基であり、メチル基、
エチル基、ｎ−プロピル基、イソプロピル基、ｎ−ブチ
ル基、sec−ブチル基、tert−ブチル基、イソブチル基
およびフェニル基が例示される。R2は、アルキル基を示
し、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、イソプロピ
ル基、ｎ−ブチル基、イソブチル基、sec−ブチル基、t
ert−ブチル基、ｎ−ペンチル基、イソペンチル基、ネ
オペンチル基、１−メチルブチル基、ｎ−ヘキシル基、
ｎ−ペプチル基、２−エチルヘキシル基、２−オクチル
基、ｎ−オクチル基などの直鎖状又は分枝状のアルキル
基が例示できる。分岐状アルキル基において不斉炭素を
有するものについては光学活性基も含まれる。
光学活性な側鎖を示すが、式（２）において、Ｘはそれ
ぞれ独立して０又は１、Ｙはそれぞれ独立して０から３
の整数から選ばれる。R1は炭素数が１から４の直鎖状又
は分岐状アルキル基又はフェニル基であり、メチル基、
エチル基、ｎ−プロピル基、イソプロピル基、ｎ−ブチ
ル基、sec−ブチル基、tert−ブチル基、イソブチル基
およびフェニル基が例示される。R2は、アルキル基を示
し、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、イソプロピ
ル基、ｎ−ブチル基、イソブチル基、sec−ブチル基、t
ert−ブチル基、ｎ−ペンチル基、イソペンチル基、ネ
オペンチル基、１−メチルブチル基、ｎ−ヘキシル基、
ｎ−ペプチル基、２−エチルヘキシル基、２−オクチル
基、ｎ−オクチル基などの直鎖状又は分枝状のアルキル
基が例示できる。分岐状アルキル基において不斉炭素を
有するものについては光学活性基も含まれる。
Ｗは水素原子又はフッ素原子を示すものである。特に
好ましいものとしては、Ｗが水素原子でR1がメチル基で
あってＸ＝Ｙ＝０、すなわち１−アルコキシカルボニル
エチル基、Ｘ＝０、Ｙ＝１、すなわち３−アルコキシカ
ルボニル−１−メチルエチル基及びＸ＝１、Ｙ＝０、す
なわち２−アルコキシカルボニルプロピル基を挙げるこ
とができ、又Ｗが水素原子でR1がフェニル基であって、
Ｘ＝Ｙ＝０、すなわちアルコキシカルボニルベンジル基
などが例示できる。更にＷがフッ素原子でR1がメチル基
であって、Ｘ＝１、Ｙ＝０、すなわち２−フルオロ−２
−アルコキシカルボニルプロピル基が好適な例として挙
げることができる。式（３）においてＺは、０又は１の
整数を示し、Ｚ＝０は１−置換エチル基であり、Ｚ＝１
は２−置換プロピル基である。置換基R3はヒドロキシル
基、アルコキシ基、ハロゲン原子、又は、フェニル基を
示すものである。アルコキシ基としては、炭素数１から
10のアルキルオキシ基すなわちメトキシ基、エトキシ
基、プロポキシ基、ブトキシ基、ペンチルオキシ基、ヘ
キシルオキシ基、ヘプチルオキシ基、オクチルオキシ
基、ノニルオキシ基、デシルオキシ基があるいは、ベン
ジルオキシ基やフェネチルオキシ基で代表されるアラル
キルオキシ基が例示できる。ハロゲン原子としては、臭
素原子、塩素原子などが好適である。式（４）におい
て、ｄは０又は１の整数であり、ｄ＝０の場合には、２
−ヒドロキシ−１−メチルエチル基又は２−アルコキシ
−１−メチルエチル基を意味し、ｄ＝１の場合は、３−
ヒドロキシ−１−メチルプロピル基又は３−アルコキシ
−１−メチルプロピル基を示す。R4は水素原子又はメチ
ル基、エチル基、プロピル基などの低級アルキル基であ
り、R5は水素原子あるいは炭素数１から15のアルキル
基、すなわち、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチ
ル基、ペンチル基、ヘキシル基、ヘプチル基、オクチル
基、ノニル基、デシル基、ウンデシル基、ドデシル基な
どの直鎖状又は、分枝状アルキル基であり、あるいはベ
ンジル基、フェネチル基などのアラルキル基が好適な例
として挙げることができる。R6としては、メチル基、エ
チル基、プロピル基、などの低級アルキル基を例示でき
る。なおR4とR6が異なる場合は、これらの置換基を有す
る炭素は不斉炭素であり、式（４）で表される置換基は
ダブルカイラルな光学活性基も含まれる。式（５）にお
いてR7は、アルキル基、アラルキル基、アリル基、アリ
ール基、アルコキシカルボニル基、アルコキシカルボニ
ルアルキル基又はアルコキシカルボニルアリル基を示す
ものである。アルキル基としては、炭素数１から15のア
ルキル基、すなわち、メチル基、エチル基、プロピル
基、ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、ヘプチル基、
オクチル基、ノニル基、デシル基、ウンデシル基、ドデ
シル基などの直鎖状又は、分枝状アルキル基が例示で
き、アラルキル基としては、ベンジル基、フェネチル基
などを挙げることができる。アリル基としては、アリル
基、シンナミル基などである。アリール基としては、フ
ェニル基あるいはアルキル基が置換したフェニル基があ
る。アルコキシカルボニル基の例としては、炭素数１か
ら10のアルコキシカルボニル基、例えば、メトキシカル
ボニル基、エトキシカルボニル基、プロポキシカルボニ
ル基、ブトキシカルボニル基、ペンチルオキシカルボニ
ル基、ヘキシルオキシカルボニル基、ヘプチルオキシカ
ルボニル基、オクチルオキシカルボニル基、ノニルオキ
シカルボニル基あるいはデシルオキシカルボニル基など
を挙げることができる。アルコキシカルボニルアルキル
基としては上記のアルコキシカルボニル基と同様に炭素
数１から10のアルコキシカルボニル基を持つアルコキシ
カルボニルメチル基、アルコキシカルボニルエチル基あ
るいはアルコキシカルボニルプロピル基などである。ア
ルコキシカルボニルアリル基としては、上記のアルコキ
シカルボニル基と同様に炭素数１から10のアルコキシカ
ルボニル基を持つアルコキシカルボニルアリル基か好適
である。式（５）はｆ＝０の場合トリフルオロ基であ
り、ｆ＝１の場合ジフルオロ基であり、ｆ＝２の場合モ
ノフルオロ基である。式（６）においてR1およびR2は式
（２）で規定したとおりであり、R8は炭素数１から４の
アルキル基を示す。即ち、メチル基、エチル基、ｎ−プ
ロピル基、イソプロピル基、ｎ−ブチル基、sec−ブチ
ル基、tert−ブチル基、イソブチル基が例示できる。
好ましいものとしては、Ｗが水素原子でR1がメチル基で
あってＸ＝Ｙ＝０、すなわち１−アルコキシカルボニル
エチル基、Ｘ＝０、Ｙ＝１、すなわち３−アルコキシカ
ルボニル−１−メチルエチル基及びＸ＝１、Ｙ＝０、す
なわち２−アルコキシカルボニルプロピル基を挙げるこ
とができ、又Ｗが水素原子でR1がフェニル基であって、
Ｘ＝Ｙ＝０、すなわちアルコキシカルボニルベンジル基
などが例示できる。更にＷがフッ素原子でR1がメチル基
であって、Ｘ＝１、Ｙ＝０、すなわち２−フルオロ−２
−アルコキシカルボニルプロピル基が好適な例として挙
げることができる。式（３）においてＺは、０又は１の
整数を示し、Ｚ＝０は１−置換エチル基であり、Ｚ＝１
は２−置換プロピル基である。置換基R3はヒドロキシル
基、アルコキシ基、ハロゲン原子、又は、フェニル基を
示すものである。アルコキシ基としては、炭素数１から
10のアルキルオキシ基すなわちメトキシ基、エトキシ
基、プロポキシ基、ブトキシ基、ペンチルオキシ基、ヘ
キシルオキシ基、ヘプチルオキシ基、オクチルオキシ
基、ノニルオキシ基、デシルオキシ基があるいは、ベン
ジルオキシ基やフェネチルオキシ基で代表されるアラル
キルオキシ基が例示できる。ハロゲン原子としては、臭
素原子、塩素原子などが好適である。式（４）におい
て、ｄは０又は１の整数であり、ｄ＝０の場合には、２
−ヒドロキシ−１−メチルエチル基又は２−アルコキシ
−１−メチルエチル基を意味し、ｄ＝１の場合は、３−
ヒドロキシ−１−メチルプロピル基又は３−アルコキシ
−１−メチルプロピル基を示す。R4は水素原子又はメチ
ル基、エチル基、プロピル基などの低級アルキル基であ
り、R5は水素原子あるいは炭素数１から15のアルキル
基、すなわち、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチ
ル基、ペンチル基、ヘキシル基、ヘプチル基、オクチル
基、ノニル基、デシル基、ウンデシル基、ドデシル基な
どの直鎖状又は、分枝状アルキル基であり、あるいはベ
ンジル基、フェネチル基などのアラルキル基が好適な例
として挙げることができる。R6としては、メチル基、エ
チル基、プロピル基、などの低級アルキル基を例示でき
る。なおR4とR6が異なる場合は、これらの置換基を有す
る炭素は不斉炭素であり、式（４）で表される置換基は
ダブルカイラルな光学活性基も含まれる。式（５）にお
いてR7は、アルキル基、アラルキル基、アリル基、アリ
ール基、アルコキシカルボニル基、アルコキシカルボニ
ルアルキル基又はアルコキシカルボニルアリル基を示す
ものである。アルキル基としては、炭素数１から15のア
ルキル基、すなわち、メチル基、エチル基、プロピル
基、ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、ヘプチル基、
オクチル基、ノニル基、デシル基、ウンデシル基、ドデ
シル基などの直鎖状又は、分枝状アルキル基が例示で
き、アラルキル基としては、ベンジル基、フェネチル基
などを挙げることができる。アリル基としては、アリル
基、シンナミル基などである。アリール基としては、フ
ェニル基あるいはアルキル基が置換したフェニル基があ
る。アルコキシカルボニル基の例としては、炭素数１か
ら10のアルコキシカルボニル基、例えば、メトキシカル
ボニル基、エトキシカルボニル基、プロポキシカルボニ
ル基、ブトキシカルボニル基、ペンチルオキシカルボニ
ル基、ヘキシルオキシカルボニル基、ヘプチルオキシカ
ルボニル基、オクチルオキシカルボニル基、ノニルオキ
シカルボニル基あるいはデシルオキシカルボニル基など
を挙げることができる。アルコキシカルボニルアルキル
基としては上記のアルコキシカルボニル基と同様に炭素
数１から10のアルコキシカルボニル基を持つアルコキシ
カルボニルメチル基、アルコキシカルボニルエチル基あ
るいはアルコキシカルボニルプロピル基などである。ア
ルコキシカルボニルアリル基としては、上記のアルコキ
シカルボニル基と同様に炭素数１から10のアルコキシカ
ルボニル基を持つアルコキシカルボニルアリル基か好適
である。式（５）はｆ＝０の場合トリフルオロ基であ
り、ｆ＝１の場合ジフルオロ基であり、ｆ＝２の場合モ
ノフルオロ基である。式（６）においてR1およびR2は式
（２）で規定したとおりであり、R8は炭素数１から４の
アルキル基を示す。即ち、メチル基、エチル基、ｎ−プ
ロピル基、イソプロピル基、ｎ−ブチル基、sec−ブチ
ル基、tert−ブチル基、イソブチル基が例示できる。
式（２）から（６）において＊は不斉炭素を意味し、
これらの式で表される側鎖はいずれも光学活性体である
が、その絶対構造はＲ体及びＳ体いずれの構造も含まれ
る。また、式（４）および式（６）のように光学活性点
が２つある場合、４種類の光学異性体が存在するが特定
の光学異性体に規定するものではない。さらに式（２）
から（６）で表される光学活性基の光学純度は望ましく
は100パーセントエナンチオエクセスあるいは100パーセ
ントジアステレオエクセスであるが、特にその光学純度
を規定するものではない。
これらの式で表される側鎖はいずれも光学活性体である
が、その絶対構造はＲ体及びＳ体いずれの構造も含まれ
る。また、式（４）および式（６）のように光学活性点
が２つある場合、４種類の光学異性体が存在するが特定
の光学異性体に規定するものではない。さらに式（２）
から（６）で表される光学活性基の光学純度は望ましく
は100パーセントエナンチオエクセスあるいは100パーセ
ントジアステレオエクセスであるが、特にその光学純度
を規定するものではない。
式（２）から式（６）の光学活性側鎖は、対応するア
ルコールから導かれるものであるが、これらの光学活性
アルコール類は、いずれも文献既知の化合物である。例
えば、式（２）に対応するアルコール類としては、光学
活性な乳酸エステル、マンデル酸エステル、β−ヒドロ
キシイソ酪酸エステル、γ−ヒドロキシ吉草酸エステル
あるいはδ−ヒドロキシヘキサン酸エステルなどであ
る。式（２）においてｗがフッ素原子である含フッ素ア
ルコール類については、例えば特開昭61−176546の方法
に従って得ることができる。式（３）に対応するアルコ
ール類は、例えば光学活性な1,2−プロパンジオール、
２−アルコキシプロパノール、２−ハロプロパノール、
２−フェニルプロパノールあるいはフェネチルアルコー
ルなどが挙げられ、これらは、対応するカルボン酸又
は、エステルあるいはケトンの還元により導くこともで
きる。式（４）に対応する光学活性なアルコール類とし
ては、2,4−ペンタンジオール、４−メチル−2,4−ペン
タンジオール及びその４−アルコキシ体などが例示でき
る。式（５）に対応するアルコールについては例えば、
光学活性な１−トリフルオロメチルヘプタノール、１−
トリフルオロメチルノニルアルコール、β−ヒドロキシ
−β−トリフルオロメチルプロピオン酸エステル、β−
トリフルオロメチル−β−フェネチルアルコール、１−
トリフルオロメチル−３−フェニルプロパノール、５−
ヒドロキシ−５−トリフルオロメチル−２−ペンテン酸
エステル、１−フェニル−２−モノフルオロエチルアル
コール、１−ジフルオロメチルペンタノールおよび１−
ジフルオロメチルノニルアルコールを挙げることができ
る。また、式（６）に対応するアルコールとしては、光
学活性な２−フルオロ−３−ヒドロキシ−２−メチル吉
草酸エステル、３−ヒドロキシ−３−フルオロ−2,4−
ジメチル吉草酸エステルを例示することができる。式
（５），式（６）および式（２）で示すような含フッ素
アルコール類は、下記の１）〜７）に示す方法で合成す
ることができる。
ルコールから導かれるものであるが、これらの光学活性
アルコール類は、いずれも文献既知の化合物である。例
えば、式（２）に対応するアルコール類としては、光学
活性な乳酸エステル、マンデル酸エステル、β−ヒドロ
キシイソ酪酸エステル、γ−ヒドロキシ吉草酸エステル
あるいはδ−ヒドロキシヘキサン酸エステルなどであ
る。式（２）においてｗがフッ素原子である含フッ素ア
ルコール類については、例えば特開昭61−176546の方法
に従って得ることができる。式（３）に対応するアルコ
ール類は、例えば光学活性な1,2−プロパンジオール、
２−アルコキシプロパノール、２−ハロプロパノール、
２−フェニルプロパノールあるいはフェネチルアルコー
ルなどが挙げられ、これらは、対応するカルボン酸又
は、エステルあるいはケトンの還元により導くこともで
きる。式（４）に対応する光学活性なアルコール類とし
ては、2,4−ペンタンジオール、４−メチル−2,4−ペン
タンジオール及びその４−アルコキシ体などが例示でき
る。式（５）に対応するアルコールについては例えば、
光学活性な１−トリフルオロメチルヘプタノール、１−
トリフルオロメチルノニルアルコール、β−ヒドロキシ
−β−トリフルオロメチルプロピオン酸エステル、β−
トリフルオロメチル−β−フェネチルアルコール、１−
トリフルオロメチル−３−フェニルプロパノール、５−
ヒドロキシ−５−トリフルオロメチル−２−ペンテン酸
エステル、１−フェニル−２−モノフルオロエチルアル
コール、１−ジフルオロメチルペンタノールおよび１−
ジフルオロメチルノニルアルコールを挙げることができ
る。また、式（６）に対応するアルコールとしては、光
学活性な２−フルオロ−３−ヒドロキシ−２−メチル吉
草酸エステル、３−ヒドロキシ−３−フルオロ−2,4−
ジメチル吉草酸エステルを例示することができる。式
（５），式（６）および式（２）で示すような含フッ素
アルコール類は、下記の１）〜７）に示す方法で合成す
ることができる。
１）油化学35,608（1986） ２）日本化学会誌1363（1983） ３）日本化学会誌2126（1985） ４）ケミストリーレター chem.Let.,237（1983） ５）ジャーナル オブ オーガニック ケミストリー
J.Org.chem.,51,1003（1986） ６）J.Org.chem.,51,2975（1986） ７）日本化学会第54回春季年回講演予稿集II,3III O16,
1350（1987） （一般的合成法） 本発明の化合物（１）は次に示す方法により製造する
ことができる。以下反応式で例示するが、式中l,m,n,P,
A,B,R＊は式（１）で規定したものと同様である。
J.Org.chem.,51,1003（1986） ６）J.Org.chem.,51,2975（1986） ７）日本化学会第54回春季年回講演予稿集II,3III O16,
1350（1987） （一般的合成法） 本発明の化合物（１）は次に示す方法により製造する
ことができる。以下反応式で例示するが、式中l,m,n,P,
A,B,R＊は式（１）で規定したものと同様である。
尚、構造式で表した化合物の下段に記載した（ ）の
番号は上段の化合物を表す。
番号は上段の化合物を表す。
１）Ａ＝−CO2−,B＝−CO2−,P＝１の場合 反応工程ａ）はピリジン、トリエチルアミンなどの有
機塩基の存在下でマイナス20℃からプラス50℃の反応温
度で実施できる。反応工程ｂ）は脱ベンジル工程である
が公知の方法に従って例えばパラジウム−チャコール触
媒下常圧水添により容易に実施することができる。又、
反応工程ｃ）は反応工程ａ）と同様の方法により化合物
（10）と化合物（11）の化合物と反応させ、本発明の目
的化合物である式（１）に導くことができる。
機塩基の存在下でマイナス20℃からプラス50℃の反応温
度で実施できる。反応工程ｂ）は脱ベンジル工程である
が公知の方法に従って例えばパラジウム−チャコール触
媒下常圧水添により容易に実施することができる。又、
反応工程ｃ）は反応工程ａ）と同様の方法により化合物
（10）と化合物（11）の化合物と反応させ、本発明の目
的化合物である式（１）に導くことができる。
２）Ａ＝−OCO−,B＝CO2−,P＝１の場合 反応工程ｄ）はジカルボン酸モノベンジルエステル
（12）にチオニルハライドあるいはオギザリハルハライ
ドあるいはハロゲン化リンを作用させることにより酸ハ
ライド（13）を得ることができる。反応工程ｅ）及び
ｈ）は反応工程ａ）と同様であり、反応工程ｆ）は反応
工程ｂ）と同様である。更に反応工程ｇ）は反応工程
ｄ）と同様の方法で酸ハライド（16）に導かれる。
（12）にチオニルハライドあるいはオギザリハルハライ
ドあるいはハロゲン化リンを作用させることにより酸ハ
ライド（13）を得ることができる。反応工程ｅ）及び
ｈ）は反応工程ａ）と同様であり、反応工程ｆ）は反応
工程ｂ）と同様である。更に反応工程ｇ）は反応工程
ｄ）と同様の方法で酸ハライド（16）に導かれる。
３）Ａ＝−CH2O−,B＝−CO2−Ｐ＝１の場合 （式中Ｑはハロゲン原子又はｐ−トルエンスルホニルオ
キシ基、メタンスルホニルオキシ基である） 反応工程ｉ）はａ）ｂ）の方法により得られる化合物
（10）にアルカリ金属ヒドリドあるいは水酸化ナトリウ
ムあるいは水酸化カリウムで代表される塩基を作用させ
た後、化合物（18）を加えることにより実施することが
できる。
キシ基、メタンスルホニルオキシ基である） 反応工程ｉ）はａ）ｂ）の方法により得られる化合物
（10）にアルカリ金属ヒドリドあるいは水酸化ナトリウ
ムあるいは水酸化カリウムで代表される塩基を作用させ
た後、化合物（18）を加えることにより実施することが
できる。
又別法として式ｊ）ｋ）に示すように、化合物（14）
にチオニルハライドあるいはオギザリルハライドあるい
はハロゲン化リンを作用させ酸ハライド（20）とした
後、反応工程ａ）と同様の処理ｋ）により式（１）が合
成できる。
にチオニルハライドあるいはオギザリルハライドあるい
はハロゲン化リンを作用させ酸ハライド（20）とした
後、反応工程ａ）と同様の処理ｋ）により式（１）が合
成できる。
４）Ａ＝−OCH2−,B＝−CO2−,P＝１の場合 （式中Ｑはハロゲン原子又はｐ−トルエンスルホニルオ
キシ基、メタンスルホニルオキシ基である） 反応工程ｌ）はｉ）と同様、アルカリ金属ヒドリド、
水酸化ナトリウムあるいは水酸化カリウムで代表される
塩基を存在させることにより実施できる。
キシ基、メタンスルホニルオキシ基である） 反応工程ｌ）はｉ）と同様、アルカリ金属ヒドリド、
水酸化ナトリウムあるいは水酸化カリウムで代表される
塩基を存在させることにより実施できる。
又別法として、式ｍ）ｎ）に示すような方法により式
（１）を合成することができる。反応工程ｍ）はｊ）と
同様の方法で実施でき、ｎ）はａ）と同様の方法により
実施される。
（１）を合成することができる。反応工程ｍ）はｊ）と
同様の方法で実施でき、ｎ）はａ）と同様の方法により
実施される。
５）Ａ＝−CO2−,B＝−Ｏ−,P＝１の場合 ｑ） （11）＋（26）→（１） （式中、Ｔはヨードニウムハライドを示す。） 反応工程ｏ）は、光学活性アルコール（８）に塩基を
作用させ光学活性アルコラートとしたのち化合物（24）
を作用させることにより化合物（25）が得られる。化合
物（25）をPd−ｃ触媒下で水添することにより化合物
（26）が得られる反応工程ｑ）はｃ）と同様である。
作用させ光学活性アルコラートとしたのち化合物（24）
を作用させることにより化合物（25）が得られる。化合
物（25）をPd−ｃ触媒下で水添することにより化合物
（26）が得られる反応工程ｑ）はｃ）と同様である。
（式中、TsOClはＰ−トルエンスルホニルクロリドであ
る、SOhal2はチオニルハライドである。） 化合物（26）を合成する別法として反応工程ｒ）,s）
が考えられる。反応工程ｒ）は、光学活性アルコール
（８）にトシルクロライドあるいはチオニルハライドを
作用させOH基を脱離しやすい官能基へ変換させる工程で
ある。この場合化合物（８）のOH基が不斉炭素と結合し
ているときは、トシル化反応では立体を保持し、ハロゲ
ン化反応では立体の反転がおこるので、それぞれの目的
の絶対構造に応じて反応を選択することができる。トシ
ル化反応では、不活性溶媒の存在下又は不存在下トリエ
チルアミンやピリジン等の有機塩基の存在下で実施で
き、ハロゲン化反応においては、有機塩基在下にチオニ
ルハライドと反応させ、ハロスルホネトとした後、熱分
解によりハロゲン化物（27′）に導かれる。反応工程
ｓ）は化合物（27）又は化合物（27′）を用いて化合物
（28）のモノアルキル化反応である。この反応において
は、化合物（28）に対し等モルか僅かに過剰の化合物
（27）又は化合物（27′）を用い、炭酸カリウム、炭酸
ナトリウム、水酸化カリウム又は水酸化ナトリウムなと
の無機塩基存在下で実施する。本反応においてビス置換
体の副生が避けがたいが、その改良法として下記の反応
を用いてもよい。
る、SOhal2はチオニルハライドである。） 化合物（26）を合成する別法として反応工程ｒ）,s）
が考えられる。反応工程ｒ）は、光学活性アルコール
（８）にトシルクロライドあるいはチオニルハライドを
作用させOH基を脱離しやすい官能基へ変換させる工程で
ある。この場合化合物（８）のOH基が不斉炭素と結合し
ているときは、トシル化反応では立体を保持し、ハロゲ
ン化反応では立体の反転がおこるので、それぞれの目的
の絶対構造に応じて反応を選択することができる。トシ
ル化反応では、不活性溶媒の存在下又は不存在下トリエ
チルアミンやピリジン等の有機塩基の存在下で実施で
き、ハロゲン化反応においては、有機塩基在下にチオニ
ルハライドと反応させ、ハロスルホネトとした後、熱分
解によりハロゲン化物（27′）に導かれる。反応工程
ｓ）は化合物（27）又は化合物（27′）を用いて化合物
（28）のモノアルキル化反応である。この反応において
は、化合物（28）に対し等モルか僅かに過剰の化合物
（27）又は化合物（27′）を用い、炭酸カリウム、炭酸
ナトリウム、水酸化カリウム又は水酸化ナトリウムなと
の無機塩基存在下で実施する。本反応においてビス置換
体の副生が避けがたいが、その改良法として下記の反応
を用いてもよい。
（式中R9,R10は、水素原子又は、低級アルキル基を示
す。） 反応工程ｆ）は、反応工程ｒ）と同様の条件下で化合
物（29）と化合物（27）又は化合物（27′）を反応さ
せ、得られた化合物（30）を用いて反応工程ｕ）でいわ
ゆるバイアービリガー反応によりアシル基をアシルオキ
シ基とした後、加溶媒分解を行うことによりビス置換体
の含まない化合物（26）を得ることができる。
す。） 反応工程ｆ）は、反応工程ｒ）と同様の条件下で化合
物（29）と化合物（27）又は化合物（27′）を反応さ
せ、得られた化合物（30）を用いて反応工程ｕ）でいわ
ゆるバイアービリガー反応によりアシル基をアシルオキ
シ基とした後、加溶媒分解を行うことによりビス置換体
の含まない化合物（26）を得ることができる。
６）Ａ＝−OCO−,B＝−Ｏ−,P＝１の場合 ｘ） （32）＋（17）→（１） （式中NaOhalはナトリウムハイポハライドである。） 反応工程ｖ）では化合物（30）をハイポハライドによ
り酸化しカルボン酸に導く。ハイポライドとしてはハイ
ポクロリド、ハイポブロミドが好ましい。化合物（31）
を反応工程ｄ）と同様にチオニルハライドあるいはオザ
ギリルハライドあるいはハロゲン化リンにより酸ハライ
ド化合物（32）に変換し、化合物（32）と化合物（17）
から反応工程ｃと同様の方法を実施することにより化合
物（１）を得ることができる。
り酸化しカルボン酸に導く。ハイポライドとしてはハイ
ポクロリド、ハイポブロミドが好ましい。化合物（31）
を反応工程ｄ）と同様にチオニルハライドあるいはオザ
ギリルハライドあるいはハロゲン化リンにより酸ハライ
ド化合物（32）に変換し、化合物（32）と化合物（17）
から反応工程ｃと同様の方法を実施することにより化合
物（１）を得ることができる。
７）Ａ＝−CH2O−,B＝−Ｏ−,P＝１の場合 化合物（18）及び化合物（21）の縮合反応は反応工程
ｉ）と同様塩基存在下で実施できる。
ｉ）と同様塩基存在下で実施できる。
β） （17）＋（34）→（１） （式中Ｑはｐ−トルエンスルホニルオキシ基、メタンス
ルホニルオキシ基、あるいはハロゲン原子を示す。） 反応工程Ｚ）は、化合物（31）を常法によりリチウム
アルミニウムハイドライドで還元し、カルボン酸を対応
するアルコールに変換する工程である。反応工程α）で
は水酸基を脱離基Ｑに変換し続いて反応工程β）で、
ｌ）と同様にして目的物（１）に導くことができる。
ルホニルオキシ基、あるいはハロゲン原子を示す。） 反応工程Ｚ）は、化合物（31）を常法によりリチウム
アルミニウムハイドライドで還元し、カルボン酸を対応
するアルコールに変換する工程である。反応工程α）で
は水酸基を脱離基Ｑに変換し続いて反応工程β）で、
ｌ）と同様にして目的物（１）に導くことができる。
９）Ａ＝CO2,P＝O,n＝０の場合 γ） （11）＋（８）→（１） 反応工程γ）は反応工程α）と同様の方法により実施
することができる。
することができる。
（化合物の例示） 本発明に関する光学活性化合物群としては、以下のも
のが例示できる。
のが例示できる。
４−アルコキシ安息香酸エステル ４−（４−アルコキシフェニル）安息香酸エステル ４−（４−アルコキシベンゾイルオキシ）安息香酸エス
テル ４−（４−アルコキシベンゾイルオキシ）フェニルエー
テル ４−アルコキシ−４′−ビフェニルカルボン酸Ｐ−アル
コキシカルボニルフェニルエステル ４−アルコキシ−４′−ビフェニルカルボン酸−Ｐ−ア
ルコキシフェニルエステル ４−アルコキシ安息香酸４′−アルコキシカルボニル−
４−ビフェニルエステル ４−アルコキシ安息香酸４′−アルコキシ−４−ビフェ
ニルエステル ４−（４−アルコキシフェニルカルビニルオキシ）安息
香酸エステル ４−（４−アルコキシフェニルオキシカルビニル）安息
香酸エステル ４−（４−アルコキシフェニルカルビニルオキシ）フェ
ニルエーテル ４−（４−アルコキシフェニルカルビニル）フェニルエ
ーテル ４−（４−アルコキシフェニルカルビニルオキシ）安息
香酸エステル ４−（４−アルコキシビフェニルオキシカルビニル）安
息香酸エステル ４−（４−アルコキシビフェニルカルビニルオキシ）フ
ェニルエーテル ４−（４−アルコキシビフェニルオキシカルビニル）フ
ェニルエーテル ４−（４−アルコキシフェニルカルビニルオキシ）ビフ
ェニルカルボン酸エステル ４−（４−アルコキシフェニルオキシカルビニル）ビフ
ェニルカルボン酸エステル ４−（４−アルコキシフェニルカルビニルオキシ）ビフ
ェルエーテル ４−（４−アルコキシフェニルオキシカルビニル）ビフ
ェルエーテル ４−（４−アルコキシフェノキシカルボニル）安息香酸
エステル ４−（４−アルコキシフェノキシカルボニル）フェニル
エーテル ４−（４−アルコキシビフェニルオキシカルボニル）安
息香酸エステル ４−（４−アルコキシビフェニルオキシカルボニル）フ
ェニルエステル ４−（４−アルコキシビフェノキシカルボニル）ビフェ
ニルカルボン酸エステル ４−（４−アルコキシフェノキシカルボニル）ビフェニ
ルエーテル （発明の効果） 以上のようにして得られた本発明の化合物は化合物中
に光学活性残基を有しておりカイラルスメクチック相を
示す液晶化合物として有望である。特に本発明の化合物
は表２にて示したように極めて大きな自発分極を持つ強
誘電性液晶化合物となる。これらの強誘電性液晶は従来
のネマチック液晶に比し高速応答性が有ることが知られ
ており液晶テレビ等のディスプレー用や液晶プリンター
用として利用できるものである。また、このような光学
活性を有することは非線形光学効果、旋光性を利用する
電気光学素子等種々の光機能材料として応用できること
を意味する。
テル ４−（４−アルコキシベンゾイルオキシ）フェニルエー
テル ４−アルコキシ−４′−ビフェニルカルボン酸Ｐ−アル
コキシカルボニルフェニルエステル ４−アルコキシ−４′−ビフェニルカルボン酸−Ｐ−ア
ルコキシフェニルエステル ４−アルコキシ安息香酸４′−アルコキシカルボニル−
４−ビフェニルエステル ４−アルコキシ安息香酸４′−アルコキシ−４−ビフェ
ニルエステル ４−（４−アルコキシフェニルカルビニルオキシ）安息
香酸エステル ４−（４−アルコキシフェニルオキシカルビニル）安息
香酸エステル ４−（４−アルコキシフェニルカルビニルオキシ）フェ
ニルエーテル ４−（４−アルコキシフェニルカルビニル）フェニルエ
ーテル ４−（４−アルコキシフェニルカルビニルオキシ）安息
香酸エステル ４−（４−アルコキシビフェニルオキシカルビニル）安
息香酸エステル ４−（４−アルコキシビフェニルカルビニルオキシ）フ
ェニルエーテル ４−（４−アルコキシビフェニルオキシカルビニル）フ
ェニルエーテル ４−（４−アルコキシフェニルカルビニルオキシ）ビフ
ェニルカルボン酸エステル ４−（４−アルコキシフェニルオキシカルビニル）ビフ
ェニルカルボン酸エステル ４−（４−アルコキシフェニルカルビニルオキシ）ビフ
ェルエーテル ４−（４−アルコキシフェニルオキシカルビニル）ビフ
ェルエーテル ４−（４−アルコキシフェノキシカルボニル）安息香酸
エステル ４−（４−アルコキシフェノキシカルボニル）フェニル
エーテル ４−（４−アルコキシビフェニルオキシカルボニル）安
息香酸エステル ４−（４−アルコキシビフェニルオキシカルボニル）フ
ェニルエステル ４−（４−アルコキシビフェノキシカルボニル）ビフェ
ニルカルボン酸エステル ４−（４−アルコキシフェノキシカルボニル）ビフェニ
ルエーテル （発明の効果） 以上のようにして得られた本発明の化合物は化合物中
に光学活性残基を有しておりカイラルスメクチック相を
示す液晶化合物として有望である。特に本発明の化合物
は表２にて示したように極めて大きな自発分極を持つ強
誘電性液晶化合物となる。これらの強誘電性液晶は従来
のネマチック液晶に比し高速応答性が有ることが知られ
ており液晶テレビ等のディスプレー用や液晶プリンター
用として利用できるものである。また、このような光学
活性を有することは非線形光学効果、旋光性を利用する
電気光学素子等種々の光機能材料として応用できること
を意味する。
実施例１ ［（Ｓ）−（＋）−４−（４−デシルオキシベンゾイル
オキシ）安息香酸１−メトキシカルボニルエチル
（（１）式に於てｌ＝10,m＝ｎ＝1,A＝CO2,B＝CO2,P＝
１）の製造法。］ ベンジルオキシ安息香酸クロリド（16.2ミリモル）と
（Ｓ）−乳酸メチル（15.3ミリモル）を無水のピリジン
（47.3ミリリットル）に溶解し、氷冷下で約４時間撹は
んした。この反応液を水（47ミリリットル）に注ぎ次い
で100ミリリットルのエーテルで抽出した。エーテル層
を５％塩酸水溶液（50ミリリットル）で３回洗浄し、更
に水で２回洗浄しエーテル溶液を無水硫酸ナトリユムで
乾燥した。エーテルを留去した後、残査をシリカゲルカ
ラムクロマトグラフィに付し（Ｓ）−（＋）−４−ベン
ジルオキシ安息香酸１−メトキシカルボニルエチルを得
た。
オキシ）安息香酸１−メトキシカルボニルエチル
（（１）式に於てｌ＝10,m＝ｎ＝1,A＝CO2,B＝CO2,P＝
１）の製造法。］ ベンジルオキシ安息香酸クロリド（16.2ミリモル）と
（Ｓ）−乳酸メチル（15.3ミリモル）を無水のピリジン
（47.3ミリリットル）に溶解し、氷冷下で約４時間撹は
んした。この反応液を水（47ミリリットル）に注ぎ次い
で100ミリリットルのエーテルで抽出した。エーテル層
を５％塩酸水溶液（50ミリリットル）で３回洗浄し、更
に水で２回洗浄しエーテル溶液を無水硫酸ナトリユムで
乾燥した。エーテルを留去した後、残査をシリカゲルカ
ラムクロマトグラフィに付し（Ｓ）−（＋）−４−ベン
ジルオキシ安息香酸１−メトキシカルボニルエチルを得
た。
上記化合物（12.9ミリモル）のエタノール（67ミリリ
ットル）溶液に５％パラジュウム−チャコール（1.23グ
ラム）を添加した後、常温、常圧で水素雰囲気下10時間
撹はんした。反応液から不溶物をろ別し、溶媒を除去し
て得られた残査をシリカゲルカラムクロマトグラフィー
に付し（Ｓ）−（＋）−４−ヒドロキシ安息香酸１−メ
トキシカルボニルエチルを得た。４−ｎ−デシルオキシ
安息香酸クロリド（7.7ミリモル）と上記化合物（8.1ミ
リモル）を無水のピリジン（25ミリリットル）に溶解
し、氷冷下で約４時間撹はんした。この反応液を水（25
ミリリットル）に注ぎ次いで100ミリリットルのエーテ
ルで抽出した。エーテル層を５％塩酸水溶液（50ミリリ
ットル）で３回洗浄し、更に水で２回洗浄しエーテル溶
液を無水硫酸ナトリユムで乾燥した。エーテルを留去し
得られた無色結晶をエタノール−ｎ−ヘキサン混合液か
ら、次いでエタノールから再結晶し標記の（Ｓ）−
（＋）−４−（４−デシルオキシベンゾイルオキシ）安
息香酸１−メトキシカルボニルエチルを得た。
ットル）溶液に５％パラジュウム−チャコール（1.23グ
ラム）を添加した後、常温、常圧で水素雰囲気下10時間
撹はんした。反応液から不溶物をろ別し、溶媒を除去し
て得られた残査をシリカゲルカラムクロマトグラフィー
に付し（Ｓ）−（＋）−４−ヒドロキシ安息香酸１−メ
トキシカルボニルエチルを得た。４−ｎ−デシルオキシ
安息香酸クロリド（7.7ミリモル）と上記化合物（8.1ミ
リモル）を無水のピリジン（25ミリリットル）に溶解
し、氷冷下で約４時間撹はんした。この反応液を水（25
ミリリットル）に注ぎ次いで100ミリリットルのエーテ
ルで抽出した。エーテル層を５％塩酸水溶液（50ミリリ
ットル）で３回洗浄し、更に水で２回洗浄しエーテル溶
液を無水硫酸ナトリユムで乾燥した。エーテルを留去し
得られた無色結晶をエタノール−ｎ−ヘキサン混合液か
ら、次いでエタノールから再結晶し標記の（Ｓ）−
（＋）−４−（４−デシルオキシベンゾイルオキシ）安
息香酸１−メトキシカルボニルエチルを得た。
NMRスペクトル（CDCl3、ppm）； 0.65−1.05（m,3H）,1.05−2.10（m,16H）,2.10（m,16
H）,1.60（d,3H）,3.73（s,3H）,4.00（t,2H）,5.30
（q,1H）6.90（d,2H）,7.25（d,2H）,8.05（d,2H）,8.1
8（d,2H） IRスペクトル（KBrデスク、cm-）； 1770,1740,1610,1270 比旋光度；▲［α］25 Ｄ▼＋14.2゜（ｃ＝2.345,CHC
l3） 実施例２ ［（Ｓ）−（−）−２−［（４−オクチルオキシベンゾ
イルオキシ）フェノキシ］プロピオン酸メチル（（１）
式においてｌ＝8,m＝ｎ＝1,A−CO2,B＝O,P＝１）の製造
法。］ ４−ヒドロキシアセトフェノン10g（73.5ミリモ
ル）、（Ｒ）−（−）−２−トシルオキシプロピオン酸
メチル26g（80.8ミリモル）、炭酸カリウム5.9g（98.5
ミリモル）を300mlのジメチルホルムアミドに加え、98
℃で６時間加熱した。反応終了後、１リットルの水を加
えた後、350mlのベンゼンで２回抽出した。500mlの水で
洗浄後、ベンゼンを減圧留去し、残査をカラムクロマト
グラフィーに付し、15gの（Ｓ）−２−（４−アセチル
フェノキシ）プロピオン酸メチルを得た。上記化合物を
230mlのクロロホルムに溶解し、17.5g（102ミリモル）
のｍ−クロロ−過安息香酸を添加し、室温で、一昼夜放
置した。析出した結晶をろ別後、ろ液をチオ硫酸ナトリ
ウム水溶液で次いで重炭酸ナトリウム溶液で洗浄し、最
後に水洗いした。クロロホルム溶液を無水硫酸ナトリウ
ムで乾燥後、溶媒を除去し、16.7gの（Ｓ）−２−（４
−アセトキシフェノキシ）プロピオン酸メチルを得た。
上記化合物を400mlのメタノールに溶解し、数滴の濃硫
酸を加えた後、６時間加熱還流した。メタノールを除去
後、ベンゼンを加え、重炭酸ナトリウム水溶液、次いで
飽和食塩水で洗浄した。溶媒を除去し、残査を蒸留し
て、11gの（Ｓ）−２−（４−ヒドロキシフェノキシ）
プロピオン酸メチルを得た。
H）,1.60（d,3H）,3.73（s,3H）,4.00（t,2H）,5.30
（q,1H）6.90（d,2H）,7.25（d,2H）,8.05（d,2H）,8.1
8（d,2H） IRスペクトル（KBrデスク、cm-）； 1770,1740,1610,1270 比旋光度；▲［α］25 Ｄ▼＋14.2゜（ｃ＝2.345,CHC
l3） 実施例２ ［（Ｓ）−（−）−２−［（４−オクチルオキシベンゾ
イルオキシ）フェノキシ］プロピオン酸メチル（（１）
式においてｌ＝8,m＝ｎ＝1,A−CO2,B＝O,P＝１）の製造
法。］ ４−ヒドロキシアセトフェノン10g（73.5ミリモ
ル）、（Ｒ）−（−）−２−トシルオキシプロピオン酸
メチル26g（80.8ミリモル）、炭酸カリウム5.9g（98.5
ミリモル）を300mlのジメチルホルムアミドに加え、98
℃で６時間加熱した。反応終了後、１リットルの水を加
えた後、350mlのベンゼンで２回抽出した。500mlの水で
洗浄後、ベンゼンを減圧留去し、残査をカラムクロマト
グラフィーに付し、15gの（Ｓ）−２−（４−アセチル
フェノキシ）プロピオン酸メチルを得た。上記化合物を
230mlのクロロホルムに溶解し、17.5g（102ミリモル）
のｍ−クロロ−過安息香酸を添加し、室温で、一昼夜放
置した。析出した結晶をろ別後、ろ液をチオ硫酸ナトリ
ウム水溶液で次いで重炭酸ナトリウム溶液で洗浄し、最
後に水洗いした。クロロホルム溶液を無水硫酸ナトリウ
ムで乾燥後、溶媒を除去し、16.7gの（Ｓ）−２−（４
−アセトキシフェノキシ）プロピオン酸メチルを得た。
上記化合物を400mlのメタノールに溶解し、数滴の濃硫
酸を加えた後、６時間加熱還流した。メタノールを除去
後、ベンゼンを加え、重炭酸ナトリウム水溶液、次いで
飽和食塩水で洗浄した。溶媒を除去し、残査を蒸留し
て、11gの（Ｓ）−２−（４−ヒドロキシフェノキシ）
プロピオン酸メチルを得た。
▲［α］25 Ｄ▼−26゜（Ｃ＝1.162,CHCl3） 氷冷下、上記化合物2g（10.2ミリモル）を2.90g（10.
8ミリモル）の４−ｎ−オクチルオキシ安息香酸クロリ
ドのピリジン溶液30mlに滴下し、０℃を保ち３時間反応
した。反応液に水を加え、エーテル抽出を行った後、溶
媒を除去した。得られた残査をカラムクロマトグラフィ
ーに付し、更にヘキサンから再結晶して2gの標記の
（Ｓ）−（−）−２−［（４−オクチルオキシベンゾシ
イルオキシ）フェノキシ］プロピオン酸メチルを得た。
8ミリモル）の４−ｎ−オクチルオキシ安息香酸クロリ
ドのピリジン溶液30mlに滴下し、０℃を保ち３時間反応
した。反応液に水を加え、エーテル抽出を行った後、溶
媒を除去した。得られた残査をカラムクロマトグラフィ
ーに付し、更にヘキサンから再結晶して2gの標記の
（Ｓ）−（−）−２−［（４−オクチルオキシベンゾシ
イルオキシ）フェノキシ］プロピオン酸メチルを得た。
NMRスペクトル（CDCl3,ppm）； 0.70〜2.10（m,15H）,1.60（d,3H）,3.80（S,3H）3.94
（t,2H）,4.68（q,1H）,6.70〜7.15（m,6H）8.00（d2
H） IRスペクトル（KBrディスク、cm-1）； 1760,1735,1610,1510,1191 比旋光度；▲［α］25 Ｄ▼−14.7゜（ｃ＝1.323,CHC
l3） 実施例３ ［（＋）−４−（４−ｎ−オクチルオキシフェニル）安
息香酸１−トリフルオロメチル−３−フェニルプロピル
（（１）式においてｌ＝8,m＝2,n＝0,A＝CO2,P＝０）の
製造法。］ ４−（４−ｎ−オクチルオキシフェニル）安息香酸ク
ロリド0.4g（1.2ミリモル）と（＋）−１−トリフルオ
ロメチル−３−フェニルプロパノール0.17g（0.9ミリモ
ル）を5mlのピリジンに加え、室温で一昼夜放置した。
反応液に水を加え、エーテル抽出し、抽出液を1N塩酸、
飽和重炭酸ナトリウム液、次いで飽和食塩水で洗浄した
後、溶媒を除去した。残査をカラムクロマトグラフイー
に付し、標記の（＋）−４−（４−ｎ−オクチルオキシ
フェニル）安息香酸１−トリフルオロメチル−３−フェ
ニルプロピル0.4gを得た。
（t,2H）,4.68（q,1H）,6.70〜7.15（m,6H）8.00（d2
H） IRスペクトル（KBrディスク、cm-1）； 1760,1735,1610,1510,1191 比旋光度；▲［α］25 Ｄ▼−14.7゜（ｃ＝1.323,CHC
l3） 実施例３ ［（＋）−４−（４−ｎ−オクチルオキシフェニル）安
息香酸１−トリフルオロメチル−３−フェニルプロピル
（（１）式においてｌ＝8,m＝2,n＝0,A＝CO2,P＝０）の
製造法。］ ４−（４−ｎ−オクチルオキシフェニル）安息香酸ク
ロリド0.4g（1.2ミリモル）と（＋）−１−トリフルオ
ロメチル−３−フェニルプロパノール0.17g（0.9ミリモ
ル）を5mlのピリジンに加え、室温で一昼夜放置した。
反応液に水を加え、エーテル抽出し、抽出液を1N塩酸、
飽和重炭酸ナトリウム液、次いで飽和食塩水で洗浄した
後、溶媒を除去した。残査をカラムクロマトグラフイー
に付し、標記の（＋）−４−（４−ｎ−オクチルオキシ
フェニル）安息香酸１−トリフルオロメチル−３−フェ
ニルプロピル0.4gを得た。
NMRスペクトル（CDCl3,ppm） 0.7〜3.0（m,19H）,3.98（t,2H）,5.58（q,1H）,6.8〜
8.2（m,13H） IRスペクトル（KBrディスク） 1734,1606,1500,1255 比旋光度▲［α］25 Ｄ▼＋60.3゜（ｃ＝0.951,CHCl3） 実施例４ ［（Ｒ）−ｐ−（４′−オクチルオキシ−４−ビフェニ
ルカルビニルオキシ）−安息香酸１−メトキシカルボニ
ルエチル（（１）式においてｌ＝8,m＝2,n＝1,A＝CH2O,
B＝CO2,P＝１）の製造法。］ ４′−オクチルオキシ−４−ビフェニルカルボン酸を
THF中水素化リチウムアルミニウムで還元して得られる
４′−オクチルオキシ−４−ビドロキシメチルビフェニ
ル13.0グラム（43.7ミリモル）に塩化チオニル23ミリリ
ットルを加え、50℃で30分撹はんした。減圧下過剰の塩
化チオニルを留去し、エタノールより再結して、４′−
オクチルオキシ−４−クロロメチルビフェニル10.0グラ
ム（73.0パーセント）を得た。更に水素化ナトリウム0.
76グラム（19.0ミリモル）を乾燥ジメトキシエタン（40
ミリリットル）に懸濁し、氷冷下でｐ−ヒドロキシ安息
香酸メチル2.9グラム（19.1ミリモル）を加えた後、
４′−オクチルオキシ−４−クロロメチルビフェニル5.
0グラム（15.9ミリモル）及びジメチルスルホキシド40
ミリリットルを加え加熱還流下１時間撹はんした。反応
液を酸性化した後エーテル抽出を行い、乾燥後エーテル
を減圧留去し更にエタノールから再結晶することにより
ｐ−（４′−オクチルオキシ−４−ビフェニルカルビニ
ルオキシ）−安息香酸メチル6.0グラム（88パーセン
ト）を得た。更にこのものにエタノール（60ミリリット
ル）とジメチルスルホキシド（60ミリリットル）の混合
溶液中1N水酸化ナトリウム（60ミリリットル）を加熱還
流下４時間作用させた。反応液を酸性化した後析出した
ｐ−（４′−オクチルオキシ−４−ビフェニルカルビニ
ルオキシ）−安息香酸の結晶をろ別した。結晶は水洗後
減圧下乾燥することにより目的物が4.67グラム（80.5パ
ーセント）得られた。上記化合物1.0グラム（2.4ミリモ
ル）をクロロホルム（10ミリリットル）に懸濁させた
後、触媒量のジメチルホルムアミドの存在下、塩化チオ
ニル（10ミリリットル）を加熱還流下30分間作用させ
た。過剰の塩化チオニル減圧留去することによりｐ−
（４′−オクチルオキシビフェニルカルビニルオキシ）
−安息香酸クロリドの粗製物を得た。この様にして得ら
れたｐ−（４′−オクチルオキシ−４−ビフェニルカル
ビニルオキシ）−安息香酸クロリド580ミリグラム（1.3
3ミリモル）とＤ−乳酸メチル150ミリグラム（1.44ミリ
モル）をピリジン（５ミリリットル）中で反応させ目的
の（Ｒ）−ｐ−（４′−オクチルオキシ−４−ビフェニ
ルカルビニルオキシ）−安息香酸１−メトキシカルボニ
ルエチルが480ミリグラム（71.6パーセント）得られ
た。
8.2（m,13H） IRスペクトル（KBrディスク） 1734,1606,1500,1255 比旋光度▲［α］25 Ｄ▼＋60.3゜（ｃ＝0.951,CHCl3） 実施例４ ［（Ｒ）−ｐ−（４′−オクチルオキシ−４−ビフェニ
ルカルビニルオキシ）−安息香酸１−メトキシカルボニ
ルエチル（（１）式においてｌ＝8,m＝2,n＝1,A＝CH2O,
B＝CO2,P＝１）の製造法。］ ４′−オクチルオキシ−４−ビフェニルカルボン酸を
THF中水素化リチウムアルミニウムで還元して得られる
４′−オクチルオキシ−４−ビドロキシメチルビフェニ
ル13.0グラム（43.7ミリモル）に塩化チオニル23ミリリ
ットルを加え、50℃で30分撹はんした。減圧下過剰の塩
化チオニルを留去し、エタノールより再結して、４′−
オクチルオキシ−４−クロロメチルビフェニル10.0グラ
ム（73.0パーセント）を得た。更に水素化ナトリウム0.
76グラム（19.0ミリモル）を乾燥ジメトキシエタン（40
ミリリットル）に懸濁し、氷冷下でｐ−ヒドロキシ安息
香酸メチル2.9グラム（19.1ミリモル）を加えた後、
４′−オクチルオキシ−４−クロロメチルビフェニル5.
0グラム（15.9ミリモル）及びジメチルスルホキシド40
ミリリットルを加え加熱還流下１時間撹はんした。反応
液を酸性化した後エーテル抽出を行い、乾燥後エーテル
を減圧留去し更にエタノールから再結晶することにより
ｐ−（４′−オクチルオキシ−４−ビフェニルカルビニ
ルオキシ）−安息香酸メチル6.0グラム（88パーセン
ト）を得た。更にこのものにエタノール（60ミリリット
ル）とジメチルスルホキシド（60ミリリットル）の混合
溶液中1N水酸化ナトリウム（60ミリリットル）を加熱還
流下４時間作用させた。反応液を酸性化した後析出した
ｐ−（４′−オクチルオキシ−４−ビフェニルカルビニ
ルオキシ）−安息香酸の結晶をろ別した。結晶は水洗後
減圧下乾燥することにより目的物が4.67グラム（80.5パ
ーセント）得られた。上記化合物1.0グラム（2.4ミリモ
ル）をクロロホルム（10ミリリットル）に懸濁させた
後、触媒量のジメチルホルムアミドの存在下、塩化チオ
ニル（10ミリリットル）を加熱還流下30分間作用させ
た。過剰の塩化チオニル減圧留去することによりｐ−
（４′−オクチルオキシビフェニルカルビニルオキシ）
−安息香酸クロリドの粗製物を得た。この様にして得ら
れたｐ−（４′−オクチルオキシ−４−ビフェニルカル
ビニルオキシ）−安息香酸クロリド580ミリグラム（1.3
3ミリモル）とＤ−乳酸メチル150ミリグラム（1.44ミリ
モル）をピリジン（５ミリリットル）中で反応させ目的
の（Ｒ）−ｐ−（４′−オクチルオキシ−４−ビフェニ
ルカルビニルオキシ）−安息香酸１−メトキシカルボニ
ルエチルが480ミリグラム（71.6パーセント）得られ
た。
NMRスペクトル（CDCl3,ppm）； 0.6〜2.0（m,18H）,3.65（S,3H）,3.90（t,2H）,4.96
23（q,1H）,6.7〜8.1（m,12H） IRスペクトル（KBrディスク,cm-1）； 1760,1720,1610,1260 比旋光度▲［α］25 Ｄ▼−17.5゜（Ｃ＝0.794,CHCl3） 実施例５ ［（Ｒ）−ｐ−（４′−オクチルオキシ−４−ビフェニ
ルカルビニルオキシ）−安息香酸１−メチル−２−ブチ
ルオキシエチル（（１）式においてｌ＝8,m＝2,n＝1,A
＝CH2O,B＝CO2,P＝１）の製造法。］ 水素化ナトリウム180ミリグラム（4.50ミリモル）を
テトラヒドロフラン（10ミリリットル）に懸濁させ
（Ｒ）−１−ブチルオキシ−２−プロパノール600ミリ
グラム（4.54ミリモル）のテトラヒドロフラン（２ミリ
リットル）溶液を０℃で滴下し、更にベンジルオキシ安
息香酸クロリド1.33グロム（5.40ミリモル）を加え、室
温下で約４時間撹はんした。この反応液を１規定塩酸に
注ぎ酸性化した後、エーテルで抽出した。乾燥後、テー
テルを減圧留去した後、残査をシリカゲルカラムクロマ
トグラフィーにより精製し、（Ｒ）−ｐ−ベンジルオキ
シ安息香酸１−メチル−２−ブチルオキシエチルを690
ミリグラム（2.02ミリモル）を得た。上記化合物690ミ
リグラム（2.02ミリモル）のエタノール（20ミリリット
ル）溶液に５パーセント−パラジウム−チャコール（70
ミリグラム）を添加した後、水素雰囲気下10時間撹はん
した。反応液から不純物をろ別し、溶媒を留去して得ら
れた残査をシリカゲルカラムクロマトグラフィーにより
精製し、（Ｒ）−ｐ−ヒドロキシ安息香酸１−メチル−
２−ブチルオキシエチル483ミリグラム（1.92ミリモ
ル）を得た。水素化ナトリウム40ミリグラム（1.0ミリ
モル）をテトラヒドロフラン（10ミリリットル）に懸濁
し、（Ｒ）−ｐ−ヒドロキシ安息香酸１−メチル−２−
ブチルオキシエチル190ミリグラム（0.72ミリモル）の
テトラヒドロフラン（２ミリリットル）溶液を０℃で滴
下し、更に４′−オクチルオキシ−４−クロロメチルビ
フェニル230ミリグラム（0.73ミリグラム）及びジメチ
ルスルホキシド（12ミリリットル）を加え、室温下５時
間撹はんした。１規定塩酸で反応溶液を酸性化した後ク
ロロホルム抽出した。抽出液は乾燥後減圧下、クロロホ
ルムを留去し、続いて、残査をシリカゲルカラムクロマ
トグラフィーにより精製することにより目的の（Ｒ）−
ｐ−（４′−オクチルオキシ−４−ビフェニルカルビニ
ルオキシ）−安息香酸１−メチル−２−ブチルオキシエ
チルを187ミリグラム（49パーセント）を得た。
23（q,1H）,6.7〜8.1（m,12H） IRスペクトル（KBrディスク,cm-1）； 1760,1720,1610,1260 比旋光度▲［α］25 Ｄ▼−17.5゜（Ｃ＝0.794,CHCl3） 実施例５ ［（Ｒ）−ｐ−（４′−オクチルオキシ−４−ビフェニ
ルカルビニルオキシ）−安息香酸１−メチル−２−ブチ
ルオキシエチル（（１）式においてｌ＝8,m＝2,n＝1,A
＝CH2O,B＝CO2,P＝１）の製造法。］ 水素化ナトリウム180ミリグラム（4.50ミリモル）を
テトラヒドロフラン（10ミリリットル）に懸濁させ
（Ｒ）−１−ブチルオキシ−２−プロパノール600ミリ
グラム（4.54ミリモル）のテトラヒドロフラン（２ミリ
リットル）溶液を０℃で滴下し、更にベンジルオキシ安
息香酸クロリド1.33グロム（5.40ミリモル）を加え、室
温下で約４時間撹はんした。この反応液を１規定塩酸に
注ぎ酸性化した後、エーテルで抽出した。乾燥後、テー
テルを減圧留去した後、残査をシリカゲルカラムクロマ
トグラフィーにより精製し、（Ｒ）−ｐ−ベンジルオキ
シ安息香酸１−メチル−２−ブチルオキシエチルを690
ミリグラム（2.02ミリモル）を得た。上記化合物690ミ
リグラム（2.02ミリモル）のエタノール（20ミリリット
ル）溶液に５パーセント−パラジウム−チャコール（70
ミリグラム）を添加した後、水素雰囲気下10時間撹はん
した。反応液から不純物をろ別し、溶媒を留去して得ら
れた残査をシリカゲルカラムクロマトグラフィーにより
精製し、（Ｒ）−ｐ−ヒドロキシ安息香酸１−メチル−
２−ブチルオキシエチル483ミリグラム（1.92ミリモ
ル）を得た。水素化ナトリウム40ミリグラム（1.0ミリ
モル）をテトラヒドロフラン（10ミリリットル）に懸濁
し、（Ｒ）−ｐ−ヒドロキシ安息香酸１−メチル−２−
ブチルオキシエチル190ミリグラム（0.72ミリモル）の
テトラヒドロフラン（２ミリリットル）溶液を０℃で滴
下し、更に４′−オクチルオキシ−４−クロロメチルビ
フェニル230ミリグラム（0.73ミリグラム）及びジメチ
ルスルホキシド（12ミリリットル）を加え、室温下５時
間撹はんした。１規定塩酸で反応溶液を酸性化した後ク
ロロホルム抽出した。抽出液は乾燥後減圧下、クロロホ
ルムを留去し、続いて、残査をシリカゲルカラムクロマ
トグラフィーにより精製することにより目的の（Ｒ）−
ｐ−（４′−オクチルオキシ−４−ビフェニルカルビニ
ルオキシ）−安息香酸１−メチル−２−ブチルオキシエ
チルを187ミリグラム（49パーセント）を得た。
NMRスペクトル（CDCl3,ppm）； 0.7〜2.1（m,27H）,3.3〜3.7（m,4H）,3.97（t,2H）,5.
09（S,2H）,5.0〜5.5（m,1H）,6.9〜8.2（m,12H） IRスペクトル（KBrディスク,cm-1）； 1710,1610,1710 比旋光度▲［α］25 Ｄ▼−13.3゜（Ｃ＝1.731,CHCl3） 実施例６ ［（Ｓ）−４′−（ｐ−オクチルオキシベンジルオキ
シ）−４−ビフェニルカルボン酸１−メチル−２−メト
キシカルボニルエチル、（（１）式に於て、ｌ＝8,m＝
1,n＝2,A＝CH2O,B＝CO2,P＝１）の製造法。］ ピリジン中、氷冷下でベンシルオキシビフェニルカル
ボン酸クロリド930ミリグラム（2.75ミリモル）に
（Ｓ）−ヒドロキシ酪酸メチル250ミリグラム（2.12ミ
リモル）を加え、室温下で４時間撹はんした。この反応
液を１規定塩酸に注ぎ、酸性化した後、エーテル抽出
し、乾燥後、エーテルを減圧留去した。得られた残査を
シリカゲルカラムクロマトグラフィーにより精製するこ
とにより、（Ｓ）−４′−ベンジルオキシ−４−ビフェ
ニルカルボン酸１−メチル−２−メトキシカルボニルエ
チル440ミリグラム（1.05）ミリモル）を得た。上記化
合物440ミリグラム（1.05ミリモル）のエタノール（20
ミリリットル）溶液に５パーセント−パラジウム−チャ
コール（50ミリグラム）を添加した後、水素雰囲気下10
時間撹はんした。反応液から不溶物をろ別し、溶媒を留
去して得られた残査をシリカゲルカラムトグラフィーに
より精製し、（Ｓ）−４′−ヒドロキシ−４−ビフェニ
ルカルボン酸１−メチル−２−メトキシカルボニルエチ
ル320ミリグラム（0.97ミリモル）を得た。水素化ナト
リウム54ミリグラム（1.35ミリモル）をテトラヒドロフ
ラン（10ミリリットル）に懸濁し、（Ｓ）−４′−ヒド
ロキシ−４−ビフェニルカルボン酸１−メチル−２−メ
トキシカルボニルエチル410ミリグラム（1.24ミリモ
ル）のテトラヒドロフラン（２ミリリットル）溶液を０
℃で滴下した。更にｐ−オクチルオキシベンジルクロリ
ド320ミリグラム（1.26ミリモル）及びジメチルスルホ
キシド（12ミリリットル）を加え、室温下で５時間撹は
んした。１規定塩酸で反応溶液を酸性化した後、クロロ
ホルム抽出した。抽出液は乾燥後、減圧下溶媒留去した
後、残査をシリカゲルカラムトグラフィーで精製するこ
とにより目的の（Ｓ）−４′−（ｐ−オクチルオキシベ
ンジルオキシ）−４−ビフェニルカルボン酸１−メチル
−２−メトキシカルボニルエチルを210ミリグラム（31
パーセント）を得た。
09（S,2H）,5.0〜5.5（m,1H）,6.9〜8.2（m,12H） IRスペクトル（KBrディスク,cm-1）； 1710,1610,1710 比旋光度▲［α］25 Ｄ▼−13.3゜（Ｃ＝1.731,CHCl3） 実施例６ ［（Ｓ）−４′−（ｐ−オクチルオキシベンジルオキ
シ）−４−ビフェニルカルボン酸１−メチル−２−メト
キシカルボニルエチル、（（１）式に於て、ｌ＝8,m＝
1,n＝2,A＝CH2O,B＝CO2,P＝１）の製造法。］ ピリジン中、氷冷下でベンシルオキシビフェニルカル
ボン酸クロリド930ミリグラム（2.75ミリモル）に
（Ｓ）−ヒドロキシ酪酸メチル250ミリグラム（2.12ミ
リモル）を加え、室温下で４時間撹はんした。この反応
液を１規定塩酸に注ぎ、酸性化した後、エーテル抽出
し、乾燥後、エーテルを減圧留去した。得られた残査を
シリカゲルカラムクロマトグラフィーにより精製するこ
とにより、（Ｓ）−４′−ベンジルオキシ−４−ビフェ
ニルカルボン酸１−メチル−２−メトキシカルボニルエ
チル440ミリグラム（1.05）ミリモル）を得た。上記化
合物440ミリグラム（1.05ミリモル）のエタノール（20
ミリリットル）溶液に５パーセント−パラジウム−チャ
コール（50ミリグラム）を添加した後、水素雰囲気下10
時間撹はんした。反応液から不溶物をろ別し、溶媒を留
去して得られた残査をシリカゲルカラムトグラフィーに
より精製し、（Ｓ）−４′−ヒドロキシ−４−ビフェニ
ルカルボン酸１−メチル−２−メトキシカルボニルエチ
ル320ミリグラム（0.97ミリモル）を得た。水素化ナト
リウム54ミリグラム（1.35ミリモル）をテトラヒドロフ
ラン（10ミリリットル）に懸濁し、（Ｓ）−４′−ヒド
ロキシ−４−ビフェニルカルボン酸１−メチル−２−メ
トキシカルボニルエチル410ミリグラム（1.24ミリモ
ル）のテトラヒドロフラン（２ミリリットル）溶液を０
℃で滴下した。更にｐ−オクチルオキシベンジルクロリ
ド320ミリグラム（1.26ミリモル）及びジメチルスルホ
キシド（12ミリリットル）を加え、室温下で５時間撹は
んした。１規定塩酸で反応溶液を酸性化した後、クロロ
ホルム抽出した。抽出液は乾燥後、減圧下溶媒留去した
後、残査をシリカゲルカラムトグラフィーで精製するこ
とにより目的の（Ｓ）−４′−（ｐ−オクチルオキシベ
ンジルオキシ）−４−ビフェニルカルボン酸１−メチル
−２−メトキシカルボニルエチルを210ミリグラム（31
パーセント）を得た。
NMRスペクトル（CDCl3,ppm）； 0.6〜2.1（m,15H）,1.43（d,j＝6Hz,3H）,2.68（d,d,2
H）,3.62（S,3H）,3.91（t,2H）,4.98（s,2H）,5.47
（q,J＝6Hz,1H）， IRスペクトル（KBrディスク,cm-1）； 1740,1720,1610,1190 比旋光度▲［α］25 Ｄ▼−15.5゜（Ｃ＝0.291,CHCl3） 実施例７ ［（Ｓ）−ｐ−（４′−オクチルオキシ−４−ビフェニ
ルオキシカルビニル）安息香酸１−メチル−２−メトキ
シカルボニルエチル（（１）式に於てｌ＝8,m＝2,n＝1,
A＝OCH2,B＝CO2,P＝１）の製造法。］ （Ｓ）−３−ヒドロキシ酪酸メチル1.18グラム（10.0
ミリモル）にトルエン中でｐ−ブロモ安息香酸ブロミド
2.78グラム（10.0ミリモル）を12時間反応させた。反応
液を水洗し、トルエンを減圧留去することにより得られ
る残査をシリカゲルカラムクロマトグラフィーにより精
製し、（Ｓ）−ｐ−ブロモメチル安息香酸１−メチル−
２−メトキシカルボニルエチルを2.27グラム（7.2ミリ
モル）を得た。
H）,3.62（S,3H）,3.91（t,2H）,4.98（s,2H）,5.47
（q,J＝6Hz,1H）， IRスペクトル（KBrディスク,cm-1）； 1740,1720,1610,1190 比旋光度▲［α］25 Ｄ▼−15.5゜（Ｃ＝0.291,CHCl3） 実施例７ ［（Ｓ）−ｐ−（４′−オクチルオキシ−４−ビフェニ
ルオキシカルビニル）安息香酸１−メチル−２−メトキ
シカルボニルエチル（（１）式に於てｌ＝8,m＝2,n＝1,
A＝OCH2,B＝CO2,P＝１）の製造法。］ （Ｓ）−３−ヒドロキシ酪酸メチル1.18グラム（10.0
ミリモル）にトルエン中でｐ−ブロモ安息香酸ブロミド
2.78グラム（10.0ミリモル）を12時間反応させた。反応
液を水洗し、トルエンを減圧留去することにより得られ
る残査をシリカゲルカラムクロマトグラフィーにより精
製し、（Ｓ）−ｐ−ブロモメチル安息香酸１−メチル−
２−メトキシカルボニルエチルを2.27グラム（7.2ミリ
モル）を得た。
乾燥テトラヒドロフラン（12ミリリットル）中で４′
−オクチルオキシ−４−ビフェノール470ミリグラム
（1.58ミリモル）に水素化ナトリウム63ミリグラム（1.
58ミリモル）を０℃で作用させた後、（Ｓ）−ｐ−ブロ
モ安息香酸１−メチル−２−メトキシカルボニルエチル
600ミリグラム（1.90ミリモル）及びジメチルスルホキ
シド（12ミリリットル）を加え、室温下で５時間撹はん
した。１規定塩酸で反応溶液を酸性化し、クロロホルム
抽出した。抽出液は、乾燥後、減圧下で溶媒を留去した
後、残査をシリカゲルクロマトグラフィーで精製するこ
とにより、目的の（Ｓ）−ｐ−（４′−オクチルオキシ
−４−ビフェニルオキシカルビニル）安息香酸１−メチ
ル−２−メトキシカルボニルエチルを350ミリグラム（4
2パーセント）得た。
−オクチルオキシ−４−ビフェノール470ミリグラム
（1.58ミリモル）に水素化ナトリウム63ミリグラム（1.
58ミリモル）を０℃で作用させた後、（Ｓ）−ｐ−ブロ
モ安息香酸１−メチル−２−メトキシカルボニルエチル
600ミリグラム（1.90ミリモル）及びジメチルスルホキ
シド（12ミリリットル）を加え、室温下で５時間撹はん
した。１規定塩酸で反応溶液を酸性化し、クロロホルム
抽出した。抽出液は、乾燥後、減圧下で溶媒を留去した
後、残査をシリカゲルクロマトグラフィーで精製するこ
とにより、目的の（Ｓ）−ｐ−（４′−オクチルオキシ
−４−ビフェニルオキシカルビニル）安息香酸１−メチ
ル−２−メトキシカルボニルエチルを350ミリグラム（4
2パーセント）得た。
NMRスペクトル（CDCl3,ppm）； 0.7〜2.1（m,15H）,1.43（d,3H）,2.70（d,d,2H）,3.63
（s,3H）,3.93（t,2H）,5.07（s,2H）,5.48（m,1H）,6.
5〜8.1（m,12H） IRスペクトル（KBrディスク,cm-1）； 1740,1210,1608,1190 比旋光度▲［α］25 Ｄ▼−15.3゜（Ｃ＝0.291,CHCl3） 実施例８ ［（Ｒ）−２−［４−（４′−オクチルオキシ−４−ビ
フェニルカルビニルオキシ）フェノキシ］プロピオン酸
メチル（式（１）に於てｌ＝8,m＝2,n＝1,A＝CH2O,B＝
O,P＝１）の製造法。］ 水素化ナトリウム270ミリグラム（6.75ミリモル）を
テトラヒドロフラン（10ミリリットル）にけんだくし、
（Ｒ）−ｐ−ヒドロキシフェノキシプロピオン酸メチル
1.30グラム（6.63ミリモル）のテトラヒドロフラン（２
ミリリットル）溶液を０℃で滴下した。更に４′−オク
チルオキシ−４−クロロメチルビフェニル2.10グラム
（6.66ミリモル）及びジメチルスルホキシド（12ミリリ
ットル）を加え、室温下で５時間撹はんした。１規定塩
酸で反応溶液を酸性化した後、クロロホルム抽出を行っ
た。抽出液は、乾燥後、減圧下で溶媒を留去した後、残
査をシリカゲルカラムクロマトグラフィーで精製するこ
とにより、目的の（Ｒ）−２−［４−（４′−オクチル
オキシ−４−ビフェニルカルビニルオキシ）フェノキ
シ］プロピオン酸メチルを2.23グラム（71パーセント）
を得た。
（s,3H）,3.93（t,2H）,5.07（s,2H）,5.48（m,1H）,6.
5〜8.1（m,12H） IRスペクトル（KBrディスク,cm-1）； 1740,1210,1608,1190 比旋光度▲［α］25 Ｄ▼−15.3゜（Ｃ＝0.291,CHCl3） 実施例８ ［（Ｒ）−２−［４−（４′−オクチルオキシ−４−ビ
フェニルカルビニルオキシ）フェノキシ］プロピオン酸
メチル（式（１）に於てｌ＝8,m＝2,n＝1,A＝CH2O,B＝
O,P＝１）の製造法。］ 水素化ナトリウム270ミリグラム（6.75ミリモル）を
テトラヒドロフラン（10ミリリットル）にけんだくし、
（Ｒ）−ｐ−ヒドロキシフェノキシプロピオン酸メチル
1.30グラム（6.63ミリモル）のテトラヒドロフラン（２
ミリリットル）溶液を０℃で滴下した。更に４′−オク
チルオキシ−４−クロロメチルビフェニル2.10グラム
（6.66ミリモル）及びジメチルスルホキシド（12ミリリ
ットル）を加え、室温下で５時間撹はんした。１規定塩
酸で反応溶液を酸性化した後、クロロホルム抽出を行っ
た。抽出液は、乾燥後、減圧下で溶媒を留去した後、残
査をシリカゲルカラムクロマトグラフィーで精製するこ
とにより、目的の（Ｒ）−２−［４−（４′−オクチル
オキシ−４−ビフェニルカルビニルオキシ）フェノキ
シ］プロピオン酸メチルを2.23グラム（71パーセント）
を得た。
NMRスペクトル（CDCl3,ppm）； 0.7〜2.1（m,18H）,3.66（S,3H）3.91（t,2H）,4.60
（q,1H）,4.93（S,2H）,6.7〜7.8（m,12H） IRスペクトル（KBrディスク,cm-1）； 1750,1510,1218 比旋光度▲［α］25 Ｄ▼＋4.3゜（Ｃ＝0.950,CHCl3） 実施例９ ４−ｎオクチチルオキシ−４′−ビフェニルカルボン酸
ｐ−（１−トリフルオロメチルヘプチルオキシカルボニ
ル）フェニルエステル［一般式（１）において、ｌ＝8,
m＝2,n＝1,A＝CO2,B＝CO2,p＝１］ ベンジルオキシ安息香酸クロリド（432ミリグラム）
と（Ｒ）−1,1,1−トリフルオロ−２−オクタノール（2
12ミリグラム）を無水ピリジン（２ミリリットル）に溶
解し、室温下で５時間撹はんした。この反応液を水に注
ぎ反応を停止しエーテル抽出した。エーテル層を５％塩
酸水溶液及び水で洗浄した後、無水硫酸ナトリウムで乾
燥した。エーテルを留去した後残査をシリカゲルクロマ
トグラフィーに付し、（Ｒ）−ｐ−ベンジルオキシ安息
香酸１−トリフルオロメチルヘプチルエステル（429ミ
リグラム）を得た。上記化合物（253ミリグラム）のエ
タノール溶液に５％パラジウム−チャコール（40ミリグ
ラム）添加した後、水素雰囲気下で12時間撹はんした。
パラジウム−チャコールをろ別した後、溶媒を除去し、
シリカゲルカラムクロマトグラフィーにより精製し、
（Ｒ）−ｐ−ヒドロキシ安息香酸１−トリフルオロメチ
ルヘプチルエステル（172ミリグラム）を得た。４−ｎ
−オクチルオキシ−４′−ビフェニルカルボン酸クロリ
ド（660ミリグラム）と上記化合物（295ミリグラム）を
ピリジン（３ミリリットル）に溶解し、室温下で23時間
撹はんした。この反応液を水に注ぎ反応を停止し、エー
テル抽出した。エーテル層は５％塩酸水溶液及び水で洗
浄し、乾燥（Na2SO4）後カラムクロマトグラフィーで精
製することにより、目的の４−ｎ−オクチルオキシ−
４′−ビフェニルカルボン酸ｐ−（１−トリフルオロメ
チルヘプチルオキシカルボニル）フェニルエステル（54
2ミリグラム）を得た。
（q,1H）,4.93（S,2H）,6.7〜7.8（m,12H） IRスペクトル（KBrディスク,cm-1）； 1750,1510,1218 比旋光度▲［α］25 Ｄ▼＋4.3゜（Ｃ＝0.950,CHCl3） 実施例９ ４−ｎオクチチルオキシ−４′−ビフェニルカルボン酸
ｐ−（１−トリフルオロメチルヘプチルオキシカルボニ
ル）フェニルエステル［一般式（１）において、ｌ＝8,
m＝2,n＝1,A＝CO2,B＝CO2,p＝１］ ベンジルオキシ安息香酸クロリド（432ミリグラム）
と（Ｒ）−1,1,1−トリフルオロ−２−オクタノール（2
12ミリグラム）を無水ピリジン（２ミリリットル）に溶
解し、室温下で５時間撹はんした。この反応液を水に注
ぎ反応を停止しエーテル抽出した。エーテル層を５％塩
酸水溶液及び水で洗浄した後、無水硫酸ナトリウムで乾
燥した。エーテルを留去した後残査をシリカゲルクロマ
トグラフィーに付し、（Ｒ）−ｐ−ベンジルオキシ安息
香酸１−トリフルオロメチルヘプチルエステル（429ミ
リグラム）を得た。上記化合物（253ミリグラム）のエ
タノール溶液に５％パラジウム−チャコール（40ミリグ
ラム）添加した後、水素雰囲気下で12時間撹はんした。
パラジウム−チャコールをろ別した後、溶媒を除去し、
シリカゲルカラムクロマトグラフィーにより精製し、
（Ｒ）−ｐ−ヒドロキシ安息香酸１−トリフルオロメチ
ルヘプチルエステル（172ミリグラム）を得た。４−ｎ
−オクチルオキシ−４′−ビフェニルカルボン酸クロリ
ド（660ミリグラム）と上記化合物（295ミリグラム）を
ピリジン（３ミリリットル）に溶解し、室温下で23時間
撹はんした。この反応液を水に注ぎ反応を停止し、エー
テル抽出した。エーテル層は５％塩酸水溶液及び水で洗
浄し、乾燥（Na2SO4）後カラムクロマトグラフィーで精
製することにより、目的の４−ｎ−オクチルオキシ−
４′−ビフェニルカルボン酸ｐ−（１−トリフルオロメ
チルヘプチルオキシカルボニル）フェニルエステル（54
2ミリグラム）を得た。
NMRスペクトル（CDCl3,ppm）； 0.6〜2.1（m,28H）,3.93（t,2H）,5.20〜5.82（m,1H）,
6.7〜8.3（12H） IRスペクトル（KBrディスク,cm-1）;1740,1605,1510,12
65 比旋光度▲［α］25 Ｄ▼＋23.4（Ｃ＝0.900,CHCl3） 実施例10 ｐ−ｎ−オクチルオキシ安息香酸４′−（１−トリフル
オロメチルヘプチルオキシカルボニル）−４−ビフェニ
ルエステル［一般式（１）においてｌ＝8,m＝1,n＝2,A
＝CO2,B＝CO2,p＝１］ ４′−ベンジルオキシ−４−ビフェニルカルボン酸ク
ロリド（503ミリグラム）と光学純度74％エナンチオエ
クセスの（Ｒ）−1,1,1−トリフルオロ−２−オクタノ
ール（190ミリグラム）をピリジン中（２ミリリット
ル）40時間作用させた。エーテル抽出し、５％塩酸水溶
液及び水洗、乾燥後、シリカゲルカラムクロマトグラフ
ィーで精製することにより、（Ｒ）−４′−ベンジルオ
キシ−４−ビフェニルカルボン酸１−トリフルオロメチ
ルヘプチルエステル（429ミリグラム）を得た。上記化
合物（429ミリグラム）をエタノール中、５％パラジウ
ム−チャコールの触媒により水添し、常法に従い、単離
精製することにより、４′−ヒドロキシ−４ビフェニル
カルボン酸１−トリフルオロメチルヘプチルエステル
（323ミリグラム）を得た。
6.7〜8.3（12H） IRスペクトル（KBrディスク,cm-1）;1740,1605,1510,12
65 比旋光度▲［α］25 Ｄ▼＋23.4（Ｃ＝0.900,CHCl3） 実施例10 ｐ−ｎ−オクチルオキシ安息香酸４′−（１−トリフル
オロメチルヘプチルオキシカルボニル）−４−ビフェニ
ルエステル［一般式（１）においてｌ＝8,m＝1,n＝2,A
＝CO2,B＝CO2,p＝１］ ４′−ベンジルオキシ−４−ビフェニルカルボン酸ク
ロリド（503ミリグラム）と光学純度74％エナンチオエ
クセスの（Ｒ）−1,1,1−トリフルオロ−２−オクタノ
ール（190ミリグラム）をピリジン中（２ミリリット
ル）40時間作用させた。エーテル抽出し、５％塩酸水溶
液及び水洗、乾燥後、シリカゲルカラムクロマトグラフ
ィーで精製することにより、（Ｒ）−４′−ベンジルオ
キシ−４−ビフェニルカルボン酸１−トリフルオロメチ
ルヘプチルエステル（429ミリグラム）を得た。上記化
合物（429ミリグラム）をエタノール中、５％パラジウ
ム−チャコールの触媒により水添し、常法に従い、単離
精製することにより、４′−ヒドロキシ−４ビフェニル
カルボン酸１−トリフルオロメチルヘプチルエステル
（323ミリグラム）を得た。
更にこのものとｐ−オクチルオキシ安息香酸クロリド
（340ミリグラム）をピリジン（３ミリリットル）中、2
3時間作用させた。反応終了後、反応液を水に注ぎ反応
を停止させ、エーテル抽出した。エーテル層は５％塩酸
水溶液次いで水て洗浄し、乾燥後、カラムクロマトグラ
フィーで精製することにより、目的のｐ−ｎ−オクチル
オキシ安息香酸４′−（１−トリフルオロメチルヘプチ
ルオキシカルボニル）−４−ビフェニルエステル（422
ミリグラム）を得た。
（340ミリグラム）をピリジン（３ミリリットル）中、2
3時間作用させた。反応終了後、反応液を水に注ぎ反応
を停止させ、エーテル抽出した。エーテル層は５％塩酸
水溶液次いで水て洗浄し、乾燥後、カラムクロマトグラ
フィーで精製することにより、目的のｐ−ｎ−オクチル
オキシ安息香酸４′−（１−トリフルオロメチルヘプチ
ルオキシカルボニル）−４−ビフェニルエステル（422
ミリグラム）を得た。
NMRスペクトル（CDCl3,ppm）； 6.6〜2.1（m,28H）,3.96（t,2H）,5.20〜5.83（m,1H）,
6.7〜8.2（m,12H） IRスペクトル（KBrディスク,cm-1）； 1740,1728,1610,1510,1285,1264 比旋光度▲［α］25 Ｄ▼＋31.4（Ｃ＝0.972,CHCl3） 実施例11 （Ｒ）−ｐ−（４′−オクチルオキシ−４−ビフェニル
オキシカルボニル）−安息香酸１−トリフルオロメチル
ヘプチルエスル［一般式（１）においてｌ＝8,m＝2,n＝
1,A＝OCO,B＝CO2,p＝１］ テレフタル酸モノベンジルエステルにオキザリルクロ
リドを作用させて得られる酸クロリド（420ミリクラ
ム）と（Ｒ）−1,1,1−トリフルオロ−２−オクタノー
ル（135ミリグラム）をピリジン中（2.5ミリリットル）
に溶解し室温下で23時間撹はんした。常法に従い単離精
製することにより、ｐ−ベンジルオキシカルボニル安息
香酸１−トリフルオロメチルヘプチル（275ミリグラ
ム）を得た。更にこのものをエタノール中５％パラジウ
ム−チャコール触媒下で水添し、ｐ−（１−トリフルオ
ロメチルヘプチルオキシカルボニル）−安息香酸（215
ミリグラム）を得た。更に上記化合物（210ミリグラ
ム）にオギザリルクロリド（１ミリリットル）をトルエ
ン中100℃で６時間作用させた。反応終了後過剰のオギ
ザリルクロリドとトルエンを減圧留去し単離することな
く続いてピリジン中で20時間４′−オクチルオキシ−４
−ビフェノール（228ミリグラム）を作用させた。常法
に従い単離精製することにより目的の（Ｒ）−ｐ−
（４′−オクチルオキシ−４−ビフェニルカルボニル）
−安息香酸１−トリフルオロメチルヘプチルエステル
（235ミリグラム）を得た。
6.7〜8.2（m,12H） IRスペクトル（KBrディスク,cm-1）； 1740,1728,1610,1510,1285,1264 比旋光度▲［α］25 Ｄ▼＋31.4（Ｃ＝0.972,CHCl3） 実施例11 （Ｒ）−ｐ−（４′−オクチルオキシ−４−ビフェニル
オキシカルボニル）−安息香酸１−トリフルオロメチル
ヘプチルエスル［一般式（１）においてｌ＝8,m＝2,n＝
1,A＝OCO,B＝CO2,p＝１］ テレフタル酸モノベンジルエステルにオキザリルクロ
リドを作用させて得られる酸クロリド（420ミリクラ
ム）と（Ｒ）−1,1,1−トリフルオロ−２−オクタノー
ル（135ミリグラム）をピリジン中（2.5ミリリットル）
に溶解し室温下で23時間撹はんした。常法に従い単離精
製することにより、ｐ−ベンジルオキシカルボニル安息
香酸１−トリフルオロメチルヘプチル（275ミリグラ
ム）を得た。更にこのものをエタノール中５％パラジウ
ム−チャコール触媒下で水添し、ｐ−（１−トリフルオ
ロメチルヘプチルオキシカルボニル）−安息香酸（215
ミリグラム）を得た。更に上記化合物（210ミリグラ
ム）にオギザリルクロリド（１ミリリットル）をトルエ
ン中100℃で６時間作用させた。反応終了後過剰のオギ
ザリルクロリドとトルエンを減圧留去し単離することな
く続いてピリジン中で20時間４′−オクチルオキシ−４
−ビフェノール（228ミリグラム）を作用させた。常法
に従い単離精製することにより目的の（Ｒ）−ｐ−
（４′−オクチルオキシ−４−ビフェニルカルボニル）
−安息香酸１−トリフルオロメチルヘプチルエステル
（235ミリグラム）を得た。
NMRスペクトル（CDCl3,ppm）； 0.6〜2.1（m,28H）,3.78）（t,2H）,5.23〜5.83（m,1
H）,6.7〜7.6（m,8H）,8.13（bs,4H） IRスペクトル（KBrディスク,cm-1）； 1740,1610,1503,1270 比旋光度▲［α］25 Ｄ▼＋26.1（Ｃ＝1.134,CHCl3） 実施例12 （Ｒ）−４′−（ｐ−オクチルオキシフェニルオキシカ
ルボニル）−４−ビフェニルカルボン酸１−トリフルオ
ロメチルヘプチルエステル［一般式（１）においてｌ＝
8,m＝1,n＝2,A＝COC,B＝CO2,p＝１］ ビフェニル−4,4′−ジカルボン酸モノベンジルエス
テルにオギザリルクロリドを作用させて得られる酸クロ
リド（630ミリグラム）と光学純度84％エナンチオエク
セスの（Ｒ）−1,1,1−トリフルオロ−２−オクタノー
ル（216ミリグラム）をピリジン（２ミリリットル）に
溶解し、室温下で40時間撹はんした。常法に従い単離精
製することにより、４′−ベンジルオキシカルボニル−
４ビフェニルカルボン酸１−トリフルオロメチルヘプチ
ル（450ミリグラム）を得た。このものをエタノールに
溶解し、５％パラジウム−チャコール（40ミリグラム）
を加え、水素雰囲気下４時間撹はんした。常法に従い単
離精製することにより、４′−（１−トリフルオロメチ
ルヘプチルオキシカルボニル）−４−ビフェニルカルボ
ン酸（304ミリグラム）を得た。更に上記化合物（304ミ
リグラム）とオギザリルクロリド（１ミリリットル）を
トルエン中100℃で、６時間作用させた。反応終了後、
過剰のオギザリルクロリドとトルエンを減圧留去し、単
離することなく続いてピリジン中で20時間ｐ−オクチル
オキシフェノール（196ミリグラム）を作用させた。常
法に従い単離精製することにより、目的の（Ｒ）−４′
−（ｐ−オクチルオキシフェニル）−４−ビフェニルカ
ルボン酸１−トリフルオロメチルヘプチルエステル（29
9ミルグラム）を得た。
H）,6.7〜7.6（m,8H）,8.13（bs,4H） IRスペクトル（KBrディスク,cm-1）； 1740,1610,1503,1270 比旋光度▲［α］25 Ｄ▼＋26.1（Ｃ＝1.134,CHCl3） 実施例12 （Ｒ）−４′−（ｐ−オクチルオキシフェニルオキシカ
ルボニル）−４−ビフェニルカルボン酸１−トリフルオ
ロメチルヘプチルエステル［一般式（１）においてｌ＝
8,m＝1,n＝2,A＝COC,B＝CO2,p＝１］ ビフェニル−4,4′−ジカルボン酸モノベンジルエス
テルにオギザリルクロリドを作用させて得られる酸クロ
リド（630ミリグラム）と光学純度84％エナンチオエク
セスの（Ｒ）−1,1,1−トリフルオロ−２−オクタノー
ル（216ミリグラム）をピリジン（２ミリリットル）に
溶解し、室温下で40時間撹はんした。常法に従い単離精
製することにより、４′−ベンジルオキシカルボニル−
４ビフェニルカルボン酸１−トリフルオロメチルヘプチ
ル（450ミリグラム）を得た。このものをエタノールに
溶解し、５％パラジウム−チャコール（40ミリグラム）
を加え、水素雰囲気下４時間撹はんした。常法に従い単
離精製することにより、４′−（１−トリフルオロメチ
ルヘプチルオキシカルボニル）−４−ビフェニルカルボ
ン酸（304ミリグラム）を得た。更に上記化合物（304ミ
リグラム）とオギザリルクロリド（１ミリリットル）を
トルエン中100℃で、６時間作用させた。反応終了後、
過剰のオギザリルクロリドとトルエンを減圧留去し、単
離することなく続いてピリジン中で20時間ｐ−オクチル
オキシフェノール（196ミリグラム）を作用させた。常
法に従い単離精製することにより、目的の（Ｒ）−４′
−（ｐ−オクチルオキシフェニル）−４−ビフェニルカ
ルボン酸１−トリフルオロメチルヘプチルエステル（29
9ミルグラム）を得た。
NMRスペクトル（CDCl3,ppm）； 0.6〜2.0（m,28H）,3.82（t,2H）,4.97〜5.67（m,1H）,
6.68（bs,4H）,7.0〜8.3（m,8H） IRスペクトル（KBrディスク,cm-1）； 1745,1725,1597,1505,1240,1190 比旋光度▲［α］25 Ｄ▼＋16.6（Ｃ＝1.923,CHCl3） 実施例13 （Ｒ）−ｐ−（４′−オクチルオキシ−４−ビフェニル
カルビニルオキシ）安息香酸１−トルフルオロメチルヘ
プチル（1c）［一般式（１）においてｌ＝8,m＝2,n＝1,
A＝CH2O,B＝CO2,p＝１）の製造法。］ 実施例１において得られるｐ−ヒドロキシ安息香酸１
−トリフルオロメチルヘプチル（301ミリグラム、1,1,1
−トリフルオロ−２−オクタノールは光学純度84％エナ
ンチオエクセスのものを使用した。）を、テトラヒドロ
フラン（７ミリリットル）に懸濁した水素化ナトリウム
（31ミリクラム）中に氷冷下で加え、更に４′−オクチ
ルオキシ−４−ビフェニルメチルクロリド（410ミリグ
ラム）及びジメチルスルホキシド（４ミリリットル）を
加え室温下24時間撹はんした。５％塩酸水溶液を加え反
応を停止し、エーテル抽出を行った。常法に従い単離精
製することにより、目的の（Ｒ）−ｐ−（４′−オクチ
ル−４−ビフェニルカルビニルキシ）−安息香酸１−ト
リフルオロメチルヘプチルエステル（528ミリグラム）
を得た。
6.68（bs,4H）,7.0〜8.3（m,8H） IRスペクトル（KBrディスク,cm-1）； 1745,1725,1597,1505,1240,1190 比旋光度▲［α］25 Ｄ▼＋16.6（Ｃ＝1.923,CHCl3） 実施例13 （Ｒ）−ｐ−（４′−オクチルオキシ−４−ビフェニル
カルビニルオキシ）安息香酸１−トルフルオロメチルヘ
プチル（1c）［一般式（１）においてｌ＝8,m＝2,n＝1,
A＝CH2O,B＝CO2,p＝１）の製造法。］ 実施例１において得られるｐ−ヒドロキシ安息香酸１
−トリフルオロメチルヘプチル（301ミリグラム、1,1,1
−トリフルオロ−２−オクタノールは光学純度84％エナ
ンチオエクセスのものを使用した。）を、テトラヒドロ
フラン（７ミリリットル）に懸濁した水素化ナトリウム
（31ミリクラム）中に氷冷下で加え、更に４′−オクチ
ルオキシ−４−ビフェニルメチルクロリド（410ミリグ
ラム）及びジメチルスルホキシド（４ミリリットル）を
加え室温下24時間撹はんした。５％塩酸水溶液を加え反
応を停止し、エーテル抽出を行った。常法に従い単離精
製することにより、目的の（Ｒ）−ｐ−（４′−オクチ
ル−４−ビフェニルカルビニルキシ）−安息香酸１−ト
リフルオロメチルヘプチルエステル（528ミリグラム）
を得た。
NMRスペクトル（CDCl3,ppm）； 0.6〜2.1（m,28H）,3.93（t,2H）,5.07（s,2H）,5.20〜
5.80（m,1H）,6.70〜8.20（m,12H） IRスペクトル（KBrディスク,cm-1）； 1735,1610,1513,1292,1253,1183 比旋光度▲［α］25 Ｄ▼＋33.1（Ｃ＝1.067,CHCl3） 実施例14 （Ｒ）−４′−（ｐ−オクチルオキシベンジルオキシ）
−４−ビフェニルカルボン酸１−トリフルオロメチルヘ
プチルエステル（一般式（１）においてｌ＝8,m＝1,n＝
2,A＝CH2O,B＝CO2,p＝１）の製造法。］ 実施例２において得られる４′−ヒドロキシ−４−ビ
フェニルカルボン酸１−トリフルオロメチルヘプチルエ
ステル（315ミリグラム、1,1,1−トリフルオロ−２−オ
クタノールは光学純度84％エナンチオエクセスのものを
使用した。）を、テトラヒドロフラン（７ミリリット
ル）に懸濁した水素化ナトリウム（26ミリグラム）中に
氷冷下で加え、更にｐ−オクチルオキシベンジルクロリ
ド（200ミリグラム）及びジメチルスルホキシド（４ミ
リリットル）を加え、室温下24時間撹はんした。常法に
従い、単離精製することにより、目的の（Ｒ）−４′−
（ｐ−オキシルオキシベンジルオキシ）−４−ビフェニ
ルカルボン酸１−トリフルオロメチルヘプチルエステル
（406ミリグラム）を得た。
5.80（m,1H）,6.70〜8.20（m,12H） IRスペクトル（KBrディスク,cm-1）； 1735,1610,1513,1292,1253,1183 比旋光度▲［α］25 Ｄ▼＋33.1（Ｃ＝1.067,CHCl3） 実施例14 （Ｒ）−４′−（ｐ−オクチルオキシベンジルオキシ）
−４−ビフェニルカルボン酸１−トリフルオロメチルヘ
プチルエステル（一般式（１）においてｌ＝8,m＝1,n＝
2,A＝CH2O,B＝CO2,p＝１）の製造法。］ 実施例２において得られる４′−ヒドロキシ−４−ビ
フェニルカルボン酸１−トリフルオロメチルヘプチルエ
ステル（315ミリグラム、1,1,1−トリフルオロ−２−オ
クタノールは光学純度84％エナンチオエクセスのものを
使用した。）を、テトラヒドロフラン（７ミリリット
ル）に懸濁した水素化ナトリウム（26ミリグラム）中に
氷冷下で加え、更にｐ−オクチルオキシベンジルクロリ
ド（200ミリグラム）及びジメチルスルホキシド（４ミ
リリットル）を加え、室温下24時間撹はんした。常法に
従い、単離精製することにより、目的の（Ｒ）−４′−
（ｐ−オキシルオキシベンジルオキシ）−４−ビフェニ
ルカルボン酸１−トリフルオロメチルヘプチルエステル
（406ミリグラム）を得た。
NMRスペクトル（CDCl3,ppm）； 0.6〜2.1（m,28H）,3.88（t,2H）,4.93（s,2H）,5.20〜
5.80（m,1H）,6.7〜8.2（m,12H） IRスペクトル（KBrディスク,cm-1）； 1737,1606,1506,1250,1187 比旋光度▲［α］25 Ｄ▼＋38.7（Ｃ＝1.027,CHCl3） 実施例15 ［（Ｒ）−ｐ−（４′−オクチルオキシ−４−ビフェニ
ルオキシカルビニル）−安息香酸１−トリフルオロメチ
ルヘプチル（1g）（一般式（１）においてｌ＝8,m＝2,n
＝1,A＝OCH2,B＝CO2,p＝１）の製造法。］ 水素化ナトリウム（300ミリグラム）をテトラヒドロ
フラン（10ミリリットル）に懸濁し、氷冷下で４′−オ
クチルオキシ−４−ビフェノール（3.49グラム）を加え
る。更にｐ−トシルオキシメチル安息香酸メチル（3.81
グラム）及びジメチルスルホキシド（10ミリリットル）
及びテトラヒドロフラン（10ミリリットル）を加えた
後、加熱還流下で６時間撹はんした。５％塩酸水溶液で
反応を停止し、エーテル（20ミリリットル）を加えた。
この時に生成する沈殿物をろ別し、乾燥することによ
り、ｐ−（４′−オクチルオキシ−４−ビフェニルカル
ビニル）−安息香酸メチル（3.68グラム）を得た。この
ものを１規定水酸化ナトリウム水溶液（50ミリリット
ル）とエタノール（50ミリリットル）とジメチルスルホ
キシド（50ミリリットル）の混合溶媒に溶かし、加熱還
流下７時間撹はんした。反応終了後結晶をろ別し、エタ
ノール及び水で洗浄し、結晶を乾燥することにより、ｐ
−（４′−オクチルオキシ−４−ビフェニルカルビニ
ル）安息香酸（3.00グラム）を得た。上記化合物（0.98
グラム）と、オギザリルクロリド（３ミリリットル）を
トルエン中100℃で６時間作用させた。過剰のオギザリ
ルクロリド及びトルエンを減圧留去し、単離することな
く続いてピリジン（３ミリリットル）中（Ｒ）−1,1,1
−トリフルオロ−２−オクタノール（153ミリグラム、
光学純度84％エナンチオエクセス）と24時間作用させ
た。常法に従い単離生成することにより、目的を（Ｒ）
−ｐ−（４−′オクチルオキシ−４−ビフェフニルオキ
シカルビニル）−安息香酸１−トリフルオロメチルヘプ
チル（303ミリグラム）を得た。
5.80（m,1H）,6.7〜8.2（m,12H） IRスペクトル（KBrディスク,cm-1）； 1737,1606,1506,1250,1187 比旋光度▲［α］25 Ｄ▼＋38.7（Ｃ＝1.027,CHCl3） 実施例15 ［（Ｒ）−ｐ−（４′−オクチルオキシ−４−ビフェニ
ルオキシカルビニル）−安息香酸１−トリフルオロメチ
ルヘプチル（1g）（一般式（１）においてｌ＝8,m＝2,n
＝1,A＝OCH2,B＝CO2,p＝１）の製造法。］ 水素化ナトリウム（300ミリグラム）をテトラヒドロ
フラン（10ミリリットル）に懸濁し、氷冷下で４′−オ
クチルオキシ−４−ビフェノール（3.49グラム）を加え
る。更にｐ−トシルオキシメチル安息香酸メチル（3.81
グラム）及びジメチルスルホキシド（10ミリリットル）
及びテトラヒドロフラン（10ミリリットル）を加えた
後、加熱還流下で６時間撹はんした。５％塩酸水溶液で
反応を停止し、エーテル（20ミリリットル）を加えた。
この時に生成する沈殿物をろ別し、乾燥することによ
り、ｐ−（４′−オクチルオキシ−４−ビフェニルカル
ビニル）−安息香酸メチル（3.68グラム）を得た。この
ものを１規定水酸化ナトリウム水溶液（50ミリリット
ル）とエタノール（50ミリリットル）とジメチルスルホ
キシド（50ミリリットル）の混合溶媒に溶かし、加熱還
流下７時間撹はんした。反応終了後結晶をろ別し、エタ
ノール及び水で洗浄し、結晶を乾燥することにより、ｐ
−（４′−オクチルオキシ−４−ビフェニルカルビニ
ル）安息香酸（3.00グラム）を得た。上記化合物（0.98
グラム）と、オギザリルクロリド（３ミリリットル）を
トルエン中100℃で６時間作用させた。過剰のオギザリ
ルクロリド及びトルエンを減圧留去し、単離することな
く続いてピリジン（３ミリリットル）中（Ｒ）−1,1,1
−トリフルオロ−２−オクタノール（153ミリグラム、
光学純度84％エナンチオエクセス）と24時間作用させ
た。常法に従い単離生成することにより、目的を（Ｒ）
−ｐ−（４−′オクチルオキシ−４−ビフェフニルオキ
シカルビニル）−安息香酸１−トリフルオロメチルヘプ
チル（303ミリグラム）を得た。
NMRスペクトル（CDCl3,ppm）； 0.6〜2.1（m,28H）,3.93（t,2H）,5.11（s,2H）,5.20〜
5.80（m,1H）,6.7〜8.2（m,12H） IRスペクトル（KBrディスク,cm-1）； 1740,1610,1502,1270 比旋光度▲［α］25 Ｄ▼＋25.4（Ｃ＝0.921,CHCl3） 実施例16 ［（ｓ）−４′−オクチルオキシ−４−ビフェニルカル
ボン酸１−トリフルオロメチルノニルエステル（1h）
（一般式（１）においてｌ＝8,m＝2,n＝0,A＝CO2,p＝
０）の製造法。］ ４′−オクチルオキシ−４−ビフェニルカルボン酸ク
ロリド（630ミリクラム）と光学純度20％エナンチオエ
クセスの1,1,1−トリフルオロ−２−デカノール（300ミ
リグラム）をピリジン（３ミリリットル）に溶解し、室
温下で24時間撹はんした。常法に従い単離精製すること
により目的の（ｓ）−４′−オクチルオキシ−４−ビフ
ェニルカルボン酸１−トリフルオロメチルノニルエステ
ル（540ミリグラム）を得た。
5.80（m,1H）,6.7〜8.2（m,12H） IRスペクトル（KBrディスク,cm-1）； 1740,1610,1502,1270 比旋光度▲［α］25 Ｄ▼＋25.4（Ｃ＝0.921,CHCl3） 実施例16 ［（ｓ）−４′−オクチルオキシ−４−ビフェニルカル
ボン酸１−トリフルオロメチルノニルエステル（1h）
（一般式（１）においてｌ＝8,m＝2,n＝0,A＝CO2,p＝
０）の製造法。］ ４′−オクチルオキシ−４−ビフェニルカルボン酸ク
ロリド（630ミリクラム）と光学純度20％エナンチオエ
クセスの1,1,1−トリフルオロ−２−デカノール（300ミ
リグラム）をピリジン（３ミリリットル）に溶解し、室
温下で24時間撹はんした。常法に従い単離精製すること
により目的の（ｓ）−４′−オクチルオキシ−４−ビフ
ェニルカルボン酸１−トリフルオロメチルノニルエステ
ル（540ミリグラム）を得た。
NMRスペクトル（CDCl3,ppm）； 0.7〜2.2（m,32H）,4.00（t,2H）,5.55（q,1H）,6.7〜
8.2（m,8H） IRスペクトル（KBrディスク,cm-1）； 1736,1604,1498,1260, 比旋光度▲［α］25 Ｄ▼−18.2（Ｃ＝1.656,CHCl3） 実施例17〜134 明細書に記載した一般合成法１）ないし９）を用いて
合成を行い出来た化合物のNMR,IRスペクトル比旋光度を
表１に示す。
8.2（m,8H） IRスペクトル（KBrディスク,cm-1）； 1736,1604,1498,1260, 比旋光度▲［α］25 Ｄ▼−18.2（Ｃ＝1.656,CHCl3） 実施例17〜134 明細書に記載した一般合成法１）ないし９）を用いて
合成を行い出来た化合物のNMR,IRスペクトル比旋光度を
表１に示す。
表２には本発明の化合物の代表的なものの相転位温度
及び自発分極を示す。表２中、●印は、その相を示すこ
とを表し、−印は、その相を示さないことを表す。また
カッコは、モノトロピック液晶であることを意味する。
自発分極の値は、100μｍのセルに化合物を封入し、ソ
ーヤ・トーヤ法で、測定した値である。
及び自発分極を示す。表２中、●印は、その相を示すこ
とを表し、−印は、その相を示さないことを表す。また
カッコは、モノトロピック液晶であることを意味する。
自発分極の値は、100μｍのセルに化合物を封入し、ソ
ーヤ・トーヤ法で、測定した値である。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 庁内整理番号 ＦＩ 技術表示箇所 Ｃ０７Ｃ 43/29 7419−4Ｈ Ｃ０７Ｃ 43/29 Ｄ 69/612 69/612 69/712 69/712 69/92 69/92 // Ｃ０９Ｋ 19/12 Ｃ０９Ｋ 19/12 19/20 9279−4Ｈ 19/20 Ｇ０２Ｆ 1/13 ５００ Ｇ０２Ｆ 1/13 ５００ 審査官 平山 美千恵 (56)参考文献 特開 昭62−138454（ＪＰ，Ａ) 特開 昭62−81484（ＪＰ，Ａ) 特開 昭62−207387（ＪＰ，Ａ) 特開 昭62−198647（ＪＰ，Ａ) 特開 昭62−123141（ＪＰ，Ａ) 特開 昭62−209044（ＪＰ，Ａ) 特開 昭63−112538（ＪＰ，Ａ) 特開 昭63−243048（ＪＰ，Ａ) 米国特許4556727（ＵＳ，Ａ)
Claims (1)
- 【請求項１】一般式 （但し、式中ｌは１から15、ｍは１又は２、ｎは０から
２、ｐは０又は１のそれぞれ独立した整数である。Ａは
−CO2−又は−OCO−又は−CH2O−又はOCH2−であり、Ｂ
は−CO2−又は−Ｏ−を示す。但し、ｎ＝０の場合のみ
同時にｐ＝0,A＝−CO2−である。Ｒ＊は式（２）から
（６）で表される光学活性基を示す。）で表される光学
活性化合物。 （式中、Ｘは０又は１、Ｙは０から３、Ｚは１又は２、
ｄは０又は１、ｆは０から２の整数であり、R1は、炭素
数１から４の直鎖状又は分岐状アルキル基、又はフェニ
ル基を、R2は直鎖状又は分岐状アルキル基を、Ｗは水素
原子又はフッ素原子を示す。但し、Ｘ＝０のときは、Ｗ
がフッ素原子のみを示すか又は式（１）のＢが−CO2−
のみを示すかのいずれかとする。R3はヒドロキシル基又
はフェニル基を示す。R4は水素原子又はアルキル基を、
R5は水素原子、アルキル基又はアラルキル基を示す。但
し、ｄ＝０のときは、R5は水素原子のみを示す。R6はア
ルキル基を示す。R7はアルキル基、アラルキル基、アリ
ル基、アルコキシカルボニル基又はアルコキシカルボニ
ルアリル基を示す。R8は炭素数１から４の直鎖状又は分
岐状アルキル基であり、＊は不斉炭素を表す。）
Applications Claiming Priority (6)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP20965786 | 1986-09-08 | ||
| JP409087 | 1987-01-13 | ||
| JP793187 | 1987-01-16 | ||
| JP61-209657 | 1987-01-16 | ||
| JP62-7931 | 1987-01-16 | ||
| JP62-4090 | 1987-01-16 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS63307837A JPS63307837A (ja) | 1988-12-15 |
| JP2562606B2 true JP2562606B2 (ja) | 1996-12-11 |
Family
ID=27276103
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP62190930A Expired - Lifetime JP2562606B2 (ja) | 1986-09-08 | 1987-07-30 | 光学活性化合物 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2562606B2 (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2002009651A2 (en) * | 2000-08-02 | 2002-02-07 | Smithkline Beecham Corporation | Fatty acid synthase inhibitors |
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| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| GB8428653D0 (en) * | 1984-11-13 | 1984-12-19 | Secr Defence | Diesters |
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| JPH0629203B2 (ja) * | 1987-08-21 | 1994-04-20 | 高砂香料工業株式会社 | 液晶性化合物 |
| JPH01139551A (ja) * | 1987-08-26 | 1989-06-01 | Sanyo Chem Ind Ltd | 液晶化合物および組成物 |
| US5167863A (en) * | 1987-12-24 | 1992-12-01 | Hitachi, Ltd. | Optically active compound, liquid crystal composition containing said compound, and liquid crystal optical modulator using said composition |
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| JP2796722B2 (ja) * | 1988-02-02 | 1998-09-10 | 昭和シェル石油株式会社 | 光学素子用液晶 |
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| JPH01316339A (ja) * | 1988-02-26 | 1989-12-21 | Showa Shell Sekiyu Kk | 液晶性物質 |
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- 1987-07-30 JP JP62190930A patent/JP2562606B2/ja not_active Expired - Lifetime
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