JP2797119B2 - 光学活性化合物および液晶組成物 - Google Patents
光学活性化合物および液晶組成物Info
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- JP2797119B2 JP2797119B2 JP1157183A JP15718389A JP2797119B2 JP 2797119 B2 JP2797119 B2 JP 2797119B2 JP 1157183 A JP1157183 A JP 1157183A JP 15718389 A JP15718389 A JP 15718389A JP 2797119 B2 JP2797119 B2 JP 2797119B2
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- phenyl
- liquid crystal
- methylbutyroyl
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- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- C09K—MATERIALS FOR MISCELLANEOUS APPLICATIONS, NOT PROVIDED FOR ELSEWHERE
- C09K19/00—Liquid crystal materials
- C09K19/04—Liquid crystal materials characterised by the chemical structure of the liquid crystal components, e.g. by a specific unit
- C09K19/0403—Liquid crystal materials characterised by the chemical structure of the liquid crystal components, e.g. by a specific unit the structure containing one or more specific, optionally substituted ring or ring systems
- C09K2019/0407—Liquid crystal materials characterised by the chemical structure of the liquid crystal components, e.g. by a specific unit the structure containing one or more specific, optionally substituted ring or ring systems containing a carbocyclic ring, e.g. dicyano-benzene, chlorofluoro-benzene or cyclohexanone
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- Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
- Liquid Crystal Substances (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】 〔発明の属する技術分野〕 本発明は新規な光学活性化合物およびこれを用いた液
晶組成物に関する。
晶組成物に関する。
〔従来の技術〕 液晶表示素子は低駆動電圧、低消費電力、薄形・軽量
等の特徴があり、電卓、時計、テレビ等に適用されてい
る。これらの表示材料には現在ネマティック液晶が最も
広汎に使用されているが、画像表示の応答速度が遅い
（数十msec.）という欠点があった。この欠点を解決す
る方法の一つとして、強誘電性液晶を利用する表示方式
がN.A.Clarkら［Applied Phys.Lett.,36,899（1980）］
により提案されている。この方式は強誘電性液晶のカイ
ラルスメクチックＣ相（以下、Sc＊相と略す）等を利用
するものであり、強誘電性液晶材料には室温を含む広
い温度範囲で強誘電性を示すこと，適当なチルト角を
もつこと，自発分極が大きいこと，回転粘度が小さ
いこと，長いらせんピッチを示すこと，化学的に安
定であること，等が要求される。しかし、これらの条件
をすべて満たす強誘電性液晶化合物は知られていない。
このため、強誘電性液晶を電気光学素子として実用に供
する場合には、数種の液晶性化合物を混合し組成物とし
て用いる必要がある。
等の特徴があり、電卓、時計、テレビ等に適用されてい
る。これらの表示材料には現在ネマティック液晶が最も
広汎に使用されているが、画像表示の応答速度が遅い
（数十msec.）という欠点があった。この欠点を解決す
る方法の一つとして、強誘電性液晶を利用する表示方式
がN.A.Clarkら［Applied Phys.Lett.,36,899（1980）］
により提案されている。この方式は強誘電性液晶のカイ
ラルスメクチックＣ相（以下、Sc＊相と略す）等を利用
するものであり、強誘電性液晶材料には室温を含む広
い温度範囲で強誘電性を示すこと，適当なチルト角を
もつこと，自発分極が大きいこと，回転粘度が小さ
いこと，長いらせんピッチを示すこと，化学的に安
定であること，等が要求される。しかし、これらの条件
をすべて満たす強誘電性液晶化合物は知られていない。
このため、強誘電性液晶を電気光学素子として実用に供
する場合には、数種の液晶性化合物を混合し組成物とし
て用いる必要がある。
カイラルスメクチックＣ（Sc＊）を液晶組成物を得る
には、Sc＊相を示す化合物を複数混合する方法と、光学
活性でないスメクチックＣ相（以下、Sc相と略記す
る。）を示す液晶化合物あるいは液晶組成物に光学活性
化合物を添加する方法とがあり、後者が低粘度で高速応
答を得ることも容易であると考えられるため、現在では
主流になりつつある。添加する光学活性化合物として
は、組成物で大きな自発分極を与えると共に他の特性に
も優れること、なかでも長いらせんピッチを与えること
が望ましい。
には、Sc＊相を示す化合物を複数混合する方法と、光学
活性でないスメクチックＣ相（以下、Sc相と略記す
る。）を示す液晶化合物あるいは液晶組成物に光学活性
化合物を添加する方法とがあり、後者が低粘度で高速応
答を得ることも容易であると考えられるため、現在では
主流になりつつある。添加する光学活性化合物として
は、組成物で大きな自発分極を与えると共に他の特性に
も優れること、なかでも長いらせんピッチを与えること
が望ましい。
本発明者らは、スメクチックＣ（Sc）液晶組成物に添
加した場合、大きな自発分極を与えると共に長いらせん
ピッチを与える光学活性化合物の合成を目的とし、また
Sc＊相の温度範囲が広く、かつ、高速に応答する新規な
強誘電性液晶材料を提供することを目的として、光学活
性化合物を種々検索し、本発明に到達した。
加した場合、大きな自発分極を与えると共に長いらせん
ピッチを与える光学活性化合物の合成を目的とし、また
Sc＊相の温度範囲が広く、かつ、高速に応答する新規な
強誘電性液晶材料を提供することを目的として、光学活
性化合物を種々検索し、本発明に到達した。
本発明は一般式（Ｉ）： （式中、Ｒは炭素数20以下の不斉アルキル基、Ｑは−CO
O−，−OCO−，または単結合、Ｘは水素原子，水酸基又
はハロゲン原子、Ｙは炭素数５以下のアルキル基，炭素
数５以下のアルコキシ基,CF3基又はハロゲン原子を表わ
し、ｋおよびｌは０または１、ｍは１以上20以下の整
数、ｉおよびｊは０以上３以下の整数である。またＣ＊
は不斉炭素原子を表わす。）で示される光学活性化合物
およびこれらの光学活性化合物を１成分以上含有するこ
とを特徴とするカイラルスメクチックＣ（Sc＊）液晶組
成物の発明である。
O−，−OCO−，または単結合、Ｘは水素原子，水酸基又
はハロゲン原子、Ｙは炭素数５以下のアルキル基，炭素
数５以下のアルコキシ基,CF3基又はハロゲン原子を表わ
し、ｋおよびｌは０または１、ｍは１以上20以下の整
数、ｉおよびｊは０以上３以下の整数である。またＣ＊
は不斉炭素原子を表わす。）で示される光学活性化合物
およびこれらの光学活性化合物を１成分以上含有するこ
とを特徴とするカイラルスメクチックＣ（Sc＊）液晶組
成物の発明である。
一般式（Ｉ）に於て、Ｒで表わされる炭素数20以下の
不斉アルキル基としては、自発分極を大きくする目的か
ら１−位に不斉炭素原子を持つアルキル基が望ましく、
例えば１−メチルプロピル基,1−メチルブチル基,1−メ
チルペンチル基,1−メチルヘキシル基,1−メチルヘプチ
ル基,1−メチルオクチル基等がその具体例として挙げら
れる。なお、液晶性を高めるためには、２位以降のカル
ボニル基から離れたところに不斉炭素を持つことが望ま
しい。その例としては、２−メチルブチル基,2−メチル
ペンチル基,3−メチルペンチル基,4−メチルヘキシル基
等が挙げられる。
不斉アルキル基としては、自発分極を大きくする目的か
ら１−位に不斉炭素原子を持つアルキル基が望ましく、
例えば１−メチルプロピル基,1−メチルブチル基,1−メ
チルペンチル基,1−メチルヘキシル基,1−メチルヘプチ
ル基,1−メチルオクチル基等がその具体例として挙げら
れる。なお、液晶性を高めるためには、２位以降のカル
ボニル基から離れたところに不斉炭素を持つことが望ま
しい。その例としては、２−メチルブチル基,2−メチル
ペンチル基,3−メチルペンチル基,4−メチルヘキシル基
等が挙げられる。
一般式（Ｉ）に於てＸで表わされるハロゲン原子とし
ては塩素、臭素、弗素、沃素が挙げられる。
ては塩素、臭素、弗素、沃素が挙げられる。
一般式（Ｉ）に於てＹで表わされる炭素数５以下のア
ルキル基としては、メチル基、エチル基、プロピル基、
ブチル基、アミル基が挙げられ直鎖状、分枝状のいずれ
にても良く、炭素数５以下のアルコキシ基としては、メ
トキシ基、エトキシ基、プロポキシ基、ブトキシ基、ア
ミルオキシ基が挙げられ、直鎖状、分枝状のいずれにて
も良い。またハロゲン原子としては塩素，臭素，弗素，
沃素が挙げられる。
ルキル基としては、メチル基、エチル基、プロピル基、
ブチル基、アミル基が挙げられ直鎖状、分枝状のいずれ
にても良く、炭素数５以下のアルコキシ基としては、メ
トキシ基、エトキシ基、プロポキシ基、ブトキシ基、ア
ミルオキシ基が挙げられ、直鎖状、分枝状のいずれにて
も良い。またハロゲン原子としては塩素，臭素，弗素，
沃素が挙げられる。
上記一般式（Ｉ）の中で不斉置換基Ｒの惹き起こすら
せんと他方の不斉アルキル基の惹き起こすらせんの向き
が逆向きである場内に、らせんが打ち消し合ってそのら
せんピッチが長くなることが期待される。また、双方の
惹き起こす自発分極の向きが一致する場合に分子全体の
自発分極が増大すると考えられる（例えば,J.W.Goodby,
E.Chin,T.M.Leslie,J.M.Geary,J.S.Patelらによる論文
“Helical Twist Sense and Spontaneous Polarization
Direction in Ferroelectric Smectic Liquid Crystal
s"Journal of American Chemical Society,1986年,108
巻,4729−4735頁を参照）。
せんと他方の不斉アルキル基の惹き起こすらせんの向き
が逆向きである場内に、らせんが打ち消し合ってそのら
せんピッチが長くなることが期待される。また、双方の
惹き起こす自発分極の向きが一致する場合に分子全体の
自発分極が増大すると考えられる（例えば,J.W.Goodby,
E.Chin,T.M.Leslie,J.M.Geary,J.S.Patelらによる論文
“Helical Twist Sense and Spontaneous Polarization
Direction in Ferroelectric Smectic Liquid Crystal
s"Journal of American Chemical Society,1986年,108
巻,4729−4735頁を参照）。
例えば、Ｒが（Ｓ）−１−メチルプロピル基である場
合には、その惹き起こす自発分極は（−）であり、らせ
んは左巻である。したがって、他方の不斉アルキル基と
しては、自発分極が（−）であり、らせんが右巻の置換
基を採用することが望ましい。
合には、その惹き起こす自発分極は（−）であり、らせ
んは左巻である。したがって、他方の不斉アルキル基と
しては、自発分極が（−）であり、らせんが右巻の置換
基を採用することが望ましい。
その例として、（Ｓ）−１−メチル−２−エトキシエ
トキシ基（一般式（Ｉ）中、ｋ＝1,i＝1,j＝0,m＝2,Y＝
CH3の置換基），（Ｓ）−１−メチル−２−ブトキシエ
トキシ基（一般式（Ｉ）中、ｋ＝1,i＝1,j＝0,m＝4,Y＝
CH3の置換基）等が挙げられる。しかし、例えば、不斉
アルキル基Ｒとして、（Ｓ）−２−メチルブチル基を用
いた場合、この基の惹き起こす自発分極は（＋），らせ
んは右巻なので、他方の不斉置換基として（Ｓ）−１−
メチル−２−エトキシエトキシ基を用いた場合には自発
分極は打ち消し合ってしまう。この場合には、自発分極
が（＋），らせんは左巻である置換基、例えば、（Ｓ）
−２−メチル−２−ブトキシエトキシ基（一般式（Ｉ）
中、ｋ＝1,i＝0,j＝1,m＝4,Y＝CH3の置換基）を用いる
ことが望ましい。
トキシ基（一般式（Ｉ）中、ｋ＝1,i＝1,j＝0,m＝2,Y＝
CH3の置換基），（Ｓ）−１−メチル−２−ブトキシエ
トキシ基（一般式（Ｉ）中、ｋ＝1,i＝1,j＝0,m＝4,Y＝
CH3の置換基）等が挙げられる。しかし、例えば、不斉
アルキル基Ｒとして、（Ｓ）−２−メチルブチル基を用
いた場合、この基の惹き起こす自発分極は（＋），らせ
んは右巻なので、他方の不斉置換基として（Ｓ）−１−
メチル−２−エトキシエトキシ基を用いた場合には自発
分極は打ち消し合ってしまう。この場合には、自発分極
が（＋），らせんは左巻である置換基、例えば、（Ｓ）
−２−メチル−２−ブトキシエトキシ基（一般式（Ｉ）
中、ｋ＝1,i＝0,j＝1,m＝4,Y＝CH3の置換基）を用いる
ことが望ましい。
本発明化合物は、例えば以下の経路で合成される。
等一ステップ Ｒ＊Ｏ−Ts＋HO−Ph−COMe→Ｒ＊Ｏ−Ph−COMe →Ｒ＊Ｏ−Ph−COOH （III） （式中、Ｒ＊は光学活性アルコキシアルキル基を表わ
し、Tsはｐ−トルエンスルホン酸残基を表わし、Phは1,
4−フェニレン基を表わす。） 即ち、先ず、ｐ−ヒドロキシアセトフェノンを水素化
ナトリウムの存在下、光学活性アルコール（例えば、
（Ｒ）−１−メチル−２−エトキシエタノール）のｐ−
トルエンスルホン酸エステルと反応させ、ついで、次亜
臭素酸ナトリウム水溶液で酸化処理して、光学活性パラ
置換安息香酸を得る。
し、Tsはｐ−トルエンスルホン酸残基を表わし、Phは1,
4−フェニレン基を表わす。） 即ち、先ず、ｐ−ヒドロキシアセトフェノンを水素化
ナトリウムの存在下、光学活性アルコール（例えば、
（Ｒ）−１−メチル−２−エトキシエタノール）のｐ−
トルエンスルホン酸エステルと反応させ、ついで、次亜
臭素酸ナトリウム水溶液で酸化処理して、光学活性パラ
置換安息香酸を得る。
等二ステップ Ｒ＊Ｏ−Ph−COOH＋SOCl2→Ｒ＊Ｏ−Ph−COCl Ｒ＊Ｏ−Ph−COCl＋HO−Ph−Ph（Ｘ）−CO−Ｒ→ Ｒ＊Ｏ−Ph−COO−Ph−Ph（Ｘ）−CO−Ｒ （IV） （式中、Ｒ＊,Ph,X及びＲは前記と同じ。） ステップ１で得られた光学活性パラ置換安息香酸を塩
化チオニルで処理して、酸塩化物とした後これをピリジ
ン等の塩基の存在下、ケトン基をもつ光学活性フェノー
ルと反応させ、目的物を得る。
化チオニルで処理して、酸塩化物とした後これをピリジ
ン等の塩基の存在下、ケトン基をもつ光学活性フェノー
ルと反応させ、目的物を得る。
以下に実施例及び参考例を挙げて本発明を更に詳細に
説明するが、本発明はこれら実施例、参考例により何等
制約を受けるものではない。
説明するが、本発明はこれら実施例、参考例により何等
制約を受けるものではない。
参考例1.（Ｓ）（＋）−４−｛３−ヒドロキシ−４−
（２−メチルブチロイル）フェニル｝フェノールの合成 （１） ３−ベンジルオキシヨードベンゼンの合成 60％水素化ナトリウム（油性）20g（0.5モル）をN,N
−ジメチルホルムアミド（DMF）300mlに懸濁させ、これ
にｍ−ヨードフェノール100g（0.454モル）のDMF溶液を
滴下し、70±５℃で30分撹拌反応させた。次いで塩化ベ
ンジル57.4g（0.454モル）を滴下し、100±５℃で２時
間反応させた。反応液に水１を注入した後、酢酸エチ
ルで抽出し、有機相を分取、水洗し、無水MgSO4で乾燥
した。乾燥剤を別し、溶媒留去し、結晶化した残渣を
エタノールより再結晶して３−ベンジルオキシヨードベ
ンゼン119.7gを白色結晶として得た。収率:85％。m.p.5
1.0〜53.0℃。
（２−メチルブチロイル）フェニル｝フェノールの合成 （１） ３−ベンジルオキシヨードベンゼンの合成 60％水素化ナトリウム（油性）20g（0.5モル）をN,N
−ジメチルホルムアミド（DMF）300mlに懸濁させ、これ
にｍ−ヨードフェノール100g（0.454モル）のDMF溶液を
滴下し、70±５℃で30分撹拌反応させた。次いで塩化ベ
ンジル57.4g（0.454モル）を滴下し、100±５℃で２時
間反応させた。反応液に水１を注入した後、酢酸エチ
ルで抽出し、有機相を分取、水洗し、無水MgSO4で乾燥
した。乾燥剤を別し、溶媒留去し、結晶化した残渣を
エタノールより再結晶して３−ベンジルオキシヨードベ
ンゼン119.7gを白色結晶として得た。収率:85％。m.p.5
1.0〜53.0℃。
IR（KBr）cm-1:1240。
（２）４−（３−ベンジルオキシフェニル）アニソール
の合成 （１）で得た３−ベンジルオキシヨードベンゼン119g
（0.384モル）及びｐ−ヨードアニソール89.9g（0.384
モル）を60±５℃に加熱し、これに銅粉末210gを加えて
200〜210℃で10時間反応させた。反応混合物にトルエン
500mlを注入し、不純物を別し溶媒留去して得た粗結
晶をカラム分離〔充填剤：ワコーゲル〕Ｃ−200（和光
純薬工業（株）製）；溶離液:n−ヘキサン／酢酸エチル
＝20/1〕して４−（３−ベンジルオキシフェニル）アニ
ソール64.8gを白色結晶として得た。収率:58％。m.p.7
8.5〜81.0℃。
の合成 （１）で得た３−ベンジルオキシヨードベンゼン119g
（0.384モル）及びｐ−ヨードアニソール89.9g（0.384
モル）を60±５℃に加熱し、これに銅粉末210gを加えて
200〜210℃で10時間反応させた。反応混合物にトルエン
500mlを注入し、不純物を別し溶媒留去して得た粗結
晶をカラム分離〔充填剤：ワコーゲル〕Ｃ−200（和光
純薬工業（株）製）；溶離液:n−ヘキサン／酢酸エチル
＝20/1〕して４−（３−ベンジルオキシフェニル）アニ
ソール64.8gを白色結晶として得た。収率:58％。m.p.7
8.5〜81.0℃。
IR（KBr）cm-1:2850,1240。
（３）４−（３−ヒドロキシフェニル）アニソールの合
成 （２）で得た４−（３−ベンジルオキシフェニル）ア
ニソール29.0g（0.1モル）を酢酸エチル−テトラヒドロ
フラン混液300mlに溶解し、ラネーニッケル2g触媒下接
触還元（水素初圧:55Kg/cm2;反応温度:100±10℃）し、
触媒を別し、溶媒留去して粗結晶を得た。次いで粗結
晶をカラム分離（充填剤：ワコーゲルＣ−200;溶離液:n
−ヘキサン／酢酸エチル＝10/1）し、４−（３−ヒドロ
キシフェニル）アニソール15.1gを白色結晶として得
た。収率:76％。mp.p.76.5〜78.0℃。
成 （２）で得た４−（３−ベンジルオキシフェニル）ア
ニソール29.0g（0.1モル）を酢酸エチル−テトラヒドロ
フラン混液300mlに溶解し、ラネーニッケル2g触媒下接
触還元（水素初圧:55Kg/cm2;反応温度:100±10℃）し、
触媒を別し、溶媒留去して粗結晶を得た。次いで粗結
晶をカラム分離（充填剤：ワコーゲルＣ−200;溶離液:n
−ヘキサン／酢酸エチル＝10/1）し、４−（３−ヒドロ
キシフェニル）アニソール15.1gを白色結晶として得
た。収率:76％。mp.p.76.5〜78.0℃。
IR（KBr）cm-1:3400,2950,2840,1600。
（４）Ｓ（＋）−４−｛３−（２−メチルブチロイルオ
キシ）フェニル｝アニソールの合成 Ｓ（＋）−（２−メチル）酢酸40g（0.39モル）及び
塩化チオニル70gを徐々に加温し、50〜60℃で２時間反
応させた。反応後濃縮し、残渣を常圧蒸留してbp.116〜
118℃留分のＳ（＋）−塩化（２−メチル）ブチロイル4
2gを無色油状物として得た。収率:90％。
キシ）フェニル｝アニソールの合成 Ｓ（＋）−（２−メチル）酢酸40g（0.39モル）及び
塩化チオニル70gを徐々に加温し、50〜60℃で２時間反
応させた。反応後濃縮し、残渣を常圧蒸留してbp.116〜
118℃留分のＳ（＋）−塩化（２−メチル）ブチロイル4
2gを無色油状物として得た。収率:90％。
別に（３）で得た４−（３−ヒドロキシフェニル）ア
ニソール15g（75ミリモル）をピリジン40mlに溶解し、
これに上記のＳ（＋）−塩化（２−メチル）ブチロイル
9.1g（75ミリモル）を20〜30℃で適下し、同温度で２時
間撹拌反応させた。反応後希塩酸水溶液を注入して、中
和し、酢酸エチル抽出した。有機層を分取し、水洗し、
無水MgSO4で乾燥した。乾燥剤を別後溶媒留去し、残
渣の淡黄色油状物をカラム分離（充填剤：ワコーゲルＣ
−200;容離液:n−ヘキサン／酢酸エチル＝5/1）して、
Ｓ（＋）−４−｛３−（２−メチルブチロイルオキシ）
フェニル｝アニソール20.5gを微黄色油状物として得
た。収率:96％。▲［α］25 D▼：＋12.0゜（ｃ＝2,CHCl
3）。
ニソール15g（75ミリモル）をピリジン40mlに溶解し、
これに上記のＳ（＋）−塩化（２−メチル）ブチロイル
9.1g（75ミリモル）を20〜30℃で適下し、同温度で２時
間撹拌反応させた。反応後希塩酸水溶液を注入して、中
和し、酢酸エチル抽出した。有機層を分取し、水洗し、
無水MgSO4で乾燥した。乾燥剤を別後溶媒留去し、残
渣の淡黄色油状物をカラム分離（充填剤：ワコーゲルＣ
−200;容離液:n−ヘキサン／酢酸エチル＝5/1）して、
Ｓ（＋）−４−｛３−（２−メチルブチロイルオキシ）
フェニル｝アニソール20.5gを微黄色油状物として得
た。収率:96％。▲［α］25 D▼：＋12.0゜（ｃ＝2,CHCl
3）。
IR（Neat）cm-1:2930,1745,1605。
（５）Ｓ（＋）−４−｛３−ヒドロキシ−４−（２−メ
チルブチロイル）フェニル｝アニソールの合成 ニトロベンゼン15mlに塩化アルミニウム5.7gを加えて
70℃に加温し、これに上記（４）で得たＳ（＋）−４−
｛３−（２−メチルブチロイルオキシ）フェニル｝アニ
ソール10g（35ミリモル）を適下した。次いで115〜125
℃で３時間反応させた。反応液を希塩酸水溶液中に注入
後酢酸エチル抽出した。不溶物を別後分液して有機層
を分取し、水洗し、無水Na2SO4で乾燥した。乾燥剤を
別し、溶媒留去して得た褐色油状物をカラム分離（充填
剤：ワコーゲルＣ−200;溶離液:n−ヘキサン／酢酸エチ
ル＝10/1）してＳ（＋）−４−｛３−ヒドロキシ−４−
（２−メチルブチロイル）フェニル｝アニソール3.7gを
微黄色粘稠油状物として得た。収率:37％。▲［α］25 D
▼：＋19.5゜（ｃ＝2,CHCl3）。
チルブチロイル）フェニル｝アニソールの合成 ニトロベンゼン15mlに塩化アルミニウム5.7gを加えて
70℃に加温し、これに上記（４）で得たＳ（＋）−４−
｛３−（２−メチルブチロイルオキシ）フェニル｝アニ
ソール10g（35ミリモル）を適下した。次いで115〜125
℃で３時間反応させた。反応液を希塩酸水溶液中に注入
後酢酸エチル抽出した。不溶物を別後分液して有機層
を分取し、水洗し、無水Na2SO4で乾燥した。乾燥剤を
別し、溶媒留去して得た褐色油状物をカラム分離（充填
剤：ワコーゲルＣ−200;溶離液:n−ヘキサン／酢酸エチ
ル＝10/1）してＳ（＋）−４−｛３−ヒドロキシ−４−
（２−メチルブチロイル）フェニル｝アニソール3.7gを
微黄色粘稠油状物として得た。収率:37％。▲［α］25 D
▼：＋19.5゜（ｃ＝2,CHCl3）。
IR（Neat）cm-1:3400,2920,1605。
元素分析値（C18H20O3） 論理値:C％,76.03;H％,7.09。
実測値:C％,75.85;H％,7.13。
（６）Ｓ（＋）−４−｛３−ヒドロキシ−４−（２−メ
チルブチロイル）フェニル｝フェノールの合成 （５）で得たＳ（＋）−４−｛３−ヒドロキシ−４−
（２−メチルブチロイル）フェニル｝アニソール8g（10
ミリモル）及び塩化アルミニウム1.7gをトルエン30ml
中、撹拌下３時間還流反応させた。反応液を希塩酸水溶
液中に注入し、酢酸エチル抽出した。有機層を分取し、
水洗後無水Na2SO4で乾燥した。乾燥剤を別し溶媒留去
して得られた褐色油状物をカラム分離（充填剤：ワコー
ゲルＣ−200;溶離液:n−ヘキサン／アセトン＝10/1）し
てＳ（＋）−４−｛３−ヒドロキシ−４−（２−メチル
ブチロイル）フェニル｝フェノール1.7gを淡黄色粘稠油
状物として得た。収率:63％。▲［α］25 D▼：＋18.5゜
（ｃ＝2,CHCl3）。
チルブチロイル）フェニル｝フェノールの合成 （５）で得たＳ（＋）−４−｛３−ヒドロキシ−４−
（２−メチルブチロイル）フェニル｝アニソール8g（10
ミリモル）及び塩化アルミニウム1.7gをトルエン30ml
中、撹拌下３時間還流反応させた。反応液を希塩酸水溶
液中に注入し、酢酸エチル抽出した。有機層を分取し、
水洗後無水Na2SO4で乾燥した。乾燥剤を別し溶媒留去
して得られた褐色油状物をカラム分離（充填剤：ワコー
ゲルＣ−200;溶離液:n−ヘキサン／アセトン＝10/1）し
てＳ（＋）−４−｛３−ヒドロキシ−４−（２−メチル
ブチロイル）フェニル｝フェノール1.7gを淡黄色粘稠油
状物として得た。収率:63％。▲［α］25 D▼：＋18.5゜
（ｃ＝2,CHCl3）。
IR（Neat）cm-1:3350,2960,1610。
理論値:C％,75.53;H％,6.71。
実測値:C％,75.50;H％,6.81。
参考例2.S（＋）−４−｛４−（２−メチルブチロイ
ル）フェニル｝フェノールの合成 （１）４−フェニルアニソールの合成 ４−ヒドロキシビフェニル330g（1.94モル）と水酸化
ナトリウム350gを水６に溶解し、55〜60℃でジメチル
硫酸476g（3.77モル）を滴下し、更に70℃で30分撹拌し
た。冷却後、析出晶を取し、得られた粗晶をエタノー
ルより再結晶して４−フェニルアニソール182gを白色粉
末晶として得た。収率:52％。mp.80.5〜83.0℃。
ル）フェニル｝フェノールの合成 （１）４−フェニルアニソールの合成 ４−ヒドロキシビフェニル330g（1.94モル）と水酸化
ナトリウム350gを水６に溶解し、55〜60℃でジメチル
硫酸476g（3.77モル）を滴下し、更に70℃で30分撹拌し
た。冷却後、析出晶を取し、得られた粗晶をエタノー
ルより再結晶して４−フェニルアニソール182gを白色粉
末晶として得た。収率:52％。mp.80.5〜83.0℃。
1HNMR δppm（CDCl3）:3.80（3H,s,CH3O−）,6.83〜
7.56（9H,m,芳香環水素）。
7.56（9H,m,芳香環水素）。
IR（KBr）cm-1:2950,2850,1610,1580。
（２）Ｓ（＋）−４−｛４−（２−メチルブチロイル）
フェニル｝アニソールの合成 （１）で得た４−フェニルアニソール26.0g（0.14モ
ル）及び塩化アルミニウム26.3gを二硫化炭素150ml中に
加え、これに撹拌還流下参考例１の（４）で得たＳ
（＋）−塩化（２−メチル）ブチロイル20.4g（0.17モ
ル）を滴下し、更に１時間撹拌還流反応させた。反応液
を濃縮後希塩酸水溶液250mlを注入し、クロロホルム抽
出した。有機層を分取し、水洗、乾燥した後溶媒留去
し、得られた赤褐色半融状晶をｎ−ヘキサン−酢酸エチ
ルより再結晶してＳ（＋）−４−｛４−（２−メチルブ
チロイル）フェニル｝アニソール 12.4gを白色結晶と
して得た。収率:33％。mp.119〜120℃。▲［α］
25 D▼：＋23.1゜（ｃ＝2,CHCl3）。
フェニル｝アニソールの合成 （１）で得た４−フェニルアニソール26.0g（0.14モ
ル）及び塩化アルミニウム26.3gを二硫化炭素150ml中に
加え、これに撹拌還流下参考例１の（４）で得たＳ
（＋）−塩化（２−メチル）ブチロイル20.4g（0.17モ
ル）を滴下し、更に１時間撹拌還流反応させた。反応液
を濃縮後希塩酸水溶液250mlを注入し、クロロホルム抽
出した。有機層を分取し、水洗、乾燥した後溶媒留去
し、得られた赤褐色半融状晶をｎ−ヘキサン−酢酸エチ
ルより再結晶してＳ（＋）−４−｛４−（２−メチルブ
チロイル）フェニル｝アニソール 12.4gを白色結晶と
して得た。収率:33％。mp.119〜120℃。▲［α］
25 D▼：＋23.1゜（ｃ＝2,CHCl3）。
IR（KBr）cm-1:2940,1670,1600。
（３）Ｓ（＋）−４−｛４−（２−メチルブチロイル）
フェニル｝フェノールの合成 （２）で得たＳ（＋）−４−｛４−（２−メチルブチ
ロイル）フェニル｝アニソール12.0g（45ミリモル）及
び塩化アルミニウム6.6gをトルエン120ml中に加え、８
時間撹拌還流反応させた。次いで反応液を希塩酸水溶液
中に注入し、酢酸エチル抽出した。有機層を分取し、水
洗、乾燥した後溶媒留去して得た赤褐色油状物をカラム
分離（充填剤：ワコーゲルＣ−200;溶離液:n−ヘキサン
／酢酸エチル＝10/1→5/1）し、更にｎ−ヘキサン−酢
酸エチルより再結晶してＳ（＋）−４−｛４−（２−メ
チルブチロイル）フェニル｝フェノール7.6gを白色結晶
として得た。
フェニル｝フェノールの合成 （２）で得たＳ（＋）−４−｛４−（２−メチルブチ
ロイル）フェニル｝アニソール12.0g（45ミリモル）及
び塩化アルミニウム6.6gをトルエン120ml中に加え、８
時間撹拌還流反応させた。次いで反応液を希塩酸水溶液
中に注入し、酢酸エチル抽出した。有機層を分取し、水
洗、乾燥した後溶媒留去して得た赤褐色油状物をカラム
分離（充填剤：ワコーゲルＣ−200;溶離液:n−ヘキサン
／酢酸エチル＝10/1→5/1）し、更にｎ−ヘキサン−酢
酸エチルより再結晶してＳ（＋）−４−｛４−（２−メ
チルブチロイル）フェニル｝フェノール7.6gを白色結晶
として得た。
収率:66％。mp.95.5〜98.5℃。▲［α］25 D▼：＋20.7
゜（ｃ＝2,CHCl3）。
゜（ｃ＝2,CHCl3）。
IR（KBr）cm-1:3320,2960,2940,2870,1660,1590。
実施例1.（S,S）−４−（１−メチル−２−ブチロキ
シ）エトキシ安息香酸４−｛３−ヒドロキシ−４−（２
−メチルブチロイル）フェニル｝フェニルの合成 （１） Ｒ（−）−ｐ−トルエンスルホン酸 ２−ヒド
ロキシプロピル（一般式（Ｉ）に於て、ｍ＝4,i＝0,j＝
0,k＝1,l＝1,Y＝CH3,Q＝COO,X＝OH,R＝１−メチルプロ
ピル基の化合物）の合成 Ｒ（−）−1,2−プロパンジオール78.2g（1.03モル）
をピリジン530mlに溶解し、15℃以下で塩化ｐ−トルエ
ンスルホニル167gを投入し、同温度で４時間撹拌した。
反応液を減圧濃縮後塩化メチレン及び水を注入し、撹
拌、静置して塩化メチレン層を分取し、水洗した後乾燥
した。次いで溶媒留去して得られた異色油状物をカラム
分離（充填剤：ワコーゲルＣ−200;溶離液：塩化メチレ
ン）してＲ（−）−ｐ−トルエンスルホン酸 ２−ヒド
ロキシプロピル117gを微黄色粘稠油状物として得た。収
率:58％。▲［α］25 D▼：−4.7゜（Neat）。
シ）エトキシ安息香酸４−｛３−ヒドロキシ−４−（２
−メチルブチロイル）フェニル｝フェニルの合成 （１） Ｒ（−）−ｐ−トルエンスルホン酸 ２−ヒド
ロキシプロピル（一般式（Ｉ）に於て、ｍ＝4,i＝0,j＝
0,k＝1,l＝1,Y＝CH3,Q＝COO,X＝OH,R＝１−メチルプロ
ピル基の化合物）の合成 Ｒ（−）−1,2−プロパンジオール78.2g（1.03モル）
をピリジン530mlに溶解し、15℃以下で塩化ｐ−トルエ
ンスルホニル167gを投入し、同温度で４時間撹拌した。
反応液を減圧濃縮後塩化メチレン及び水を注入し、撹
拌、静置して塩化メチレン層を分取し、水洗した後乾燥
した。次いで溶媒留去して得られた異色油状物をカラム
分離（充填剤：ワコーゲルＣ−200;溶離液：塩化メチレ
ン）してＲ（−）−ｐ−トルエンスルホン酸 ２−ヒド
ロキシプロピル117gを微黄色粘稠油状物として得た。収
率:58％。▲［α］25 D▼：−4.7゜（Neat）。
（２） Ｒ（−）−１−ｎ−ブトキシ−２−プロパノー
ルの合成。
ルの合成。
金属ナトリウム8.1gをｎ−ブタノール350mlに加温溶
解させ、上記（１）で得たＲ（−）−ｐ−トルエンスル
ホン酸 ２−ヒドロキシプロピル70g（0.3モル）を70℃
で滴下し、90±５℃で１時間撹拌した。反応液に水を注
入し、静置、分液して有機層を得た。有機層を水洗、乾
燥、濃縮して得た油状物を減圧蒸溜し、bp.168〜169℃/
760mmHg留分のＲ（−）−１−ｎ−ブトキシ−２−プロ
パノール23.0gを無色油状物として得た。
解させ、上記（１）で得たＲ（−）−ｐ−トルエンスル
ホン酸 ２−ヒドロキシプロピル70g（0.3モル）を70℃
で滴下し、90±５℃で１時間撹拌した。反応液に水を注
入し、静置、分液して有機層を得た。有機層を水洗、乾
燥、濃縮して得た油状物を減圧蒸溜し、bp.168〜169℃/
760mmHg留分のＲ（−）−１−ｎ−ブトキシ−２−プロ
パノール23.0gを無色油状物として得た。
収率:58％。GC含量:94.6％ ▲［α］25 D▼：−0.7゜（Neat）。
IR（Neat）cm-1:3420,2970,2940,2880。
（３） Ｒ（−）−ｐ−トルエンスルホン酸 ２−（１
−ｎ−ブトキシ）プロピルの合成 （２）で得たＲ（−）−１−ｎ−ブトキシ−２−プロ
パノール10g（76ミリモル）をピリジン60mlに溶解し15
℃以下で塩化ｐ−トルエンスルホニル14.5g（76ミリモ
ル）を投入し、室温で４時間撹拌した。反応後、希塩酸
300ml注入し、塩化メチレン抽出した。有機層を分取
し、水洗、乾燥後溶媒留去し、残渣をカラム分離（充填
剤：ワコーゲルＣ−200;溶離液：塩化メチレン）してＲ
（−）−ｐ−トルエンスルホン酸 ２−（１−ｎ−ブト
キシ）プロピル16.2gを微黄色粘稠油状物として得た。
収率:75％。▲［α］25 D▼：−5.0゜（Neat）。
−ｎ−ブトキシ）プロピルの合成 （２）で得たＲ（−）−１−ｎ−ブトキシ−２−プロ
パノール10g（76ミリモル）をピリジン60mlに溶解し15
℃以下で塩化ｐ−トルエンスルホニル14.5g（76ミリモ
ル）を投入し、室温で４時間撹拌した。反応後、希塩酸
300ml注入し、塩化メチレン抽出した。有機層を分取
し、水洗、乾燥後溶媒留去し、残渣をカラム分離（充填
剤：ワコーゲルＣ−200;溶離液：塩化メチレン）してＲ
（−）−ｐ−トルエンスルホン酸 ２−（１−ｎ−ブト
キシ）プロピル16.2gを微黄色粘稠油状物として得た。
収率:75％。▲［α］25 D▼：−5.0゜（Neat）。
IR（Neat）cm-1:2960,2940,2870,1600。
（４）Ｓ（−）−４−｛２−（１−ｎ−ブトキシ）プロ
ピルオキシ｝アセトフェノンの合成 水素化ナトリウム2.3gとテトラヒドロフラン20mlの懸
濁液に室温でｐ−ヒドロキシアセトフェノン7.2g（52.4
ミリモル）のDMF溶液30mlを滴下し、50〜60℃で30分撹
拌した。次いで上記（３）で得たＲ（−）−ｐ−トルエ
ンスルホン酸 ２−（１−ｎ−ブトキシ）プロピル15.0
g（52.4ミリモル）のDMF溶液20mlを滴下し、80℃で４時
間反応させた。反応後水300mlを注入し、塩化メチレン
抽出した。有機層を分取し、水洗、乾燥後濃縮してＳ
（−）−４−｛２−（１−ｎ−ブトキシ）プロピルオキ
シ｝アセトフェノン13.0gを黄色油状物として得た。収
率:99％。▲［α］25 D▼：−8.0゜（Ｃ＝2,CHCl3）。
ピルオキシ｝アセトフェノンの合成 水素化ナトリウム2.3gとテトラヒドロフラン20mlの懸
濁液に室温でｐ−ヒドロキシアセトフェノン7.2g（52.4
ミリモル）のDMF溶液30mlを滴下し、50〜60℃で30分撹
拌した。次いで上記（３）で得たＲ（−）−ｐ−トルエ
ンスルホン酸 ２−（１−ｎ−ブトキシ）プロピル15.0
g（52.4ミリモル）のDMF溶液20mlを滴下し、80℃で４時
間反応させた。反応後水300mlを注入し、塩化メチレン
抽出した。有機層を分取し、水洗、乾燥後濃縮してＳ
（−）−４−｛２−（１−ｎ−ブトキシ）プロピルオキ
シ｝アセトフェノン13.0gを黄色油状物として得た。収
率:99％。▲［α］25 D▼：−8.0゜（Ｃ＝2,CHCl3）。
IR（Neat）cm-1:2960,2930,2860,1680,1600。
（５）Ｓ（−）−４−｛２−（１−ｎ−ブトキシ）プロ
ピルオキシ｝安息香酸の合成 上記（４）で得たＳ（−）−４−｛２−（１−ｎ−ブ
トキシ）プロピルオキシ｝アセトフェノン13.0g（52ミ
リモル）を1,4−ジオキサン50mlに溶解し、20〜25℃で
水酸化ナトリウム（34.3g）水溶液と臭素（31.2g）より
調製した次亜臭素酸ナトリウム水溶液180mlを滴下し、
次いで40〜50℃で２時間撹拌を行った。冷却後、重亜硫
酸ナトリウムを加えて処理した後、塩酸酸性とし、クロ
ロホルム抽出した。有機層を分取、水洗、乾燥した後濃
縮してＳ（−）−４−｛２−（１−ｎ−ブトキシ）プロ
ピルオキシ｝安息香酸10.2gを微黄色油状物として得
た。収率:78％。▲［α］25 D▼：−8.0゜（Ｃ＝2,CHC
l3）。
ピルオキシ｝安息香酸の合成 上記（４）で得たＳ（−）−４−｛２−（１−ｎ−ブ
トキシ）プロピルオキシ｝アセトフェノン13.0g（52ミ
リモル）を1,4−ジオキサン50mlに溶解し、20〜25℃で
水酸化ナトリウム（34.3g）水溶液と臭素（31.2g）より
調製した次亜臭素酸ナトリウム水溶液180mlを滴下し、
次いで40〜50℃で２時間撹拌を行った。冷却後、重亜硫
酸ナトリウムを加えて処理した後、塩酸酸性とし、クロ
ロホルム抽出した。有機層を分取、水洗、乾燥した後濃
縮してＳ（−）−４−｛２−（１−ｎ−ブトキシ）プロ
ピルオキシ｝安息香酸10.2gを微黄色油状物として得
た。収率:78％。▲［α］25 D▼：−8.0゜（Ｃ＝2,CHC
l3）。
IR（Neat）cm-1:3050,2960,2920,2860,2660,2550,1710,
1600。
1600。
（６） （S,S）−４−（１−メチル−２−ブチロキ
シ）エトキシ安息香酸４−｛３−ヒドロキシ−４−（２
−メチルブチロイル）フェニル｝フェニルの合成 上記（５）で得たＳ（−）−４−｛２−（１−ｎ−ブ
トキシ）プロピルオキシ｝安息香酸2.5g（10ミリモル）
を塩化メチレン中に仕込み、室温で塩化チオニル2.7gを
滴下し、１時間撹拌還流させた。反応液を濃縮乾固した
後、塩化メチレンに溶解させ、これを参考例１で得たＳ
（＋）−４−｛３−ヒドロキシ−４−（２−メチルブチ
ロイル）フェニル｝フェノール2.7g（10ミリモル）のピ
リジン30ml溶液中に注入し、50〜60℃で８時間反応させ
た。冷却後、塩酸酸性とし、塩化メチレン抽出した。有
機層を分取し、水洗、乾燥、濃縮し、残渣をカラム分離
（充填剤：ワコーゲルＣ−200;溶離液:n−ヘキサン／酢
酸エチル＝20/1）（２回）して、（S,S）−４−（１−
メチル−２−ブチロキシ）メトキシ安息香酸 ４−｛３
−ヒドロキシ−４−（２−メチルブチロイル）フェニ
ル｝フェニル2.4gを無色粘稠油状物として得た。収率:4
8％。
シ）エトキシ安息香酸４−｛３−ヒドロキシ−４−（２
−メチルブチロイル）フェニル｝フェニルの合成 上記（５）で得たＳ（−）−４−｛２−（１−ｎ−ブ
トキシ）プロピルオキシ｝安息香酸2.5g（10ミリモル）
を塩化メチレン中に仕込み、室温で塩化チオニル2.7gを
滴下し、１時間撹拌還流させた。反応液を濃縮乾固した
後、塩化メチレンに溶解させ、これを参考例１で得たＳ
（＋）−４−｛３−ヒドロキシ−４−（２−メチルブチ
ロイル）フェニル｝フェノール2.7g（10ミリモル）のピ
リジン30ml溶液中に注入し、50〜60℃で８時間反応させ
た。冷却後、塩酸酸性とし、塩化メチレン抽出した。有
機層を分取し、水洗、乾燥、濃縮し、残渣をカラム分離
（充填剤：ワコーゲルＣ−200;溶離液:n−ヘキサン／酢
酸エチル＝20/1）（２回）して、（S,S）−４−（１−
メチル−２−ブチロキシ）メトキシ安息香酸 ４−｛３
−ヒドロキシ−４−（２−メチルブチロイル）フェニ
ル｝フェニル2.4gを無色粘稠油状物として得た。収率:4
8％。
IR（Neat）cm-1:3050,2950,2920,2860,1730,1630,160
0。
0。
元素分析値（C31H36O6） 理論値:C％,73.79;H％,7.19。
実測値:C％,73.94;H％,7.10。
実施例2.（S,S）−４−（１−メチル）−２−ブチロキ
シ）エトキシ安息香酸４−｛４−（２−メチルブチロイ
ル）フェニル｝フェニル（一般式（Ｉ）に於て、ｍ＝4,
i＝1,j＝0,k＝1,l＝1,Y＝CH3,Q＝COO,X＝H,R＝１−メチ
ルプロピル基の化合物）の合成 実施例１の（５）で得たＳ（−）−４−｛２−（１−
ｎ−ブトキシ）プロピルオキシ｝安息香酸3.4g（13.8ミ
リモル）及び参考例２で得たＳ（＋）−４−｛４−（２
−メチルブチロイル）フェニル｝フェニル3.5g（13.8ミ
リモル）を用いて実施例１の（６）と同様にして反応及
び後処理を行い、カラム分離した後エタノールより再結
晶して（S,S）−４−（１−メチル−２−ブチロキシ）
エトキシ安息香酸４−｛４−（２−メチルブチロイル）
フェニル｝フェニル2.5gを白色結晶として得た。収率:3
7％。▲［α］25 D▼（Ｃ＝2,CHCl3）。
シ）エトキシ安息香酸４−｛４−（２−メチルブチロイ
ル）フェニル｝フェニル（一般式（Ｉ）に於て、ｍ＝4,
i＝1,j＝0,k＝1,l＝1,Y＝CH3,Q＝COO,X＝H,R＝１−メチ
ルプロピル基の化合物）の合成 実施例１の（５）で得たＳ（−）−４−｛２−（１−
ｎ−ブトキシ）プロピルオキシ｝安息香酸3.4g（13.8ミ
リモル）及び参考例２で得たＳ（＋）−４−｛４−（２
−メチルブチロイル）フェニル｝フェニル3.5g（13.8ミ
リモル）を用いて実施例１の（６）と同様にして反応及
び後処理を行い、カラム分離した後エタノールより再結
晶して（S,S）−４−（１−メチル−２−ブチロキシ）
エトキシ安息香酸４−｛４−（２−メチルブチロイル）
フェニル｝フェニル2.5gを白色結晶として得た。収率:3
7％。▲［α］25 D▼（Ｃ＝2,CHCl3）。
IR（Neat）cm-1:2950,2920,2860,1730,1675,1600。
元素分析値（C31H36O5） 理論値:C％,76.20;H％,7.43。
実測値:C％,76.33;H％,7.51。
この化合物の融点は38℃であり、49℃までスメクティ
ックＡ相を示す。また、降温時49℃から5.5℃まてスメ
クティックＡ相を示し、5.5℃からカイラルスメクティ
ックＣ相を示した。この化合物を２μｍの試験用セル
（ITOを蒸着したガラス板にポリイミドをスピンコート
し一方向にラビングしたものをガラスビーズのスペーサ
を介して２μｍの間隔で張り合わせたセル）に封入して
±10Vの矩形波を印加したところ、3.0℃で明瞭な応答を
示した。
ックＡ相を示す。また、降温時49℃から5.5℃まてスメ
クティックＡ相を示し、5.5℃からカイラルスメクティ
ックＣ相を示した。この化合物を２μｍの試験用セル
（ITOを蒸着したガラス板にポリイミドをスピンコート
し一方向にラビングしたものをガラスビーズのスペーサ
を介して２μｍの間隔で張り合わせたセル）に封入して
±10Vの矩形波を印加したところ、3.0℃で明瞭な応答を
示した。
実施例3.（S,S）−４−（１−メチル−２−ヘキシロキ
シ）エトキト安息香酸４−｛３−ヒドロキシ−４−（２
−メチルブチロイル）フェニル｝フェニル（一般式
（Ｉ）に於て、ｍ＝6,i＝1,j＝0,k＝1,l＝1,Y＝CH3,Q＝
COO,X＝OH,R＝１−メチルプロピル基の化合物）の合成 （１）Ｒ（−）−１−ｎ−ヘキシルオキシ−２−プロパ
ノールの合成 実施例１の（１）で得たＲ（−）−ｐ−トルエンスル
ホン酸 ２−ヒドロキシプロピル70g（0.3モル）及びｎ
−ヘキサノールを用いて実施例１の（２）と同様にして
反応及び後処理を行ない、bp.142〜143℃/104mmHg留分
のＲ（−）−１−ｎ−ヘキシルオキシ−２−プロパノー
ル35.6gを無色油状物として得た。収率:74％。GC含量:9
8.0％。
シ）エトキト安息香酸４−｛３−ヒドロキシ−４−（２
−メチルブチロイル）フェニル｝フェニル（一般式
（Ｉ）に於て、ｍ＝6,i＝1,j＝0,k＝1,l＝1,Y＝CH3,Q＝
COO,X＝OH,R＝１−メチルプロピル基の化合物）の合成 （１）Ｒ（−）−１−ｎ−ヘキシルオキシ−２−プロパ
ノールの合成 実施例１の（１）で得たＲ（−）−ｐ−トルエンスル
ホン酸 ２−ヒドロキシプロピル70g（0.3モル）及びｎ
−ヘキサノールを用いて実施例１の（２）と同様にして
反応及び後処理を行ない、bp.142〜143℃/104mmHg留分
のＲ（−）−１−ｎ−ヘキシルオキシ−２−プロパノー
ル35.6gを無色油状物として得た。収率:74％。GC含量:9
8.0％。
▲［α］25 D▼：−1.0゜（Neat）。
IR（Neat）cm-1:3420,2960,2940,2870。
（２）Ｒ（−）−ｐ−トルエンスルホン酸２−（１−ｎ
−ヘキシルオキシ）プロピルの合成 上記（１）で得たＲ（−）−１−ｎ−ヘキシルオキシ
−２−プロパノール15.0g（92.5モリモル）を用いて実
施例１の（３）と同様にして反応及び後処理を行い、Ｒ
（−）−ｐ−トルエンスルホン酸 ２−（１−ｎ−ヘキ
シルオキシ）プロピル23.2gを微黄色粘稠油状物として
得た。収率:80％。
−ヘキシルオキシ）プロピルの合成 上記（１）で得たＲ（−）−１−ｎ−ヘキシルオキシ
−２−プロパノール15.0g（92.5モリモル）を用いて実
施例１の（３）と同様にして反応及び後処理を行い、Ｒ
（−）−ｐ−トルエンスルホン酸 ２−（１−ｎ−ヘキ
シルオキシ）プロピル23.2gを微黄色粘稠油状物として
得た。収率:80％。
▲［α］25 D▼：−6.1゜（Neat）。
IR（Neat）cm-1:2960,2940,2860,1600。
（３）Ｓ（−）−４−｛２−（１−ｎ−ヘキシルオキ
シ）プロピルオキシ｝アセトフェノンの合成 上記（２）で得たＲ（−）−ｐ−トルエンスルホン酸
２−（１−ｎ−ヘキシルオキシ）プロピル15.0g（47.4
ミリモル）を用いて実施例１の（４）と同様にして反応
及び後処理を行ない、Ｓ（−）−４−｛２−（１−ｎ−
ヘキシルオキシ）プロピルオキシ｝アセトフェノン12.6
gを微黄色油状物として得た。
シ）プロピルオキシ｝アセトフェノンの合成 上記（２）で得たＲ（−）−ｐ−トルエンスルホン酸
２−（１−ｎ−ヘキシルオキシ）プロピル15.0g（47.4
ミリモル）を用いて実施例１の（４）と同様にして反応
及び後処理を行ない、Ｓ（−）−４−｛２−（１−ｎ−
ヘキシルオキシ）プロピルオキシ｝アセトフェノン12.6
gを微黄色油状物として得た。
収率:95％。▲［α］25 D▼：−9.1゜（ｃ＝2,CHC
l3）。
l3）。
IR（Neat）cm-1:2960,2930,2860,1680,1600。
（４）Ｓ（−）−４−｛２−（１−ｎ−ヘキシルオキ
シ）プロピルオキシ｝安息香酸の合成 上記（３）で得たＳ（−）−４−｛２−（１−ｎ−ヘ
キシルオキシ）プロピルオキシ｝アセトフェノン12.0g
（43ミリモル）を用いて実施例１の（５）と同様にして
反応及び後処理を行い、Ｓ（−）−４−｛２−（１−ｎ
−ヘキシルオキシ）プロピルオキシ｝安息香酸10.8gを
微黄色油状物として得た。
シ）プロピルオキシ｝安息香酸の合成 上記（３）で得たＳ（−）−４−｛２−（１−ｎ−ヘ
キシルオキシ）プロピルオキシ｝アセトフェノン12.0g
（43ミリモル）を用いて実施例１の（５）と同様にして
反応及び後処理を行い、Ｓ（−）−４−｛２−（１−ｎ
−ヘキシルオキシ）プロピルオキシ｝安息香酸10.8gを
微黄色油状物として得た。
収率:89％。▲［α］25 D▼：−8.7゜（ｃ＝2.1,CHC
l3）。
l3）。
IR（Neat）cm-1:3060,2930,2850,2660,2550,1710,160
0。
0。
（５）（S,S）−４−（１−メチル−２−ヘキシロキ
シ）エトキシ安息香酸 ４−｛３−ヒドロキシ−４−
（２−メチルブチロイル）フェニル｝フェニルの合成 実施例３の（４）で得たＳ（−）−４−｛２−（１−
ｎ−ヘキシルオキシ）プロピルオキシ｝安息香酸2.8g
（10ミリモル）及び参考例１で得た（Ｓ）（＋）−４−
｛３−ヒドロキシ−４−（２−メチルブチロイル）フェ
ニル｝フェノール2.7g（10ミリモル）を用いて実施例１
の（６）と同様にして反応及び後処理を行い、（S,S）
−４−（１−メチル−２−ヘキシロキシ）エトキシ安息
香酸 ４−｛３−ヒドロキシ−４−（２−メチルブチロ
イル）フェニル｝フェニル1.1gを無色粘稠油状物として
得た。収率:21％。
シ）エトキシ安息香酸 ４−｛３−ヒドロキシ−４−
（２−メチルブチロイル）フェニル｝フェニルの合成 実施例３の（４）で得たＳ（−）−４−｛２−（１−
ｎ−ヘキシルオキシ）プロピルオキシ｝安息香酸2.8g
（10ミリモル）及び参考例１で得た（Ｓ）（＋）−４−
｛３−ヒドロキシ−４−（２−メチルブチロイル）フェ
ニル｝フェノール2.7g（10ミリモル）を用いて実施例１
の（６）と同様にして反応及び後処理を行い、（S,S）
−４−（１−メチル−２−ヘキシロキシ）エトキシ安息
香酸 ４−｛３−ヒドロキシ−４−（２−メチルブチロ
イル）フェニル｝フェニル1.1gを無色粘稠油状物として
得た。収率:21％。
IR（Neat）cm-1:3050,2950,2920,2860,1730,1630,160
0。
0。
元素分析値（C33H40O6） 理論値:C％,74.41;H％,7.57。
実測値:C％,74.32;H％,7.79。
実施例4.（S,S）−４−（１−メチル−２−ヘキシロキ
シ）エトキシ安息香酸 ４−｛４−（２−メチルブチロ
イル）フェニル｝フェニル（一般式（Ｉ）に於て、ｍ＝
6,i＝1,j＝0,k＝1,l＝1,Y＝CH3,Q＝COO,X＝H,R＝１−メ
チルプロピル基の化合物）の合成 実施例３の（４）で得たＳ（−）−４−｛２−（１−
ｎ−ヘキシルオキシ）プロピルオキシ｝安息香酸3.9g
（14ミリモル）及び参考例２で得たＳ（＋）−４−｛４
−（２−メチルブチロイル）フェニル｝フェニル3.5g
（14ミリモル）を用いて実施例１の（６）と同様にして
反応及び後処理を行ない、カラム分離した後エタノール
より再結晶して（S,S）−４−（１−メチル−２−ヘキ
シロキシ）エトキシ安息香酸 ４−｛４−（２−メチル
ブチロイル）フェニル｝フェニル3.1gを白色結晶として
得た。
シ）エトキシ安息香酸 ４−｛４−（２−メチルブチロ
イル）フェニル｝フェニル（一般式（Ｉ）に於て、ｍ＝
6,i＝1,j＝0,k＝1,l＝1,Y＝CH3,Q＝COO,X＝H,R＝１−メ
チルプロピル基の化合物）の合成 実施例３の（４）で得たＳ（−）−４−｛２−（１−
ｎ−ヘキシルオキシ）プロピルオキシ｝安息香酸3.9g
（14ミリモル）及び参考例２で得たＳ（＋）−４−｛４
−（２−メチルブチロイル）フェニル｝フェニル3.5g
（14ミリモル）を用いて実施例１の（６）と同様にして
反応及び後処理を行ない、カラム分離した後エタノール
より再結晶して（S,S）−４−（１−メチル−２−ヘキ
シロキシ）エトキシ安息香酸 ４−｛４−（２−メチル
ブチロイル）フェニル｝フェニル3.1gを白色結晶として
得た。
収率:43％。mp.34.0〜37.5℃。
IR（Neat）cm-1:2950,2910,2850,1730,1675,1600。
元素分析値（C33H40O5） 理論値:C％,76.71;H％,7.80。
実測値:C％,76.74;H％,7.71。
この化合物は、49〜50℃の範囲でスメクティックＡ相
を示し、49℃以下の温度で末同定のスメクティック相を
示した。
を示し、49℃以下の温度で末同定のスメクティック相を
示した。
実施例 5. 実施例１〜４で得られた化合物をメルク社のスメクテ
ィックＣ液晶組成物ZLI3234Bに各々10％添加し、液晶温
度を測定した。またこれら組成物を２μｍの試験用セル
（ITOを蒸着したガラス板にポリイミドをスピンコート
し一方向にラビングしたものをガラスビーズのスペーサ
を介して２μｍの間隔で張り合わせたセル）に封入して
特性を測定した。その結果を表１に示す。尚、表１には
比較の為、既存の同種光学活性化合物（Ｓ）−４−（４
−ノニルオキシフェニル）安息香酸 ３−ヒドロキシ−
４−（２−メチルブチロイル）フェニル を用いた場合の結果も併せて示した。表中、応答時間τ
は±10Vの矩形波印加時に透過率が０〜90％変化するに
要した時間とし、ピッチはカイラルネマティック相（Ｎ
＊相）でのらせんピッチを示した。ピッチ以外の特性は
30℃での値である。
ィックＣ液晶組成物ZLI3234Bに各々10％添加し、液晶温
度を測定した。またこれら組成物を２μｍの試験用セル
（ITOを蒸着したガラス板にポリイミドをスピンコート
し一方向にラビングしたものをガラスビーズのスペーサ
を介して２μｍの間隔で張り合わせたセル）に封入して
特性を測定した。その結果を表１に示す。尚、表１には
比較の為、既存の同種光学活性化合物（Ｓ）−４−（４
−ノニルオキシフェニル）安息香酸 ３−ヒドロキシ−
４−（２−メチルブチロイル）フェニル を用いた場合の結果も併せて示した。表中、応答時間τ
は±10Vの矩形波印加時に透過率が０〜90％変化するに
要した時間とし、ピッチはカイラルネマティック相（Ｎ
＊相）でのらせんピッチを示した。ピッチ以外の特性は
30℃での値である。
また、表中、Sc＊はカイラルスメクチックＣ相、ＳA
はスメクチックＡ相、Ｎ＊はカイラルネマティック相、
Ｉは等方性液体相を夫々示し、●はその相の存在を示
す。また、一はその相が存在しないことを示している。
はスメクチックＡ相、Ｎ＊はカイラルネマティック相、
Ｉは等方性液体相を夫々示し、●はその相の存在を示
す。また、一はその相が存在しないことを示している。
表１より明らかな如く本発明の化合物は、比較例に示
す不斉炭素を一個しか含まない化合物に比べ、自発分
極、らせんピッチが大きく、また高速に応答することが
分かる。
す不斉炭素を一個しか含まない化合物に比べ、自発分
極、らせんピッチが大きく、また高速に応答することが
分かる。
〔発明の作用、効果〕 一般式（Ｉ）で示される本発明化合物は、化学的に安
定な分子構造を有する光学活性化合物であり、他の液晶
性化合物と混合することにより大きな自発分極を示し高
速動作する強誘電性液晶組成物を与える。また、分子内
に複数の不斉炭素を持つため、各々の不斉中心の惹き起
こすらせんの向きが異なる場合には、該強誘電性液晶組
成物においてらせんピッチの長いものが得られる。
定な分子構造を有する光学活性化合物であり、他の液晶
性化合物と混合することにより大きな自発分極を示し高
速動作する強誘電性液晶組成物を与える。また、分子内
に複数の不斉炭素を持つため、各々の不斉中心の惹き起
こすらせんの向きが異なる場合には、該強誘電性液晶組
成物においてらせんピッチの長いものが得られる。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 ＦＩ Ｃ０９Ｋ 19/46 Ｃ０９Ｋ 19/46 (72)発明者 浦野 文良 埼玉県川越市大字的場1633番地 和光純 薬工業株式会社東京研究本部内 (72)発明者 根岸 孝明 埼玉県川越市大字的場1633番地 和光純 薬工業株式会社東京研究本部内 (56)参考文献 特開 昭63−254182（ＪＰ，Ａ) 特開 平１−238557（ＪＰ，Ａ) 特開 平３−204835（ＪＰ，Ａ) 国際公開88／7518（ＷＯ，Ａ１) (58)調査した分野(Int.Cl.6，ＤＢ名) C07C 69/76 C07C 69/92 C07C 69/94 C09K 19/12 C09K 19/20 C09K 19/46 ＣＡ（ＳＴＮ) ＲＥＧＩＳＴＲＹ（ＳＴＮ)
Claims (2)
- 【請求項１】一般式（Ｉ）： （式中、Ｒは炭素数20以下の不斉アルキル基、Ｑは−CO
O−，−OCO−，または単結合、Ｘは水素原子，水酸基又
はハロゲン原子、Ｙは炭素数５以下のアルキル基，炭素
数５以下のアルコキシ基,CF3基又はハロゲン原子を表わ
し、ｋおよびｌは０または１、ｍは１以上20以下の整
数、ｉおよびｊは０以上３以下の整数である。またＣ＊
は不斉炭素原子を表わす。）で示される光学活性化合
物。 - 【請求項２】請求項（１）に記載の光学活性化合物を１
成分以上含有することを特徴とするカイラルスメクチッ
ク液晶組成物。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1157183A JP2797119B2 (ja) | 1989-06-20 | 1989-06-20 | 光学活性化合物および液晶組成物 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1157183A JP2797119B2 (ja) | 1989-06-20 | 1989-06-20 | 光学活性化合物および液晶組成物 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0324036A JPH0324036A (ja) | 1991-02-01 |
| JP2797119B2 true JP2797119B2 (ja) | 1998-09-17 |
Family
ID=15644008
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP1157183A Expired - Lifetime JP2797119B2 (ja) | 1989-06-20 | 1989-06-20 | 光学活性化合物および液晶組成物 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2797119B2 (ja) |
Families Citing this family (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP5315590B2 (ja) * | 2006-02-14 | 2013-10-16 | Ｊｎｃ株式会社 | 液晶化合物、液晶組成物および液晶表示素子 |
Family Cites Families (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS63254182A (ja) * | 1987-04-10 | 1988-10-20 | Canon Inc | 強誘電性液晶素子 |
-
1989
- 1989-06-20 JP JP1157183A patent/JP2797119B2/ja not_active Expired - Lifetime
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH0324036A (ja) | 1991-02-01 |
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