JP2549840B2 - 液晶パネル - Google Patents

液晶パネル

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JP2549840B2 JP61066418A JP6641886A JP2549840B2 JP 2549840 B2 JP2549840 B2 JP 2549840B2 JP 61066418 A JP61066418 A JP 61066418A JP 6641886 A JP6641886 A JP 6641886A JP 2549840 B2 JP2549840 B2 JP 2549840B2
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【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明はトランジスタを格子状に形成したいわゆるア
クテイブマトリクス基板を用いた液晶パネルの電極構造
に関する。
〔従来技術〕
従来のアクテイブマトリクス基板は、SID83 DIGEST
P156の様に画素電極14とデータ線13とを同時に形成
し、第2図に平面図を示したようにデータ線13と画素電
極14は平面的に隙間を有している。
また、第3図に示すようにタイミング線12と画素電極
14を同時に形成していた。第3図はアモルフアスシコン
トランジスタの一般的な構造であり、ゲート22上にゲー
ト絶縁膜23、アモルフアスSi21の順に形成してある。画
素電極14とトラジスタとはメタル24で接続されておりメ
タル24及びデータ線13がそれぞれドレイン、ソースを形
成している。
以上のようなアクテイブマトリクス基板と透明導電膜
による電極形成した基板とをそれぞれ配向処理したのち
所定の間隙を保持して、その隙間に液晶を封入して液晶
パネルとなしていた。
〔発明が解決しようとする問題点〕
しかし前述の従来技術では画素電極とタイミング線や
データ線との間に形成された間隙のため、画素電極の占
有率が低下し、このために液晶パネルのコントラスト比
が低下したり、透過率が低下したりする。また画素電極
とタイミング線やデータ線が小さな間隙を有し、それら
の間で電界を生じ、この電界が、液晶を制御している画
素電極と対抗電極の間の電界に比べ無視出来ない強さに
なつたり、あるいは部分的に支配的になつたりする。こ
の電界によつて画素電極周辺の液晶はその影響を受け、
制御性を失う。これらの影響を受ける領域を遮光する方
法が1つの方法として考えられるが、画素電極の占有率
がさらに低下してしまう。
そこで本発明はこのような問題点を解決するもので、
その目的とするところは、画素占有率を高め、データ線
やタイミング線から液晶が影響を受けない、高コントラ
ストかつ高透過率の液晶パネルを提供することにある。
〔問題を解決するための手段〕
本発明は、一対の透明基板間に液晶が挟持され、該透
明基板の一方の基板上には複数のデータ線と複数のタイ
ミング線とが交差して配置され、該複数のデータ線とタ
イミング線との交差により画成される画素にはトランジ
スタと透明導電膜からなる画素電極が形成されてなる液
晶パネルにおいて、 該データ線および該タイミング線は遮光成を有する導
電性物質からなり、該データ線、該タイミング線および
該トランジスタ上には層間絶縁膜が形成されてなり、該
画素電極は該層間絶縁膜上に形成されて該層間絶縁膜に
形成された開口部を介して該トランジスタと電気的に接
続されると共に、該画素電極の隣接する画素電極との分
離が、該データ線上および該タイミング線上においてな
されることを特徴とする。
〔作用〕
本発明の上記の構成によれば、タイミング線やデータ
線との分離のために平面的な間隙を必要とせず、タイミ
ング線やデータ線の配線部とトランジスタの素子領域以
外では全て画素有効領域となる。
さらにまた配線からの電界の影響は、画素電極の分離
を配線上で行うことで電界の横へ拡がりをおさえること
が出来る。
〔実施例〕
第1図は本発明の実施例における液晶パネルのアクテ
イブマトリクス基板の主要平面図と主要断面図を示す。
絶縁基板上にSi薄膜を1を所定の形状にした後、ゲー
ト絶縁膜、ゲート電極配線を行う。ゲート電極をマスク
としてイオン注入によりソース・ドレイン形成を行つた
後、層間絶縁膜形成し所定の位置に開口部を形成し、さ
らにソース線3を形成する。ゲート電極配線2及びソー
ス線3はそれぞれタイミング線2、データ線3であり、
タイミング線2及びデータ線3が格子状に形成され、そ
の交点にトランジスタを形成したいわゆるアクテイブマ
トリクス基板となる。なおソース線及びゲート電極配線
は遮光性を有する導電性物質(Ta,Mo,W,Ti,Alといつた
金属もしくはそれらにSiを含む金属さらには不純物によ
り抵抗を下げたSi等)にすればさらに効果がある。この
アクテイブマトリクス基板上に層間絶縁膜を形成し所定
の位置に開口を形成し、ITO(Indium−Tin−Oxide)等
の透明導電膜により画素電極4を形成する。このとき各
画素電極間の絶縁のためのスペースSはゲート電極配線
(タイミング線2)及びソース線(データ線3)上に形
成する。この後必要に応じてDC成分を除去する絶縁膜を
形成する。
以上の基板を液晶パネルのパネル組立てで行われる通
常の工程に従つて、配向処理を行い、対向基板として透
明導電膜による電極形成した絶縁基板(場合によつては
カラーフイルタを形成した基板)を配向処理して、液晶
を封入して液晶パネルとなす。
〔発明の効果〕
以上述べたように、本発明によれば、液晶パネルの性
能を大幅に向上できる。第1図および第2図を比較する
とわかるとおり、第2図の従来の構成では画素電極の隙
間16から光がもれてしまうため、このままではコントラ
ストが大幅に低下する。第2図の場合で、約19.7%の光
がもれる。このため、対向基板に隙間16に相当する部分
を遮光する遮光部を設けなければならなるが、この遮光
部を設けると液晶パネルを通過する透過光は約41.5%に
なってしまう。さらに、従来の構成では、タイミング線
やデータ線に発生する電界の影響で、画素電極周辺の液
晶の制御が困難となり、コントラストの低下等の画質劣
化の原因となっていた。そこで、これらの影響を排除
し、かつ、対向基板との位置合わせを考慮すると、第2
図の破線示す領域まで遮光をしなければならなくなる。
この時の液晶パネルの透過率は約28.7%であり、大幅に
透過率が低下する。
一方、本発明の構成によれば、第1図の場合で約61.7
%の透過率を有する。しかも、タイミング線およびデー
タ線を遮光膜として利用しているため、対向基板に遮光
膜を形成する必要がなく、対向基板との位置ずれに伴う
光のもれもない。さらに、タイミング線およびデータ線
に発生する電界の影響も、第4図に示すようにデータ線
3上に絶縁膜43を形成し、かつ、データ線3上に画素電
極4が一部重なる様に配置したことにより、データ線に
発生する電界の影響を抑え込むことができる。加えて、
隣接する画素電極間のスペースSに発生する電界も液晶
の配向に影響を及ぼすが、この液晶の乱れも、遮光性を
有するデータ線上に限られるためにデータ線により遮光
され、実際に観測される液晶パネル画質には何等影響を
与えない。
第4図中の破線は、データ線3による電界が、画素電
極4および対向電極42による電界へ及ぼす影響を示した
図である。また、ここでは、データ線について説明を行
ったが、タイミング線に関してもまったく同様である。
以上のごとく、本発明による液晶パネルは、その開口
率を高めてパネルの透過率を大幅に改善できると共に、
光もれを防いで高コントラストのパネルを達成できる。
また、データ線、タイミング線、画素電極端部の電界の
影響を抑えることができる。
【図面の簡単な説明】
第1図は本発明による液晶パネルのアクテイブマトリク
ス基板の一実施例を示す主要平面図。 第2図は従来の液晶パネルのアクテイブマトリクス基板
の主要平面図。 第3図は従来の液晶パネルのアクテイブマトリクスの一
例を示す主要断面図。 第4図は本発明の構造によるデータ線の電界への影響を
示す断面図。 3,13……データ線、2,12……タイミング線 4,14……画素電極

Claims (1)

    (57)【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】一対の透明基板間に液晶が挟持され、該透
    明基板の一方の基板上には複数のデータ線と複数のタイ
    ミング線とが交差して配置され、該複数のデータ線とタ
    イミング線との交差により画成される画素にはトランジ
    スタと透明導電膜からなる画素電極が形成されてなる液
    晶パネルにおいて、 該データ線および該タイミング線は遮光性を有する導電
    性物質からなり、該データ線、該タイミング線および該
    トランジスタ上には層間絶縁膜が形成されてなり、該画
    素電極は該層間絶縁膜上に形成されて該層間絶縁膜に形
    成された開口部を介して該トランジスタと電気的に接続
    されると共に、該画素電極の隣接する画素電極との分離
    が、該データ線上および該タイミング線上においてなさ
    れることを特徴とする液晶パネル。
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