JP2022052125A - 描画装置 - Google Patents
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Abstract
【課題】基板に対する描画を精度良く行う。【解決手段】第１移動機構２２ａは、パターン描画部４の下方にて第１ステージ２１ａをＹ方向に水平移動する。第２移動機構２２ｂは、パターン描画部４の下方にて第２ステージ２１ｂをＹ方向に水平移動する。第２移動機構２２ｂは、Ｘ方向において第１移動機構２２ａと並んで配置される。フレーム７は、第１移動機構２２ａおよび第２移動機構２２ｂを支持する。カウンタウエイト５１は、基板移動方向と交差するＸ方向に移動可能にフレーム７に取り付けられる。ウエイト移動制御部は、Ｙ方向における第１ステージ２１ａおよび第２ステージ２１ｂの位置に基づいて、第１ステージ２１ａおよび第２ステージ２１ｂの重量によるフレーム７の変形を抑制する位置にカウンタウエイト５１が配置されるようにウエイト移動機構５２を制御する。これにより、基板９に対する描画を精度良く行うことができる。【選択図】図１
Description
本発明は、基板に対する描画を行う描画装置に関する。
従来、半導体基板、プリント基板、または、有機ＥＬ表示装置もしくは液晶表示装置用のガラス基板等（以下、「基板」という。）に形成された感光材料に光を照射することにより、パターンの描画が行われている。このような描画装置では、基板の搬入、基板のアライメント、基板に対する描画、および、基板の搬出が順次行われる。
近年、描画装置のスループットを向上するために、１台の描画装置内に２つのステージ、２つのアライメント検出系、および、１つの露光ヘッドを設け、一方のステージ上の基板に対する描画中に、他方のステージ上の基板の交換およびアライメントを行うことが提案されている。
例えば、特許文献１のステップ・アンド・スキャン方式の走査型投影露光装置では、一方のステージ上の基板に対する露光中に他方のステージの移動が行われる場合、当該移動による振動等が露光中のステージに伝播して露光動作の制御性能が低下することを防止するために、他方のステージの移動速度および移動時の加速度に上限を設けることが提案されている。
ところで、特許文献１の露光装置では、ステージの移動速度が制限されるため、露光装置のスループットが低下するおそれがある。また、ステージの移動によって２つのステージの位置関係が変化すると、露光装置に歪み等の変形が生じ、基板に対する露光処理の精度が低下するおそれがある。
本発明は、上記課題に鑑みなされたものであり、基板に対する描画を精度良く行うことを目的としている。
請求項１に記載の発明は、基板に対する描画を行う描画装置であって、下方にて水平移動する基板の上側の主面に対して光を照射してパターンを描画するパターン描画部と、第１基板保持部と、前記パターン描画部の下方にて前記第１基板保持部を基板移動方向に水平移動する第１移動機構と、前記第１基板保持部に隣接して配置される第２基板保持部と、前記基板移動方向に交差する方向において前記第１移動機構と並んで配置され、前記パターン描画部の下方にて前記第２基板保持部を前記基板移動方向に水平移動する第２移動機構と、前記第１移動機構および前記第２移動機構を支持するフレームと、前記基板移動方向と交差するウエイト移動方向に移動可能に前記フレームに取り付けられるカウンタウエイトと、前記カウンタウエイトを前記ウエイト移動方向に移動するウエイト移動機構と、前記基板移動方向における前記第１基板保持部および前記第２基板保持部の位置に基づいて、前記第１基板保持部および前記第２基板保持部の重量による前記フレームの変形を抑制する位置に前記カウンタウエイトが配置されるように前記ウエイト移動機構を制御するウエイト移動制御部とを備える。
請求項２に記載の発明は、請求項１に記載の描画装置であって、前記ウエイト移動方向は、前記基板移動方向に垂直である。
請求項３に記載の発明は、請求項１または２に記載の描画装置であって、前記カウンタウエイトの重心は、上下方向において、前記第１基板保持部の上面および前記第２基板保持部の上面よりも下側に位置する。
請求項４に記載の発明は、請求項３に記載の描画装置であって、前記カウンタウエイトの上端は、上下方向において、前記第１基板保持部の前記上面および前記第２基板保持部の前記上面よりも下側に位置する。
請求項５に記載の発明は、請求項１ないし４のいずれか１つに記載の描画装置であって、前記フレームは、前記第１移動機構および前記第２移動機構を跨ぐとともに前記パターン描画部を支持するガントリー部を備え、前記ガントリー部は、前記第１移動機構および前記第２移動機構の前記基板移動方向における中央部の上方から前記基板移動方向の一方側へと延び、前記第１移動機構および前記第２移動機構は、前記ガントリー部から前記基板移動方向の他方側へと突出しており、前記カウンタウエイトは、前記第１移動機構および前記第２移動機構に対して前記基板移動方向の他方側に隣接して配置される。
請求項６に記載の発明は、請求項１ないし５のいずれか１つに記載の描画装置であって、前記フレームの剛性は、前記第１移動機構および前記第２移動機構の前記基板移動方向における一方側の端部、中央部および他方側の端部の順に低く、前記カウンタウエイトは、前記第１移動機構および前記第２移動機構に対して前記基板移動方向の前記他方側に隣接して配置され、前記第１基板保持部が、前記パターン描画部による描画が行われる位置に位置している状態において、前記第２基板保持部が前記基板移動方向における前記一方側の端部に位置するときに、前記カウンタウエイトは前記ウエイト移動方向における前記第１移動機構と前記第２移動機構との中央の基準位置に位置し、前記第２基板保持部が前記基板移動方向における前記中央部に位置するときに、前記カウンタウエイトは前記基準位置よりも前記第１移動機構寄りの第１位置に位置し、前記第２基板保持部が前記基板移動方向における前記他方側の端部に位置するときに、前記カウンタウエイトは前記第１位置よりも前記第１移動機構寄りの第２位置に位置し、前記第２基板保持部が、前記パターン描画部による描画が行われる位置に位置している状態において、前記第１基板保持部が前記基板移動方向における前記一方側の端部に位置するときに、前記カウンタウエイトは前記基準位置に位置し、前記第１基板保持部が前記基板移動方向における前記中央部に位置するときに、前記カウンタウエイトは前記基準位置よりも前記第２移動機構寄りの第３位置に位置し、前記第１基板保持部が前記基板移動方向における前記他方側の端部に位置するときに、前記カウンタウエイトは前記第３位置よりも前記第２移動機構寄りの第４位置に位置する。
請求項７に記載の発明は、請求項１ないし５のいずれか１つに記載の描画装置であって、前記フレームの剛性は、前記第１移動機構および前記第２移動機構の前記基板移動方向における一方側の端部、中央部および他方側の端部の順に低く、前記カウンタウエイトは、前記第１移動機構および前記第２移動機構に対して前記基板移動方向の前記他方側に隣接して配置され、前記第１基板保持部および前記第２基板保持部が前記基板移動方向における同じ位置に位置するときに、前記カウンタウエイトは前記ウエイト移動方向における前記第１移動機構と前記第２移動機構との中央の基準位置に位置し、前記第２基板保持部が前記第１基板保持部よりも前記基板移動方向における前記他方側に位置するときに、前記カウンタウエイトは前記基準位置よりも前記第１移動機構寄りの位置に位置し、前記第２基板保持部が前記第１基板保持部よりも前記基板移動方向における前記一方側に位置するときに、前記カウンタウエイトは前記基準位置よりも前記第２移動機構寄りの位置に位置する。
請求項８に記載の発明は、請求項１ないし７のいずれか１つに記載の描画装置であって、前記パターン描画部は、下方に向けて光を照射する描画ヘッドと、前記描画ヘッドを、前記第１移動機構の上方の第１描画位置と前記第２移動機構の上方の第２描画位置との間で移動する描画ヘッド移動機構とを備える。
本発明では、基板に対する描画を精度良く行うことができる。
図１は、本発明の一の実施の形態に係る描画装置１を示す斜視図である。描画装置１は、空間変調された略ビーム状の光を基板９上の感光材料に照射し、当該光の照射領域を基板９上にて走査することによりパターンの描画を行うツインステージタイプの直接描画装置である。図１では、互いに直交する３つの方向をＸ方向、Ｙ方向およびＺ方向として矢印にて示している。図１に示す例では、Ｘ方向およびＹ方向は互いに垂直な水平方向であり、Ｚ方向は鉛直方向である。他の図においても同様である。
基板９は、例えば、平面視において略矩形状の板状部材である。基板９は、例えば、プリント基板である。基板９の（+Ｚ）側の主面（以下、「上面９１」とも呼ぶ。）では、感光材料により形成されたレジスト膜が銅層上に設けられる。描画装置１では、基板９の当該レジスト膜に回路パターンが描画（すなわち、形成）される。なお、基板９の種類および形状等は様々に変更されてよい。
描画装置１は、第１搬送機構２ａと、第２搬送機構２ｂと、撮像部３と、パターン描画部４と、フレーム７と、制御部１０とを備える。制御部１０は、第１搬送機構２ａ、第２搬送機構２ｂ、撮像部３およびパターン描画部４を制御する。
フレーム７は、描画装置１の各構成が取り付けられる本体ベース部である。フレーム７は、略直方体状の基台７１と、基台７１を跨ぐ門形の第１ガントリー部７２および第２ガントリー部７３と、を備える。第２ガントリー部７３は、第１ガントリー部７２の（＋Ｙ）側に近接して配置される。以下の説明では、第１ガントリー部７２および第２ガントリー部７３をまとめて「ガントリー部７４」とも呼ぶ。基台７１上には第１搬送機構２ａおよび第２搬送機構２ｂが取り付けられる。第１ガントリー部７２は撮像部３を支持する。第２ガントリー部７３はパターン描画部４を支持する。フレーム７は、図示省略の台座上に載置される。
第１搬送機構２ａおよび第２搬送機構２ｂはそれぞれ、撮像部３およびパターン描画部４の下方（すなわち、（－Ｚ）側）にて基板９を保持および移動する機構である。第２搬送機構２ｂは、第１搬送機構２ａの（＋Ｘ）側に隣接して配置される。第１搬送機構２ａと第２搬送機構２ｂとは略同様の構造を有する。
第１搬送機構２ａは、第１ステージ２１ａと、第１移動機構２２ａとを備える。第１ステージ２１ａは、略水平状態の基板９を下側から保持する略平板状の第１基板保持部である。第１ステージ２１ａは、例えば、基板９の下面を吸着して保持するバキュームチャックである。第１ステージ２１ａは、バキュームチャック以外の構造を有していてもよい。第１ステージ２１ａ上に載置された基板９の上面９１は、Ｚ方向（すなわち、上下方向）に対して略垂直であり、Ｘ方向およびＹ方向に略平行である。
第１移動機構２２ａは、第１ステージ２１ａを撮像部３およびパターン描画部４に対して略水平方向（すなわち、基板９の上面９１に略平行な方向）に相対的に移動する第１ステージ移動機構である。第１移動機構２２ａは、撮像部３およびパターン描画部４の下方にて、ガイドレール２２１ａ上に支持された第１ステージ２１ａをガイドレール２２１ａに沿ってＹ方向に直線移動する。これにより、第１ステージ２１ａに保持された基板９がＹ方向に移動する。以下の説明では、Ｙ方向を「基板移動方向」とも呼ぶ。第１移動機構２２ａの駆動源は、例えば、リニアサーボモータ、または、ボールネジにモータが取り付けられたものである。第１移動機構２２ａの構造は、様々に変更されてよい。
第２搬送機構２ｂは、第２ステージ２１ｂと、第２移動機構２２ｂとを備える。第２ステージ２１ｂは、略水平状態の基板９を下側から保持する略平板状の第２基板保持部である。第２ステージ２１ｂは、第１ステージ２１ａの側方（すなわち、（＋Ｘ）側）に隣接して配置される。第２ステージ２１ｂの上面は、第１ステージ２１ａの上面と上下方向（すなわち、Ｚ方向）において同じ高さに位置する。第２ステージ２１ｂは、例えば、基板９の下面を吸着して保持するバキュームチャックである。第２ステージ２１ｂは、バキュームチャック以外の構造を有していてもよい。第２ステージ２１ｂ上に載置された基板９の上面９１は、Ｚ方向に対して略垂直であり、Ｘ方向およびＹ方向に略平行である。第２ステージ２１ｂに保持された基板９の上面９１は、第１ステージ２１ａに保持された基板９の上面９１と上下方向の略同じ高さ（すなわち、Ｚ方向の略同じ位置）に位置する。
第２移動機構２２ｂは、第２ステージ２１ｂを撮像部３およびパターン描画部４に対して略水平方向（すなわち、基板９の上面９１に略平行な方向）に相対的に移動する第２ステージ移動機構である。第２移動機構２２ｂは、撮像部３およびパターン描画部４の下方にて、ガイドレール２２１ｂ上に支持された第２ステージ２１ｂをガイドレール２２１ｂに沿ってＹ方向（すなわち、基板移動方向）に直線移動する。これにより、第２ステージ２１ｂに保持された基板９がＹ方向に移動する。第２移動機構２２ｂによる第２ステージ２１ｂの移動方向は、第１移動機構２２ａによる第１ステージ２１ａの移動方向と略平行である。第２移動機構２２ｂの駆動源は、例えば、リニアサーボモータ、または、ボールネジにモータが取り付けられたものである。第２移動機構２２ｂの構造は、様々に変更されてよい。
第１移動機構２２ａと第２移動機構２２ｂとは、基板移動方向（すなわち、Ｙ方向）と交差する方向に並んで配置される。図１に示す例では、第１移動機構２２ａと第２移動機構２２ｂとはＸ方向に並んで配置され、第２移動機構２２ｂは、第１移動機構２２ａの（＋Ｘ）側の側方に隣接する。第１移動機構２２ａと第２移動機構２２ｂとは、上下方向の略同じ高さに位置する。
第１移動機構２２ａおよび第２移動機構２２ｂは、フレーム７の基台７１により下方から支持される。第１移動機構２２ａおよび第２移動機構２２ｂは、第２ガントリー部７３よりも（＋Ｙ）側から（－Ｙ）方向へと延び、第２ガントリー部７３に支持されたパターン描画部４の下方、および、第１ガントリー部７２に支持された撮像部３の下方を通過して、第１ガントリー部７２から（－Ｙ）側に突出する。第１ガントリー部７２は、第１移動機構２２ａおよび第２移動機構２２ｂのＹ方向における中央部と、Ｙ方向において略同じ位置に位置する。換言すれば、ガントリー部７４は、第１移動機構２２ａおよび第２移動機構２２ｂのＹ方向における中央部の上方から、（＋Ｙ）方向へと延びる。したがって、フレーム７の剛性は、第１移動機構２２ａおよび第２移動機構２２ｂの（＋Ｙ）側の端部、Ｙ方向における中央部、および、（－Ｙ）側の端部の順に低くなる。
描画装置１では、第１ステージ２１ａが第１ガントリー部７２よりも（－Ｙ）側に位置している状態で、第１ステージ２１ａに対する基板９の搬出入が行われる。また、第２ステージ２１ｂが第１ガントリー部７２よりも（－Ｙ）側に位置している状態で、第２ステージ２１ｂに対する基板９の搬出入が行われる。
上述のように、第１ガントリー部７２および第２ガントリー部７３は、第１搬送機構２ａおよび第２搬送機構２ｂを跨いで設けられる。第１ガントリー部７２は、第１搬送機構２ａおよび第２搬送機構２ｂのＸ方向の両側にてＺ方向に延びる２本の支柱部と、２本の支柱部の上端部を接続する梁部とを備える。当該梁部は、第１搬送機構２ａおよび第２搬送機構２ｂの上方にてＸ方向に延びる。第１ガントリー部７２の２本の支柱部は、（－Ｚ）側の端部において基台７１と接続される。第２ガントリー部７３は、第１搬送機構２ａおよび第２搬送機構２ｂのＸ方向の両側にてＺ方向に延びる２本の支柱部と、２本の支柱部の上端部を接続する梁部とを備える。当該梁部は、第１搬送機構２ａおよび第２搬送機構２ｂの上方にてＸ方向に延びる。第２ガントリー部７３の２本の支柱部は、（－Ｚ）側の端部において基台７１と接続される。
撮像部３は、複数（図１に示す例では、２つ）の撮像ヘッド３１と、撮像ヘッド移動機構３２とを備える。複数の撮像ヘッド３１は、Ｘ方向に配列されて、第１ガントリー部７２の梁部に移動可能に取り付けられる。撮像ヘッド移動機構３２は、梁部に取り付けられ、複数の撮像ヘッド３１を梁部に沿ってＸ方向に移動する。撮像ヘッド移動機構３２の駆動源は、例えば、リニアサーボモータ、または、ボールネジにモータが取り付けられたものである。図１に示す例では、２つの撮像ヘッド３１のＸ方向における間隔は変更可能である。なお、撮像部３では、撮像ヘッド３１の数は、１であってもよく、３以上であってもよい。
各撮像ヘッド３１は、図示省略の撮像センサおよび光学系を備えるカメラである。各撮像ヘッド３１は、例えば、２次元の画像を取得するエリアカメラである。撮像センサは、例えば、マトリクス状に配列された複数のＣＣＤ（Charge Coupled Device）等の素子を備える。各撮像ヘッド３１では、図示省略の光源から基板９の上面９１へと導かれた照明光の反射光が、光学系を介して撮像センサへと導かれる。撮像センサは、基板９の上面９１からの反射光を受光し、略矩形状の撮像領域の画像を取得する。上記光源としては、ＬＥＤ（Light Emitting Diode）等の様々な光源が利用可能である。なお、各撮像ヘッド３１は、ラインカメラ等、他の種類のカメラであってもよい。
描画装置１では、撮像ヘッド移動機構３２により、複数の撮像ヘッド３１が第１搬送機構２ａの上方の第１撮像位置と、第２搬送機構２ｂの上方の第２撮像位置との間で移動される。図１では、複数の撮像ヘッド３１は、第１撮像位置に位置している。複数の撮像ヘッド３１は、第１撮像位置において第１ステージ２１ａ上の基板９の上面９１を撮像する。また、複数の撮像ヘッド３１は、第２撮像位置において第２ステージ２１ｂ上の基板９の上面９１を撮像する。
パターン描画部４は、複数（図１に示す例では、６つ）の描画ヘッド４１と、描画ヘッド移動機構４２とを備える。複数の描画ヘッド４１は、Ｘ方向に配列されて、第２ガントリー部７３の梁部に移動可能に取り付けられる。描画ヘッド移動機構４２は、梁部に取り付けられ、複数の描画ヘッド４１を梁部に沿ってＸ方向に一体的に移動する。描画ヘッド移動機構４２の駆動源は、例えば、リニアサーボモータ、または、ボールネジにモータが取り付けられたものである。なお、パターン描画部４では、描画ヘッド４１の数は、１であってもよく、複数であってもよい。
各描画ヘッド４１は、図示省略の光源、光学系および空間光変調素子を備える。空間光変調素子としては、ＤＭＤ（Digital Micro Mirror Device）やＧＬＶ（Grating Light Valve：グレーチング・ライト・バルブ）（シリコン・ライト・マシーンズ（サニーベール、カリフォルニア）の登録商標）等の様々な素子が利用可能である。光源としては、ＬＤ（Laser Diode）等の様々な光源が利用可能である。複数の描画ヘッド４１は、略同じ構造を有する。
描画装置１では、描画ヘッド移動機構４２により、複数の描画ヘッド４１が第１搬送機構２ａの上方の第１描画位置と、第２搬送機構２ｂの上方の第２描画位置との間で移動される。図１では、複数の描画ヘッド４１は、第２描画位置に位置している。複数の描画ヘッド４１は、第１描画位置において第１ステージ２１ａ上の基板９の上面９１にパターンを描画する。また、複数の描画ヘッド４１は、第２描画位置において第２ステージ２１ｂ上の基板９の上面９１にパターンを描画する。
第１描画位置および第２描画位置は、第１移動機構２２ａおよび第２移動機構２２ｂのＹ方向における中央部と、Ｙ方向において略同じ位置に位置する。また、上述の第１撮像位置および第２撮像位置も、第１移動機構２２ａおよび第２移動機構２２ｂのＹ方向における中央部と、Ｙ方向において略同じ位置に位置する。換言すれば、パターン描画部４の複数の描画ヘッド４１、および、撮像部３の複数の撮像ヘッド３１は、第１移動機構２２ａおよび第２移動機構２２ｂのＹ方向における中央部と、Ｙ方向において略同じ位置に位置する。
第１描画位置においてパターンが描画される際には、パターン描画部４の複数の描画ヘッド４１から、下方の第１ステージ２１ａ上の基板９に向けて、変調（すなわち、空間変調）された光が照射される。そして、当該光の照射と並行して、基板９が第１移動機構２２ａによりＹ方向（すなわち、基板移動方向）に水平移動される。これにより、複数の描画ヘッド４１からの光の照射領域が基板９上にてＹ方向に走査され、基板９に対するパターン（例えば、回路パターン）の描画が行われる。第１移動機構２２ａは、各描画ヘッド４１からの光の照射領域を基板９上にてＹ方向に移動する走査機構である。
図１に示す例では、基板９に対する描画は、いわゆるシングルパス（ワンパス）方式で行われる。具体的には、第１移動機構２２ａにより、第１ステージ２１ａが複数の描画ヘッド４１に対してＹ方向に相対移動され、複数の描画ヘッド４１からの光の照射領域が、基板９の上面９１上にてＹ方向に１回のみ走査される。これにより、基板９に対する描画が完了する。なお、描画装置１では、第１ステージ２１ａのＹ方向への移動とＸ方向へのステップ移動とが繰り返されるマルチパス方式により、基板９に対する描画が行われてもよい。第２描画位置におけるパターンの描画は、第１ステージ２１ａおよび第１移動機構２２ａが第２ステージ２１ｂおよび第２移動機構２２ｂに変更される点を除き、上述の第１描画位置におけるパターンの描画と同様である。
描画装置１は、カウンタウエイト５１と、ウエイト移動機構５２とをさらに備える。カウンタウエイト５１は、比較的重い部材であり、フレーム７に取り付けられてフレーム７の歪み等の変形を制御する。カウンタウエイト５１は、金属等の比較的比重が大きい材料により形成される。カウンタウエイト５１は、例えば、鉄製の複数の板部材を積層して固定した略直方体状の１つの構造体である。
カウンタウエイト５１は、フレーム７のウエイト支持部７５に移動可能に取り付けられる。ウエイト支持部７５は、基台７１の（－Ｙ）側の端部に設けられたＸ方向に延びる略角柱状の部材である。ウエイト支持部７５は、例えば、カウンタウエイト５１の上下方向の中央部を支持する。ウエイト支持部７５は、第１移動機構２２ａのガイドレール２２１ａの（－Ｙ）側の端部、および、第２移動機構２２ｂのガイドレール２２１ｂの（－Ｙ）側の端部に対して、（－Ｙ）側に隣接した位置に設けられる。したがって、カウンタウエイト５１は、第１移動機構２２ａおよび第２移動機構２２ｂに対して（－Ｙ）側に隣接して配置される。
ウエイト移動機構５２は、ウエイト支持部７５に取り付けられ、カウンタウエイト５１をウエイト支持部７５に沿ってＸ方向に水平移動する。以下の説明では、Ｘ方向を「ウエイト移動方向」とも呼ぶ。ウエイト移動方向は、上述の基板移動方向（すなわち、Ｙ方向）と交差する方向である。図１に示す例では、ウエイト移動方向は基板移動方向に略垂直である。ウエイト移動機構５２の駆動源は、例えば、リニアサーボモータ、または、ボールネジにモータが取り付けられたものである。ウエイト移動機構５２の構造は、様々に変更されてよい。
図１では、カウンタウエイト５１は、Ｘ方向における第１移動機構２２ａと第２移動機構２２ｂとの中央（以下、「基準位置」とも呼ぶ。）に位置する。ウエイト移動機構５２は、カウンタウエイト５１を基準位置から（－Ｘ）方向へと移動して第１移動機構２２ａの（－Ｙ）側に位置させ、また、カウンタウエイト５１を基準位置から（＋Ｘ）方向へと移動して第２移動機構２２ｂの（－Ｙ）側に位置させる。
カウンタウエイト５１の重心位置は、カウンタウエイト５１の移動時の振動により第１搬送機構２ａおよび第２搬送機構２ｂに加わるモーメント等を低減するという観点から、第１搬送機構２ａおよび第２搬送機構２ｂから上下方向にあまり大きく離れていない方が好ましく、また、ウエイト支持部７５近傍であることが好ましい。具体的には、カウンタウエイト５１の重心は、上下方向において、第１ステージ２１ａの上面および第２ステージ２１ｂの上面よりも下方に位置することが好ましい。これにより、上述のモーメント等が低減され、カウンタウエイト５１の移動時の振動により、第１ステージ２１ａおよび第２ステージ２１ｂに保持された基板９に対する処理の精度が低下することを防止または抑制することができる。また、第１ステージ２１ａや第２ステージ２１ｂの移動時等におけるフレーム７の振動により、カウンタウエイト５１が振動することも抑制することができる。なお、図１に示す例では、カウンタウエイト５１の重心は、上下方向において、基台７１の上下方向の中心よりも上側に位置する。
図１に示す例では、カウンタウエイト５１の上端（すなわち、（＋Ｚ）側の端面）は、上下方向において、第１ステージ２１ａの上面および第２ステージ２１ｂの上面よりも下側に位置する。これにより、第１ステージ２１ａおよび第２ステージ２１ｂへの基板９の搬出入の際に、基板９の移動がカウンタウエイト５１により阻害されることを防止することができる。
図２は、制御部１０が備えるコンピュータ１００の構成を示す図である。コンピュータ１００は、プロセッサ１０１と、メモリ１０２と、入出力部１０３と、バス１０４とを備える通常のコンピュータである。バス１０４は、プロセッサ１０１、メモリ１０２および入出力部１０３を接続する信号回路である。メモリ１０２は、プログラムおよび各種情報を記憶する。プロセッサ１０１は、メモリ１０２に記憶されるプログラム等に従って、メモリ１０２等を利用しつつ様々な処理（例えば、数値計算や画像処理）を実行する。入出力部１０３は、操作者からの入力を受け付けるキーボード１０５およびマウス１０６、並びに、プロセッサ１０１からの出力等を表示するディスプレイ１０７を備える。なお、制御部１０は、プログラマブルロジックコントローラ（ＰＬＣ：Programmable Logic Controller）や回路基板等であってもよく、これらと１つ以上のコンピュータとの組み合わせであってもよい。
図３は、コンピュータ１００により実現される制御部１０の機能を示すブロック図である。図３では、制御部１０以外の構成も併せて示す。制御部１０は、記憶部１１１と、撮像制御部１１２と、検出部１１３と、描画制御部１１４と、ウエイト移動制御部１１５とを備える。記憶部１１１は、主にメモリ１０２により実現され、基板９に描画される予定のパターンのデータ（すなわち、描画用データ）や、カウンタウエイト５１の移動に関する情報等の各種情報を予め記憶する。
撮像制御部１１２、検出部１１３、描画制御部１１４およびウエイト移動制御部１１５は、主にプロセッサ１０１により実現される。撮像制御部１１２は、撮像部３、第１移動機構２２ａおよび第２移動機構２２ｂを制御することにより、第１ステージ２１ａおよび第２ステージ２１ｂ上の基板９の上面９１を撮像部３に撮像させて画像を取得させる。当該画像は、記憶部１１１へと送られて格納される。検出部１１３は、当該画像を用いて基板９の位置を検出する。描画制御部１１４は、検出部１１３により検出された基板９の位置、および、記憶部１１１に予め記憶されている描画用データ等に基づいて、パターン描画部４、第１移動機構２２ａおよび第２移動機構２２ｂを制御することにより、第１ステージ２１ａおよび第２ステージ２１ｂ上の基板９に対する描画をパターン描画部４に行わせる。ウエイト移動制御部１１５は、後述するように、Ｙ方向における第１ステージ２１ａおよび第２ステージ２１ｂの位置に基づいて、ウエイト移動機構５２を制御してカウンタウエイト５１の位置を調節する。
次に、図１に示す描画装置１による基板９へのパターンの描画の流れについて説明する。描画装置１では、大まかには、第１ステージ２１ａおよび第２ステージ２１ｂのうち一方のステージ上に保持された基板９に対して描画が行われている間に、他方のステージ上に基板９が搬入されてアライメント処理等が行われる。そして、上記一方のステージ上に保持された基板９に対する描画が終了すると、上記他方のステージ上に保持された基板９に対する描画が開始される。また、当該他方のステージ上の基板９に対して描画が行われている間に、一方のステージ上から描画済みの基板９が搬出され、新たな基板９が当該一方のステージ上に搬入されてアライメント処理等が行われる。
描画装置１では、基板９に対する上述の処理が行われている間、ウエイト移動機構５２によるカウンタウエイト５１の移動も並行して行われるが、カウンタウエイト５１の移動に関する説明は、以下の図４Ａおよび図４Ｂに関する説明が終了した後に行う。
図４Ａおよび図４Ｂは、描画装置１における描画処理の流れの一例を示す図である。図４Ａおよび図４Ｂ中の左側のステップＳ１１～Ｓ１９は、第１ステージ２１ａ上における基板９への描画処理の流れを示し、図４Ａおよび図４Ｂ中の右側のステップＳ２１～Ｓ２９は、第２ステージ２１ｂ上における基板９への描画処理の流れを示す。また、図４Ａおよび図４Ｂ中の上下方向の同じ位置に位置するステップは、およそ並行して行われる。具体的には、ステップＳ１１とステップＳ２１～Ｓ２６とは、およそ並行して行われる。また、ステップＳ２８とステップＳ１３～Ｓ１８とは、およそ並行して行われる。
図４Ａおよび図４Ｂでは、第１搬送機構２ａの第１ステージ２１ａ上の基板９に対するパターンの描画が行われる状態から説明を開始する。また、図５～図１０は、描画処理中の描画装置１における第１ステージ２１ａおよび第２ステージ２１ｂのＹ方向における概略的な位置を示す概念図である。図５～図１０では、第１ステージ２１ａ、第１移動機構２２ａ、第２ステージ２１ｂおよび第２移動機構２２ｂを実線にて描き、撮像ヘッド３１および描画ヘッド４１を破線にて描く。後述する図１１、図１３～図１８、および、図２０～図２８においても同様である。また、図１１、図１３～図１８、および、図２０～図２８では、カウンタウエイト５１も実線にて描く。
以下の説明では、Ｙ方向における第１ステージ２１ａの位置について、撮像ヘッド３１および／または描画ヘッド４１と上下方向に重なる位置を「処理位置」と呼び、第１移動機構２２ａの（－Ｙ）側の端部と上下方向に重なる位置を「搬出入位置」と呼び、第１移動機構２２ａの（＋Ｙ）側の端部と上下方向に重なる位置を「待機位置」と呼ぶ。また、Ｙ方向における第２ステージ２１ｂの位置について、撮像ヘッド３１および／または描画ヘッド４１と上下方向に重なる位置を「処理位置」と呼び、第２移動機構２２ｂの（－Ｙ）側の端部と上下方向に重なる位置を「搬出入位置」と呼び、第２移動機構２２ｂの（＋Ｙ）側の端部と上下方向に重なる位置を「待機位置」と呼ぶ。なお、上述の処理位置は、Ｙ方向における１点を指す概念ではなく、撮像部３による基板９の撮像、および、パターン描画部４によるパターンの描画が行われるＹ方向の所定の範囲（すなわち、処理領域）を指す。
描画装置１では、図５に示すように、第１ステージ２１ａが処理位置に位置し、描画ヘッド４１が第１描画位置に位置する状態で、第１ステージ２１ａ上の基板９に対して、パターン描画部４によるパターンの描画が行われる（ステップＳ１１）。ステップＳ１１では、描画制御部１１４（図３参照）によりパターン描画部４および第１移動機構２２ａが制御されることにより、処理位置において（－Ｙ）方向へと移動する基板９に対してパターンの描画が行われる。
また、ステップＳ１１と並行して、搬出入位置に位置する第２ステージ２１ｂから描画済みの基板９が搬出され、新たな基板９が第２ステージ２１ｂ上に搬入されて保持される（ステップＳ２１，Ｓ２２）。続いて、第２移動機構２２ｂにより第２ステージ２１ｂが（＋Ｙ）方向へと移動され、図６に示すように処理位置に位置する（ステップＳ２３）。図６に示す状態では、第１ステージ２１ａは処理位置に位置したままであり、第１ステージ２１ａ上の基板９に対する描画が行われている。また、撮像ヘッド３１は第２撮像位置に位置する。
第２ステージ２１ｂが処理位置に位置すると、撮像制御部１１２（図３参照）により撮像部３および第２移動機構２２ｂが制御されることにより、第２ステージ２１ｂ上の基板９のアライメントマーク（図示省略）の撮像が行われ、取得された画像が検出部１１３（図３参照）へと送られる。検出部１１３では、当該画像に対して基準画像を用いたパターンマッチングが行われる。当該パターンマッチングは、例えば、公知のパターンマッチング法（例えば、幾何学形状パターンマッチングや正規化相関サーチ等）により行われる。これにより、当該画像中におけるアライメントマークの位置が求められ、第２ステージ２１ｂ上における基板９の位置が検出される（ステップＳ２４）。
検出部１１３により検出される基板９の位置とは、第２ステージ２１ｂ上における基板９のＸ方向およびＹ方向における座標、基板９の向き、並びに、基板９の歪み等による変形を示す情報を含む。また、基板９の変形を示す情報とは、変形している基板９の形状、および、当該基板９上における描画領域の位置等の情報である。検出部１１３では、検出された基板９の位置に基づいて、第２ステージ２１ｂ上の基板９用の描画データの調節（すなわち、アライメント処理）が行われる。
第２ステージ２１ｂ上の基板９の撮像が終了すると、第２移動機構２２ｂにより第２ステージ２１ｂが（＋Ｙ）方向へと移動され、図７に示すように待機位置に位置する（ステップＳ２５）。図７に示す状態では、第１ステージ２１ａは処理位置に位置したままであり、第１ステージ２１ａ上の基板９に対する描画が行われている。第２ステージ２１ｂは、第１ステージ２１ａ上の基板９に対する描画が終了するまで、待機位置にて待機する（ステップＳ２６）。
第１ステージ２１ａ上の基板９に対する描画（ステップＳ１１）が終了すると、第１移動機構２２ａにより第１ステージ２１ａが（－Ｙ）方向へと移動され、図８に示すように搬出入位置に位置する（ステップＳ１２）。また、ステップＳ１２と並行して、第２移動機構２２ｂにより第２ステージ２１ｂが（－Ｙ）方向へと移動され、処理位置に位置する（ステップＳ２７）。また、撮像ヘッド３１は、第２撮像位置から第１撮像位置へと移動される。描画ヘッド４１は、第１描画位置から第２描画位置へと移動される。そして、上述のアライメント処理済みの描画データ等に基づいて、描画制御部１１４によりパターン描画部４および第２移動機構２２ｂが制御されることにより、処理位置において（－Ｙ）方向へと移動する第２ステージ２１ｂ上の基板９に対してパターンの描画が行われる（ステップＳ２８）。
描画装置１では、第２ステージ２１ｂ上の基板９への描画と並行して、搬出入位置に位置する第１ステージ２１ａから、描画済みの基板９が搬出され、新たな基板９が第１ステージ２１ａ上に搬入されて保持される（ステップＳ１３，Ｓ１４）。続いて、第１移動機構２２ａにより第１ステージ２１ａが（＋Ｙ）方向へと移動され、図９に示すように処理位置に位置する（ステップＳ１５）。図９に示す状態では、第２ステージ２１ｂは処理位置に位置したままであり、第２ステージ２１ｂ上の基板９に対する描画が行われている。
第１ステージ２１ａが処理位置に位置すると、撮像制御部１１２により撮像部３および第１移動機構２２ａが制御されることにより、第１ステージ２１ａ上の基板９のアライメントマーク（図示省略）が撮像ヘッド３１により撮像され、取得された画像が検出部１１３へと送られる。検出部１１３では、ステップＳ２４と略同様に、当該画像に対してパターンマッチングが行われ、第１ステージ２１ａ上における基板９の位置が検出される（ステップＳ１６）。検出部１１３では、検出された基板９の位置に基づいて、第１ステージ２１ａ上の基板９に描画される予定のパターンデータの調節（すなわち、アライメント処理）が行われる。
第１ステージ２１ａ上の基板９の撮像が終了すると、第１移動機構２２ａにより第１ステージ２１ａが（＋Ｙ）方向へと移動され、図１０に示すように待機位置に位置する（ステップＳ１７）。図１０に示す状態では、第２ステージ２１ｂは処理位置に位置したままであり、第２ステージ２１ｂ上の基板９に対する描画が行われている。第１ステージ２１ａは、第２ステージ２１ｂ上の基板９に対する描画が終了するまで、待機位置にて待機する（ステップＳ１８）。
第２ステージ２１ｂ上の基板９に対する描画（ステップＳ２８）が終了すると、第２移動機構２２ｂにより第２ステージ２１ｂが（－Ｙ）方向へと移動され、上述の図５に示すように搬出入位置に位置する（ステップＳ２９）。また、ステップＳ２９と並行して、第１移動機構２２ａにより第１ステージ２１ａが（－Ｙ）方向へと移動され、処理位置に位置する（ステップＳ１９）。また、撮像ヘッド３１は、第１撮像位置から第２撮像位置へと移動される。描画ヘッド４１は、第２描画位置から第１描画位置へと移動される。
そしてステップＳ１９からステップＳ１１に戻り、上述のアライメント処理済みの描画データ等に基づいて、描画制御部１１４によりパターン描画部４および第１移動機構２２ａが制御されることにより、処理位置において（－Ｙ）方向へと移動する第１ステージ２１ａ上の基板９に対してパターンの描画が行われる（ステップＳ１１）。また、ステップＳ２９からステップＳ２１に戻り、搬出入位置に位置する第２ステージ２１ｂから描画済みの基板９が搬出され、新たな基板９が第２ステージ２１ｂ上に搬入されて保持される（ステップＳ２１，Ｓ２２）。描画装置１では、ステップＳ１１～Ｓ１９およびステップＳ２１～Ｓ２９が繰り返され、複数の基板９に対して順次描画が行われる。
上述のように、図１に示す描画装置１では、第１ステージ２１ａ上および第２ステージ２１ｂ上の基板９に対するアライメント処理や描画処理等が行われている間、第１ステージ２１ａおよび第２ステージ２１ｂのＹ方向（すなわち、基板移動方向）における位置に基づいて、ウエイト移動制御部１１５（図３参照）によりウエイト移動機構５２が制御されることにより、カウンタウエイト５１のＸ方向（すなわち、基板移動方向に垂直な方向）の位置が調節される。これにより、第１ステージ２１ａおよび第２ステージ２１ｂの重量によるフレーム７の変形が抑制される。
以下、カウンタウエイト５１の位置調節の具体例について説明する。以下の例では、カウンタウエイト５１は、図１１中に実線および二点鎖線にて示す５つの位置のいずれかに位置するものとして説明する。図１１中において実線にて示すカウンタウエイト５１の位置は、上述の基準位置（すなわち、Ｘ方向における第１移動機構２２ａと第２移動機構２２ｂとの中央）である。以下の説明では、上記５つの位置のうち、基準位置の（－Ｘ）側に隣接する位置を「第１位置」と呼び、第１位置の（－Ｘ）側に隣接する位置を「第２位置」と呼ぶ。また、上記５つの位置のうち、基準位置の（＋Ｘ）側に隣接する位置を「第３位置」と呼び、第３位置の（＋Ｘ）側に隣接する位置を「第４位置」と呼ぶ。
第１位置は、Ｘ方向において基準位置よりも第１移動機構２２ａ寄りの位置であり、第２位置は、Ｘ方向において第１位置よりも第１移動機構２２ａ寄りの位置である。第２位置は、Ｘ方向において第２移動機構２２ｂから最も遠い位置である。また、第３位置は、Ｘ方向において基準位置よりも第２移動機構２２ｂ寄りの位置であり、第４位置は、Ｘ方向において第３位置よりも第２移動機構２２ｂ寄りの位置である。第４位置は、Ｘ方向において第１移動機構２２ａから最も遠い位置である。
図１１に示す例では、第２位置は、ウエイト移動機構５２によるカウンタウエイト５１の可動範囲における（－Ｘ）側の端部である。第１位置は、第２位置と基準位置との間のＸ方向における中央の位置である。また、第４位置は、ウエイト移動機構５２によるカウンタウエイト５１の可動範囲における（＋Ｘ）側の端部である。第３位置は、第４位置と基準位置との間のＸ方向における中央の位置である。
図１２は、カウンタウエイト５１の位置調節の流れについて、第１の例を示す図である。当該第１の例では、第１ステージ２１ａおよび第２ステージ２１ｂのうち、一方のステージ上の基板９に対して描画が行われている状態において、他方のステージの位置に基づいてカウンタウエイト５１の位置が調節される。例えば、第１ステージ２１ａ上の基板９に対して描画が行われており、かつ、第２ステージ２１ｂが搬出入位置に位置する状態（ステップＳ１１，ステップＳ２１～Ｓ２２および図５に対応）では、カウンタウエイト５１は、図１３に示すように第２位置に位置する（ステップＳ３１）。
また、第１ステージ２１ａ上の基板９に対して描画が行われており、かつ、第２ステージ２１ｂが処理位置に位置する状態（ステップＳ１１，ステップＳ２４および図６に対応）では、カウンタウエイト５１は、図１４に示すように第１位置に位置する（ステップＳ３２）。そして、第１ステージ２１ａ上の基板９に対して描画が行われており、かつ、第２ステージ２１ｂが待機位置に位置する状態（ステップＳ１１，ステップＳ２６および図７に対応）では、カウンタウエイト５１は、図１５に示すように基準位置に位置する（ステップＳ３３）。
上述の図１３のように、第２ステージ２１ｂが、フレーム７の剛性が低い搬出入位置に位置する場合、第２ステージ２１ｂの重量により、フレーム７の（＋Ｘ）側かつ（－Ｙ）側の部位が下方へと沈むようにフレーム７に変形（すなわち、歪み）が生じる可能性がある。そこで、ステップＳ３１のように、カウンタウエイト５１を最も（－Ｘ）側の第２位置へと位置させることにより、第２ステージ２１ｂからフレーム７に付与される変形モーメント（すなわち、第１移動機構２２ａと第２移動機構２２ｂとの中央にてＹ方向に延びる軸を中心としてフレーム７を捻るように変形させるモーメント）を相殺し、または、部分的に打ち消し、フレーム７の変形を防止または抑制する。
また、図１４のように、第２ステージ２１ｂが、フレーム７の剛性が搬出入位置よりも高い処理位置に位置する場合、第２ステージ２１ｂの重量によるフレーム７の変形量は、図１３の状態よりも小さい。そこで、ステップＳ３２のように、カウンタウエイト５１を第２位置よりも基準位置寄りの第１位置へと位置させることにより、第２ステージ２１ｂからフレーム７に付与される変形モーメントを相殺し、または、部分的に打ち消し、フレーム７の変形を防止または抑制する。
さらに、図１５のように、第２ステージ２１ｂが、フレーム７の剛性が処理位置よりも高い待機位置に位置する場合、第２ステージ２１ｂの重量によるフレーム７の変形はほとんど生じない。そこで、ステップＳ３３のように、カウンタウエイト５１を基準位置へと位置させることにより、カウンタウエイト５１の重量によるフレーム７の変形を防止する。
描画装置１では、第１ステージ２１ａが処理位置に位置し、第１ステージ２１ａ上の基板９に対して描画が行われている状態（ステップＳ１１）において、ステップＳ３１～Ｓ３３のカウンタウエイト５１の位置調節が行われてフレーム７の変形が防止または抑制される。その結果、第１ステージ２１ａ上の基板９への描画に対してフレーム７の変形が悪影響を及ぼすことを防止または抑制することができ、当該基板９に対する描画を精度良く行うことができる。
一方、第２ステージ２１ｂ上の基板９に対して描画が行われており、かつ、第１ステージ２１ａが搬出入位置に位置する状態（ステップＳ１３，Ｓ１４，ステップＳ２８および図８に対応）では、カウンタウエイト５１は、図１６に示すように第４位置に位置する（ステップＳ３４）。また、第２ステージ２１ｂ上の基板９に対して描画が行われており、かつ、第１ステージ２１ａが処理位置に位置する状態（ステップＳ１６，ステップＳ２８および図９に対応）では、カウンタウエイト５１は、図１７に示すように第３位置に位置する（ステップＳ３５）。そして、第２ステージ２１ｂ上の基板９に対して描画が行われており、かつ、第１ステージ２１ａが待機位置に位置する状態（ステップＳ１８，ステップＳ２８および図１０に対応）では、カウンタウエイト５１は、図１８に示すように基準位置に位置する（ステップＳ３６）。
上述のステップ図１６のように、第１ステージ２１ａが、フレーム７の剛性が低い搬出入位置に位置する場合、第１ステージ２１ａの重量により、フレーム７の（－Ｘ）側かつ（－Ｙ）側の部位が下方へと沈むようにフレーム７に変形（すなわち、歪み）が生じる可能性がある。そこで、ステップＳ３４のように、カウンタウエイト５１を最も（＋Ｘ）側の第４位置へと位置させることにより、第１ステージ２１ａからフレーム７に付与される変形モーメントを相殺し、または、部分的に打ち消し、フレーム７の変形を防止または抑制する。
また、図１７のように、第１ステージ２１ａが、フレーム７の剛性が搬出入位置よりも高い処理位置に位置する場合、第１ステージ２１ａの重量によるフレーム７の変形量は、図１６の状態よりも小さい。そこで、ステップＳ３５のように、カウンタウエイト５１を第４位置よりも基準位置寄りの第３位置へと位置させることにより、第１ステージ２１ａからフレーム７に付与される変形モーメントを相殺し、または、部分的に打ち消し、フレーム７の変形を防止または抑制する。
さらに、図１８のように、第１ステージ２１ａが、フレーム７の剛性が処理位置よりも高い待機位置に位置する場合、第１ステージ２１ａの重量によるフレーム７の変形はほとんど生じない。そこで、ステップＳ３６のように、カウンタウエイト５１を基準位置へと位置させることにより、カウンタウエイト５１の重量によるフレーム７の変形を防止する。
描画装置１では、第２ステージ２１ｂが処理位置に位置し、第２ステージ２１ｂ上の基板９に対して描画が行われている状態（ステップＳ２８）において、ステップＳ３４～Ｓ３６のカウンタウエイト５１の位置調節が行われてフレーム７の変形が防止または抑制される。その結果、第２ステージ２１ｂ上の基板９への描画に対してフレーム７の変形が悪影響を及ぼすことを防止または抑制することができ、当該基板９に対する描画を精度良く行うことができる。
図１９は、カウンタウエイト５１の位置調節の流れについて、第２の例を示す図である。当該第２の例では、第１ステージ２１ａおよび第２ステージ２１ｂのＹ方向における位置の差に基づいてカウンタウエイト５１の位置が調節される。例えば、第１ステージ２１ａが処理位置に位置し、第２ステージ２１ｂが第１ステージ２１ａよりも（－Ｙ）側の搬出入位置に位置する状態（ステップＳ１１，ステップＳ２１～Ｓ２２および図５に対応）では、カウンタウエイト５１は、図２０に示すように第１位置に位置する（ステップＳ４１）。また、第１ステージ２１ａおよび第２ステージ２１ｂが処理位置に位置する状態（ステップＳ１１，ステップＳ２４および図６に対応）では、カウンタウエイト５１は、図２１に示すように基準位置に位置する（ステップＳ４２）。
続いて、第１ステージ２１ａが処理位置に位置し、第２ステージ２１ｂが第１ステージ２１ａよりも（＋Ｙ）側の待機位置に位置する状態（ステップＳ１１，ステップＳ２６および図７に対応）では、カウンタウエイト５１は、図２２に示すように第３位置に位置する（ステップＳ４３）。また、第１ステージ２１ａが搬出入位置に位置し、第２ステージ２１ｂが第１ステージ２１ａよりも（＋Ｙ）側の処理位置に位置する状態（ステップＳ１３～Ｓ１４，ステップＳ２８および図８に対応）では、カウンタウエイト５１は、図２３に示すように第３位置から移動しない。
次に、第１ステージ２１ａおよび第２ステージ２１ｂが処理位置に位置する状態（ステップＳ１６，ステップＳ２８および図９に対応）では、カウンタウエイト５１は、図２４に示すように基準位置に位置する（ステップＳ４４）。そして、第１ステージ２１ａが待機位置に位置し、第２ステージ２１ｂが第１ステージ２１ａよりも（－Ｙ）側の処理位置に位置する状態（ステップＳ１８，ステップＳ２８および図１０に対応）では、カウンタウエイト５１は、図２５に示すように第１位置に位置する（ステップＳ４５）。
上述の図２０のように、第１ステージ２１ａに対して第２ステージ２１ｂが、フレーム７の剛性が低い（－Ｙ）側に位置する場合、第１ステージ２１ａからフレーム７に付与される変形モーメントと、第２ステージ２１ｂからフレーム７に付与される変形モーメントとの差により、フレーム７の（＋Ｘ）側かつ（－Ｙ）側の部位が下方へと沈むようにフレーム７に変形（すなわち、歪み）が生じる可能性がある。そこで、ステップＳ４１のように、カウンタウエイト５１を基準位置よりも（－Ｘ）側の第１位置へと位置させることにより、上記変形モーメントの差を相殺し、または、部分的に打ち消し、フレーム７の変形を防止または抑制する。図２５についても略同様である。
また、図２１のように、第１ステージ２１ａと第２ステージ２１ｂとがＹ方向の略同じ位置に位置する場合、上記変形モーメントの差はほとんど無いため、フレーム７の変形はほとんど生じない。そこで、ステップＳ４２のように、カウンタウエイト５１を基準位置へと位置させることにより、カウンタウエイト５１の重量によるフレーム７の変形を防止する。図２４についても同様である。
さらに、図２２および図２３のように、第２ステージ２１ｂに対して第１ステージ２１ａが、フレーム７の剛性が低い（－Ｙ）側に位置する場合、上記変形モーメントの差により、フレーム７の（－Ｘ）側かつ（－Ｙ）側の部位が下方へと沈むようにフレーム７に変形（すなわち、歪み）が生じる可能性がある。そこで、ステップＳ４３のように、カウンタウエイト５１を基準位置よりも（＋Ｘ）側の第３位置へと位置させることにより、上記変形モーメントの差を相殺し、または、部分的に打ち消し、フレーム７の変形を防止または抑制する。
なお、カウンタウエイト５１の位置調節の第２の例では、ステップＳ４１，Ｓ４５におけるカウンタウエイト５１の位置は第２位置であってもよい。また、ステップＳ４３におけるカウンタウエイト５１の位置は第４位置であってもよい。
以上に説明したように、基板９に対する描画を行う描画装置１は、パターン描画部４と、第１基板保持部（すなわち、第１ステージ２１ａ）と、第１移動機構２２ａと、第２基板保持部（すなわち、第２ステージ２１ｂ）と、第２移動機構２２ｂと、フレーム７と、カウンタウエイト５１と、ウエイト移動機構５２と、ウエイト移動制御部１１５とを備える。パターン描画部４は、下方にて水平移動する基板９の上側の主面（すなわち、上面９１）に対して光を照射してパターンを描画する。第１移動機構２２ａは、パターン描画部４の下方にて第１ステージ２１ａを基板移動方向（上記例では、Ｙ方向）に水平移動する。第２ステージ２１ｂは、第１ステージ２１ａに隣接して配置される。第２移動機構２２ｂは、パターン描画部４の下方にて第２ステージ２１ｂを基板移動方向に水平移動する。第２移動機構２２ｂは、基板移動方向に交差する方向（上記例では、Ｘ方向）において第１移動機構２２ａと並んで配置される。
フレーム７は、第１移動機構２２ａおよび第２移動機構２２ｂを支持する。カウンタウエイト５１は、基板移動方向と交差するウエイト移動方向（上記例では、Ｘ方向）に移動可能にフレーム７に取り付けられる。ウエイト移動機構５２は、カウンタウエイト５１をウエイト移動方向に移動する。ウエイト移動制御部１１５は、基板移動方向における第１ステージ２１ａおよび第２ステージ２１ｂの位置に基づいて、第１ステージ２１ａおよび第２ステージ２１ｂの重量によるフレーム７の変形を抑制する位置にカウンタウエイト５１が配置されるようにウエイト移動機構５２を制御する。これにより、基板９への描画に対してフレーム７の変形が悪影響を及ぼすことを抑制することができ、当該基板９に対する描画を精度良く行うことができる。
上述のように、ウエイト移動方向は、基板移動方向に垂直であることが好ましい。これにより、カウンタウエイト５１からフレーム７に所定の変形モーメントを付与する際に、ウエイト移動方向が基板移動方向に対して斜めに傾斜する場合に比べて、カウンタウエイト５１の基準位置からの移動距離を小さくすることができる。その結果、描画装置１の構造を簡素化し、描画装置１の大型化を抑制することができる。
上述のように、カウンタウエイト５１の重心は、上下方向（すなわち、Ｚ方向）において、第１ステージ２１ａの上面および第２ステージ２１ｂの上面よりも下側に位置することが好ましい。これにより、カウンタウエイト５１の移動によるフレーム７、第１ステージ２１ａおよび第２ステージ２１ｂの振動を抑制することができる。その結果、基板９に対する描画の精度を向上することができる。
上述のように、カウンタウエイト５１の上端は、上下方向において、第１ステージ２１ａの上面および第２ステージ２１ｂの上面よりも下側に位置することが好ましい。これにより、第１ステージ２１ａおよび第２ステージ２１ｂへの基板９の搬出入が、カウンタウエイト５１により阻害されることを防止することができる。
上述の描画装置１では、フレーム７は、第１移動機構２２ａおよび第２移動機構２２ｂを跨ぐとともにパターン描画部４を支持するガントリー部７４を備える。ガントリー部７４は、第１移動機構２２ａおよび第２移動機構２２ｂの基板移動方向における中央部の上方から基板移動方向の一方側（上記例では、（＋Ｙ）側）へと延びる。第１移動機構２２ａおよび第２移動機構２２ｂは、ガントリー部７４から基板移動方向の他方側（上記例では、（－Ｙ）側）へと突出している。カウンタウエイト５１は、好ましくは、第１移動機構２２ａおよび第２移動機構２２ｂに対して基板移動方向の上記他方側に隣接して配置される。このように、第１移動機構２２ａおよび第２移動機構２２ｂに対するカウンタウエイト５１の相対位置を、フレーム７の剛性が他の部位よりも低くなる可能性が高い（－Ｙ）側（すなわち、基板移動方向の上記他方側）とすることにより、第１ステージ２１ａまたは第２ステージ２１ｂが（－Ｙ）側へと移動してフレーム７の変形が大きくなる場合に、当該変形を効率良く抑制することができる。
上述の描画装置１では、フレーム７の剛性は、第１移動機構２２ａおよび第２移動機構２２ｂの基板移動方向における一方側（上記例では、（＋Ｙ）側）の端部、中央部、および、他方側（上記例では、（－Ｙ）側）の端部の順に低い。カウンタウエイト５１は、第１移動機構２２ａおよび第２移動機構２２ｂに対して、基板移動方向の他方側に隣接して配置される。
そして、カウンタウエイト５１の位置調節の第１の例（図１２～図１８参照）では、第１ステージ２１ａが、パターン描画部４による描画が行われる位置に位置している状態において、第２ステージ２１ｂが基板移動方向における上記一方側の端部（上記例では、待機位置）に位置するときに、カウンタウエイト５１はウエイト移動方向（上記例では、Ｘ方向）における第１移動機構２２ａと第２移動機構２２ｂとの中央の基準位置に位置し、第２ステージ２１ｂが基板移動方向における中央部（上記例では、処理位置）に位置するときに、カウンタウエイト５１は基準位置よりも第１移動機構２２ａ寄りの第１位置に位置し、第２ステージ２１ｂが基板移動方向における上記他方側の端部（上記例では、搬出入位置）に位置するときに、カウンタウエイト５１は第１位置よりも第１移動機構２２ａ寄りの第２位置に位置する。これにより、第１ステージ２１ａ上の基板９に対する描画が行われている間、第２ステージ２１ｂの基板移動方向における位置に関わらずフレーム７の変形を抑制することができる。その結果、第１ステージ２１ａ上の基板９に対する描画を精度良く行うことができる。
また、上記第１の例では、第２ステージ２１ｂが、パターン描画部４による描画が行われる位置に位置している状態において、第１ステージ２１ａが基板移動方向における上記一方側の端部（上記例では、待機位置）に位置するときに、カウンタウエイト５１は上記基準位置に位置し、第１ステージ２１ａが基板移動方向における中央部（上記例では、処理位置）に位置するときに、カウンタウエイト５１は基準位置よりも第２移動機構２２ｂ寄りの第３位置に位置し、第１ステージ２１ａが基板移動方向における上記他方側の端部（上記例では、搬出入位置）に位置するときに、カウンタウエイト５１は第３位置よりも第２移動機構２２ｂ寄りの第４位置に位置する。これにより、第２ステージ２１ｂ上の基板９に対する描画が行われている間、第１ステージ２１ａの基板移動方向における位置に関わらずフレーム７の変形を抑制することができる。その結果、第２ステージ２１ｂ上の基板９に対する描画を精度良く行うことができる。
上述のように、フレーム７の剛性は、第１移動機構２２ａおよび第２移動機構２２ｂの基板移動方向における一方側（上記例では、（＋Ｙ）側）の端部、中央部、および、他方側（上記例では、（－Ｙ）側）の端部の順に低い。カウンタウエイト５１は、第１移動機構２２ａおよび第２移動機構２２ｂに対して、基板移動方向の他方側に隣接して配置される。
そして、カウンタウエイト５１の位置調節の第２の例（図１９～図２５参照）では、第１ステージ２１ａおよび第２ステージ２１ｂが基板移動方向における同じ位置に位置するときに、カウンタウエイト５１はウエイト移動方向（上記例では、Ｘ方向）における第１移動機構２２ａと第２移動機構２２ｂとの中央の基準位置に位置し、第２ステージ２１ｂが第１ステージ２１ａよりも基板移動方向における上記他方側に位置するときに、カウンタウエイト５１は基準位置よりも第１移動機構２２ａ寄りの位置（上記例では、第１位置）に位置し、第２ステージ２１ｂが第１ステージ２１ａよりも基板移動方向における上記一方側に位置するときに、カウンタウエイト５１は基準位置よりも第２移動機構２２ｂ寄りの位置（上記例では、第３位置）に位置する。これにより、基板移動方向における第１ステージ２１ａおよび第２ステージ２１ｂの位置の差によるフレーム７の変形を抑制することができる。その結果、第１ステージ２１ａ上の基板９、および、第２ステージ２１ｂ上の基板９に対する様々な処理（例えば、基板９の搬出入、アライメント処理および描画処理）を精度良く行うことができる。
上述のように、パターン描画部４は、描画ヘッド４１と、描画ヘッド移動機構４２とを備えることが好ましい。描画ヘッド４１は、下方に向けて光を照射する。描画ヘッド移動機構４２は、描画ヘッド４１を、第１移動機構２２ａの上方の第１描画位置と、第２移動機構２２ｂの上方の第２描画位置との間で移動する。このように、第１ステージ２１ａ上の基板９に対する描画、および、第２ステージ２１ｂ上の基板９に対する描画を、共通の描画ヘッド４１によって行うことにより、描画装置１の構造を簡素化し、描画装置１を小型化することができる。
上述の描画装置１では、様々な変更が可能である。
例えば、カウンタウエイト５１の上端は、第１ステージ２１ａの上面、および、第２ステージ２１ｂの上面よりも上側、または、上下方向の同じ位置に位置していてもよい。また、カウンタウエイト５１の重心も、第１ステージ２１ａの上面、および、第２ステージ２１ｂの上面よりも上側、または、上下方向の同じ位置に位置していてもよい。
描画装置１では、カウンタウエイト５１は、必ずしも、第１移動機構２２ａおよび第２移動機構２２ｂの（－Ｙ）側に隣接して配置される必要はなく、他の様々な位置に配置されてもよい。例えば、カウンタウエイト５１は、第１移動機構２２ａおよび第２移動機構２２ｂの（－Ｙ）側の端部の鉛直下方に配置されてもよい。この場合、描画装置１のフットスタンプを小型化することができる。
描画装置１では、撮像部３およびパターン描画部４を支持するガントリー部７４（すなわち、第１ガントリー部７２および第２ガントリー部７３）の配置は、図１に示す例には限定されず、様々に変更されてよい。例えば、第１移動機構２２ａおよび第２移動機構２２ｂは、必ずしもガントリー部７４から（－Ｙ）側へと突出している必要はない。また、第１ガントリー部７２および第２ガントリー部７３は、一繋がりの部材であってもよい。撮像部３およびパターン描画部４は、ガントリー部７４以外の構造により支持されてもよい。
フレーム７の基板移動方向における剛性は、必ずしも、（＋Ｙ）側の端部、中央部、および、（－Ｙ）側の端部の順に低くされる必要はなく、様々に変更されてよい。また、フレーム７は下方から、例えば３点により支持される構造であってもよい。フレーム７を下方から支持する箇所を少なくすると、フレーム７の変形が生じやすくなる。しかし、カウンタウエイト５１の位置調節によりフレーム７の変形を抑制することで、フレーム７を限られた箇所（例えば３点）で支持する場合であっても、第１ステージ２１ａ上の基板９、および、第２ステージ２１ｂ上の基板９に対する様々な処理（例えば、基板９の搬出入、アライメント処理および描画処理）を精度良く行うことができる。
カウンタウエイト５１の第２位置、第１位置、基準位置、第３位置および第４位置は、ウエイト移動方向においてこの順に並んでいるのであれば、ウエイト支持部７５上における具体的な位置は様々に変更されてよい。
図１９に示すカウンタウエイト５１の位置調節の第２の例では、第１ステージ２１ａが待機位置に位置し、第２ステージ２１ｂが搬出入位置に位置する場合、カウンタウエイト５１は第２位置に配置されてもよい。また、第１ステージ２１ａが搬出入位置に位置し、第２ステージ２１ｂが待機位置に位置する場合、カウンタウエイト５１は第４位置に配置されてもよい。
カウンタウエイト５１の位置調節は、上述の第１の例および第２の例以外の態様で行われてもよい。また、カウンタウエイト５１は、基準位置、第１位置、第２位置、第３位置および第４位置以外の位置に配置されてもよい。
カウンタウエイト５１は、必ずしも金属製である必要はなく、１つの構造体である必要もない。例えば、カウンタウエイト５１は、２つ以上のウエイト要素を備えていてもよい。図２６に示す例では、カウンタウエイト５１は、互いに独立して移動可能な２つのウエイト要素５３を備える。例えば、上述の図１３（すなわち、第１の例の位置調節）と同様に、第１ステージ２１ａが処理位置に位置し、第２ステージ２１ｂが搬出入位置に位置する状態では、２つのウエイト要素５３は第２位置に位置する。また、上述の図１４と同様に、第１ステージ２１ａおよび第２ステージ２１ｂが処理位置に位置する状態では、図２７に示すように、一方のウエイト要素５３は基準位置に位置し、他方のウエイト要素５３は第２位置に位置する。そして、上述の図１５と同様に、第１ステージ２１ａが処理位置に位置し、第２ステージ２１ｂが待機位置に位置する状態では、図２８に示すように、２つのウエイト要素５３は基準位置に位置する。
また、図２９に示す例でも、カウンタウエイト５１は、互いに独立して移動可能な２つのウエイト要素５３を備える。図２９に示す２つのウエイト要素５３のうち一方のウエイト要素５３（すなわち、（－Ｘ）側のウエイト要素５３）は、第２ステージ２１ｂのＹ方向における位置に基づいて、基準位置と第２位置との間にて移動する。他方のウエイト要素５３（すなわち、（＋Ｘ）側のウエイト要素５３）は、第１ステージ２１ａのＹ方向における位置に基づいて、基準位置と第４位置との間にて移動する。例えば、上述の図１３（すなわち、第１の例の位置調節）と同様に、第１ステージ２１ａが処理位置に位置し、第２ステージ２１ｂが搬出入位置に位置する状態では、（－Ｘ）側のウエイト要素５３は第２位置に位置し、（＋Ｘ）側のウエイト要素５３は第３位置に位置する。また、上述の図１４と同様に、第１ステージ２１ａおよび第２ステージ２１ｂが処理位置に位置する状態では、図３０に示すように、（－Ｘ）側のウエイト要素５３は第１位置に位置し、（＋Ｘ）側のウエイト要素５３は第３位置に位置する。そして、上述の図１５と同様に、第１ステージ２１ａが処理位置に位置し、第２ステージ２１ｂが待機位置に位置する状態では、図３１に示すように、（－Ｘ）側のウエイト要素５３は基準位置に位置し、（＋Ｘ）側のウエイト要素５３は第３位置に位置する。
描画装置１では、ウエイト移動方向は、必ずしも基板移動方向に垂直である必要はなく、様々に変更されてよい。例えば、ウエイト支持部７５は、Ｘ方向に延びる略直線状ではなく、平面視において（＋Ｙ）側または（－Ｙ）側に凸状に湾曲しつつＸ方向に延びる略円弧状であってもよい。あるいは、２本の直線状のウエイト支持部７５が、平面視において第１移動機構２２ａと第２移動機構２２ｂとのＸ方向の中央にてＸ字状に交差するように第１移動機構２２ａおよび第２移動機構２２ｂの下方に配置され、各ウエイト支持部７５に上述のウエイト要素５３が移動可能に取り付けられてもよい。
描画装置１では、第１搬送機構２ａは、第１ステージ２１ａをＸ方向に移動する移動機構、Ｚ方向に延びる回転軸を中心として第１ステージ２１ａを回転する回転機構、および、第１ステージ２１ａをＺ方向に移動する昇降機構のうち、１つ以上をさらに備えていてもよい。当該移動機構および昇降機構として、例えば、リニアサーボモータが利用可能である。また、当該回転機構として、例えば、サーボモータが利用可能である。当該移動機構、回転機構および昇降機構の構造は、様々に変更されてよい。第２搬送機構２ｂについても第１搬送機構２ａと同様である。
パターン描画部４では、第１描画位置において第１ステージ２１ａ上の基板９に光を照射する描画ヘッド４１と、第２描画位置において第２ステージ２１ｂ上の基板９に光を照射する描画ヘッド４１とが別々に設けられてもよい。この場合、描画ヘッド移動機構４２は省略されてよい。
描画装置１では、第１搬送機構２ａおよび第２搬送機構２ｂに加えて、第３ステージと、第３ステージをＹ方向に移動する第３移動機構が設けられ、第１ステージ２１ａ、第２ステージ２１ｂおよび第３ステージ上の基板９に対して、様々な処理（アライメント処理、描画処理および基板９の搬出入）が並行して行われてもよい。
図３２は、本発明に係る他の好ましい描画装置１ａを（－Ｙ）側から見た側面図である。図３２では、カウンタウエイト５１、撮像ヘッド３１および第１ガントリー部７２等の図示を省略している。
描画装置１ａでは、第１ステージ２１ａと第２ステージ２１ｂとが上下方向に隣接して配置される。図３２に示す例では、第２ステージ２１ｂは第１ステージ２１ａの下側に離間して配置される。第１移動機構２２ａは、第１ステージ２１ａを側方（すなわち、（－Ｘ）側）から支持する。第２移動機構２２ｂは、第２ステージ２１ｂを側方（すなわち、（＋Ｘ）側）から支持する。
第１搬送機構２ａは、第１ステージ２１ａを上下方向に移動する図示省略の第１昇降機構を備える。第２搬送機構２ｂは、第２ステージ２１ｂを上下方向に移動する図示省略の第２昇降機構を備える。第２ガントリー部７３により支持される複数の描画ヘッド４１により、第１ステージ２１ａ上の基板９に描画が行われた後、第２ステージ２１ｂ上の基板９に描画が行われる際には、図３２に示す状態から第１ステージ２１ａが図中の第２ステージ２１ｂの位置まで下降し、第２ステージ２１ｂが図中の第１ステージ２１ａの位置まで上昇する。描画装置１ａのその他の構成は、描画装置１の対応する構成と略同様である。
第１移動機構２２ａと第２移動機構２２ｂとは、上述の描画装置１と略同様に、基板移動方向（すなわち、Ｙ方向）に交差する方向に並んで配置される。図３２に示す例では、第１移動機構２２ａと第２移動機構２２ｂとはＸ方向に並んで配置され、第２移動機構２２ｂは、第１移動機構２２ａの（＋Ｘ）側の側方に隣接する。第１移動機構２２ａと第２移動機構２２ｂとは、上下方向の略同じ高さに位置する。
描画装置１ａにおいても、描画装置１と同様に、ウエイト移動制御部１１５（図３参照）が、基板移動方向（すなわち、Ｙ方向）における第１ステージ２１ａおよび第２ステージ２１ｂの位置に基づいて、第１ステージ２１ａおよび第２ステージ２１ｂの重量によるフレーム７の変形を抑制する位置にカウンタウエイト５１（図１参照）が配置されるようにウエイト移動機構５２を制御する。これにより、基板９への描画に対してフレーム７の変形が悪影響を及ぼすことを抑制することができ、当該基板９に対する描画を精度良く行うことができる。
上述の基板９は、必ずしもプリント基板には限定されない。描画装置１，１ａでは、例えば、半導体基板、液晶表示装置や有機ＥＬ表示装置等のフラットパネル表示装置用のガラス基板、フォトマスク用のガラス基板、太陽電池パネル用の基板等の位置検出が行われてもよい。
上記実施の形態および各変形例における構成は、相互に矛盾しない限り適宜組み合わされてよい。
１，１ａ 描画装置
４ パターン描画部
７ フレーム
９ 基板
２１ａ 第１ステージ
２１ｂ 第２ステージ
２２ａ 第１移動機構
２２ｂ 第２移動機構
４１ 描画ヘッド
４２ 描画ヘッド移動機構
５１ カウンタウエイト
５２ ウエイト移動機構
７４ ガントリー部
９１ 上面
１１５ ウエイト移動制御部
Ｓ１１～Ｓ１９，Ｓ２１～Ｓ２９，Ｓ３１～Ｓ３６，Ｓ４１～Ｓ４５ ステップ
４ パターン描画部
７ フレーム
９ 基板
２１ａ 第１ステージ
２１ｂ 第２ステージ
２２ａ 第１移動機構
２２ｂ 第２移動機構
４１ 描画ヘッド
４２ 描画ヘッド移動機構
５１ カウンタウエイト
５２ ウエイト移動機構
７４ ガントリー部
９１ 上面
１１５ ウエイト移動制御部
Ｓ１１～Ｓ１９，Ｓ２１～Ｓ２９，Ｓ３１～Ｓ３６，Ｓ４１～Ｓ４５ ステップ
Claims (8)
- 基板に対する描画を行う描画装置であって、
下方にて水平移動する基板の上側の主面に対して光を照射してパターンを描画するパターン描画部と、
第１基板保持部と、
前記パターン描画部の下方にて前記第１基板保持部を基板移動方向に水平移動する第１移動機構と、
前記第１基板保持部に隣接して配置される第２基板保持部と、
前記基板移動方向に交差する方向において前記第１移動機構と並んで配置され、前記パターン描画部の下方にて前記第２基板保持部を前記基板移動方向に水平移動する第２移動機構と、
前記第１移動機構および前記第２移動機構を支持するフレームと、
前記基板移動方向と交差するウエイト移動方向に移動可能に前記フレームに取り付けられるカウンタウエイトと、
前記カウンタウエイトを前記ウエイト移動方向に移動するウエイト移動機構と、
前記基板移動方向における前記第１基板保持部および前記第２基板保持部の位置に基づいて、前記第１基板保持部および前記第２基板保持部の重量による前記フレームの変形を抑制する位置に前記カウンタウエイトが配置されるように前記ウエイト移動機構を制御するウエイト移動制御部と、
を備えることを特徴とする描画装置。 - 請求項１に記載の描画装置であって、
前記ウエイト移動方向は、前記基板移動方向に垂直であることを特徴とする描画装置。 - 請求項１または２に記載の描画装置であって、
前記カウンタウエイトの重心は、上下方向において、前記第１基板保持部の上面および前記第２基板保持部の上面よりも下側に位置することを特徴とする描画装置。 - 請求項３に記載の描画装置であって、
前記カウンタウエイトの上端は、上下方向において、前記第１基板保持部の前記上面および前記第２基板保持部の前記上面よりも下側に位置することを特徴とする描画装置。 - 請求項１ないし４のいずれか１つに記載の描画装置であって、
前記フレームは、前記第１移動機構および前記第２移動機構を跨ぐとともに前記パターン描画部を支持するガントリー部を備え、
前記ガントリー部は、前記第１移動機構および前記第２移動機構の前記基板移動方向における中央部の上方から前記基板移動方向の一方側へと延び、
前記第１移動機構および前記第２移動機構は、前記ガントリー部から前記基板移動方向の他方側へと突出しており、
前記カウンタウエイトは、前記第１移動機構および前記第２移動機構に対して前記基板移動方向の他方側に隣接して配置されることを特徴とする描画装置。 - 請求項１ないし５のいずれか１つに記載の描画装置であって、
前記フレームの剛性は、前記第１移動機構および前記第２移動機構の前記基板移動方向における一方側の端部、中央部および他方側の端部の順に低く、
前記カウンタウエイトは、前記第１移動機構および前記第２移動機構に対して前記基板移動方向の前記他方側に隣接して配置され、
前記第１基板保持部が、前記パターン描画部による描画が行われる位置に位置している状態において、前記第２基板保持部が前記基板移動方向における前記一方側の端部に位置するときに、前記カウンタウエイトは前記ウエイト移動方向における前記第１移動機構と前記第２移動機構との中央の基準位置に位置し、前記第２基板保持部が前記基板移動方向における前記中央部に位置するときに、前記カウンタウエイトは前記基準位置よりも前記第１移動機構寄りの第１位置に位置し、前記第２基板保持部が前記基板移動方向における前記他方側の端部に位置するときに、前記カウンタウエイトは前記第１位置よりも前記第１移動機構寄りの第２位置に位置し、
前記第２基板保持部が、前記パターン描画部による描画が行われる位置に位置している状態において、前記第１基板保持部が前記基板移動方向における前記一方側の端部に位置するときに、前記カウンタウエイトは前記基準位置に位置し、前記第１基板保持部が前記基板移動方向における前記中央部に位置するときに、前記カウンタウエイトは前記基準位置よりも前記第２移動機構寄りの第３位置に位置し、前記第１基板保持部が前記基板移動方向における前記他方側の端部に位置するときに、前記カウンタウエイトは前記第３位置よりも前記第２移動機構寄りの第４位置に位置することを特徴とする描画装置。 - 請求項１ないし５のいずれか１つに記載の描画装置であって、
前記フレームの剛性は、前記第１移動機構および前記第２移動機構の前記基板移動方向における一方側の端部、中央部および他方側の端部の順に低く、
前記カウンタウエイトは、前記第１移動機構および前記第２移動機構に対して前記基板移動方向の前記他方側に隣接して配置され、
前記第１基板保持部および前記第２基板保持部が前記基板移動方向における同じ位置に位置するときに、前記カウンタウエイトは前記ウエイト移動方向における前記第１移動機構と前記第２移動機構との中央の基準位置に位置し、
前記第２基板保持部が前記第１基板保持部よりも前記基板移動方向における前記他方側に位置するときに、前記カウンタウエイトは前記基準位置よりも前記第１移動機構寄りの位置に位置し、
前記第２基板保持部が前記第１基板保持部よりも前記基板移動方向における前記一方側に位置するときに、前記カウンタウエイトは前記基準位置よりも前記第２移動機構寄りの位置に位置することを特徴とする描画装置。 - 請求項１ないし７のいずれか１つに記載の描画装置であって、
前記パターン描画部は、
下方に向けて光を照射する描画ヘッドと、
前記描画ヘッドを、前記第１移動機構の上方の第１描画位置と前記第２移動機構の上方の第２描画位置との間で移動する描画ヘッド移動機構と、
を備えることを特徴とする描画装置。
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