TW202213452A - 描繪裝置 - Google Patents

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Abstract

第一移動機構22a係在圖案描繪部4的下方將第一台21a於Y方向水平移動。第二移動機構22b係在圖案描繪部4的下方將第二台21b於Y方向水平移動。第二移動機構22b係在X方向中與第一移動機構22a排列地配置。框架7係支撐第一移動機構22a以及第二移動機構22b。平衡配重51係能夠於與基板移動方向交叉之X方向移動地安裝於框架7。配重移動控制部係基於Y方向中的第一台21a以及第二台21b的位置來控制配重移動機構52，俾使平衡配重51配置於抑制第一台21a以及第二台21b的重量所致使之框架7的變形之位置。藉此，能精度佳地對基板9進行描繪。

Description

描繪裝置
本發明係有關於一種用以對基板進行描繪之描繪裝置。 [相關申請案的參照] 本申請案係主張2020年9月23日所申請的日本專利申請案JP2020-158317的優先權的權利，將日本專利申請案JP2020-158317的全部的揭示內容援用於本申請案。
以往，對形成於半導體基板、印刷基板、有機EL(electroluminescence；電致發光)顯示裝置或者液晶顯示裝置用的玻璃基板等(以下稱為「基板」)之感光材料照射光線，藉此進行圖案(pattern)的描繪。在此種描繪裝置中，依序進行基板的搬入、基板的對準(alignment)、對於基板的描繪以及基板的搬出。
近年來，已提出一種技術：為了提升描繪裝置的產出量(throughput)，於一台描繪裝置內設置兩個台(stage)、兩個對準檢測系統以及一個曝光頭，在對於一方的台上的基板的描繪中，進行另一方的台上的基板的更換以及對準。
例如，在國際公開第2003/010802號(文獻1)的步進掃描(step and scan)方式的掃瞄型投影曝光裝置中已提出一種技術：在對一方的台上的基板的曝光中進行另一方的台的移動之情形中，為了防止該移動所致使之振動等傳播至曝光中的台導致曝光動作的控制性能降低，於另一方的台的移動速度以及移動時的加速度設置上限。
此外，在文獻1的曝光裝置中，由於台的移動速度被限制，因此會有曝光裝置的產出量降低之虞。此外，當因為台的移動導致兩個台的位置關係變化時，會有於曝光裝置產生應變等之變形從而導致對於基板的曝光處理的精度降低之虞。
本發明係著眼於用以對基板進行描繪之描繪裝置，目的在於精度佳地對基板進行描繪。
本發明的較佳形態之一的描繪裝置係具備：圖案描繪部，係對在下方水平移動之基板的上側的主表面照射光線並描繪圖案；第一基板保持部；第一移動機構，係在前述圖案描繪部的下方將前述第一基板保持部於基板移動方向水平移動；第二基板保持部，係與前述第一基板保持部鄰接地配置；第二移動機構，係在與前述基板移動方向交叉之方向中與前述第一移動機構排列地配置，在前述圖案描繪部的下方將前述第二基板保持部於前述基板移動方向水平移動；框架(frame)，係支撐前述第一移動機構以及前述第二移動機構；平衡配重(counter weight)，係能夠於與前述基板移動方向交叉之配重(weight)移動方向移動地安裝於前述框架；配重移動機構，係將前述平衡配重於前述配重移動方向移動；以及配重移動控制部，係基於前述基板移動方向中的前述第一基板保持部以及前述第二基板保持部的位置來控制前述配重移動機構，俾使前述平衡配重配置於抑制前述第一基板保持部以及前述第二基板保持部的重量所致使之前述框架的變形之位置。
依據上述描繪裝置，能精度佳地對基板進行描繪。
較佳為，前述配重移動方向係與前述基板移動方向垂直。
較佳為，前述平衡配重的重心係在上下方向中位於比前述第一基板保持部的上表面以及前述第二基板保持部的上表面還下側。
較佳為，前述平衡配重的上端係在上下方向中位於比前述第一基板保持部的前述上表面以及前述第二基板保持部的前述上表面還下側。
較佳為，前述框架係具備：高架部(gantry)，係跨越前述第一移動機構以及前述第二移動機構，並支撐前述圖案描繪部。前述高架部係從前述第一移動機構以及前述第二移動機構的前述基板移動方向中的中央部的上方朝前述基板移動方向的一側延伸。前述第一移動機構以及前述第二移動機構係從前述高架部朝前述基板移動方向的另一側突出。前述平衡配重係於前述基板移動方向的另一側與前述第一移動機構以及前述第二移動機構鄰接地配置。
較佳為，前述框架的剛性係以前述第一移動機構以及前述第二移動機構的前述基板移動方向中的一側的端部、中央部以及另一側的端部之順序降低。前述平衡配重係於前述基板移動方向的前述另一側與前述第一移動機構以及前述第二移動機構鄰接地配置。前述第一基板保持部係在位於進行前述圖案描繪部所為的描繪之位置的狀態下，在前述第二基板保持部位於前述基板移動方向中的前述一側的端部時，前述平衡配重係位於前述配重移動方向中的前述第一移動機構與前述第二移動機構之間的中央的基準位置；在前述第二基板保持部位於前述基板移動方向中的前述中央部時，前述平衡配重係位於比前述基準位置還靠近前述第一移動機構的第一位置；在前述第二基板保持部位於前述基板移動方向中的前述另一側的端部時，前述平衡配重係位於比前述第一位置還靠近前述第一移動機構的第二位置。前述第二基板保持部係在位於進行前述圖案描繪部所為的描繪之位置的狀態下，在前述第一基板保持部位於前述基板移動方向中的前述一側的端部時，前述平衡配重係位於前述基準位置；在前述第一基板保持部位於前述基板移動方向中的前述中央部時，前述平衡配重係位於比前述基準位置還靠近前述第二移動機構的第三位置；在前述第一基板保持部位於前述基板移動方向中的前述另一側的端部時，前述平衡配重係位於比前述第三位置還靠近前述第二移動機構的第四位置。
較佳為，前述框架的剛性係以前述第一移動機構以及前述第二移動機構的前述基板移動方向中的一側的端部、中央部以及另一側的端部之順序降低。前述平衡配重係於前述基板移動方向的前述另一側與前述第一移動機構以及前述第二移動機構鄰接地配置。在前述第一基板保持部以及前述第二基板保持部位於前述基板移動方向中的相同的位置時，前述平衡配重係位於前述配重移動方向中的前述第一移動機構與前述第二移動機構之間的中央的基準位置。在前述第二基板保持部位於比前述第一基板保持部還靠近前述基板移動方向中的前述另一側時，前述平衡配重係位於比前述基準位置還靠近前述第一移動機構的位置。在前述第二基板保持部位於比前述第一基板保持部還靠近前述基板移動方向中的前述一側時，前述平衡配重係位於比前述基準位置還靠近前述第二移動機構的位置。
較佳為，前述圖案描繪部係具備：描繪頭，係朝向下方照射光線；以及描繪頭移動機構，係在前述第一移動機構的上方的第一描繪位置與前述第二移動機構的上方的第二描繪位置之間移動前述描繪頭。
參照隨附的圖式並藉由以下所進行的本發明的詳細的說明，更明瞭上述目的以及其他的目的、特徵、態樣以及優點。
圖1係顯示本發明的實施形態之一的描繪裝置1之立體圖。描繪裝置1為下述雙台型(twin stage type)的直接描繪裝置：將經過空間調變的略束(beam)狀的光線照射至基板9上的感光材料，在基板9上掃描該光線的照射區域，藉此進行圖案的描繪。在圖1中以箭頭顯示彼此正交的三個方向作為X方向、Y方向以及Z方向。在圖1所示的例子中，X方向以及Y方向為彼此垂直的水平方向，Z方向為鉛直方向。在其他的圖式中亦同樣。
基板9係例如為俯視觀看時為略矩形狀的板狀構件。基板9係例如為印刷基板。在基板9的(+Z)側以及(-Z)側的主表面(以下稱為「上表面91」)中，於銅層上設置有藉由感光材料所形成的阻劑(resist)膜。在描繪裝置1中，於基板9的該阻劑膜描繪(亦即形成)有電路圖案。此外，基板9的種類以及形狀等亦可變更成各種種類以及形狀等。
描繪裝置1係具備第一搬運機構2a、第二搬運機構2b、拍攝部3、圖案描繪部4、框架7以及控制部10。控制部10係控制第一搬運機構2a、第二搬運機構2b、拍攝部3以及圖案描繪部4。
框架7為安裝有描繪裝置1的各個構成之本體基座部。框架7係具備：略立方體狀的基台71；以及門形的第一高架部72與第二高架部73，係跨越基台71。第二高架部73係接近地配置於第一高架部72的(+Y)側。在以下的說明中，亦將第一高架部72以及第二高架部73統稱為「高架部74」。於基台71上安裝有第一搬運機構2a以及第二搬運機構2b。第一高架部72係支撐拍攝部3。第二高架部73係支撐圖案描繪部4。框架7係載置於省略圖示的台坐上。
第一搬運機構2a以及第二搬運機構2b係分別為下述機構：在拍攝部3以及圖案描繪部4的下方(亦即(-Z)側)保持以及移動基板9。第二搬運機構2b係鄰接地配置於第一搬運機構2a的(+X)側。第一搬運機構2a與第二搬運機構2b係具有略相同的構造。
第一搬運機構2a係具備第一台21a以及第一移動機構22a。第一台21a為略平板狀的第一基板保持部，用以從下側保持略水平狀態的基板9。第一台21a係例如為真空夾具(vacuum chuck)，用以吸附並保持基板9的下表面。第一台21a亦可具有真空夾具以外的構造。載置於第一台21a上的基板9的上表面91係與Z方向(亦即上下方向)略垂直，且與X方向以及Y方向略平行。
第一移動機構22a為第一台移動機構，用以將第一台21a相對於拍攝部3以及圖案描繪部4於略水平方向(亦即與基板9的上表面91略平行的方向)相對性地移動。第一移動機構22a係在拍攝部3以及圖案描繪部4的下方將被支撐在導軌(guide rail)221a上的第一台21a沿著導軌221a於Y方向直線移動。藉此，被保持於第一台21a的基板9係於Y方向移動。在以下的說明中，亦將Y方向稱為「基板移動方向」。第一移動機構22a的驅動源係例如為線性伺服馬達(linear servo motor)或者於滾珠螺桿(ball screw)安裝有馬達的驅動源。第一移動機構22a的構造亦可變更成各種構造。
第二搬運機構2b係具備第二台21b以及第二移動機構22b。第二台21b為略平板狀的第二基板保持部，用以從下側保持略水平狀態的基板9。第二台21b係鄰接地配置於第一台21a的側方(亦即(+X側))。第二台21b的上表面係在上下方向(亦即Z方向)中位於與第一台21a的上表面相同的高度。第二台21b係例如為真空夾具，用以吸附並保持基板9的下表面。第二台21b亦可具有真空夾具以外的構造。被載置於第二台21b上的基板9的上表面91係與Z方向略垂直，且與X方向以及Y方向略平行。被保持於第二台21b之基板9的上表面91係位於與被保持於第一台21a之基板9的上表面91在上下方向中的略相同的高度(亦即Z方向中的略相同的位置)。
第二移動機構22b為第二台移動機構，用以將第二台21b相對於拍攝部3以及圖案描繪部4於略水平方向(亦即與基板9的上表面91略平行的方向)相對性地移動。第二移動機構22b係在拍攝部3以及圖案描繪部4的下方將被支撐在導軌221b上的第二台21b沿著導軌221b於Y方向(亦即基板移動方向)直線移動。藉此，被保持於第二台21b的基板9係於Y方向移動。第二移動機構22b所為的第二台21b的移動方向為與第一移動機構22a所為的第一台21a的移動方向略平行。第二移動機構22b的驅動源係例如為線性伺服馬達或者於滾珠螺桿安裝有馬達的驅動源。第二移動機構22b的構造亦可變更成各種構造。
第一移動機構22a與第二移動機構22b係排列地配置於與基板移動方向(亦即Y方向)交叉之方向。在圖1所示的例子中，第一移動機構22a與第二移動機構22b係排列地配置於X方向，第二移動機構22b係鄰接於第一移動機構22a的(+X)側的側方。第一移動機構22a與第二移動機構22b係位於上下方向的略相同的高度。
第一移動機構22a以及第二移動機構22b係被框架7的基台71從下方支撐。第一移動機構22a以及第二移動機構22b係從比第二高架部73還從(+Y)側朝(-Y)側方向延伸，並通過被第二高架部73支撐的圖案描繪部4的下方以及被第一高架部72支撐的拍攝部3的下方從第一高架部72朝(-)Y側突出。第一高架部72係在Y方向中位於與第一移動機構22a以及第二移動機構22b的Y方向中的中央部略相同的位置。換言之，高架部74係從第一移動機構22a以及第二移動機構22b的Y方向中的中央部的上方朝(+Y)方向延伸。因此，框架7的剛性係以第一移動機構22a以及第二移動機構22b的(+Y)側的端部、Y方向中的中央部以及(-Y)側的端部依序變低。
在描繪裝置1中，在第一台21a位於比第一高架部72還靠近(-Y)側的狀態下，對第一台21a進行基板9的搬入以及搬出。此外，在第二台21b位於比第一高架部72還靠近(-Y)側的狀態下，對第二台21b進行基板9的搬入以及搬出。
如上所述，第一高架部72以及第二高架部73係跨越第一搬運機構2a以及第二搬運機構2b而設置。第一高架部72係具備：兩根支柱部，係在第一搬運機構2a以及第二搬運機構2b的X方向的兩側處朝Z方向延伸；以及梁部，係連接兩根支柱部的上端部。該梁部係在第一搬運機構2a以及第二搬運機構2b的上方處朝X方向延伸。第一高架部72的兩根支柱部係在(-Z)側的端部處與基台71連接。第二高架部73係具備：兩根支柱部，係在第一搬運機構2a以及第二搬運機構2b的X方向的兩側處朝Z方向延伸；以及梁部，係連接兩根支柱部的上端部。該梁部係在第一搬運機構2a以及第二搬運機構2b的上方處朝X方向延伸。第二高架部73的兩根支柱部係在(-Z)側的端部處與基台71連接。
拍攝部3係具備拍攝頭移動機構32以及複數個(在圖1所示的例子中為兩個)拍攝頭31。複數個拍攝頭31係排列於X方向，且能夠移動地安裝於第一高架部72的梁部。拍攝頭移動機構32係安裝於梁部，並將複數個拍攝頭31沿著梁部於X方向移動。拍攝頭移動機構32的驅動源係例如為線性伺服馬達或者於滾珠螺桿安裝有馬達的驅動源。在圖1所示的例子中，兩個拍攝頭31的X方向中的間隔係能夠變更。此外，在拍攝部3中，拍攝頭31的數量亦可為一個，或亦可為三個以上。
各個拍攝頭31為攝影機(camera)，係具備省略圖示的拍攝感測器以及光學系統。各個拍攝頭31係例如為區域攝影機(area camera)，用以取得例如二維的影像。拍攝感測器係例如具備矩陣(matrix)狀排列的複數個CCD(Charge Coupled Device；電荷耦合元件)等元件。在各個拍攝頭31中，從省略圖示的光源朝基板9的上表面91被導引的照明光的反射光係經由光學系統朝拍攝感測器被導引。拍攝感測器係接收來自基板9的上表面91的反射光，並取得略矩形狀的拍攝區域的影像。作為上述光源，能夠利用LED(Light Emitting Diode；發光二極體)等各種光源。此外，各個拍攝頭31亦可為線列式攝影機(line camera)等其他種類的攝影機。
在描繪裝置1中，　藉由拍攝頭移動機構32，複數個拍攝頭31係在第一搬運機構2a的上方的第一拍攝位置與第二搬運機構2b的上方的第二拍攝位置之間移動。在圖1中，複數個拍攝頭31係位於第一拍攝位置。複數個拍攝頭31係在第一拍攝位置中拍攝第一台21a上的基板9的上表面91。此外，複數個拍攝頭31係在第二拍攝位置中拍攝第二台21b上的基板9的上表面91。
圖案描繪部4係具備描繪頭移動機構42以及複數個(在圖1所示的例子中為六個)描繪頭41。複數個描繪頭41係排列於X方向，並能夠移動地安裝於第二高架部73的梁部。描繪頭移動機構42係安裝於梁部，並將複數個拍攝頭41沿著梁部於X方向一體性地移動。描繪頭移動機構42的驅動源係例如為線性伺服馬達或者於滾珠螺桿安裝有馬達的驅動源。此外，在圖案描繪部4中，描繪頭41的數量亦可為一個，或亦可為複數個。
各個描繪頭41係具備省略圖示的光源、光學系統以及空間光線調變元件。作為空間光線調變元件係能夠利用DMD(Digital Micro Mirror Device；數位微鏡元件)或者GLV(Grating Light Valve；柵光閥)( Silicon Light Machines公司(森尼韋爾(Sunnyvale)、加利福尼亞(California))的註冊商標)等各種元件。作為光源，能夠利用LD(Laser Diode；雷射二極體)等各種光源。複數個描繪頭41係具有略相同的構造。
在描繪裝置1中，藉由描繪頭移動機構42，複數個描繪頭41係在第一搬運機構2a的上方的第一描繪位置與第二搬運機構2b的上方的第二描繪位置之間移動。在圖1中，複數個描繪頭41係位於第二描繪位置。複數個描繪頭41係在第一描繪位置中對第一台21a上的基板9的上表面91描繪圖案。此外，複數個描繪頭41係在第二描繪位置中對第二台21b上的基板9的上表面91描繪圖案。
第一描繪位置以及第二描繪位置係在Y方向中位於與第一移動機構22a以及第二移動機構22b的Y方向中的中央部略相同的位置。此外，上述第一拍攝位置以及第二拍攝位置亦在Y方向中位於與第一移動機構22a以及第二移動機構22b的Y方向中的中央部略相同的位置。換言之，圖案描繪部4的複數個描繪頭41以及拍攝部3的複數個拍攝頭31係在Y方向中位於與第一移動機構22a以及第二移動機構22b的Y方向中的中央部略相同的位置。
在第一描繪位置中描繪圖案時，從圖案描繪部4的複數個描繪頭41朝向下方的第一台21a上的基板9照射經過調變(亦即空間調變)的光線。而且，與該光線的照射並行地，藉由第一移動機構22a將基板9於Y方向(亦即基板移動方向)水平移動。藉此，來自複數個描繪頭41的光線的照射區域在基板9上於Y方向掃描，對基板9進行圖案(例如電路圖案)的描繪。第一移動機構22a為掃描機構，用以將來自各個掃描頭41的光線的照射區域在基板9上於Y方向移動。
在圖1所示的例子中，對於基板9的描繪係以單程(single pass)(單向(one pass))方式進行。具體而言，藉由第一移動機構22a，第一台21a係相對於複數個描繪頭41於Y方向相對移動，來自複數個描繪頭41的光線的照射區域在基板9的上表面91上於Y方向僅掃描一次。藉此，結束對於基板9的描繪。此外，在描繪裝置1中，亦可藉由重複地進行第一台21a朝向Y方向的移動以及第一台21a朝向X方向的步階移動(step shift)之多程(multi pass)方式對基板9進行描繪。第二描繪位置中的圖案的描繪係排除第一台21a以及第一移動機構22a被變更成第二台21b以及第二移動機構22b之點除外，與上述第一描繪位置中的圖案的描繪同樣。
描繪裝置1係進一步具備平衡配重51以及配重移動機構52。平衡配重51為較重的構件，安裝於框架7，控制框架7的應變等變形。平衡配重51係藉由金屬等之比重較大的材料所形成。平衡配重51係例如為略立方體狀的一個構造體，該構造體係層疊並固定有鐵製的複數個板構件。
平衡配重51係能夠移動地安裝於框架7的配重支撐部75。配重支撐部75為略角柱狀的構件，設置於基台71的(-Y)側的端部且於X方向延伸。配重支撐部75係例如支撐平衡配重51的上下方向的中央部。配重支撐部75係相對於第一移動機構22a的導軌221a的(-Y)側的端部以及第二移動機構22b的導軌221b的(-Y)側的端部設置於鄰接於(-Y)側的位置。因此，平衡配重51係於(-Y)側與第一移動機構22a以及第二移動機構22b鄰接地配置。
配重移動機構52係安裝於配重支撐部75，將平衡配重51沿著配重支撐部75於X方向水平移動。在以下的說明中，亦將X方向稱為「配重移動方向」。配重移動方向為與上述基板移動方向(亦即Y方向)交叉之方向。在圖1所示的例子中，配重移動方向係與基板移動方向略垂直。配重移動機構52的驅動源係例如為線性伺服馬達或者於滾珠螺桿安裝有馬達的驅動源。配重移動機構52的構造亦可變更成各種構造。
在圖1中，平衡配重51係位於X方向中的第一移動機構22a與第二移動機構22b之間的中央(以下亦稱為「基準位置」)。配重移動機構52係使平衡配重51從基準位置朝(-X)方向移動並位於第一移動機構22a的(-Y)側，且使平衡配重51從基準位置朝(+X)方向移動並位於第二移動機構22b的(-Y)側。
從降低因為平衡配重51的移動時的振動而施加至第一搬運機構2a以及第二搬運機構2b的力矩(moment)等之觀點來看，較佳為平衡配重51的重心位置係於上下方向離第一搬運機構2a以及第二搬運機構2b不會太遠，且更佳為在配重支撐部75附近。具體而言，較佳為平衡配重51的重心係在上下方向中位於比第一台21a的上表面以及第二台21b的上表面還下方。藉此，能降低上述力矩等，且能防止或者抑制因為平衡配重51的移動時的振動導致對於被保持於第一台21a以及第二台21b的基板9之處理的精度降低。此外，亦能抑制因為第一台21a、第二台21b的移動時等中的框架7的振動導致平衡配重51振動。此外，在圖1所示的例子中，平衡配重51的重心係在上下方向中位於比基台71的上下方向的中心還上側。
在圖1所示的例子中，平衡配重51的上端(亦即(+Z)側的端面)係在上下方向中位於比第一台21a的上表面以及第二台21b的上表面還下側。藉此，能防止在基板9朝第一台21a以及第二台21b搬出以及搬入時因為平衡配重51而阻礙基板9的移動。
圖2係顯示控制部10所具備的電腦100的構成之圖。電腦100為具備有處理器(processor)101、記憶體102、輸入輸出部103以及匯流排(bus)104之一般的電腦。匯流排104為用以連接處理器101、記憶體102以及輸入輸出部103之訊號電路。記憶體102係記憶程式以及各種資訊。處理器101係依循記憶於記憶體102的程式等，一邊利用記憶體102等一邊執行各種處理(例如數值計算、影像處理)。輸入輸出部103係具備：鍵盤105以及滑鼠106，係接受來自操作者的輸入；以及顯示器107，係顯示來自處理器101的輸出等。此外，控制部10係可為可程式邏輯控制器(PLC；Programmable Logic Controller)或者電路基板等，亦可為這些構件與一個以上的電腦的組合。
圖3係顯示藉由電腦100所實現的控制部10的功能之方塊圖。在圖3中亦一併顯示控制部10以外的構成。控制部10係具備記憶部111、拍攝控制部112、檢測部113、描繪控制部114以及配重移動控制部115。記憶部111係主要藉由記憶體102所實現，預先記憶被描繪至基板9之預定的圖案的資料(亦即描繪用資料)以及與平衡配重51的移動相關之資訊等的各種資訊。
拍攝控制部112、檢測部113、描繪控制部114以及配重移動控制部115係主要藉由處理器101所實現。拍攝控制部112係控制拍攝部3、第一移動機構22a以及第二移動機構22b，藉此使拍攝部3拍攝第一台21a以及第二台21b上的基板9的上表面91並取得影像。該影像係被傳送並被儲存於記憶部111。檢測部113係使用該影像來檢測基板9的位置。描繪控制部114係基於檢測部113所檢測的基板9的位置以及預先記憶於記憶部111的描繪用資料等，控制圖案描繪部4、第一移動機構22a以及第二移動機構22b，藉此使圖案描繪部4進行對於第一台21a以及第二台21b上的基板9的描繪。如後所述，配重移動控制部115係基於Y方向中的第一台21a以及第二台21b的位置控制配重移動機構52，藉此調整平衡配重51的位置。
接著，說明圖1所示的描繪裝置1所為的朝基板9的圖案的描繪之流程。在描繪裝置1中，大概在對被保持於第一台21a以及第二台21b中的一方的台上的基板9進行描繪的期間，將基板9搬入至另一方的台上並進行對準處理等。而且，當結束對於被保持於上述一方的台上的基板9之描繪時，開始對被保持於上述另一方的台上的基板9之描繪。此外，在對該另一方的台上的基板9進行描繪的期間，從一方的台上搬出描繪完畢的基板9，並將新的基板9搬入至該一方的台上並進行對準處理等。
在描繪裝置1中，雖然在對基板9進行上述處理的期間中亦並行地進行配重移動機構52所為的平衡配重51的移動，然而與平衡配重51的移動相關的說明係在結束與以下的圖4A以及圖4B相關的說明後再進行。
圖4A以及圖4B係顯示描繪裝置1中的描繪處理的流程的一例之圖。圖4A以及圖4B中的左側的步驟S11至步驟S19係顯示朝第一台21a上的基板9的描繪處理之流程，圖4A以及圖4B中的右側的步驟S21至步驟S29係顯示朝第二台21b上的基板9的描繪處理之流程。此外，位於圖4A以及圖4B中的上下方向的相同位置之步驟係大致並行地進行。具體而言，步驟S11與步驟S21至步驟S26係大致並行地進行。此外，步驟S28與步驟S13至步驟S18係大致並行地進行。
在圖4A以及圖4B中，從對第一搬運機構2a的第一台21a上的基板9進行圖案的描繪之狀態開始說明。此外，圖5至圖10係顯示描繪處理中的描繪裝置1中的第一台21a以及第二台21b的Y方向中的概略性的位置之概念圖。在圖5至圖10中，以實線描繪第一台21a、第一移動機構22a、第二台21b以及第二移動機構22b，以虛線描繪拍攝頭31以及描繪頭41。在後述的圖11、圖13至圖18以及圖20至圖28中亦同樣。此外，在圖11、圖13至圖18以及圖20至圖28中亦以實線描繪平衡配重51。
在以下的說明中，針對Y方向中的第一台21a的位置，將於上下方向與拍攝頭31以及／或者描繪頭41重疊的位置稱為「處理位置」，將在上下方向與第一移動機構22a的(-Y)側的端部重疊的位置稱為「搬出搬入位置」，將在上下方向與第一移動機構22a的(+Y)側的端部重疊的位置稱為「待機位置」。此外，針對Y方向中的第二台21b的位置，將於上下方向與拍攝頭31以及／或者描繪頭41重疊的位置稱為「處理位置」，將在上下方向與第二移動機構22b的(-Y)側的端部重疊的位置稱為「搬出搬入位置」，將在上下方向與第二移動機構22b的(+Y)側的端部重疊的位置稱為「待機位置」。此外，上述處理位置並非是指Y方向中的一點之概念，而是指拍攝部3所為的基板9的拍攝以及圖案描繪部4進行圖案的描繪之Y方向的預定的範圍(亦即處理區域)。
如圖5所示，在描繪裝置1中，在第一台21a位於處理位置且描繪頭41位於第一描繪位置的狀態下，圖案描繪部4係對第一台21a上的基板9進行圖案的描繪(步驟S11)。在步驟S11中，藉由描繪控制部114(參照圖3)控制圖案描繪部4以及第一移動機構22a，藉此對在處理位置中朝(-Y)方向移動之基板9進行圖案的描繪。
在描繪裝置1中，與步驟S11並行地，從位於搬出搬入位置的第二台21b搬出描繪完畢的基板9，並將新的基板9搬入並保持於第二台21b上(步驟S21、S22)。接著，藉由第二移動機構22b將第二台21b朝(+Y)方向移動並位於如圖6所示的處理位置(步驟S23)。在圖6所示的狀態中，在第一台21a位於處理位置的狀態下對第一台21a上的基板9進行圖案的描繪。此外，拍攝頭31係位於第二拍攝位置。
當第二台21b位於處理位置時，藉由拍攝控制部112(參照圖3)控制拍攝部3以及第二移動機構22b，藉此進行第二台21b上的基板9的對準標記(省略圖示)之拍攝，並將所取得的影像朝檢測部113(參照圖3)輸送。在檢測部113中，對該影像進行使用了基準影像的圖案匹配(pattern matching)。該圖案匹配係例如藉由公知的圖案匹配法(例如幾何學形狀圖案匹配、正規化相關檢索等)來進行。藉此，求出該影像中的對準標記的位置，檢測出第二台21b上的基板9的位置(步驟S24)。
所謂檢測部113所檢測的基板9的位置係包含第二台21b上的基板9的X方向以及Y方向中的座標、基板9的方向以及用以顯示基板9的應變等所致使之變形之資訊。此外，所謂顯示基板9的變形之資訊為已變形的基板9的形狀以及該基板9上的描繪區域的位置等之資訊。在檢測部113中，基於所檢測的基板9的位置，進行第二台21b上的基板9用的描繪資料的調節(亦即對準處理)。
當結束第二台21b上的基板9的拍攝時，藉由第二移動機構22b將第二台21b朝(+Y)方向移動並位於圖7所示的待機位置(步驟S25)。在圖7所示的狀態中，在第一台21a位於處理位置的狀態下對第一台21a上的基板9進行描繪。第二台21b係在待機位置處待機，直至結束對於第一台21a上的基板9的描繪為止(步驟S26)。
當結束對於第一台21a上的基板9之描繪時(步驟S11)，藉由第一移動機構22a將第一台21a朝(-Y)方向移動並位於圖8所示的搬出搬入位置(步驟S12)。此外，與步驟S12並行地，藉由第二移動機構22b將第二台21b朝(-Y)方向移動並位於處理位置(步驟S27)。此外，拍攝頭31係從第二拍攝位置朝第一拍攝位置移動。描繪頭41係從第一描繪位置朝第二描繪位置移動。而且，基於上述對準處理完畢的描繪資料等，藉由描繪控制部114控制圖案描繪部4以及第二移動機構22b，藉此對處理位置中朝(-Y)方向移動的第二台21b上的基板9進行圖案的描繪 (步驟S28)。
在描繪裝置1中，與朝第二台21b上的基板9之描繪並行地，從位於搬出搬入位置的第一台21a搬出描繪完畢的基板9，並將新的基板9搬入並保持於第一台21a上(步驟S13、S14)。接著，藉由第一移動機構22a將第一台21a朝(+Y)方向移動並位於圖9所示的處理位置(步驟S15)。在圖9所示的狀態中，在第二台21b位於處理位置的狀態下對第二台21b上的基板9進行描繪。
當第一台21a位於處理位置時，藉由拍攝控制部112控制拍攝部3以及第一移動機構22a，藉此藉由拍攝頭31拍攝設置在第一台21a上的基板9的對準標記(省略圖示)，並將所取得的影像朝檢測部113輸送。與步驟S24略同樣地，在檢測部113中，對該影像進行圖案匹配，檢測出第一台21a上的基板9的位置(步驟S16)。在檢測部113中，基於所檢測的基板9的位置，進行描繪至第一台21a上的基板9之預定的圖案資料的調節(亦即對準處理)。
當結束第一台21a上的基板9的拍攝時，藉由第一移動機構22a將第一台21a朝(+Y)方向移動並位於圖10所示的待機位置(步驟S17)。在圖10所示的狀態中，在第二台21b位於處理位置的狀態下對第二台21b上的基板9進行描繪。第一台21a係在待機位置處待機，直至結束對於第二台21b上的基板9的描繪為止(步驟S18)。
當結束對於第二台21b上的基板9之描繪時(步驟S28)，藉由第二移動機構22b將第二台21b朝(-Y)方向移動並位於圖5所示的搬出搬入位置(步驟S29)。此外，與步驟S29並行地，藉由第一移動機構22a將第一台21a朝(-Y)方向移動並位於處理位置(步驟S19)。此外，拍攝頭31係從第一拍攝位置朝第二拍攝位置移動。描繪頭41係從第二描繪位置朝第一描繪位置移動。
接著，從步驟S19返回至步驟S11，基於上述對準處理完畢的描繪資料等，藉由描繪控制部114控制圖案描繪部4以及第一移動機構22a，藉此對處理位置中朝(-Y)方向移動的第一台21a上的基板9進行圖案的描繪(步驟S11)。此外，從步驟S29返回至步驟S21，從位於搬出搬入位置的第二台21b搬出描繪完畢的基板9，並將新的基板9搬入並保持於第二台21b上(步驟S21、S22)。在描繪裝置1中，重複步驟S11至步驟S19以及步驟S21至步驟S29，對複數個基板9依序地進行描繪。
如上所述，在圖1所示的描繪裝置1中，在對第一台21a上以及第二台21b上的基板9進行對準處理、描繪處理等之期間，基於第一台21a以及第二台21b的Y方向(亦即基板移動方向)中的位置，藉由配重移動控制部115(參照圖3)控制配重移動機構52，藉此調節平衡配重51的X方向(亦即與基板移動方向垂直的方向)的位置。藉此，抑制第一台21a以及第二台21b的重量所致使之框架7的變形。
以下，說明平衡配重51的位置調節的具體例。在以下的例子中，平衡配重51係以位於圖11中以實線以及二點鏈線所示的五個位置中的任一個位置之情形來說明。在圖11中以實線所示的平衡配重51的位置為上述基準位置(亦即X方向中的第一移動機構22a與第二移動機構22b之間的中央)。在以下的說明中，將上述五個位置中之鄰接於基準位置的(-X)側之位置稱為「第一位置」，將上述五個位置中之鄰接於第一位置的(-X)側之位置稱為「第二位置」。此外，將上述五個位置中之鄰接於基準位置的(+X)側之位置稱為「第三位置」，將上述五個位置中之鄰接於第三位置的(+X)側之位置稱為「第四位置」。
第一位置為在X方向中比基準位置還靠近第一移動機構22a之位置，第二位置為在X方向中比第一位置還靠近第一移動機構22a之位置。第二位置為在X方向中最遠離第二移動機構22b之位置。此外，第三位置為在X方向中比基準位置還靠近第二移動機構22b之位置，第四位置為在X方向中比第三位置還靠近第二移動機構22b之位置。第四位置為在X方向中最遠離第一移動機構22a之位置。
在圖11所示的例子中，第二位置為配重移動機構52所致使之平衡配重51的可動範圍中的(-X)側的端部。第一位置為第二位置與基準位置之間的X方向中的中央的位置。此外，第四位置為配重移動機構52所致使之平衡配重51的可動範圍中的(+X)側的端部。第三位置為第四位置與基準位置之間的X方向中的中央的位置。
圖12係顯示平衡配重51的位置調節的流程的第一例之圖。在該第一例中，在正在對第一台21a以及第二台21b中之一方的台上的基板9進行描繪的狀態下，基於另一方的台的位置調節平衡配重51的位置。例如，在對第一台21a上的基板9進行描繪且第二台21位於搬出搬入位置之狀態(與步驟S11、步驟S21至步驟S22以及圖5對應)下，如圖13所示平衡配重51係位於第二位置(步驟S31)。
此外，在對第一台21a上的基板9進行描繪且第二台21b位於處理位置的狀態(與步驟S11、步驟S24以及圖6對應)下，如圖14所示平衡配重51係位於第一位置(步驟S32)。而且，在對第一台21a上的基板9進行描繪且第二台21b位於待機位置的狀態(與步驟S11、步驟S26以及圖7對應)下，如圖15所示平衡配重51係位於基準位置(步驟S33)。
如上述圖13所示，在第二台21b位於框架7的剛性低之搬出搬入位置之情形中，會有因為第二台21b的重量導致框架7以框架7的(+X)側及(-Y)側的部位朝下方下沉之方式產生變形(亦即應變)之可能性。因此，如步驟S31所示，使平衡配重51位於最靠近(-X)側的第二位置，藉此抵銷或者部分地消除從第二台21b被賦予至框架7之變形力矩(亦即以將在第一移動機構22a與第二移動機構22b之間的中央處於Y方向延伸之軸作為中心扭轉框架7之方式使框架7變形之力矩)，藉此防止或者抑制框架7的變形。
此外，如圖14所示，在第二台21b位於框架7的剛性比搬出搬入位置還高的處理位置之情形中，第二台21b的重量所致使之框架7的變形量係比圖13的狀態還小。因此，如步驟S32所示，使平衡配重51位於比第二位置還靠近基準位置的第一位置，藉此抵銷或者部分地消除從第二台21b被賦予至框架7之變形力矩，藉此防止或者抑制框架7的變形。
再者，如圖15所示，在第二台21b位於框架7的剛性比處理位置還高的待機位置之情形中，幾乎不會產生第二台21b的重量所致使之框架7的變形。因此，如步驟S33所示，使平衡配重51位於基準位置，藉此能防止因為平衡配重51的重量所致使之框架7的變形。
在描繪裝置1中，在第一台21a位於處理位置且對第一台21a上的基板9進行描繪的狀態(步驟S11)下，進行步驟S31至步驟S33的平衡配重51的位置調節，從而防止或者抑制框架7的變形。結果，能防止或者抑制框架7的變形對朝第一台21a上的基板9之描繪造成不良影響，從而能精度佳地對該基板9進行描繪。
另一方面，在對第二台21b上的基板9進行描繪且第一台21a位於搬出搬入位置之狀態(與步驟S13、步驟S14、步驟S28以及圖8對應)下，如圖16所示平衡配重51係位於第四位置(步驟S34)。此外，在對第二台21b上的基板9進行描繪且第一台21a位於處理位置之狀態(與步驟S16、步驟S28以及圖9對應)下，如圖17所示平衡配重51係位於第三位置(步驟S35)。而且，在對第二台21b上的基板9進行描繪且第一台21a位於待機位置之狀態(與步驟S18、步驟S28以及圖10對應)下，如圖18所示平衡配重51係位於基準位置(步驟S36)。
如上述圖16所示，在第一台21a位於框架7的剛性低之搬出搬入位置之情形中，會有因為第一台21a的重量導致框架7以框架7的(-X)側及(-Y)側的部位朝下方下沉之方式產生變形(亦即應變)之可能性。因此，如步驟S34所示，使平衡配重51位於最靠近(+X)側的第四位置，藉此抵銷或者部分地消除從第一台21a被賦予至框架7之變形力矩，藉此防止或者抑制框架7的變形。
此外，如圖17所示，在第一台21a位於框架7的剛性比搬出搬入位置還高的處理位置之情形中，第一台21a的重量所致使之框架7的變形量係比圖16的狀態還小。因此，如步驟S35所示，使平衡配重51位於比第四位置還靠近基準位置的第三位置，藉此抵銷或者部分地消除從第一台21a被賦予至框架7之變形力矩，藉此防止或者抑制框架7的變形。
再者，如圖18所示，在第一台21a位於框架7的剛性比處理位置還高的待機位置之情形中，幾乎不會產生第一台21a的重量所致使之框架7的變形。因此，如步驟S36所示，使平衡配重51位於基準位置，藉此能防止因為平衡配重51的重量所致使之框架7的變形。
在描繪裝置1中，在第二台21b位於處理位置且對第二台21b上的基板9進行描繪的狀態(步驟S28)下，進行步驟S34至步驟S36的平衡配重51的位置調節，從而防止或者抑制框架7的變形。結果，能防止或者抑制框架7的變形對朝第二台21b上的基板9之描繪造成不良影響，從而能精度佳地對該基板9進行描繪。
圖19係顯示平衡配重51的位置調節的流程的第二例之圖。在該第二例中，基於第一台21a以及第二台21b的Y方向中的位置的差來調節平衡配重51的位置。例如，在第一台21a位於處理位置且第二台21b位於比第一台21a還靠近(-Y)側的搬出搬入位置的狀態(與步驟S11、步驟S21至步驟S22以及圖5對應)下，如圖20所示平衡配重51係位於第一位置(步驟S41)。此外，在對第一台21a以及第二台21b位於處理位置的狀態(與步驟S11、步驟S24以及圖6對應)下，如圖21所示平衡配重51係位於基準位置(步驟S42)。
接著，在第一台21a位於處理位置且第二台21b位於比第一台21a還靠近(+Y)側的待機位置的狀態(與步驟S11、步驟S26以及圖7對應)下，如圖22所示平衡配重51係位於第三位置(步驟S43)。此外，在第一台21a位於搬出搬入位置且第二台21b位於比第一台21a還靠近(+Y)側的處理位置的狀態(與步驟S13至步驟S14、步驟S28以及圖8對應)下，如圖23所示平衡配重51係不會從第三位置移動。
接著，在第一台21a以及第二台21b位於處理位置的狀態(與步驟S16、步驟S28以及圖9對應)下，如圖24所示平衡配重51係位於基準位置(步驟S44)。而且，在第一台21a位於待機位置且第二台21b位於比第一台21a還靠近(-Y)側的處理位置的狀態(與步驟S18、步驟S28以及圖10對應)下，如圖25所示平衡配重51係位於第一位置(步驟S45)。
如上述圖20所示，在第二台21b相對於第一台21a位於框架7的剛性低之(-Y)側之情形中，會有因為從第一台21a被賦予至框架7的變形力矩與從第二台21b被賦予至框架7的變形力矩的差導致框架7以框架7的(+X)側及(-Y)側的部位朝下方下沉之方式產生變形(亦即應變)之可能性。因此，如步驟S41所示，使平衡配重51位於比基準位置還靠近(-X)側的第一位置，藉此抵銷或者部分地消除上述變形力矩的差，藉此防止或者抑制框架7的變形。針對圖25亦大致相同。
此外，如圖21所示，在第一台21a與第二台21b位於Y方向的大致相同的位置之情形中，由於幾乎沒有上述變形力矩的差，因此幾乎不會產生框架7的變形。因此，如步驟S42所示，使平衡配重51位於基準位置，藉此防止平衡配重51的重量所致使之框架7的變形。針對圖24亦大致相同。
如上述圖22以及圖23所示，在第一台21a相對於第二台21b位於框架7的剛性低之(-Y)側之情形中，會有因為上述變形力矩的差導致框架7以框架7的(-X)側及(-Y)側的部位朝下方下沉之方式產生變形(亦即應變)之可能性。因此，如步驟S43所示，使平衡配重51位於比基準位置還靠近(+X)側的第三位置，藉此抵銷或者部分地消除上述變形力矩的差，藉此防止或者抑制框架7的變形。
此外，在平衡配重51的位置調節的第二例中，步驟S41、S45中的平衡配重51的位置亦可為第二位置。此外，步驟S43中的平衡配重51的位置亦可為第四位置。
如以上所說明般，用以對基板9進行描繪之描繪裝置1係具備圖案描繪部4、第一基板保持部(亦即第一台21a)、第一移動機構22a、第二基板保持部(亦即第二台21b)、第二移動機構22b、框架7、平衡配重51、配重移動機構52以及配重移動控制部115。圖案描繪部4係對在下方水平移動之基板9的上側的主表面(亦即上表面91)照射光線並描繪圖案。第一搬運機構22a係在圖案描繪部4的下方將第一台21a於基板移動方向(在上述例子中為Y方向)水平移動。第二台21b係鄰接地配置於第一台21a。第二移動機構22b係在圖案描繪部4的下方將第二台21b於基板移動方向水平移動。第二移動機構22b係在與基板移動方向交叉之方向(在上述例子中為X方向)中與第一移動機構22a排列地配置。
框架7係支撐第一移動機構22a以及第二移動機構22b。平衡配重51係能夠於與基板移動方向交叉之配重移動方向(在上述例子中為X方向)移動地安裝於框架7。配重移動機構52係將平衡配重51於配重移動方向移動。配重移動控制部115係基於基板移動方向中的第一台21a以及第二台21b的位置來控制配重移動機構52，俾使平衡配重51配置於用以抑制第一台21a以及第二台21b的重量導致框架7的變形之位置。藉此，能抑制框架7的變形對朝基板9之描繪造成不良影響，從而能精度佳地對該基板9進行描繪。
如上所述，較佳為配重移動方向係與基板移動方向垂直。藉此，與在從平衡配重51對框架7賦予預定的變形力矩時配重移動方向相對於基板移動方向斜向地傾斜之情形相比，能縮小平衡配重51從基準位置起的移動距離。結果，能簡化描繪裝置1的構造並抑制描繪裝置1的大型化。
如上所述，較佳為平衡配重51的重心係在上下方向(亦即Z方向)中位於第一台21a的上表面以及第二台21b的上表面還下側。藉此，能抑制平衡配重51的移動所致使之框架7、第一台21a以及第二台21b的振動。結果，能提升對於基板9之描繪的精度。
如上所述，較佳為平衡配重51的上端係在上下方向中位於比第一台21a的上表面以及第二台21b的上表面還下側。藉此，能防止因為平衡配重51阻礙基板9朝第一台21a以及第二台21b搬出以及搬入。
在上述描繪裝置1中，框架7係具備：高架部74，係跨越第一移動機構22a以及第二移動機構22b，並支撐圖案描繪部4。高架部74係從第一移動機構22a以及第二移動機構22b的基板移動方向中的中央部的上方朝基板移動方向的一側(在上述例子中為(+Y)側)延伸。第一移動機構22a以及第二移動機構22b係從高架部74朝基板移動方向的另一側(在上述例子中為(-Y)側)突出。較佳為平衡配重51係於基板移動方向的上述另一側與第一移動機構22a以及第二移動機構22b鄰接地配置。如此，將平衡配重5相對於第一移動機構22a以及第二移動機構22b之相對位置設定成框架7的剛性變得比其他的部位還低之可能性高之(-Y)側(亦即基板移動方向的上述另一側)，藉此能在第一台21a或者第二台21b朝(-Y)側移動導致框架7的變形變大之情形中效率佳地抑制框架7的變形。
在上述描繪裝置1中，框架7的剛性係以第一移動機構22a以及第二移動機構22b的基板移動方向中的一側(在上述例子中為(+Y)側)的端部、中央部以及另一側(在上述例子中為(-Y)側)的端部之順序降低。平衡配重51係於基板移動方向的另一側與第一移動機構22a以及第二移動機構22b鄰接地配置。
而且，在平衡配重51的位置調節的第一例(參照圖12至圖18)中，第一台21a係在位於進行圖案描繪部4所為的描繪之位置的狀態下，在第二台21b位於基板移動方向中的上述一側的端部(在上述例子中為待機位置)時，平衡配重51係位於配重移動方向(在上述例子中為X方向)中的第一移動機構22a與第二移動機構22b之間的中央的基準位置；在第二台21b位於基板移動方向中的中央部(在上述例子中為處理位置)時，平衡配重51係位於比基準位置還靠近第一移動機構22a的第一位置；在第二台21b位於基板移動方向中的上述另一側的端部(在上述例子中為搬出搬入位置)時，平衡配重51係位於比第一位置還靠近第一移動機構22a的第二位置。藉此，在對第一台21a上的基板9進行描繪之期間，與第二台21b的基板移動方向中的位置無關地能抑制框架7的變形。結果，能效率佳地對第一台21a上的基板9進行描繪。
此外，在上述第一例中，第二台21b係在位於進行圖案描繪部4所為的描繪之位置的狀態下，在第一台21a位於基板移動方向中的上述一側的端部(在上述例子中為待機位置)時，平衡配重51係位於上述基準位置；在第一台21a位於基板移動方向中的中央部(在上述例子中為處理位置)時，平衡配重51係位於比基準位置還靠近第二移動機構22b的第三位置；在第一台21a位於基板移動方向中的上述另一側的端部(在上述例子中為搬出搬入位置)時，平衡配重51係位於比第三位置還靠近第二移動機構22b的第四位置。藉此，在對第二台21b上的基板9進行描繪之期間，與第一台21a的基板移動方向中的位置無關地能抑制框架7的變形。結果，能效率佳地對第二台21b上的基板9進行描繪。
如上所述，框架7的剛性係以第一移動機構22a以及第二移動機構22b的基板移動方向中的一側(在上述例子中為(+Y)側)的端部、中央部以及另一側(在上述例子中為(-Y)側)的端部之順序降低。平衡配重51係於基板移動方向的另一側與第一移動機構22a以及第二移動機構22b鄰接地配置。
而且，在平衡配重51的位置調節的第二例(參照圖19至圖25)中，在第一台21a以及第二台21b位於基板移動方向中的相同的位置時，平衡配重51係位於配重移動方向(在上述例子中為X方向)中的第一移動機構22a與第二移動機構22b之間的中央的基準位置，在第二台21b位於比第一台21a還靠近基板移動方向中的上述另一側時，平衡配重51係位於比基準位置還靠近第一移動機構22a的位置(在上述例子中為第一位置)，在第二台21b位於比第一台21a還靠近基板移動方向中的上述一側時，平衡配重51係位於比基準位置還靠近第二移動機構22b的位置(在上述例子中為第三位置)。藉此，能抑制基板移動方向中的第一台21a以及第二台21b的位置的差所致使之框架7的變形。結果，能精度佳地對第一台21a上的基板9以及第二台21b上的基板9進行各種處理(例如基板9的搬出搬入、對準處理以及描繪處理)。
如上所述，較佳為圖案描繪部4係具備描繪頭41以及描繪頭移動機構42。描繪頭41係朝向下方照射光線。描繪頭移動機構42係使描繪頭41在第一搬運機構22a的上方的第一描繪位置與第二搬運機構22b的上方的第二描繪位置之間移動。如此，藉由共通的描繪頭41進行對於第一台21a上的基板9之描繪以及對於第二台21b上的基板9之描繪，藉此能將描繪裝置1的構造簡化從而能將描繪裝置1小型化。
在上述描繪裝置1中能夠進行各種變更。
例如，平衡配重51的上端亦可位於比第一台21a的上表面以及第二台21b的上表面還上側或者上下方向的相同的位置。或者，平衡配重51的重心亦可位於第一台21a的上表面以及第二台21b的上表面還上側或者上下方向的相同的位置。
在描繪裝置1中，平衡配重51並不一定需要鄰接地配置於第一移動機構22a以及第二移動機構22b的(-Y)側，亦可配置於其他各種位置。例如，平衡配重51亦可配置於第一移動機構22a以及第二移動機構22b的(-Y)側的端部的鉛直下方。在此情形中，能將描繪裝置1的設置空間予以小型化。
在描繪裝置1中，用以支撐拍攝部3以及圖案描繪部4之高架部74(亦即第一高架部72以及第二高架部73)的配置並未限定於圖1所示的例子，亦可進行各種變更。例如，第一移動機構22a以及第二移動機構22b並不一定需要從高架部74朝(-Y)側突出。此外，第一高架部72以及第二高架部73亦可為一體的構件。拍攝部3以及圖案描繪部4亦可被高架部74以外的構造支撐。
框架7的基板移動方向中的剛性並不一定需要以(+Y)側的端部、中央部以及(-Y)側的端部依序變低，亦可進行各種變更。此外，框架7亦可為從下方例如被三點支撐之構造。當減少從下方支撐框架7之部位時，變得容易產生框架7的變形。然而，藉由平衡配重51的位置調節來抑制框架7的變形，藉此即使在以被限制的部位(例如三點)支撐框架7之情形中，亦能精度佳地對第一台21a上的基板9以及第二台21b上的基板9進行各種處理(例如基板9的搬出搬入、對準處理以及描繪處理)。
平衡配重51的第二位置、第一位置、基準位置、第三位置以及第四位置係只要在配重移動方向中依序排列，則配重支撐部75上的具體性的位置亦可進行各種變更。
在圖19所示的平衡配重51的位置調節的第二例中，在第一台21a位於待機位置且第二台21b位於搬出搬入位置之情形中，平衡配重51亦可配置於第二位置。此外，在第一台21a位於搬出搬入位置且第二台21b位於待機位置之情形中，平衡配重51亦可配置於第四位置。
平衡配重51的位置調節亦可以上述第一例以及第二例以外的態樣來進行。此外，平衡配重51亦可配置於基準位置、第一位置、第二位置、第三位置以及第四位置以外的位置。
平衡配重51並不一定需要為金屬製，且並不一定需要為一個構造體。例如，平衡配重51亦可具備兩個以上的配重要素。在圖26所示的例子中，平衡配重51係具備能夠彼此獨立地移動之兩個配重要素53。例如，與上述圖13(亦即第一例的位置調節)同樣地，在第一台21a位於處理位置且第二台21b位於搬出搬入位置的狀態下，兩個配重要素53係位於第二位置。此外，與上述圖14同樣地，在第一台21a以及第二台21b位於處理位置的狀態下，如圖27所示一方的配重要素53係位於基準位置且另一方的配重要素53係位於第二位置。而且，與上述圖15同樣地，在第一台21a位於處理位置且第二台21b位於待機位置的狀態下，如圖28所示兩個配重要素53係位於基準位置。
此外，在圖29所示的例子中，平衡配重51亦具備能夠彼此獨立地移動的兩個配重要素53。圖29所示的兩個配重要素53中之一方的配重要素53(亦即(-X)側的配置要素53)係基於第二台21b的Y方向中的位置在基準位置與第二位置之間移動。另一方的配重要素53(亦即(+X)側的配重要素53)係基於第一台21a的Y方向中的位置在基準位置與第四位置之間移動。例如，與上述圖13(亦即第一例的位置調節)同樣地，在第一台21a位於處理位置且第二台21b位於搬出搬入位置的狀態下，(-X)側的配重要素53係位置於第二位置，(+X)側的配重要素53係位於第三位置。此外，與上述圖14同樣地，在第一台21a以及第二台21b位於處理位置的狀態下，如圖30所示，(-X)側的配重要素53係位於第一位置，(+X)側的配重要素53係位於第三位置。而且，與上述圖15同樣地，在第一台21a位於處理位置且第二台21b位於待機位置的狀態下，如圖31所示，(-X)側的配重要素53係位於基準位置，(+X)側的配重要素53係位於第三位置。
在描繪裝置1中，配重移動方向並不一定需要與基板移動方向垂直，亦可進行各種變更。例如，配重支撐部75亦可不是於X方向延伸的略直線狀，而是俯視觀看時於(+Y)側或者(-Y)側彎曲成凸狀且於X方向延伸的略圓弧狀。或者，兩條直線狀的配重支撐部75亦可以俯視觀看時在第一移動機構22a與第二移動機構22b之間的X方向的中央處X字狀地交叉之方式配置於第一移動機構22a以及第二移動機構22b的下方，且上述配重要素53係能夠移動地安裝於各個配重支撐部75。
在描繪裝置1中，第一搬運機構2a亦可進一步具備下述一個以上的構件：移動機構，係將第一台21a於X方向移動；旋轉機構，係以於Z方向延伸的旋轉軸作為中心旋轉第一台21a；以及升降機構，係將第一台21a於Z方向移動。作為該移動機構以及升降機構，能夠利用例如線性伺服馬達。此外，作為該旋轉機構，能夠利用伺服馬達。該移動機構、旋轉機構以及升降機構亦可進行各種變更。第二搬運機構2b亦與第一搬運機構2a同樣。
在圖案描繪部4中，亦可分別設置有用以在第一描繪位置中對第一台21a上的基板9照射光線之描繪頭41以及用以在第二描繪位置中對第二台21b上的基板9照射光線之描繪頭41。在此情形中，亦可省略描繪頭移動機構42。
在描繪裝置1中，除了設置有第一搬運機構2a以及第二搬運機構2b，亦可進一步設置有第三台以及用以將第三台於Y方向移動之第三移動機構，且並行地對第一台21a、第二台21b以及第三台上的基板9進行各種處理(對準處理、描繪處理以及基板9的搬出與搬入)。
圖32係從(-Y)側觀看本發明的其他的較佳的描繪裝置1a之側視圖。在圖32中省略平衡配重51、拍攝頭31以及第一高架部72等的圖示。
在描繪裝置1a中，第一台21a以及第二台21b係鄰接地配置於上下方向。在圖32所示的例子中，第二台21b係隔開地配置於第一台21a的下側。第一移動機構22a係從側方(亦即(-X)側)支撐第一台21a。第二移動機構22b係從側方(亦即(+X)側)支撐第二台21b。
第一搬運機構2a係具備用以將第一台21a於上下方向移動之省略圖示的第一升降機構。第二搬運機構2b係具備用以將第二台21b於上下方向移動之省略圖示的第二升降機構。藉由被第二高架部73支撐的複數個描繪頭41對第一台21a上的基板9進行描繪後，在對第二台21b上的基板9進行描繪時，第一台21a係從圖32所示的狀態下降至圖中的第二台21b的位置，且第二台21b係上升至圖中的第一台21a的位置。描繪裝置1a的其他構成係與描繪裝置1中對應的構成略同樣。
與上述描繪裝置1略同樣地，第一移動機構22a與第二移動機構22b係排列地配置於與基板移動方向(亦即Y方向)交叉之方向。在圖32所示的例子中，第一移動機構22a與第二移動機構22b係排列地配置於X方向，第二移動機構22b係鄰接於第一移動機構22a的(+X)側的側方。第一移動機構22a與第二移動機構22b係位於上下方向中的略相同的高度。
在描繪裝置1a中亦與描繪裝置1同樣地，配重移動控制部115(參照圖3)係基於基板移動方向(亦即Y方向)中的第一台21a以及第二台21b的位置來控制配重移動機構52，俾使平衡配重51(參照圖1)配置於抑制第一台21a以及第二台21b的重量導致框架7的變形之位置。藉此，能抑制框架7的變形對朝基板9的描繪造成不良影響，從而能精度佳地對該基板9進行描繪。
上述基板9並未限定於印刷基板。在描繪裝置1、1a中，亦可進行例如半導體基板、液晶顯示裝置、有機EL顯示裝置等的平板面板(flat panel)顯示裝置用的玻璃基板、光罩用的玻璃基板、太陽電池面板用的基板等的位置檢測。
上述實施形態以及各變化例中的構成只要相互未矛盾則亦可適當地組合。
雖然已經詳細地描繪並說明本發明，然而這些說明是例示性的而非是限定性的。因此，只要未逸離本發明的範圍，則能夠認為有多種變化以及態樣。
1,1a:描繪裝置 2a:第一搬運機構 2b:第二搬運機構 3:拍攝部 4:圖案描繪部 7:框架 9:基板 10:控制部 21a:第一台 21b:第二台 22a:第一移動機構 22b:第二移動機構 31:拍攝頭 32:拍攝頭移動機構 41:描繪頭 42:描繪頭移動機構 51:平衡配重 52:配重移動機構 53:配重要素 71:基台 72:第一高架部 73:第二高架部 74:高架部 75:配重支撐部 91:上表面 100:電腦 101:處理器 102:記憶體 103:輸入輸出部 104:匯流排 105:鍵盤 106:滑鼠 107:顯示器 111:記憶部 112:拍攝控制部 113:檢測部 114:描繪控制部 115:配重移動控制部 221a,221b:導軌
[圖1]係顯示實施形態之一的描繪裝置之立體圖。 [圖2]係顯示電腦的構成之圖。 [圖3]係顯示控制部的功能之方塊圖。 [圖4A]係顯示描繪處理的流程之圖。 [圖4B]係顯示描繪處理的流程之圖。 [圖5]係顯示第一台以及第二台的位置之圖。 [圖6]係顯示第一台以及第二台的位置之圖。 [圖7]係顯示第一台以及第二台的位置之圖。 [圖8]係顯示第一台以及第二台的位置之圖。 [圖9]係顯示第一台以及第二台的位置之圖。 [圖10]係顯示第一台以及第二台的位置之圖。 [圖11]係顯示平衡配重的位置之圖。 [圖12]係顯示平衡配重的位置調節的流程之圖。 [圖13]係顯示第一台、第二台以及平衡配重的位置之圖。 [圖14]係顯示第一台、第二台以及平衡配重的位置之圖。 [圖15]係顯示第一台、第二台以及平衡配重的位置之圖。 [圖16]係顯示第一台、第二台以及平衡配重的位置之圖。 [圖17]係顯示第一台、第二台以及平衡配重的位置之圖。 [圖18]係顯示第一台、第二台以及平衡配重的位置之圖。 [圖19]係顯示平衡配重的位置調節的流程之圖。 [圖20]係顯示第一台、第二台以及平衡配重的位置之圖。 [圖21]係顯示第一台、第二台以及平衡配重的位置之圖。 [圖22]係顯示第一台、第二台以及平衡配重的位置之圖。 [圖23]係顯示第一台、第二台以及平衡配重的位置之圖。 [圖24]係顯示第一台、第二台以及平衡配重的位置之圖。 [圖25]係顯示第一台、第二台以及平衡配重的位置之圖。 [圖26]係顯示第一台、第二台以及平衡配重的位置之圖。 [圖27]係顯示第一台、第二台以及平衡配重的位置之圖。 [圖28]係顯示第一台、第二台以及平衡配重的位置之圖。 [圖29]係顯示第一台、第二台以及平衡配重的位置之圖。 [圖30]係顯示第一台、第二台以及平衡配重的位置之圖。 [圖31]係顯示第一台、第二台以及平衡配重的位置之圖。 [圖32]係顯示描繪裝置的其他例子之側視圖。
1:描繪裝置
2a:第一搬運機構
2b:第二搬運機構
3:拍攝部
4:圖案描繪部
7:框架
9:基板
10:控制部
21a:第一台
21b:第二台
22a:第一移動機構
22b:第二移動機構
31:拍攝頭
32:拍攝頭移動機構
41:描繪頭
42:描繪頭移動機構
51:平衡配重
52:配重移動機構
71:基台
72:第一高架部
73:第二高架部
74:高架部
75:配重支撐部
91:上表面
221a,221b:導軌

Claims (8)

  1. 一種描繪裝置，係用以對基板進行描繪，並具備： 圖案描繪部，係對在下方水平移動之基板的上側的主表面照射光線並描繪圖案； 第一基板保持部； 第一移動機構，係在前述圖案描繪部的下方將前述第一基板保持部於基板移動方向水平移動； 第二基板保持部，係與前述第一基板保持部鄰接地配置； 第二移動機構，係在與前述基板移動方向交叉之方向中與前述第一移動機構排列地配置，在前述圖案描繪部的下方將前述第二基板保持部於前述基板移動方向水平移動； 框架，係支撐前述第一移動機構以及前述第二移動機構； 平衡配重，係能夠於與前述基板移動方向交叉之配重移動方向移動地安裝於前述框架； 配重移動機構，係將前述平衡配重於前述配重移動方向移動；以及 配重移動控制部，係基於前述基板移動方向中的前述第一基板保持部以及前述第二基板保持部的位置來控制前述配重移動機構，俾使前述平衡配重配置於抑制前述第一基板保持部以及前述第二基板保持部的重量所致使之前述框架的變形之位置。
  2. 如請求項1所記載之描繪裝置，其中述配重移動方向係與前述基板移動方向垂直。
  3. 如請求項1所記載之描繪裝置，其中前述平衡配重的重心係在上下方向中位於比前述第一基板保持部的上表面以及前述第二基板保持部的上表面還下側。
  4. 如請求項3所記載之描繪裝置，其中前述平衡配重的上端係在上下方向中位於比前述第一基板保持部的前述上表面以及前述第二基板保持部的前述上表面還下側。
  5. 如請求項1所記載之描繪裝置，其中前述框架係具備：高架部，係跨越前述第一移動機構以及前述第二移動機構，並支撐前述圖案描繪部； 前述高架部係從前述第一移動機構以及前述第二移動機構的前述基板移動方向中的中央部的上方朝前述基板移動方向的一側延伸； 前述第一移動機構以及前述第二移動機構係從前述高架部朝前述基板移動方向的另一側突出； 前述平衡配重係於前述基板移動方向的另一側與前述第一移動機構以及前述第二移動機構鄰接地配置。
  6. 如請求項1所記載之描繪裝置，其中前述框架的剛性係以前述第一移動機構以及前述第二移動機構的前述基板移動方向中的一側的端部、中央部以及另一側的端部之順序降低； 前述平衡配重係於前述基板移動方向的前述另一側與前述第一移動機構以及前述第二移動機構鄰接地配置； 前述第一基板保持部係在位於進行前述圖案描繪部所為的描繪之位置的狀態下，在前述第二基板保持部位於前述基板移動方向中的前述一側的端部時，前述平衡配重係位於前述配重移動方向中的前述第一移動機構與前述第二移動機構之間的中央的基準位置，在前述第二基板保持部位於前述基板移動方向中的前述中央部時，前述平衡配重係位於比前述基準位置還靠近前述第一移動機構的第一位置，在前述第二基板保持部位於前述基板移動方向中的前述另一側的端部時，前述平衡配重係位於比前述第一位置還靠近前述第一移動機構的第二位置； 前述第二基板保持部係在位於進行前述圖案描繪部所為的描繪之位置的狀態下，在前述第一基板保持部位於前述基板移動方向中的前述一側的端部時，前述平衡配重係位於前述基準位置，在前述第一基板保持部位於前述基板移動方向中的前述中央部時，前述平衡配重係位於比前述基準位置還靠近前述第二移動機構的第三位置，在前述第一基板保持部位於前述基板移動方向中的前述另一側的端部時，前述平衡配重係位於比前述第三位置還靠近前述第二移動機構的第四位置。
  7. 如請求項1所記載之描繪裝置，其中前述框架的剛性係以前述第一移動機構以及前述第二移動機構的前述基板移動方向中的一側的端部、中央部以及另一側的端部之順序降低； 前述平衡配重係於前述基板移動方向的前述另一側與前述第一移動機構以及前述第二移動機構鄰接地配置； 在前述第一基板保持部以及前述第二基板保持部位於前述基板移動方向中的相同的位置時，前述平衡配重係位於前述配重移動方向中的前述第一移動機構與前述第二移動機構之間的中央的基準位置； 在前述第二基板保持部位於比前述第一基板保持部還靠近前述基板移動方向中的前述另一側時，前述平衡配重係位於比前述基準位置還靠近前述第一移動機構的位置； 在前述第二基板保持部位於比前述第一基板保持部還靠近前述基板移動方向中的前述一側時，前述平衡配重係位於比前述基準位置還靠近前述第二移動機構的位置。
  8. 如請求項1至7中任一項所記載之描繪裝置，其中前述圖案描繪部係具備： 描繪頭，係朝向下方照射光線；以及 描繪頭移動機構，係在前述第一移動機構的上方的第一描繪位置與前述第二移動機構的上方的第二描繪位置之間移動前述描繪頭。
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