JP5415842B2 - 描画システムおよびパターン形成システム - Google Patents
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Description
3 描画システム
4 描画部
9 基板
10 全体制御部
21 塗布装置
22 現像装置
31 チャンバ本体
32,32a 搬送部
42 主走査機構
43 ヘッド
48 ベース
49 防振台
102 パラメータテーブル
321 軸
322 伸縮アーム
412 ステージ
472 受け渡し台
473 移載部
474 プリアライメントステージ
Claims (7)
- 基板上の感光材料に光を照射してパターンを描画する描画システムであって、
複数の基板上の感光材料にそれぞれパターンを描画する複数の描画部と、
前記複数の描画部を収容するとともに、内部を空調するチャンバ本体と、
前記チャンバ本体の外部に設けられる塗布装置にて感光材料が順次塗布された基板を前記複数の描画部のうち、前記基板に対して特定された制御パラメータの値が送信される描画部へと搬送するとともに、描画が完了した基板を前記チャンバ本体の外部に設けられる現像装置へと順次搬送するために、前記基板を描画部から取り出す搬送部と、
を備え、
前記複数の描画部のそれぞれが、
基板を保持する保持部と、
空間変調された光を出射する光出射部と、
前記光出射部に対して前記保持部に保持された基板を一の方向に連続的に、かつ、相対的に移動することにより、前記基板上の感光材料にパターンを描画する移動機構と、
前記保持部、前記光出射部および前記移動機構を支持するベースと、
を備え、
前記複数の描画部が、前記一の方向に垂直な方向に互いに近接して配置され、
前記複数の描画部の複数のベースが互いに独立して前記チャンバ本体に収容されることを特徴とする描画システム。 - 請求項1に記載の描画システムであって、
前記複数の描画部のうち、一の描画部における一の基板に対するパターンの描画に並行して、他の一の描画部に次の基板が搬入されることを特徴とする描画システム。 - 請求項1または2に記載の描画システムであって、
前記複数の描画部のそれぞれが、前記ベースに接続された防振台を備え、
前記複数の描画部の複数の防振台が互いに独立していることを特徴とする描画システム。 - 請求項1ないし3のいずれかに記載の描画システムであって、
前記複数の描画部が2つの描画部であり、
前記2つの描画部が、所定の対称面に対して面対称となる位置に互いに近接して配置され、
前記搬送部が、前記対称面に含まれるとともに鉛直方向を向く軸を中心に回動し、伸縮することにより基板を搬送する伸縮アームを備え、
前記2つの描画部のそれぞれが、
前記ベースと前記軸との間に設けられる受け渡し台と、
前記受け渡し台上の基板を前記保持部に移載する移載部と、
を備え、
前記2つの描画部の2つの受け渡し台が、前記対称面に対して面対称であることを特徴とする描画システム。 - 請求項3に記載の描画システムであって、
前記複数の描画部のそれぞれの前記防振台に、基板の向きの検出を行うプリアライメントステージと、前記プリアライメントステージにおける前記基板の向きの検出後に、当該基板を前記ベース上の前記保持部へ搬送する移載部とが設けられていることを特徴とする描画システム。 - 請求項1ないし5のいずれかに記載の描画システムであって、
前記塗布装置における感光材料の塗布条件に応じた描画部の制御パラメータの値を前記複数の描画部に対して個別に記憶し、前記塗布装置における実際の塗布条件に応じて、前記複数の描画部のそれぞれに対して前記制御パラメータの値を特定して送信するパラメータ管理部をさらに備えることを特徴とする描画システム。 - 基板上にパターンを形成するパターン形成システムであって、
請求項1ないし6のいずれかに記載の描画システムと、
基板上に感光材料を塗布する塗布装置と、
前記描画システムにてパターンが描画された基板上の感光材料を現像する現像装置と、
を備えることを特徴とするパターン形成システム。
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JP2009152609A JP5415842B2 (ja) | 2009-06-26 | 2009-06-26 | 描画システムおよびパターン形成システム |
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JP2009152609A JP5415842B2 (ja) | 2009-06-26 | 2009-06-26 | 描画システムおよびパターン形成システム |
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JP2011009552A JP2011009552A (ja) | 2011-01-13 |
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2009
- 2009-06-26 JP JP2009152609A patent/JP5415842B2/ja active Active
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