JP2019214788A5 - - Google Patents

Download PDF

Info

Publication number
JP2019214788A5
JP2019214788A5 JP2019122142A JP2019122142A JP2019214788A5 JP 2019214788 A5 JP2019214788 A5 JP 2019214788A5 JP 2019122142 A JP2019122142 A JP 2019122142A JP 2019122142 A JP2019122142 A JP 2019122142A JP 2019214788 A5 JP2019214788 A5 JP 2019214788A5
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
metal plate
region
reflectance
width direction
less
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
JP2019122142A
Other languages
English (en)
Other versions
JP2019214788A (ja
JP6896801B2 (ja
Filing date
Publication date
Priority claimed from JP2018563643A external-priority patent/JPWO2019098168A1/ja
Application filed filed Critical
Publication of JP2019214788A publication Critical patent/JP2019214788A/ja
Publication of JP2019214788A5 publication Critical patent/JP2019214788A5/ja
Application granted granted Critical
Publication of JP6896801B2 publication Critical patent/JP6896801B2/ja
Active legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Description

本開示の一実施形態は、蒸着マスクを製造するために用いられる金属板であって、前記金属板の長手方向及び前記長手方向に直交する幅方向を有する表面を備え、前記表面に直交する少なくとも1つの平面内において45°±0.2°の入射角度で前記表面に光を入射させた場合に測定される、前記光の正反射による表面反射率が、8%以上且つ25%以下である、金属板である。
前記金属板は、前記幅方向における一端から他端に並ぶ第1領域、第2領域及び第3領域であって、各々が前記幅方向において同一の長さを有する第1領域、第2領域及び第3領域を含み、前記第1領域、前記第2領域及び前記第3領域のそれぞれの前記表面において、前記表面反射率が8%以上且つ25%以下であってもよい。
本開示の一実施形態は、蒸着マスクを製造するために用いられる金属板の検査方法であって、前記金属板は、前記金属板の長手方向及び前記長手方向に直交する幅方向を有する表面を備え、前記検査方法は、光を前記表面に入射させた場合に測定観測される反射光の表面反射率を測定する測定工程と、前記反射光のうち記表面に直交する少なくとも1つの平面内において45°±0.2°の角度で前記表面から出射する前記反射光の前記表面反射率が8%以上且つ25%以下である場合に前記金属板を良品と判定する判定工程と、を備える、金属板の検査方法である。
前記金属板は、前記幅方向における一端から他端に並ぶ第1領域、第2領域及び第3領域であって、各々が前記幅方向において同一の長さを有する第1領域、第2領域及び第3領域を含み、前記測定工程は、光を前記第1領域、前記第2領域及び前記第3領域のそれぞれの前記表面に入射させた場合に測定観測される反射光の表面反射率を測定してもよい。
本開示の一実施形態は、蒸着マスクを製造するために用いられる金属板の製造方法であって、前記金属板を圧延法又はめっき法によって得る作製工程を備え、前記金属板は、前記金属板の長手方向及び前記長手方向に直交する幅方向を有する表面を備え、光を前記表面に入射させた場合に観測される反射光のうち、前記表面に直交する少なくとも1つの平面内において45°±0.2°の角度で前記表面から出射する前記反射光の表面反射率が、8%以上且つ25%以下である、金属板の製造方法である。
前記金属板は、前記幅方向における一端から他端に並ぶ第1領域、第2領域及び第3領域であって、各々が前記幅方向において同一の長さを有する第1領域、第2領域及び第3領域を含み、前記第1領域、前記第2領域及び前記第3領域のそれぞれの前記表面において、前記表面反射率が8%以上且つ25%以下であってもよい。
本開示の一実施形態は、蒸着マスクであって、長手方向及び前記長手方向に直交する幅方向を有する表面を含む金属板と、前記金属板に形成された複数の貫通孔と、を備え、光を前記金属板の表面に入射させた場合に観測される反射光のうち、前記表面に直交する少なくとも1つの平面内において45°±0.2°の角度で前記表面から出射する前記反射光の表面反射率が、8%以上且つ25%以下である、蒸着マスクである。
前記金属板は、前記幅方向における一端から他端に並ぶ第1領域、第2領域及び第3領域であって、各々が前記幅方向において同一の長さを有する第1領域、第2領域及び第3領域を含み、
前記第1領域、前記第2領域及び前記第3領域のそれぞれの前記表面において、前記表面反射率が8%以上且つ25%以下であってもよい。
本開示の一実施形態は、長手方向及び前記長手方向に直交する幅方向を有する表面を含む金属板と、前記金属板に形成された複数の貫通孔と、を備える蒸着マスクと、前記蒸着マスクを支持するフレームと、を備え、光を前記金属板の前記表面に入射させた場合に観測される反射光のうち、前記表面に直交する少なくとも1つの平面内において45°±0.2°の角度で前記表面から出射する前記反射光の表面反射率が、8%以上且つ25%以下である、蒸着マスク装置である。
前記金属板は、前記幅方向における一端から他端に並ぶ第1領域、第2領域及び第3領域であって、各々が前記幅方向において同一の長さを有する第1領域、第2領域及び第3領域を含み、前記第1領域、前記第2領域及び前記第3領域のそれぞれの前記表面において、前記表面反射率が8%以上且つ25%以下であってもよい。
本開示の一実施形態は、複数の貫通孔が形成された蒸着マスクを製造する方法であって、長手方向及び前記長手方向に直交する幅方向を有する表面を含む金属板を準備する工程と、前記金属板の前記表面にレジスト膜を設けるレジスト膜形成工程と、前記レジスト膜を加工してレジストパターンを形成する工程と、前記レジストパターンをマスクとして前記金属板をエッチングする工程と、を備え、光を前記金属板の前記表面に入射させた場合に観測される反射光のうち、前記表面に直交する少なくとも1つの平面内において45°±0.2°の角度で前記表面から出射する前記反射光の表面反射率が、8%以上且つ25%以下である、蒸着マスクの製造方法である。
前記金属板は、前記幅方向における一端から他端に並ぶ第1領域、第2領域及び第3領域であって、各々が前記幅方向において同一の長さを有する第1領域、第2領域及び第3領域を含み、前記第1領域、前記第2領域及び前記第3領域のそれぞれの前記表面において、前記表面反射率が8%以上且つ25%以下であってもよい。

Claims (19)

  1. 蒸着マスクを製造するために用いられる金属板であって、
    前記金属板の長手方向及び前記長手方向に直交する幅方向を有する表面を備え、
    前記表面に直交する少なくとも1つの平面内において45°±0.2°の入射角度で前記表面に光を入射させた場合に測定される、前記光の正反射による表面反射率が、8%以上且つ25%以下であり、
    前記金属板は、前記幅方向における一端から他端に並ぶ第1領域、第2領域及び第3領域であって、各々が前記幅方向において同一の長さを有する第1領域、第2領域及び第3領域を含み、
    前記第1領域、前記第2領域及び前記第3領域のそれぞれの前記表面において、前記表面反射率が8%以上且つ25%以下である、金属板。
  2. 前記表面反射率が、8%以上且つ20%以下である、請求項1に記載の金属板。
  3. 前記表面及び前記長手方向に直交する第1平面内において45°±0.2°の入射角度で前記表面に前記光を入射させた場合に測定される、前記光の正反射による前記表面反射率を第1反射率と称し、
    前記表面及び前記幅方向に直交する第2平面内において45°±0.2°の入射角度で前記表面に前記光を入射させた場合に測定される、前記光の正反射による前記表面反射率を第2反射率と称し、
    前記第1反射率及び前記第2反射率の平均値が、8%以上且つ25%以下である、請求項1又は2に記載の金属板。
  4. 前記第1反射率及び前記第2反射率の平均値が、8%以上且つ20%以下である、請求項3に記載の金属板。
  5. 前記第1反射率を前記第2反射率で割った値が、0.70以上1.30以下である、請求項3又は4に記載の金属板。
  6. 前記金属板の厚みが、100μm以下である、請求項1乃至のいずれか一項に記載の金属板。
  7. 前記金属板が、ニッケルを含む鉄合金からなる、請求項1乃至のいずれか一項に記載の金属板。
  8. 前記金属板の前記表面が、前記長手方向に延びる複数の圧延筋を有する、又は、金属板の前記表面が、前記長手方向に直交する方向を有する複数のオイルピットを有する、請求項1乃至のいずれか一項に記載の金属板。
  9. 前記金属板は、前記金属板の前記表面に貼り付けられたレジスト膜を露光および現像して第1レジストパターンを形成し、前記金属板の前記表面のうち前記第1レジストパターンによって覆われていない領域をエッチングして、前記蒸着マスクを製造するためのものである、請求項1乃至のいずれか一項に記載の金属板。
  10. 前記金属板は、1000Pa以下の環境下で前記金属板の前記表面に貼り付けられたレジスト膜を露光および現像して第1レジストパターンを形成し、前記金属板の前記表面のうち前記第1レジストパターンによって覆われていない領域をエッチングして、前記蒸着マスクを製造するためのものである、請求項に記載の金属板。
  11. 前記表面反射率は、前記光を検出器に直接入射させた場合に測定される強度に対する比率として算出される、請求項1乃至10のいずれか一項に記載の金属板。
  12. 前記表面反射率は、前記金属板の表面のうち蒸着マスクの有機EL基板側の面を構成する第1面に光を入射させた場合に観測される反射光に基づく第1面反射率である、請求項1乃至11のいずれか一項に記載の金属板。
  13. 蒸着マスクを製造するために用いられる金属板の検査方法であって、
    前記金属板は、前記金属板の長手方向及び前記長手方向に直交する幅方向を有する表面を備え、
    前記金属板は、前記幅方向における一端から他端に並ぶ第1領域、第2領域及び第3領域であって、各々が前記幅方向において同一の長さを有する第1領域、第2領域及び第3領域を含み、
    前記検査方法は、光を前記第1領域、前記第2領域及び前記第3領域のそれぞれの前記表面に入射させた場合に測定観測される反射光の表面反射率を測定する測定工程と、
    前記反射光のうち前記表面に直交する少なくとも1つの平面内において45°±0.2°の角度で前記表面から出射する前記反射光の前記表面反射率が8%以上且つ25%以下である場合に前記金属板を良品と判定する判定工程と、を備える、金属板の検査方法。
  14. 蒸着マスクを製造するために用いられる金属板の製造方法であって、
    前記金属板を圧延法又はめっき法によって得る作製工程を備え、
    前記金属板は、前記金属板の長手方向及び前記長手方向に直交する幅方向を有する表面を備え、
    光を前記表面に入射させた場合に観測される反射光のうち、前記表面に直交する少なくとも1つの平面内において45°±0.2°の角度で前記表面から出射する前記反射光の表面反射率が、8%以上且つ25%以下であり、
    前記金属板は、前記幅方向における一端から他端に並ぶ第1領域、第2領域及び第3領域であって、各々が前記幅方向において同一の長さを有する第1領域、第2領域及び第3領域を含み、
    前記第1領域、前記第2領域及び前記第3領域のそれぞれの前記表面において、前記表面反射率が8%以上且つ25%以下である、金属板の製造方法。
  15. 前記表面反射率が8%以上且つ25%以下である前記金属板を選別する選別工程を備える、請求項14に記載の金属板の製造方法。
  16. 蒸着マスクであって、
    長手方向及び前記長手方向に直交する幅方向を有する表面を含む金属板と、
    前記金属板に形成された複数の貫通孔と、を備え、
    光を前記金属板の前記表面に入射させた場合に観測される反射光のうち、前記表面に直交する少なくとも1つの平面内において45°±0.2°の角度で前記表面から出射する前記反射光の表面反射率が、8%以上且つ25%以下であり、
    前記金属板は、前記幅方向における一端から他端に並ぶ第1領域、第2領域及び第3領域であって、各々が前記幅方向において同一の長さを有する第1領域、第2領域及び第3領域を含み、
    前記第1領域、前記第2領域及び前記第3領域のそれぞれの前記表面において、前記表面反射率が8%以上且つ25%以下である、蒸着マスク。
  17. 長手方向及び前記長手方向に直交する幅方向を有する表面を含む金属板と、前記金属板に形成された複数の貫通孔と、を備える蒸着マスクと、
    前記蒸着マスクを支持するフレームと、を備え、
    光を前記金属板の前記表面に入射させた場合に観測される反射光のうち、前記表面に直交する少なくとも1つの平面内において45°±0.2°の角度で前記表面から出射する前記反射光の表面反射率が、8%以上且つ25%以下であり、
    前記金属板は、前記幅方向における一端から他端に並ぶ第1領域、第2領域及び第3領域であって、各々が前記幅方向において同一の長さを有する第1領域、第2領域及び第3領域を含み、
    前記第1領域、前記第2領域及び前記第3領域のそれぞれの前記表面において、前記表面反射率が8%以上且つ25%以下である、蒸着マスク装置。
  18. 複数の貫通孔が形成された蒸着マスクを製造する方法であって、
    長手方向及び前記長手方向に直交する幅方向を有する表面を含む金属板を準備する工程と、
    前記金属板の前記表面にレジスト膜を設けるレジスト膜形成工程と、
    前記レジスト膜を加工してレジストパターンを形成する工程と、
    前記レジストパターンをマスクとして前記金属板をエッチングする工程と、を備え、
    光を前記金属板の前記表面に入射させた場合に観測される反射光のうち、前記表面に直交する少なくとも1つの平面内において45°±0.2°の角度で前記表面から出射する前記反射光の表面反射率が、8%以上且つ25%以下であり、
    前記金属板は、前記幅方向における一端から他端に並ぶ第1領域、第2領域及び第3領域であって、各々が前記幅方向において同一の長さを有する第1領域、第2領域及び第3領域を含み、
    前記第1領域、前記第2領域及び前記第3領域のそれぞれの前記表面において、前記表面反射率が8%以上且つ25%以下である、蒸着マスクの製造方法。
  19. 前記レジスト膜形成工程は、1000Pa以下の環境下で前記金属板の前記表面にレジスト膜を貼り付ける工程を含む、請求項18に記載の蒸着マスクの製造方法。
JP2019122142A 2017-11-14 2019-06-28 蒸着マスクを製造するための金属板、金属板の検査方法、金属板の製造方法、蒸着マスク、蒸着マスク装置及び蒸着マスクの製造方法 Active JP6896801B2 (ja)

Applications Claiming Priority (7)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2017219369 2017-11-14
JP2017219369 2017-11-14
JP2017249744 2017-12-26
JP2017249744 2017-12-26
JP2018002932 2018-01-11
JP2018002932 2018-01-11
JP2018563643A JPWO2019098168A1 (ja) 2017-11-14 2018-11-13 蒸着マスクを製造するための金属板、金属板の検査方法、金属板の製造方法、蒸着マスク、蒸着マスク装置及び蒸着マスクの製造方法

Related Parent Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2018563643A Division JPWO2019098168A1 (ja) 2017-11-14 2018-11-13 蒸着マスクを製造するための金属板、金属板の検査方法、金属板の製造方法、蒸着マスク、蒸着マスク装置及び蒸着マスクの製造方法

Related Child Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2020134174A Division JP6814420B2 (ja) 2017-11-14 2020-08-06 蒸着マスクを製造するための金属板、金属板の検査方法、金属板の製造方法、蒸着マスク、蒸着マスク装置及び蒸着マスクの製造方法

Publications (3)

Publication Number Publication Date
JP2019214788A JP2019214788A (ja) 2019-12-19
JP2019214788A5 true JP2019214788A5 (ja) 2020-09-17
JP6896801B2 JP6896801B2 (ja) 2021-06-30

Family

ID=66496400

Family Applications (13)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2019554213A Active JP7167936B2 (ja) 2017-11-14 2018-11-13 蒸着マスクを製造するための金属板及び金属板の製造方法並びに蒸着マスク、蒸着マスクの製造方法及び蒸着マスクを備える蒸着マスク装置
JP2018563643A Pending JPWO2019098168A1 (ja) 2017-11-14 2018-11-13 蒸着マスクを製造するための金属板、金属板の検査方法、金属板の製造方法、蒸着マスク、蒸着マスク装置及び蒸着マスクの製造方法
JP2019554211A Active JP6787503B2 (ja) 2017-11-14 2018-11-13 蒸着マスクを製造するための金属板の製造方法
JP2019090946A Active JP6792829B2 (ja) 2017-11-14 2019-05-13 蒸着マスクを製造するための金属板及び金属板の製造方法並びに蒸着マスク、蒸着マスクの製造方法及び蒸着マスクを備える蒸着マスク装置
JP2019122142A Active JP6896801B2 (ja) 2017-11-14 2019-06-28 蒸着マスクを製造するための金属板、金属板の検査方法、金属板の製造方法、蒸着マスク、蒸着マスク装置及び蒸着マスクの製造方法
JP2020134174A Active JP6814420B2 (ja) 2017-11-14 2020-08-06 蒸着マスクを製造するための金属板、金属板の検査方法、金属板の製造方法、蒸着マスク、蒸着マスク装置及び蒸着マスクの製造方法
JP2020180577A Active JP7116929B2 (ja) 2017-11-14 2020-10-28 蒸着マスクを製造するための金属板及び金属板の製造方法並びに蒸着マスク及び蒸着マスクの製造方法
JP2020202968A Pending JP2021059783A (ja) 2017-11-14 2020-12-07 蒸着マスクを製造するための金属板、金属板の検査方法、金属板の製造方法、蒸着マスク、蒸着マスク装置及び蒸着マスクの製造方法
JP2021133631A Active JP7125683B2 (ja) 2017-11-14 2021-08-18 蒸着マスクを製造するための金属板並びに蒸着マスク及び蒸着マスクの製造方法
JP2022123637A Active JP7334833B2 (ja) 2017-11-14 2022-08-02 蒸着マスクを製造するための金属板の製造方法
JP2022169266A Active JP7478364B2 (ja) 2017-11-14 2022-10-21 蒸着マスクを製造するための金属板の評価方法
JP2023128116A Pending JP2023171717A (ja) 2017-11-14 2023-08-04 蒸着マスクを製造するための金属板の製造方法
JP2023181313A Pending JP2024010051A (ja) 2017-11-14 2023-10-20 蒸着マスクを製造するための金属板、金属板の検査方法、金属板の製造方法、蒸着マスク、蒸着マスク装置及び蒸着マスクの製造方法

Family Applications Before (4)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2019554213A Active JP7167936B2 (ja) 2017-11-14 2018-11-13 蒸着マスクを製造するための金属板及び金属板の製造方法並びに蒸着マスク、蒸着マスクの製造方法及び蒸着マスクを備える蒸着マスク装置
JP2018563643A Pending JPWO2019098168A1 (ja) 2017-11-14 2018-11-13 蒸着マスクを製造するための金属板、金属板の検査方法、金属板の製造方法、蒸着マスク、蒸着マスク装置及び蒸着マスクの製造方法
JP2019554211A Active JP6787503B2 (ja) 2017-11-14 2018-11-13 蒸着マスクを製造するための金属板の製造方法
JP2019090946A Active JP6792829B2 (ja) 2017-11-14 2019-05-13 蒸着マスクを製造するための金属板及び金属板の製造方法並びに蒸着マスク、蒸着マスクの製造方法及び蒸着マスクを備える蒸着マスク装置

Family Applications After (8)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2020134174A Active JP6814420B2 (ja) 2017-11-14 2020-08-06 蒸着マスクを製造するための金属板、金属板の検査方法、金属板の製造方法、蒸着マスク、蒸着マスク装置及び蒸着マスクの製造方法
JP2020180577A Active JP7116929B2 (ja) 2017-11-14 2020-10-28 蒸着マスクを製造するための金属板及び金属板の製造方法並びに蒸着マスク及び蒸着マスクの製造方法
JP2020202968A Pending JP2021059783A (ja) 2017-11-14 2020-12-07 蒸着マスクを製造するための金属板、金属板の検査方法、金属板の製造方法、蒸着マスク、蒸着マスク装置及び蒸着マスクの製造方法
JP2021133631A Active JP7125683B2 (ja) 2017-11-14 2021-08-18 蒸着マスクを製造するための金属板並びに蒸着マスク及び蒸着マスクの製造方法
JP2022123637A Active JP7334833B2 (ja) 2017-11-14 2022-08-02 蒸着マスクを製造するための金属板の製造方法
JP2022169266A Active JP7478364B2 (ja) 2017-11-14 2022-10-21 蒸着マスクを製造するための金属板の評価方法
JP2023128116A Pending JP2023171717A (ja) 2017-11-14 2023-08-04 蒸着マスクを製造するための金属板の製造方法
JP2023181313A Pending JP2024010051A (ja) 2017-11-14 2023-10-20 蒸着マスクを製造するための金属板、金属板の検査方法、金属板の製造方法、蒸着マスク、蒸着マスク装置及び蒸着マスクの製造方法

Country Status (8)

Country Link
US (5) US11237481B2 (ja)
EP (3) EP3712296A4 (ja)
JP (13) JP7167936B2 (ja)
KR (6) KR20230150402A (ja)
CN (7) CN117187746A (ja)
DE (2) DE202018006884U1 (ja)
TW (5) TWI765121B (ja)
WO (3) WO2019098165A1 (ja)

Families Citing this family (18)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN108977762B (zh) * 2017-06-05 2019-12-27 京东方科技集团股份有限公司 掩膜板、套装掩膜板和蒸镀系统
TWI765121B (zh) * 2017-11-14 2022-05-21 日商大日本印刷股份有限公司 用以製造蒸鍍罩之金屬板、金屬板之檢查方法、金屬板之製造方法、蒸鍍罩、蒸鍍罩裝置及蒸鍍罩之製造方法
KR102109037B1 (ko) * 2018-11-13 2020-05-11 (주)애니캐스팅 다중배열전극을 이용한 유기 증착 마스크 제조 방법
DE102019007831A1 (de) * 2018-11-13 2020-05-14 Dai Nippon Printing Co., Ltd. Metallplatte zur herstellung von dampfphasenabscheidungsmasken, verfahren zur herstellung von metallplatten, dampfphasenabscheidungsmaske, verfahren zur herstellung einer dampfphasenabscheidungsmaske, und dampfphasenabscheidungsmaskenvorrichtung aufweisend eine dampfphasenabscheidungsmaske
WO2020105910A1 (ko) * 2018-11-19 2020-05-28 엘지이노텍 주식회사 합금 금속판 및 이를 포함하는 증착용 마스크
KR20200096877A (ko) * 2019-02-06 2020-08-14 다이니폰 인사츠 가부시키가이샤 증착 마스크 장치, 마스크 지지 기구 및 증착 마스크 장치의 제조 방법
CN109778116B (zh) * 2019-03-28 2021-03-02 京东方科技集团股份有限公司 一种掩膜版及其制作方法、掩膜版组件
KR20230048564A (ko) * 2019-10-04 2023-04-11 도판 인사츠 가부시키가이샤 증착 마스크, 증착 마스크의 제조 방법, 및, 표시 장치의 제조 방법
KR20210042026A (ko) * 2019-10-08 2021-04-16 다이니폰 인사츠 가부시키가이샤 증착 마스크를 제조하기 위한 금속판, 금속판의 제조 방법, 증착 마스크 및 증착 마스크의 제조 방법
JP2021175824A (ja) * 2020-03-13 2021-11-04 大日本印刷株式会社 有機デバイスの製造装置の蒸着室の評価方法、評価方法で用いられる標準マスク装置及び標準基板、標準マスク装置の製造方法、評価方法で評価された蒸着室を備える有機デバイスの製造装置、評価方法で評価された蒸着室において形成された蒸着層を備える有機デバイス、並びに有機デバイスの製造装置の蒸着室のメンテナンス方法
US11613802B2 (en) * 2020-04-17 2023-03-28 Rockwell Collins, Inc. Additively manufactured shadow masks for material deposition control
KR102485407B1 (ko) * 2020-10-23 2023-01-06 주식회사 오럼머티리얼 마스크의 제조 방법
CN113410151B (zh) * 2021-06-01 2022-10-14 云谷(固安)科技有限公司 一种确定掩膜版的位置偏移量的方法、装置及设备
CN113373406A (zh) * 2021-06-17 2021-09-10 浙江众凌科技有限公司 一种精密金属遮罩及其蚀刻激光复合制作方法
JP7327693B2 (ja) 2021-08-31 2023-08-16 凸版印刷株式会社 蒸着マスク基材、蒸着マスク基材の検査方法、蒸着マスクの製造方法、および、表示装置の製造方法
TWI828015B (zh) * 2021-12-01 2024-01-01 達運精密工業股份有限公司 精密金屬遮罩的製造方法
CN115558928A (zh) * 2022-08-31 2023-01-03 浙江众凌科技有限公司 一种基于表面平坦度的蒸镀基材蚀刻装置及蚀刻方法
KR20240044840A (ko) * 2022-09-29 2024-04-05 엘지이노텍 주식회사 금속판 및 이를 포함하는 증착용 마스크

Family Cites Families (71)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS5612503Y2 (ja) 1976-12-08 1981-03-23
JPS57104141A (en) * 1980-12-22 1982-06-29 Dainippon Printing Co Ltd Photomask and photomask substrate
JPS5968146A (ja) * 1982-10-08 1984-04-18 Toshiba Corp フラツトマスクの表裏判別方法
JPS6139344A (ja) * 1984-07-31 1986-02-25 Toshiba Corp シャドウマスク
JPH0687398B2 (ja) * 1986-07-08 1994-11-02 株式会社東芝 シヤドウマスクの製造方法
US5130203A (en) * 1988-07-28 1992-07-14 Nippon Leakless Industry Co., Ltd. Metal gasket and method of producing the same
JPH05144384A (ja) * 1991-09-25 1993-06-11 Toshiba Corp シヤドウマスク用素材
JPH08220778A (ja) 1995-02-17 1996-08-30 Dainippon Screen Mfg Co Ltd エッチング方法及び装置
JPH08269742A (ja) * 1995-03-30 1996-10-15 Nikko Kinzoku Kk 精密エッチング加工用冷間圧延金属材料及びその製造方法
JPH11219986A (ja) * 1998-02-03 1999-08-10 Hitachi Cable Ltd Tab用テープキャリアの製造方法
KR100509579B1 (ko) * 1999-06-10 2005-08-22 니폰야긴고오교오가부시기가이샤 Fe-Ni계 섀도우마스크용 재료
JP2001131707A (ja) 1999-10-29 2001-05-15 Dainippon Printing Co Ltd カラーブラウン管用シャドウマスク
JP2001234385A (ja) 2000-02-24 2001-08-31 Tohoku Pioneer Corp メタルマスク及びその製造方法
EP1134300A3 (en) 2000-03-17 2002-05-22 Hitachi Metals, Ltd. Fe-Ni alloy
JP3370316B2 (ja) * 2000-04-28 2003-01-27 福田金属箔粉工業株式会社 プリント配線板用銅箔及びその表面処理方法
US6524723B2 (en) 2000-04-28 2003-02-25 Fukuda Metal Foil & Powder Co., Ltd. Copper foil for printed circuit boards and its surface treatment method
JP3545684B2 (ja) * 2000-07-17 2004-07-21 日鉱金属加工株式会社 エッチング穿孔性に優れたFe−Ni系合金シャドウマスク用素材
JP2002035804A (ja) * 2000-07-31 2002-02-05 Hitachi Metals Ltd 高強度シャドウマスク用あるいはアパーチャグリル用薄板の製造方法
JP2002194573A (ja) * 2000-12-27 2002-07-10 Mitsubishi Gas Chem Co Inc 銅および銅合金の表面処理剤
JP2004061121A (ja) 2002-07-24 2004-02-26 Nippon Light Metal Co Ltd 表面分析用標準試料及びその製造方法
JP2004185890A (ja) * 2002-12-02 2004-07-02 Hitachi Metals Ltd メタルマスク
JP3975439B2 (ja) * 2002-12-02 2007-09-12 日立金属株式会社 メタルマスク
JP4170179B2 (ja) * 2003-01-09 2008-10-22 株式会社 日立ディスプレイズ 有機elパネルの製造方法および有機elパネル
JP2006010576A (ja) * 2004-06-28 2006-01-12 Chugoku Electric Power Co Inc:The 物体表面における測定対象凹部或いは凸部の幅測定方法および体積測定方法
US20060068132A1 (en) * 2004-09-30 2006-03-30 Asahi Glass Company, Limited Ink jet recording sheet for plate-making mask film, and process for producing flexographic printing plate
EP1826022B1 (en) * 2006-02-28 2008-11-26 Agfa Graphics N.V. A method for making a lithographic printing plate support
JP4983399B2 (ja) * 2007-05-25 2012-07-25 シンフォニアテクノロジー株式会社 マスクアライメント装置
JP2009054512A (ja) * 2007-08-29 2009-03-12 Seiko Epson Corp マスク
JP2010106358A (ja) * 2008-09-30 2010-05-13 Canon Inc 成膜用マスク及びそれを用いた成膜方法
JP5294072B2 (ja) * 2009-03-18 2013-09-18 日立金属株式会社 エッチング加工用素材の製造方法及びエッチング加工用素材
JP2010247500A (ja) * 2009-04-20 2010-11-04 Sonocom Co Ltd マスク及びマスクの製造方法
CA2827391C (en) * 2011-02-15 2018-11-27 Plansee Se Layer structure and use thereof to form a ceramic layer structure between an interconnect and a cathode of a high-temperature fuel cell
JP5877245B2 (ja) * 2011-06-22 2016-03-02 アイクストロン、エスイー 気相蒸着方法及び気相蒸着装置
CN102692184B (zh) * 2012-02-29 2014-07-23 首钢总公司 一种同时测量腐蚀坑体积、面积、深度的方法
JP5382259B1 (ja) 2013-01-10 2014-01-08 大日本印刷株式会社 金属板、金属板の製造方法、および金属板を用いて蒸着マスクを製造する方法
JP6432722B2 (ja) * 2013-07-30 2018-12-05 俊 保坂 半導体センサー・デバイスおよびその製造方法
JP5455099B1 (ja) * 2013-09-13 2014-03-26 大日本印刷株式会社 金属板、金属板の製造方法、および金属板を用いてマスクを製造する方法
JP2015129334A (ja) * 2014-01-08 2015-07-16 大日本印刷株式会社 積層マスクの製造方法、積層マスクおよび保護フィルム付き積層マスク
JP2015140464A (ja) * 2014-01-29 2015-08-03 大日本印刷株式会社 蒸着マスク装置及び熱バリア材
JP5626491B1 (ja) 2014-03-06 2014-11-19 大日本印刷株式会社 金属板、金属板の製造方法、および金属板を用いて蒸着マスクを製造する方法
JP5641462B1 (ja) * 2014-05-13 2014-12-17 大日本印刷株式会社 金属板、金属板の製造方法、および金属板を用いてマスクを製造する方法
KR101862962B1 (ko) * 2014-05-28 2018-05-30 히타치 긴조쿠 가부시키가이샤 열간 공구 재료 및 열간 공구의 제조 방법
JP6341039B2 (ja) 2014-09-29 2018-06-13 大日本印刷株式会社 金属板、金属板の製造方法、および金属板を用いて蒸着マスクを製造する方法
JP6459040B2 (ja) 2014-12-10 2019-01-30 大日本印刷株式会社 金属板、金属板の製造方法、および金属板を用いて蒸着マスクを製造する方法
JP6515520B2 (ja) * 2014-12-15 2019-05-22 大日本印刷株式会社 蒸着マスクの製造方法、蒸着マスクを作製するために用いられる金属板および蒸着マスク
JP6372755B2 (ja) * 2014-12-24 2018-08-15 大日本印刷株式会社 蒸着マスクの製造方法、蒸着マスクを作製するために用いられる金属板および蒸着マスク
JP6628082B2 (ja) * 2015-01-20 2020-01-08 日立金属株式会社 Fe−Ni系合金薄板の製造方法
JP2015098650A (ja) * 2015-02-05 2015-05-28 Jx日鉱日石金属株式会社 メタルマスク材料及びメタルマスク
TWI696708B (zh) * 2015-02-10 2020-06-21 日商大日本印刷股份有限公司 有機el顯示裝置用蒸鍍遮罩之製造方法、欲製作有機el顯示裝置用蒸鍍遮罩所使用之金屬板及其製造方法
CN110551973B (zh) 2015-02-10 2022-06-14 大日本印刷株式会社 蒸镀掩模
JP6666656B2 (ja) * 2015-04-02 2020-03-18 東洋鋼鈑株式会社 Rfマグネトロンスパッタリング装置
CN111526674A (zh) * 2015-06-05 2020-08-11 Jx日矿日石金属株式会社 压延铜箔、覆铜层叠板、以及柔性印刷基板和电子设备
WO2017013904A1 (ja) * 2015-07-17 2017-01-26 凸版印刷株式会社 メタルマスク基材、メタルマスク基材の管理方法、メタルマスク、および、メタルマスクの製造方法
CN113403574A (zh) * 2015-07-17 2021-09-17 凸版印刷株式会社 金属掩模用基材及其制造方法、蒸镀用金属掩模及其制造方法
KR102341452B1 (ko) * 2015-07-17 2021-12-21 도판 인사츠 가부시키가이샤 증착용 메탈 마스크 기재, 증착용 메탈 마스크, 증착용 메탈 마스크 기재의 제조 방법, 및, 증착용 메탈 마스크의 제조 방법
CN105004786B (zh) * 2015-08-17 2017-10-31 苏州热工研究院有限公司 一种基于涡流检测的换热管管壁凹陷程度评估方法
JP6598007B2 (ja) 2015-09-30 2019-10-30 日立金属株式会社 Fe−Ni系合金薄板の製造方法
JP6177299B2 (ja) * 2015-11-04 2017-08-09 Jx金属株式会社 メタルマスク材料及びメタルマスク
JP6177298B2 (ja) * 2015-11-04 2017-08-09 Jx金属株式会社 メタルマスク材料及びメタルマスク
JP6624504B2 (ja) * 2015-12-03 2019-12-25 大日本印刷株式会社 蒸着マスク及び蒸着マスクの製造方法
KR102586048B1 (ko) * 2016-01-12 2023-10-10 삼성디스플레이 주식회사 마스크 조립체, 이의 제조방법 및 이를 포함한 표시 장치의 제조장치
JP6720564B2 (ja) * 2016-02-12 2020-07-08 大日本印刷株式会社 蒸着マスクおよび蒸着マスクの製造方法
JP6460131B2 (ja) * 2016-02-16 2019-01-30 Jfeスチール株式会社 溶融亜鉛めっき鋼板の表面性状評価方法、溶融亜鉛めっき鋼板の表面性状評価装置、及び溶融亜鉛めっき鋼板の製造方法
JP6670469B2 (ja) * 2016-03-16 2020-03-25 大日本印刷株式会社 蒸着マスクおよび蒸着マスク中間体
EP3231588A1 (de) * 2016-04-12 2017-10-18 Evonik Röhm GmbH Sprühgetrocknetes weichphasenemulsionspolymerisat für das auffüllen der zwickel in perlpolymerisatschichten im binder jetting verfahren
CN109641248B (zh) 2016-08-31 2021-04-06 日立金属株式会社 金属掩模用原材料及其制造方法
EP3508604B1 (en) 2016-08-31 2020-12-09 Hitachi Metals, Ltd. Metal mask material and production method therefor
KR101819367B1 (ko) * 2016-09-08 2018-01-17 주식회사 포스코 철-니켈 합금 박 및 이의 제조방법
JP7156279B2 (ja) 2017-06-20 2022-10-19 日立金属株式会社 メタルマスク用薄板の製造方法及びメタルマスク用薄板
TWI765121B (zh) * 2017-11-14 2022-05-21 日商大日本印刷股份有限公司 用以製造蒸鍍罩之金屬板、金屬板之檢查方法、金屬板之製造方法、蒸鍍罩、蒸鍍罩裝置及蒸鍍罩之製造方法
KR20200058819A (ko) * 2018-11-20 2020-05-28 엘지이노텍 주식회사 합금 금속판 및 이를 포함하는 증착용 마스크

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP2019214788A5 (ja)
JP6814420B2 (ja) 蒸着マスクを製造するための金属板、金属板の検査方法、金属板の製造方法、蒸着マスク、蒸着マスク装置及び蒸着マスクの製造方法
KR101810824B1 (ko) 메탈 마스크 기재, 메탈 마스크 기재의 관리 방법, 메탈 마스크, 및, 메탈 마스크의 제조 방법
KR102071840B1 (ko) 메탈 마스크 기재, 메탈 마스크, 및 메탈 마스크의 제조 방법
JP2015532733A5 (ja)
JP2015148807A5 (ja) マスクブランク用基板、多層反射膜付き基板、反射型マスクブランク、反射型マスク及び半導体装置の製造方法
JP5367549B2 (ja) 基板計測方法
US11532566B2 (en) Misregistration target having device-scaled features useful in measuring misregistration of semiconductor devices
IL272780B1 (en) A method for determining a parameter for building processes
JP2005258462A5 (ja)
CN106154741B (zh) 掩模板、散焦量的测试方法及其测试系统
CN111834244A (zh) 显示面板母板及制备方法
US20160238937A1 (en) High-sensitivity multilayer resist film and method of increasing photosensitivity of resist film
CN101852984A (zh) 检查制造光掩模基坯或其中间物、确定高能辐射量的方法
Dasari et al. Scatterometry metrology challenges of EUV
WO2016182005A1 (ja) 光学式エンコーダ用格子板および光学式エンコーダ用格子板の製造方法
TWI649908B (zh) 薄膜沉積裝置及使用其沉積薄膜之方法
JP2010087075A (ja) マスク検査方法
Raymond et al. Applications of angular scatterometry for the measurement of multiply periodic features
Niihara et al. Absorption Coefficient Measurement Advanced Method of EUV Resist by Direct-Resist Coating on a Photodiode
TWI772066B (zh) 金屬遮罩基材的製備方法
CN101436580B (zh) 叠对量测结构及方法
Yoo et al. Application of DBM tool for detection of EUV mask defect
Nemoto et al. Evaluating films for high transmission attenuated phase shift masks