JP2019214788A5 - - Google Patents
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- 239000002184 metal Substances 0.000 claims description 91
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 claims description 91
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 claims description 20
- 238000007740 vapor deposition Methods 0.000 claims description 13
- 239000010408 film Substances 0.000 claims description 10
- 238000000427 thin-film deposition Methods 0.000 claims description 7
- 238000005530 etching Methods 0.000 claims description 3
- 238000007689 inspection Methods 0.000 claims description 3
- 230000002950 deficient Effects 0.000 claims description 2
- 238000005259 measurement Methods 0.000 claims description 2
- 238000007747 plating Methods 0.000 claims description 2
- 238000005096 rolling process Methods 0.000 claims description 2
- 239000010409 thin film Substances 0.000 claims 4
- PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N nickel Chemical compound [Ni] PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 2
- 229910000640 Fe alloy Inorganic materials 0.000 claims 1
- 229910052759 nickel Inorganic materials 0.000 claims 1
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims 1
- 230000000873 masking Effects 0.000 description 1
Description
本開示の一実施形態は、蒸着マスクを製造するために用いられる金属板であって、前記金属板の長手方向及び前記長手方向に直交する幅方向を有する表面を備え、前記表面に直交する少なくとも1つの平面内において45°±0.2°の入射角度で前記表面に光を入射させた場合に測定される、前記光の正反射による表面反射率が、8%以上且つ25%以下である、金属板である。
前記金属板は、前記幅方向における一端から他端に並ぶ第1領域、第2領域及び第3領域であって、各々が前記幅方向において同一の長さを有する第1領域、第2領域及び第3領域を含み、前記第1領域、前記第2領域及び前記第3領域のそれぞれの前記表面において、前記表面反射率が8%以上且つ25%以下であってもよい。
前記金属板は、前記幅方向における一端から他端に並ぶ第1領域、第2領域及び第3領域であって、各々が前記幅方向において同一の長さを有する第1領域、第2領域及び第3領域を含み、前記第1領域、前記第2領域及び前記第3領域のそれぞれの前記表面において、前記表面反射率が8%以上且つ25%以下であってもよい。
本開示の一実施形態は、蒸着マスクを製造するために用いられる金属板の検査方法であって、前記金属板は、前記金属板の長手方向及び前記長手方向に直交する幅方向を有する表面を備え、前記検査方法は、光を前記表面に入射させた場合に測定観測される反射光の表面反射率を測定する測定工程と、前記反射光のうち記表面に直交する少なくとも1つの平面内において45°±0.2°の角度で前記表面から出射する前記反射光の前記表面反射率が8%以上且つ25%以下である場合に前記金属板を良品と判定する判定工程と、を備える、金属板の検査方法である。
前記金属板は、前記幅方向における一端から他端に並ぶ第1領域、第2領域及び第3領域であって、各々が前記幅方向において同一の長さを有する第1領域、第2領域及び第3領域を含み、前記測定工程は、光を前記第1領域、前記第2領域及び前記第3領域のそれぞれの前記表面に入射させた場合に測定観測される反射光の表面反射率を測定してもよい。
前記金属板は、前記幅方向における一端から他端に並ぶ第1領域、第2領域及び第3領域であって、各々が前記幅方向において同一の長さを有する第1領域、第2領域及び第3領域を含み、前記測定工程は、光を前記第1領域、前記第2領域及び前記第3領域のそれぞれの前記表面に入射させた場合に測定観測される反射光の表面反射率を測定してもよい。
本開示の一実施形態は、蒸着マスクを製造するために用いられる金属板の製造方法であって、前記金属板を圧延法又はめっき法によって得る作製工程を備え、前記金属板は、前記金属板の長手方向及び前記長手方向に直交する幅方向を有する表面を備え、光を前記表面に入射させた場合に観測される反射光のうち、前記表面に直交する少なくとも1つの平面内において45°±0.2°の角度で前記表面から出射する前記反射光の表面反射率が、8%以上且つ25%以下である、金属板の製造方法である。
前記金属板は、前記幅方向における一端から他端に並ぶ第1領域、第2領域及び第3領域であって、各々が前記幅方向において同一の長さを有する第1領域、第2領域及び第3領域を含み、前記第1領域、前記第2領域及び前記第3領域のそれぞれの前記表面において、前記表面反射率が8%以上且つ25%以下であってもよい。
前記金属板は、前記幅方向における一端から他端に並ぶ第1領域、第2領域及び第3領域であって、各々が前記幅方向において同一の長さを有する第1領域、第2領域及び第3領域を含み、前記第1領域、前記第2領域及び前記第3領域のそれぞれの前記表面において、前記表面反射率が8%以上且つ25%以下であってもよい。
本開示の一実施形態は、蒸着マスクであって、長手方向及び前記長手方向に直交する幅方向を有する表面を含む金属板と、前記金属板に形成された複数の貫通孔と、を備え、光を前記金属板の表面に入射させた場合に観測される反射光のうち、前記表面に直交する少なくとも1つの平面内において45°±0.2°の角度で前記表面から出射する前記反射光の表面反射率が、8%以上且つ25%以下である、蒸着マスクである。
前記金属板は、前記幅方向における一端から他端に並ぶ第1領域、第2領域及び第3領域であって、各々が前記幅方向において同一の長さを有する第1領域、第2領域及び第3領域を含み、
前記第1領域、前記第2領域及び前記第3領域のそれぞれの前記表面において、前記表面反射率が8%以上且つ25%以下であってもよい。
前記金属板は、前記幅方向における一端から他端に並ぶ第1領域、第2領域及び第3領域であって、各々が前記幅方向において同一の長さを有する第1領域、第2領域及び第3領域を含み、
前記第1領域、前記第2領域及び前記第3領域のそれぞれの前記表面において、前記表面反射率が8%以上且つ25%以下であってもよい。
本開示の一実施形態は、長手方向及び前記長手方向に直交する幅方向を有する表面を含む金属板と、前記金属板に形成された複数の貫通孔と、を備える蒸着マスクと、前記蒸着マスクを支持するフレームと、を備え、光を前記金属板の前記表面に入射させた場合に観測される反射光のうち、前記表面に直交する少なくとも1つの平面内において45°±0.2°の角度で前記表面から出射する前記反射光の表面反射率が、8%以上且つ25%以下である、蒸着マスク装置である。
前記金属板は、前記幅方向における一端から他端に並ぶ第1領域、第2領域及び第3領域であって、各々が前記幅方向において同一の長さを有する第1領域、第2領域及び第3領域を含み、前記第1領域、前記第2領域及び前記第3領域のそれぞれの前記表面において、前記表面反射率が8%以上且つ25%以下であってもよい。
前記金属板は、前記幅方向における一端から他端に並ぶ第1領域、第2領域及び第3領域であって、各々が前記幅方向において同一の長さを有する第1領域、第2領域及び第3領域を含み、前記第1領域、前記第2領域及び前記第3領域のそれぞれの前記表面において、前記表面反射率が8%以上且つ25%以下であってもよい。
本開示の一実施形態は、複数の貫通孔が形成された蒸着マスクを製造する方法であって、長手方向及び前記長手方向に直交する幅方向を有する表面を含む金属板を準備する工程と、前記金属板の前記表面にレジスト膜を設けるレジスト膜形成工程と、前記レジスト膜を加工してレジストパターンを形成する工程と、前記レジストパターンをマスクとして前記金属板をエッチングする工程と、を備え、光を前記金属板の前記表面に入射させた場合に観測される反射光のうち、前記表面に直交する少なくとも1つの平面内において45°±0.2°の角度で前記表面から出射する前記反射光の表面反射率が、8%以上且つ25%以下である、蒸着マスクの製造方法である。
前記金属板は、前記幅方向における一端から他端に並ぶ第1領域、第2領域及び第3領域であって、各々が前記幅方向において同一の長さを有する第1領域、第2領域及び第3領域を含み、前記第1領域、前記第2領域及び前記第3領域のそれぞれの前記表面において、前記表面反射率が8%以上且つ25%以下であってもよい。
前記金属板は、前記幅方向における一端から他端に並ぶ第1領域、第2領域及び第3領域であって、各々が前記幅方向において同一の長さを有する第1領域、第2領域及び第3領域を含み、前記第1領域、前記第2領域及び前記第3領域のそれぞれの前記表面において、前記表面反射率が8%以上且つ25%以下であってもよい。
Claims (19)
- 蒸着マスクを製造するために用いられる金属板であって、
前記金属板の長手方向及び前記長手方向に直交する幅方向を有する表面を備え、
前記表面に直交する少なくとも1つの平面内において45°±0.2°の入射角度で前記表面に光を入射させた場合に測定される、前記光の正反射による表面反射率が、8%以上且つ25%以下であり、
前記金属板は、前記幅方向における一端から他端に並ぶ第1領域、第2領域及び第3領域であって、各々が前記幅方向において同一の長さを有する第1領域、第2領域及び第3領域を含み、
前記第1領域、前記第2領域及び前記第3領域のそれぞれの前記表面において、前記表面反射率が8%以上且つ25%以下である、金属板。 - 前記表面反射率が、8%以上且つ20%以下である、請求項1に記載の金属板。
- 前記表面及び前記長手方向に直交する第1平面内において45°±0.2°の入射角度で前記表面に前記光を入射させた場合に測定される、前記光の正反射による前記表面反射率を第1反射率と称し、
前記表面及び前記幅方向に直交する第2平面内において45°±0.2°の入射角度で前記表面に前記光を入射させた場合に測定される、前記光の正反射による前記表面反射率を第2反射率と称し、
前記第1反射率及び前記第2反射率の平均値が、8%以上且つ25%以下である、請求項1又は2に記載の金属板。 - 前記第1反射率及び前記第2反射率の平均値が、8%以上且つ20%以下である、請求項3に記載の金属板。
- 前記第1反射率を前記第2反射率で割った値が、0.70以上1.30以下である、請求項3又は4に記載の金属板。
- 前記金属板の厚みが、100μm以下である、請求項1乃至5のいずれか一項に記載の金属板。
- 前記金属板が、ニッケルを含む鉄合金からなる、請求項1乃至6のいずれか一項に記載の金属板。
- 前記金属板の前記表面が、前記長手方向に延びる複数の圧延筋を有する、又は、金属板の前記表面が、前記長手方向に直交する方向を有する複数のオイルピットを有する、請求項1乃至7のいずれか一項に記載の金属板。
- 前記金属板は、前記金属板の前記表面に貼り付けられたレジスト膜を露光および現像して第1レジストパターンを形成し、前記金属板の前記表面のうち前記第1レジストパターンによって覆われていない領域をエッチングして、前記蒸着マスクを製造するためのものである、請求項1乃至8のいずれか一項に記載の金属板。
- 前記金属板は、1000Pa以下の環境下で前記金属板の前記表面に貼り付けられたレジスト膜を露光および現像して第1レジストパターンを形成し、前記金属板の前記表面のうち前記第1レジストパターンによって覆われていない領域をエッチングして、前記蒸着マスクを製造するためのものである、請求項9に記載の金属板。
- 前記表面反射率は、前記光を検出器に直接入射させた場合に測定される強度に対する比率として算出される、請求項1乃至10のいずれか一項に記載の金属板。
- 前記表面反射率は、前記金属板の表面のうち蒸着マスクの有機EL基板側の面を構成する第1面に光を入射させた場合に観測される反射光に基づく第1面反射率である、請求項1乃至11のいずれか一項に記載の金属板。
- 蒸着マスクを製造するために用いられる金属板の検査方法であって、
前記金属板は、前記金属板の長手方向及び前記長手方向に直交する幅方向を有する表面を備え、
前記金属板は、前記幅方向における一端から他端に並ぶ第1領域、第2領域及び第3領域であって、各々が前記幅方向において同一の長さを有する第1領域、第2領域及び第3領域を含み、
前記検査方法は、光を前記第1領域、前記第2領域及び前記第3領域のそれぞれの前記表面に入射させた場合に測定観測される反射光の表面反射率を測定する測定工程と、
前記反射光のうち前記表面に直交する少なくとも1つの平面内において45°±0.2°の角度で前記表面から出射する前記反射光の前記表面反射率が8%以上且つ25%以下である場合に前記金属板を良品と判定する判定工程と、を備える、金属板の検査方法。 - 蒸着マスクを製造するために用いられる金属板の製造方法であって、
前記金属板を圧延法又はめっき法によって得る作製工程を備え、
前記金属板は、前記金属板の長手方向及び前記長手方向に直交する幅方向を有する表面を備え、
光を前記表面に入射させた場合に観測される反射光のうち、前記表面に直交する少なくとも1つの平面内において45°±0.2°の角度で前記表面から出射する前記反射光の表面反射率が、8%以上且つ25%以下であり、
前記金属板は、前記幅方向における一端から他端に並ぶ第1領域、第2領域及び第3領域であって、各々が前記幅方向において同一の長さを有する第1領域、第2領域及び第3領域を含み、
前記第1領域、前記第2領域及び前記第3領域のそれぞれの前記表面において、前記表面反射率が8%以上且つ25%以下である、金属板の製造方法。 - 前記表面反射率が8%以上且つ25%以下である前記金属板を選別する選別工程を備える、請求項14に記載の金属板の製造方法。
- 蒸着マスクであって、
長手方向及び前記長手方向に直交する幅方向を有する表面を含む金属板と、
前記金属板に形成された複数の貫通孔と、を備え、
光を前記金属板の前記表面に入射させた場合に観測される反射光のうち、前記表面に直交する少なくとも1つの平面内において45°±0.2°の角度で前記表面から出射する前記反射光の表面反射率が、8%以上且つ25%以下であり、
前記金属板は、前記幅方向における一端から他端に並ぶ第1領域、第2領域及び第3領域であって、各々が前記幅方向において同一の長さを有する第1領域、第2領域及び第3領域を含み、
前記第1領域、前記第2領域及び前記第3領域のそれぞれの前記表面において、前記表面反射率が8%以上且つ25%以下である、蒸着マスク。 - 長手方向及び前記長手方向に直交する幅方向を有する表面を含む金属板と、前記金属板に形成された複数の貫通孔と、を備える蒸着マスクと、
前記蒸着マスクを支持するフレームと、を備え、
光を前記金属板の前記表面に入射させた場合に観測される反射光のうち、前記表面に直交する少なくとも1つの平面内において45°±0.2°の角度で前記表面から出射する前記反射光の表面反射率が、8%以上且つ25%以下であり、
前記金属板は、前記幅方向における一端から他端に並ぶ第1領域、第2領域及び第3領域であって、各々が前記幅方向において同一の長さを有する第1領域、第2領域及び第3領域を含み、
前記第1領域、前記第2領域及び前記第3領域のそれぞれの前記表面において、前記表面反射率が8%以上且つ25%以下である、蒸着マスク装置。 - 複数の貫通孔が形成された蒸着マスクを製造する方法であって、
長手方向及び前記長手方向に直交する幅方向を有する表面を含む金属板を準備する工程と、
前記金属板の前記表面にレジスト膜を設けるレジスト膜形成工程と、
前記レジスト膜を加工してレジストパターンを形成する工程と、
前記レジストパターンをマスクとして前記金属板をエッチングする工程と、を備え、
光を前記金属板の前記表面に入射させた場合に観測される反射光のうち、前記表面に直交する少なくとも1つの平面内において45°±0.2°の角度で前記表面から出射する前記反射光の表面反射率が、8%以上且つ25%以下であり、
前記金属板は、前記幅方向における一端から他端に並ぶ第1領域、第2領域及び第3領域であって、各々が前記幅方向において同一の長さを有する第1領域、第2領域及び第3領域を含み、
前記第1領域、前記第2領域及び前記第3領域のそれぞれの前記表面において、前記表面反射率が8%以上且つ25%以下である、蒸着マスクの製造方法。 - 前記レジスト膜形成工程は、1000Pa以下の環境下で前記金属板の前記表面にレジスト膜を貼り付ける工程を含む、請求項18に記載の蒸着マスクの製造方法。
Applications Claiming Priority (7)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2017219369 | 2017-11-14 | ||
JP2017219369 | 2017-11-14 | ||
JP2017249744 | 2017-12-26 | ||
JP2017249744 | 2017-12-26 | ||
JP2018002932 | 2018-01-11 | ||
JP2018002932 | 2018-01-11 | ||
JP2018563643A JPWO2019098168A1 (ja) | 2017-11-14 | 2018-11-13 | 蒸着マスクを製造するための金属板、金属板の検査方法、金属板の製造方法、蒸着マスク、蒸着マスク装置及び蒸着マスクの製造方法 |
Related Parent Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2018563643A Division JPWO2019098168A1 (ja) | 2017-11-14 | 2018-11-13 | 蒸着マスクを製造するための金属板、金属板の検査方法、金属板の製造方法、蒸着マスク、蒸着マスク装置及び蒸着マスクの製造方法 |
Related Child Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2020134174A Division JP6814420B2 (ja) | 2017-11-14 | 2020-08-06 | 蒸着マスクを製造するための金属板、金属板の検査方法、金属板の製造方法、蒸着マスク、蒸着マスク装置及び蒸着マスクの製造方法 |
Publications (3)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2019214788A JP2019214788A (ja) | 2019-12-19 |
JP2019214788A5 true JP2019214788A5 (ja) | 2020-09-17 |
JP6896801B2 JP6896801B2 (ja) | 2021-06-30 |
Family
ID=66496400
Family Applications (13)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2019554213A Active JP7167936B2 (ja) | 2017-11-14 | 2018-11-13 | 蒸着マスクを製造するための金属板及び金属板の製造方法並びに蒸着マスク、蒸着マスクの製造方法及び蒸着マスクを備える蒸着マスク装置 |
JP2018563643A Pending JPWO2019098168A1 (ja) | 2017-11-14 | 2018-11-13 | 蒸着マスクを製造するための金属板、金属板の検査方法、金属板の製造方法、蒸着マスク、蒸着マスク装置及び蒸着マスクの製造方法 |
JP2019554211A Active JP6787503B2 (ja) | 2017-11-14 | 2018-11-13 | 蒸着マスクを製造するための金属板の製造方法 |
JP2019090946A Active JP6792829B2 (ja) | 2017-11-14 | 2019-05-13 | 蒸着マスクを製造するための金属板及び金属板の製造方法並びに蒸着マスク、蒸着マスクの製造方法及び蒸着マスクを備える蒸着マスク装置 |
JP2019122142A Active JP6896801B2 (ja) | 2017-11-14 | 2019-06-28 | 蒸着マスクを製造するための金属板、金属板の検査方法、金属板の製造方法、蒸着マスク、蒸着マスク装置及び蒸着マスクの製造方法 |
JP2020134174A Active JP6814420B2 (ja) | 2017-11-14 | 2020-08-06 | 蒸着マスクを製造するための金属板、金属板の検査方法、金属板の製造方法、蒸着マスク、蒸着マスク装置及び蒸着マスクの製造方法 |
JP2020180577A Active JP7116929B2 (ja) | 2017-11-14 | 2020-10-28 | 蒸着マスクを製造するための金属板及び金属板の製造方法並びに蒸着マスク及び蒸着マスクの製造方法 |
JP2020202968A Pending JP2021059783A (ja) | 2017-11-14 | 2020-12-07 | 蒸着マスクを製造するための金属板、金属板の検査方法、金属板の製造方法、蒸着マスク、蒸着マスク装置及び蒸着マスクの製造方法 |
JP2021133631A Active JP7125683B2 (ja) | 2017-11-14 | 2021-08-18 | 蒸着マスクを製造するための金属板並びに蒸着マスク及び蒸着マスクの製造方法 |
JP2022123637A Active JP7334833B2 (ja) | 2017-11-14 | 2022-08-02 | 蒸着マスクを製造するための金属板の製造方法 |
JP2022169266A Active JP7478364B2 (ja) | 2017-11-14 | 2022-10-21 | 蒸着マスクを製造するための金属板の評価方法 |
JP2023128116A Pending JP2023171717A (ja) | 2017-11-14 | 2023-08-04 | 蒸着マスクを製造するための金属板の製造方法 |
JP2023181313A Pending JP2024010051A (ja) | 2017-11-14 | 2023-10-20 | 蒸着マスクを製造するための金属板、金属板の検査方法、金属板の製造方法、蒸着マスク、蒸着マスク装置及び蒸着マスクの製造方法 |
Family Applications Before (4)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2019554213A Active JP7167936B2 (ja) | 2017-11-14 | 2018-11-13 | 蒸着マスクを製造するための金属板及び金属板の製造方法並びに蒸着マスク、蒸着マスクの製造方法及び蒸着マスクを備える蒸着マスク装置 |
JP2018563643A Pending JPWO2019098168A1 (ja) | 2017-11-14 | 2018-11-13 | 蒸着マスクを製造するための金属板、金属板の検査方法、金属板の製造方法、蒸着マスク、蒸着マスク装置及び蒸着マスクの製造方法 |
JP2019554211A Active JP6787503B2 (ja) | 2017-11-14 | 2018-11-13 | 蒸着マスクを製造するための金属板の製造方法 |
JP2019090946A Active JP6792829B2 (ja) | 2017-11-14 | 2019-05-13 | 蒸着マスクを製造するための金属板及び金属板の製造方法並びに蒸着マスク、蒸着マスクの製造方法及び蒸着マスクを備える蒸着マスク装置 |
Family Applications After (8)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2020134174A Active JP6814420B2 (ja) | 2017-11-14 | 2020-08-06 | 蒸着マスクを製造するための金属板、金属板の検査方法、金属板の製造方法、蒸着マスク、蒸着マスク装置及び蒸着マスクの製造方法 |
JP2020180577A Active JP7116929B2 (ja) | 2017-11-14 | 2020-10-28 | 蒸着マスクを製造するための金属板及び金属板の製造方法並びに蒸着マスク及び蒸着マスクの製造方法 |
JP2020202968A Pending JP2021059783A (ja) | 2017-11-14 | 2020-12-07 | 蒸着マスクを製造するための金属板、金属板の検査方法、金属板の製造方法、蒸着マスク、蒸着マスク装置及び蒸着マスクの製造方法 |
JP2021133631A Active JP7125683B2 (ja) | 2017-11-14 | 2021-08-18 | 蒸着マスクを製造するための金属板並びに蒸着マスク及び蒸着マスクの製造方法 |
JP2022123637A Active JP7334833B2 (ja) | 2017-11-14 | 2022-08-02 | 蒸着マスクを製造するための金属板の製造方法 |
JP2022169266A Active JP7478364B2 (ja) | 2017-11-14 | 2022-10-21 | 蒸着マスクを製造するための金属板の評価方法 |
JP2023128116A Pending JP2023171717A (ja) | 2017-11-14 | 2023-08-04 | 蒸着マスクを製造するための金属板の製造方法 |
JP2023181313A Pending JP2024010051A (ja) | 2017-11-14 | 2023-10-20 | 蒸着マスクを製造するための金属板、金属板の検査方法、金属板の製造方法、蒸着マスク、蒸着マスク装置及び蒸着マスクの製造方法 |
Country Status (8)
Country | Link |
---|---|
US (5) | US11237481B2 (ja) |
EP (3) | EP3712296A4 (ja) |
JP (13) | JP7167936B2 (ja) |
KR (6) | KR20230150402A (ja) |
CN (7) | CN117187746A (ja) |
DE (2) | DE202018006884U1 (ja) |
TW (5) | TWI765121B (ja) |
WO (3) | WO2019098165A1 (ja) |
Families Citing this family (18)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN108977762B (zh) * | 2017-06-05 | 2019-12-27 | 京东方科技集团股份有限公司 | 掩膜板、套装掩膜板和蒸镀系统 |
TWI765121B (zh) * | 2017-11-14 | 2022-05-21 | 日商大日本印刷股份有限公司 | 用以製造蒸鍍罩之金屬板、金屬板之檢查方法、金屬板之製造方法、蒸鍍罩、蒸鍍罩裝置及蒸鍍罩之製造方法 |
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WO2020105910A1 (ko) * | 2018-11-19 | 2020-05-28 | 엘지이노텍 주식회사 | 합금 금속판 및 이를 포함하는 증착용 마스크 |
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JP7327693B2 (ja) | 2021-08-31 | 2023-08-16 | 凸版印刷株式会社 | 蒸着マスク基材、蒸着マスク基材の検査方法、蒸着マスクの製造方法、および、表示装置の製造方法 |
TWI828015B (zh) * | 2021-12-01 | 2024-01-01 | 達運精密工業股份有限公司 | 精密金屬遮罩的製造方法 |
CN115558928A (zh) * | 2022-08-31 | 2023-01-03 | 浙江众凌科技有限公司 | 一种基于表面平坦度的蒸镀基材蚀刻装置及蚀刻方法 |
KR20240044840A (ko) * | 2022-09-29 | 2024-04-05 | 엘지이노텍 주식회사 | 금속판 및 이를 포함하는 증착용 마스크 |
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Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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JPS5612503Y2 (ja) | 1976-12-08 | 1981-03-23 | ||
JPS57104141A (en) * | 1980-12-22 | 1982-06-29 | Dainippon Printing Co Ltd | Photomask and photomask substrate |
JPS5968146A (ja) * | 1982-10-08 | 1984-04-18 | Toshiba Corp | フラツトマスクの表裏判別方法 |
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JPH08220778A (ja) | 1995-02-17 | 1996-08-30 | Dainippon Screen Mfg Co Ltd | エッチング方法及び装置 |
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JP2015140464A (ja) * | 2014-01-29 | 2015-08-03 | 大日本印刷株式会社 | 蒸着マスク装置及び熱バリア材 |
JP5626491B1 (ja) | 2014-03-06 | 2014-11-19 | 大日本印刷株式会社 | 金属板、金属板の製造方法、および金属板を用いて蒸着マスクを製造する方法 |
JP5641462B1 (ja) * | 2014-05-13 | 2014-12-17 | 大日本印刷株式会社 | 金属板、金属板の製造方法、および金属板を用いてマスクを製造する方法 |
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JP6459040B2 (ja) | 2014-12-10 | 2019-01-30 | 大日本印刷株式会社 | 金属板、金属板の製造方法、および金属板を用いて蒸着マスクを製造する方法 |
JP6515520B2 (ja) * | 2014-12-15 | 2019-05-22 | 大日本印刷株式会社 | 蒸着マスクの製造方法、蒸着マスクを作製するために用いられる金属板および蒸着マスク |
JP6372755B2 (ja) * | 2014-12-24 | 2018-08-15 | 大日本印刷株式会社 | 蒸着マスクの製造方法、蒸着マスクを作製するために用いられる金属板および蒸着マスク |
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JP7156279B2 (ja) | 2017-06-20 | 2022-10-19 | 日立金属株式会社 | メタルマスク用薄板の製造方法及びメタルマスク用薄板 |
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-
2018
- 2018-11-13 TW TW107140186A patent/TWI765121B/zh active
- 2018-11-13 CN CN202311162647.XA patent/CN117187746A/zh active Pending
- 2018-11-13 TW TW107140185A patent/TWI776990B/zh active
- 2018-11-13 KR KR1020237035288A patent/KR20230150402A/ko not_active Application Discontinuation
- 2018-11-13 JP JP2019554213A patent/JP7167936B2/ja active Active
- 2018-11-13 WO PCT/JP2018/041915 patent/WO2019098165A1/ja unknown
- 2018-11-13 WO PCT/JP2018/041919 patent/WO2019098168A1/ja unknown
- 2018-11-13 EP EP18879989.4A patent/EP3712296A4/en active Pending
- 2018-11-13 TW TW111133554A patent/TWI827235B/zh active
- 2018-11-13 EP EP18879902.7A patent/EP3712295A4/en active Pending
- 2018-11-13 KR KR1020237036866A patent/KR20230154477A/ko not_active Application Discontinuation
- 2018-11-13 CN CN202110306778.5A patent/CN113061843B/zh active Active
- 2018-11-13 KR KR1020207016167A patent/KR20200087184A/ko not_active Application Discontinuation
- 2018-11-13 EP EP18879719.5A patent/EP3712294A4/en active Pending
- 2018-11-13 CN CN201811344229.1A patent/CN109778113B/zh active Active
- 2018-11-13 KR KR1020207016042A patent/KR102591494B1/ko active IP Right Grant
- 2018-11-13 TW TW107140184A patent/TWI757562B/zh active
- 2018-11-13 CN CN201811344277.0A patent/CN109778114B/zh active Active
- 2018-11-13 DE DE202018006884.5U patent/DE202018006884U1/de active Active
- 2018-11-13 KR KR1020207016170A patent/KR102596249B1/ko active IP Right Grant
- 2018-11-13 DE DE202018006883.7U patent/DE202018006883U1/de active Active
- 2018-11-13 CN CN202111239868.3A patent/CN113774323B/zh active Active
- 2018-11-13 WO PCT/JP2018/041918 patent/WO2019098167A1/ja unknown
- 2018-11-13 JP JP2018563643A patent/JPWO2019098168A1/ja active Pending
- 2018-11-13 JP JP2019554211A patent/JP6787503B2/ja active Active
- 2018-11-13 CN CN201811345197.7A patent/CN109778115A/zh active Pending
-
2019
- 2019-05-13 JP JP2019090946A patent/JP6792829B2/ja active Active
- 2019-06-28 JP JP2019122142A patent/JP6896801B2/ja active Active
- 2019-09-21 US US16/578,291 patent/US11237481B2/en active Active
- 2019-09-24 US US16/580,524 patent/US11733607B2/en active Active
- 2019-09-24 US US16/580,401 patent/US20200017951A1/en not_active Abandoned
- 2019-11-13 TW TW108141150A patent/TWI832926B/zh active
- 2019-11-13 CN CN201911106045.6A patent/CN111455312B/zh active Active
- 2019-11-13 KR KR1020190145054A patent/KR102650066B1/ko active IP Right Grant
-
2020
- 2020-08-06 JP JP2020134174A patent/JP6814420B2/ja active Active
- 2020-10-28 JP JP2020180577A patent/JP7116929B2/ja active Active
- 2020-12-07 JP JP2020202968A patent/JP2021059783A/ja active Pending
-
2021
- 2021-02-05 US US17/168,496 patent/US20210157232A1/en active Pending
- 2021-08-18 JP JP2021133631A patent/JP7125683B2/ja active Active
- 2021-12-29 US US17/646,351 patent/US20220121115A1/en active Pending
-
2022
- 2022-08-02 JP JP2022123637A patent/JP7334833B2/ja active Active
- 2022-10-21 JP JP2022169266A patent/JP7478364B2/ja active Active
-
2023
- 2023-08-04 JP JP2023128116A patent/JP2023171717A/ja active Pending
- 2023-10-20 JP JP2023181313A patent/JP2024010051A/ja active Pending
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