JP2019108552A - ポリイミド前駆体組成物、ポリイミドの製造方法、ポリイミド、ポリイミドフィルム、及び基板 - Google Patents
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Abstract
Description
1. 下記化学式(1)で表される繰り返し単位、または下記化学式(2)で表される繰り返し単位を含むポリイミド前駆体と、
イミダゾール系化合物を含み、
イミダゾール系化合物の含有量が、ポリイミド前駆体の繰り返し単位1モルに対して4モル未満であることを特徴とするポリイミド前駆体組成物。
3. 前記イミダゾール系化合物の含有量が、ポリイミド前駆体の繰り返し単位1モルに対して0.05モル以上2モル以下であることを特徴とする前記項1又は2に記載のポリイミド前駆体組成物。
4. 前記イミダゾール系化合物の1気圧における沸点が340℃未満であることを特徴とする前記項1〜3のいずれかに記載のポリイミド前駆体組成物。
5. 前記イミダゾール系化合物が、1,2−ジメチルイミダゾール、1−メチルイミダゾール、2−メチルイミダゾール、2−フェニルイミダゾール、イミダゾール、またはベンゾイミダゾールのいずれかであることを特徴とする前記項1〜4のいずれかに記載のポリイミド前駆体組成物。
6. 前記項1〜5のいずれかに記載のポリイミド前駆体組成物を、最高加熱温度350℃超で加熱処理して、ポリイミド前駆体をイミド化することを特徴とするポリイミドの製造方法。
7. 前記項1〜5のいずれかに記載のポリイミド前駆体組成物を基材上に塗布する工程と、
基材上のポリイミド前駆体組成物を、最高加熱温度350℃超で加熱処理して、ポリイミド前駆体をイミド化する工程と
を有することを特徴とする前記項6に記載のポリイミドの製造方法。
8. 前記加熱処理の最高加熱温度が400℃を超えることを特徴とする前記項6又は7に記載のポリイミドの製造方法。
9. 前記項6〜8のいずれかに記載の方法により製造されるポリイミド。
10. 厚さ10μmのフィルムでの波長400nmの光透過率が75%以上であることを特徴とする前記項9に記載のポリイミド。
11. 前記項6〜8のいずれかに記載の方法により製造されるポリイミドフィルム。
12. 前記項9又は10に記載のポリイミド、又は前記項11に記載のポリイミドフィルムを含むことを特徴とするディスプレイ用、タッチパネル用、または太陽電池用の基板。
(i)Aが、mおよび/またはnが1〜3であり、Zおよび/またはWが、それぞれ独立に、−NHCO−、−CONH−、−COO−、または−OCO−のいずれかである前記化学式(1−A)の構造である前記化学式(1−1)、好ましくは前記化学式(1−2)及び前記化学式(1−3)の繰り返し単位(I)を少なくとも1種含み、
(ii)Aが、mおよびnが0である前記化学式(1−A)の構造であるか、または、mおよび/またはnが1〜3であり、ZおよびWが直接結合である前記化学式(1−A)の構造である前記化学式(1−1)、好ましくは前記化学式(1−2)及び前記化学式(1−3)の繰り返し単位(II)を少なくとも1種含むことがより好ましいことがある。
本発明のポリイミド前駆体は、溶媒中でテトラカルボン酸成分としてのテトラカルボン酸二無水物とジアミン成分とを略等モル、好ましくはテトラカルボン酸成分に対するジアミン成分のモル比[ジアミン成分のモル数/テトラカルボン酸成分のモル数]が好ましくは0.90〜1.10、より好ましくは0.95〜1.05の割合で、例えば120℃以下の比較的低温度でイミド化を抑制しながら反応することによって、ポリイミド前駆体溶液組成物として好適に得ることができる。
テトラカルボン酸二無水物を任意のアルコールと反応させ、ジエステルジカルボン酸を得た後、塩素化試薬(チオニルクロライド、オキサリルクロライドなど)と反応させ、ジエステルジカルボン酸クロライドを得る。このジエステルジカルボン酸クロライドとジアミンを−20〜120℃、好ましくは−5〜80℃の範囲で1〜72時間攪拌することで、ポリイミド前駆体が得られる。80℃以上で反応させる場合、分子量が重合時の温度履歴に依存して変動し、また熱によりイミド化が進行することから、ポリイミド前駆体を安定して製造できなくなる可能性がある。また、ジエステルジカルボン酸とジアミンを、リン系縮合剤や、カルボジイミド縮合剤などを用いて脱水縮合することでも、簡便にポリイミド前駆体が得られる。
あらかじめ、ジアミンとシリル化剤を反応させ、シリル化されたジアミンを得る。必要に応じて、蒸留等により、シリル化されたジアミンの精製を行う。そして、脱水された溶剤中にシリル化されたジアミンを溶解させておき、攪拌しながら、テトラカルボン酸二無水物を徐々に添加し、0〜120℃、好ましくは5〜80℃の範囲で1〜72時間攪拌することで、ポリイミド前駆体が得られる。80℃以上で反応させる場合、分子量が重合時の温度履歴に依存して変動し、また熱によりイミド化が進行することから、ポリイミド前駆体を安定して製造できなくなる可能性がある。
1)の方法で得られたポリアミド酸溶液とシリル化剤を混合し、0〜120℃、好ましくは5〜80℃の範囲で1〜72時間攪拌することで、ポリイミド前駆体が得られる。80℃以上で反応させる場合、分子量が重合時の温度履歴に依存して変動し、また熱によりイミド化が進行することから、ポリイミド前駆体を安定して製造できなくなる可能性がある。
[保存安定性]
23℃でワニスを保存し、3日後に流動性のある均一な状態であれば○、
3日後に白濁、もしくはゲル化していれば×とする。
[400nm光透過率、全光透過率]
紫外可視分光光度計/V−650DS(日本分光製)を用いて、膜厚約10μmのポリイミド膜の400nmにおける光透過率と、全光透過率(380nm〜780nmにおける平均透過率)を測定した。測定した400nmにおける光透過率と、全光透過率を反射率を10%としてランベルト・ベール式を用いて、10μm厚の400nmにおける光透過率と、全光透過率を算出した。算出式を下記に示す。
Log10((T2+10)/100)=10/L×(Log10((T2’+10)/100))
T1:反射率を10%としたときの10μm厚のポリイミドフィルムの400nmにおける光透過率(%)
T1’:測定した400nmにおける光透過率(%)
T2:反射率を10%としたときの10μm厚のポリイミドフィルムの全光透過率(%)
T2’:測定した全光透過率(%)
L:測定したポリイミドフィルムの膜厚(μm)
膜厚約10μmのポリイミドフィルムをIEC450規格のダンベル形状に打ち抜いて試験片とし、ORIENTEC社製TENSILONを用いて、チャック間長30mm、引張速度2mm/分で、初期の弾性率、破断点伸度を測定した。
膜厚約10μmのポリイミドフィルムを幅4mmの短冊状に切り取って試験片とし、TMA/SS6100 (エスアイアイ・ナノテクノロジー株式会社製)を用い、チャック間長15mm、荷重2g、昇温速度20℃/分で500℃まで昇温した。得られたTMA曲線から、150℃から250℃までの線熱膨張係数を求めた。
膜厚約10μmのポリイミドフィルムを試験片とし、TAインスツルメント社製 熱量計測定装置(Q5000IR)を用い、窒素気流中、昇温速度10℃/分で25℃から600℃まで昇温した。得られた重量曲線から、1%重量減少温度を求めた。
膜厚10μmのポリイミドフィルムを試験片とし、王子計測器社製 位相差測定装置(KOBRA−WR)を用い、入射角を40°としてフィルムの位相差測定を行った。得られた位相差より、膜厚10μmのフィルムの厚み方向の位相差を求めた。
tra−DACH:トランス−1,4−ジアミノシクロヘキサン〔純度:99.1%(GC分析)〕
DABAN: 4,4’−ジアミノベンズアニリド〔純度:99.90%(GC分析)〕
PPD: p−フェニレンジアミン〔純度:99.9%(GC分析)〕
4,4’−ODA: 4,4’−オキシジアニリン〔純度:99.9%(GC分析)〕
BAPB: 4,4’−ビス(4−アミノフェノキシ)ビフェニル〔純度:99.93%(HPLC分析)〕
[テトラカルボン酸成分]
s−BPDA:3,3’,4,4’−ビフェニルテトラカルボン酸二無水物〔純度99.9%(H−NMR分析)〕
a−BPDA:2,3,3’,4’−ビフェニルテトラカルボン酸二無水物〔純度99.6%(H−NMR分析)〕
PMDA−HS: 1R,2S,4S,5R−シクロヘキサンテトラカルボン酸二無水物〔純度:99.9%(GC分析)〕
CpODA−tee:trans−endo−endo−ノルボルナン−2−スピロ−α−シクロペンタノン−α’−スピロ−2’’−ノルボルナン−5,5’’,6,6’’−テトラカルボン酸二無水物
CpODA−cee:cis−endo−endo−ノルボルナン−2−スピロ−α−シクロペンタノン−α’−スピロ−2’’−ノルボルナン−5,5’’,6,6’’−テトラカルボン酸二無水物
CpODA:CpODA−teeとCpODA−ceeの混合物
PACDA:N,N’−(1,4−フェニレン)ビス(1,3−ジオキソオクタヒドロイソベンゾフラン−5−カルボキシアミド)
NMP: N−メチル−2−ピロリドン
窒素ガスで置換した反応容器中にDABAN 90.91g(0.4モル)とPPD 64.88g(0.6モル)を入れ、N−メチル−2−ピロリドンを、仕込みモノマー総質量(ジアミン成分とカルボン酸成分の総和)が 16質量%となる量の2835.90gを加え、室温で1時間攪拌した。この溶液にCpODA 384.38g(1.0モル)を徐々に加えた。室温で12時間撹拌し、均一で粘稠なポリイミド前駆体溶液(ワニスA)を得た。
窒素ガスで置換した反応容器中にDABAN 90.91g(0.4モル)とPPD 54.07g(0.5モル)とBAPB 36.84g(0.1モル)を入れ、N−メチル−2−ピロリドンを、仕込みモノマー総質量(ジアミン成分とカルボン酸成分の総和)が 16質量%となる量の2972.56gを加え、室温で1時間攪拌した。この溶液にCpODA 384.38g(1.0モル)を徐々に加えた。室温で12時間撹拌し、均一で粘稠なポリイミド前駆体溶液(ワニスB)を得た。
窒素ガスで置換した反応容器中にDABAN 22.73g(0.100モル)を入れ、N−メチル−2−ピロリドンを、仕込みモノマー総質量(ジアミン成分とカルボン酸成分の総和)が 16質量%となる量の3211.16gを加え、室温で1時間攪拌した。この溶液にCpODA 38.44g(0.100モル)を徐々に加えた。室温で12時間撹拌し、均一で粘稠なポリイミド前駆体溶液(ワニスC)を得た。
窒素ガスで置換した反応容器中にDABAN 15.91g(0.070モル)とPPD 3.24g(0.030モル)を入れ、N−メチル−2−ピロリドンを、仕込みモノマー総質量(ジアミン成分とカルボン酸成分の総和)が 16質量%となる量の302.35gを加え、室温で1時間攪拌した。この溶液にCpODA 38.44g(0.100モル)を徐々に加えた。室温で12時間撹拌し、均一で粘稠なポリイミド前駆体溶液(ワニスD)を得た。
窒素ガスで置換した反応容器中にDABAN 11.36g(0.050モル)とPPD 4.34g(0.040モル)と4,4’−ODA 2.00g(0.010モル)を入れ、N−メチル−2−ピロリドンを、仕込みモノマー総質量(ジアミン成分とカルボン酸成分の総和)が 16質量%となる量の294.74gを加え、室温で1時間攪拌した。この溶液にCpODA 38.44g(0.100モル)を徐々に加えた。室温で12時間撹拌し、均一で粘稠なポリイミド前駆体溶液(ワニスE)を得た。
窒素ガスで置換した反応容器中に4,4’−ODA 20.02g(0.100モル)を入れ、N−メチル−2−ピロリドンを、仕込みモノマー総質量(ジアミン成分とカルボン酸成分の総和)が 17質量%となる量の207.21gを加え、室温で1時間攪拌した。この溶液にPMDA−HS 22.41g(0.100ミリモル)を徐々に加えた。室温で12時間撹拌し、均一で粘稠なポリイミド前駆体溶液(ワニスF)を得た。
窒素ガスで置換した反応容器中にDABAN 22.73g(0.100モル)を入れ、N−メチル−2−ピロリドンを、仕込みモノマー総質量(ジアミン成分とカルボン酸成分の総和)が 20質量%となる量の296.29gを加え、室温で1時間攪拌した。この溶液にPACDA 51.35g(0.100モル)を徐々に加えた。室温で12時間撹拌し、均一で粘稠なポリイミド前駆体溶液(ワニスG)を得た。
窒素ガスで置換した反応容器中にtra−DACH 10.81g(0.100モル)を入れ、N−メチル−2−ピロリドンを、仕込みモノマー総質量(ジアミン成分とカルボン酸成分の総和)が 12質量%となる量の2950.64gを加え、室温で1時間攪拌した。この溶液にs−BPDA 28.69g(0.0975モル)とa−BPDA 0.74g(0.0025モル)を徐々に加えた。50℃で12時間撹拌し、均一で粘稠なポリイミド前駆体溶液(ワニスH)を得た。
1,2−ジメチルイミダゾール 0.05g(0.5ミリモル)とN−メチル−2−ピロリドン 0.05gを反応容器に加え均一な溶液を得た。その溶液に合成例1で得られたワニスA 33.76g(ワニスA中のポリイミド前駆体の繰返しユニットの分子量に対して、10ミリモル)加え、室温で3時間攪拌し、均一で粘稠なポリイミド前駆体溶液を得た。仕込み量から計算すると、ポリイミド前駆体の繰り返し単位1モルに対して、1,2−ジメチルイミダゾールは0.05モルである。
1,2−ジメチルイミダゾール 0.15g(1.6ミリモル)とN−メチル−2−ピロリドン 0.15gを反応容器に加え均一な溶液を得た。その溶液に合成例1で得られたワニスA 33.76g(ワニスA中のポリイミド前駆体の繰返しユニットの分子量に対して、10ミリモル)加え、室温で3時間攪拌し、均一で粘稠なポリイミド前駆体溶液を得た。仕込み量から計算すると、ポリイミド前駆体の繰り返し単位1モルに対して、1,2−ジメチルイミダゾールは0.16モルである。
1,2−ジメチルイミダゾール 0.19g(2.0ミリモル)とN−メチル−2−ピロリドン 0.19gを反応容器に加え均一な溶液を得た。その溶液に合成例1で得られたワニスA 33.76g(ワニスA中のポリイミド前駆体の繰返しユニットの分子量に対して、10ミリモル)加え、室温で3時間攪拌し、均一で粘稠なポリイミド前駆体溶液を得た。仕込み量から計算すると、ポリイミド前駆体の繰り返し単位1モルに対して、1,2−ジメチルイミダゾールは0.2モルである。
1,2−ジメチルイミダゾール 0.96g(10.0ミリモル)とN−メチル−2−ピロリドン 0.38gを反応容器に加え均一な溶液を得た。その溶液に合成例1で得られたワニスA 33.76g(ワニスA中のポリイミド前駆体の繰返しユニットの分子量に対して、10ミリモル)加え、室温で3時間攪拌し、均一で粘稠なポリイミド前駆体溶液を得た。仕込み量から計算すると、ポリイミド前駆体の繰り返し単位1モルに対する1,2−ジメチルイミダゾールは1.0モルである。
1,2−ジメチルイミダゾール 1.92g(20.0ミリモル)とN−メチル−2−ピロリドン 0.38gを反応容器に加え均一な溶液を得た。その溶液に合成例1で得られたワニスA 33.76g(ワニスA中のポリイミド前駆体の繰返しユニットの分子量に対して、10ミリモル)加え、室温で3時間攪拌し、均一で粘稠なポリイミド前駆体溶液を得た。仕込み量から計算すると、ポリイミド前駆体の繰り返し単位1モルに対する1,2−ジメチルイミダゾールは2.0モルである。
1−メチルイミダゾール 0.04g(0.5ミリモル)とN−メチル−2−ピロリドン 0.04gを反応容器に加え均一な溶液を得た。その溶液に合成例1で得られたワニスA 33.76g(ワニスA中のポリイミド前駆体の繰返しユニットの分子量に対して、10ミリモル)加え、室温で3時間攪拌し、均一で粘稠なポリイミド前駆体溶液を得た。仕込み量から計算すると、ポリイミド前駆体の繰り返し単位1モルに対する1−メチルイミダゾールは0.05モルである。
1−メチルイミダゾール 0.08g(1.0ミリモル)とN−メチル−2−ピロリドン 0.08gを反応容器に加え均一な溶液を得た。その溶液に合成例1で得られたワニスA 33.76g(ワニスA中のポリイミド前駆体の繰返しユニットの分子量に対して、10ミリモル)加え、室温で3時間攪拌し、均一で粘稠なポリイミド前駆体溶液を得た。仕込み量から計算すると、ポリイミド前駆体の繰り返し単位1モルに対する1−メチルイミダゾールは0.1モルである。
1−メチルイミダゾール 0.16g(2.0ミリモル)とN−メチル−2−ピロリドン 0.16gを反応容器に加え均一な溶液を得た。その溶液に合成例1で得られたワニスA 33.76g(ワニスA中のポリイミド前駆体の繰返しユニットの分子量に対して、10ミリモル)加え、室温で3時間攪拌し、均一で粘稠なポリイミド前駆体溶液を得た。仕込み量から計算すると、ポリイミド前駆体の繰り返し単位1モルに対する1−メチルイミダゾールは0.2モルである。
1−メチルイミダゾール 0.33g(4.0ミリモル)とN−メチル−2−ピロリドン 0.33gを反応容器に加え均一な溶液を得た。その溶液に合成例1で得られたワニスA 33.76g(ワニスA中のポリイミド前駆体の繰返しユニットの分子量に対して、10ミリモル)加え、室温で3時間攪拌し、均一で粘稠なポリイミド前駆体溶液を得た。仕込み量から計算すると、ポリイミド前駆体の繰り返し単位1モルに対する1−メチルイミダゾールは0.4モルである。
2−メチルイミダゾール 0.16g(2.0ミリモル)とN−メチル−2−ピロリドン 0.16gを反応容器に加え均一な溶液を得た。その溶液に合成例1で得られたワニスA 33.76g(ワニスA中のポリイミド前駆体の繰返しユニットの分子量に対して、10ミリモル)加え、室温で3時間攪拌し、均一で粘稠なポリイミド前駆体溶液を得た。仕込み量から計算すると、ポリイミド前駆体の繰り返し単位1モルに対する2−メチルイミダゾールは0.2モルである。
イミダゾール 0.14g(2.0ミリモル)とN−メチル−2−ピロリドン 0.14gを反応容器に加え均一な溶液を得た。その溶液に合成例1で得られたワニスA 33.76g(ワニスA中のポリイミド前駆体の繰返しユニットの分子量に対して、10ミリモル)加え、室温で3時間攪拌し、均一で粘稠なポリイミド前駆体溶液を得た。仕込み量から計算すると、ポリイミド前駆体の繰り返し単位1モルに対する、イミダゾールは0.2モルである。
2−フェニルイミダゾール 0.29g(2.0ミリモル)とN−メチル−2−ピロリドン 0.29gを反応容器に加え均一な溶液を得た。その溶液に合成例1で得られたワニスA 33.76g(ワニスA中のポリイミド前駆体の繰返しユニットの分子量に対して、10ミリモル)加え、室温で3時間攪拌し、均一で粘稠なポリイミド前駆体溶液を得た。仕込み量から計算すると、ポリイミド前駆体の繰り返し単位1モルに対する、2−フェニルイミダゾールは0.2モルである。
ベンゾイミダゾール 0.24g(2.0ミリモル)とN−メチル−2−ピロリドン 0.24gを反応容器に加え均一な溶液を得た。その溶液に合成例1で得られたワニスA 33.76g(ワニスA中のポリイミド前駆体の繰返しユニットの分子量に対して、10ミリモル)加え、室温で3時間攪拌し、均一で粘稠なポリイミド前駆体溶液を得た。仕込み量から計算すると、ポリイミド前駆体の繰り返し単位1モルに対する、ベンゾイミダゾールは0.2モルである。
PTFE製メンブレンフィルターでろ過した合成例1で得られたワニスAをガラス基板に塗布し、窒素雰囲気下(酸素濃度200ppm以下)、そのままガラス基板上で室温から410℃まで加熱して熱的にイミド化を行い、無色透明なポリイミドフィルム/ガラス積層体を得た。次いで、得られたポリイミドフィルム/ガラス積層体を水に浸漬した後剥離し、乾燥して、膜厚が約10μmのポリイミドフィルムを得た。
1,2−ジメチルイミダゾール 1.92g(40.0ミリモル)とN−メチル−2−ピロリドン 0.38gを反応容器に加え均一な溶液を得た。その溶液に合成例1で得られたワニスA 33.76g(ワニスA中のポリイミド前駆体の繰返しユニットの分子量に対して、10ミリモル)加え、室温で3時間攪拌し、均一で粘稠なポリイミド前駆体溶液を得た。仕込み量から計算すると、ポリイミド前駆体の繰り返し単位1モルに対する、1,2−ジメチルイミダゾールは4.0モルである。得られたポリイミド前駆体溶液を23℃で保管すると、3日目までにポリイミド前駆体溶液がゲル化した。
1,2−ジメチルイミダゾール 0.19g(2.0ミリモル)とN−メチル−2−ピロリドン 0.19gを反応容器に加え均一な溶液を得た。その溶液に合成例1で得られたワニスA 33.76g(ワニスA中のポリイミド前駆体の繰返しユニットの分子量に対して、10ミリモル)加え、室温で3時間攪拌し、均一で粘稠なポリイミド前駆体溶液を得た。仕込み量から計算すると、ポリイミド前駆体の繰り返し単位1モルに対する、1,2−ジメチルイミダゾールは0.2モルである。
1,2−ジメチルイミダゾール 0.05g(0.5ミリモル)とN−メチル−2−ピロリドン 0.05gを反応容器に加え均一な溶液を得た。その溶液に合成例2で得られたワニスB 35.39g(ワニスB中のポリイミド前駆体の繰返しユニットの分子量に対して、10ミリモル)加え、室温で3時間攪拌し、均一で粘稠なポリイミド前駆体溶液を得た。仕込み量から計算すると、ポリイミド前駆体の繰り返し単位1モルに対する、1,2−ジメチルイミダゾールは0.05モルである。
1,2−ジメチルイミダゾール 0.10g(1.0ミリモル)とN−メチル−2−ピロリドン 0.10gを反応容器に加え均一な溶液を得た。その溶液に合成例2で得られたワニスB 35.39g(ワニスB中のポリイミド前駆体の繰返しユニットの分子量に対して、10ミリモル)加え、室温で3時間攪拌し、均一で粘稠なポリイミド前駆体溶液を得た。仕込み量から計算すると、ポリイミド前駆体の繰り返し単位1モルに対する、1,2−ジメチルイミダゾールは0.1モルである。
1,2−ジメチルイミダゾール 0.19g(2.0ミリモル)とN−メチル−2−ピロリドン 0.19gを反応容器に加え均一な溶液を得た。その溶液に合成例2で得られたワニスB 35.39g(ワニスB中のポリイミド前駆体の繰返しユニットの分子量に対して、10ミリモル)加え、室温で3時間攪拌し、均一で粘稠なポリイミド前駆体溶液を得た。仕込み量から計算すると、ポリイミド前駆体の繰り返し単位1モルに対する、1,2−ジメチルイミダゾールは0.2モルである。
1−メチルイミダゾール 0.16g(2.0ミリモル)とN−メチル−2−ピロリドン 0.16gを反応容器に加え均一な溶液を得た。その溶液に合成例2で得られたワニスB 35.39g(ワニスB中のポリイミド前駆体の繰返しユニットの分子量に対して、10ミリモル)加え、室温で3時間攪拌し、均一で粘稠なポリイミド前駆体溶液を得た。仕込み量から計算すると、ポリイミド前駆体の繰り返し単位1モルに対する、1−メチルイミダゾールは0.2モルである。
PTFE製メンブレンフィルターでろ過した合成例2で得られたワニスBをガラス基板に塗布し、窒素雰囲気下(酸素濃度200ppm以下)、そのままガラス基板上で室温から410℃まで加熱して熱的にイミド化を行い、無色透明なポリイミドフィルム/ガラス積層体を得た。次いで、得られたポリイミドフィルム/ガラス積層体を水に浸漬した後剥離し、乾燥して、膜厚が約10μmのポリイミドフィルムを得た。
2−エチル−2−イミダゾリン 0.10g(1.0ミリモル)とN−メチル−2−ピロリドン 0.20gを反応容器に加え均一な溶液を得た。その溶液に合成例2で得られたワニスB 35.39g(ワニスB中のポリイミド前駆体の繰返しユニットの分子量に対して、10ミリモル)加え、室温で3時間攪拌し、均一で粘稠なポリイミド前駆体溶液を得た。仕込み量から計算すると、ポリイミド前駆体の繰り返し単位1モルに対する、2−エチル−2−イミダゾリンは0.1モルである。
2−エチル−2−イミダゾリン 0.20g(2.0ミリモル)とN−メチル−2−ピロリドン 0.40gを反応容器に加え均一な溶液を得た。その溶液に合成例2で得られたワニスB 35.39g(ワニスB中のポリイミド前駆体の繰返しユニットの分子量に対して、10ミリモル)加えるとワニスがゲル化した。そのまま室温で3時間攪拌しても、均一なポリイミド前駆体溶液を得られなかった。仕込み量から計算すると、ポリイミド前駆体の繰り返し単位1モルに対する、2−エチル−2−イミダゾリンは0.2モルである。
2−エチル−2−イミダゾリン 0.49g(5.0ミリモル)とN−メチル−2−ピロリドン 0.98gを反応容器に加え均一な溶液を得た。その溶液に合成例2で得られたワニスB 35.39g(ワニスB中のポリイミド前駆体の繰返しユニットの分子量に対して、10ミリモル)加えるとワニスがゲル化した。そのまま室温で3時間攪拌しても、均一なポリイミド前駆体溶液を得られなかった。仕込み量から計算すると、ポリイミド前駆体の繰り返し単位1モルに対する、2−エチル−2−イミダゾリンは0.5モルである。
2−メチル−2−イミダゾリン 0.25g(3.0ミリモル)とN−メチル−2−ピロリドン 0.25gを反応容器に加え均一な溶液を得た。その溶液に合成例2で得られたワニスB 35.39g(ワニスB中のポリイミド前駆体の繰返しユニットの分子量に対して、10ミリモル)加え、室温で3時間攪拌し、均一で粘稠なポリイミド前駆体溶液を得た。仕込み量から計算すると、ポリイミド前駆体の繰り返し単位1モルに対する、2−メチル−2−イミダゾリンは0.3モルである。
2−フェニルイミダゾリン 0.44g(3.0ミリモル)とN−メチル−2−ピロリドン 0.44gを反応容器に加え均一な溶液を得た。その溶液に合成例2で得られたワニスB 35.39g(ワニスB中のポリイミド前駆体の繰返しユニットの分子量に対して、10ミリモル)加え、室温で3時間攪拌し、均一で粘稠なポリイミド前駆体溶液を得た。仕込み量から計算すると、ポリイミド前駆体の繰り返し単位1モルに対する、2−フェニルイミダゾリンは0.3モルである。
1,2−ジメチルイミダゾール 0.10g(1.0ミリモル)とN−メチル−2−ピロリドン 0.10gを反応容器に加え均一な溶液を得た。その溶液に合成例3で得られたワニスC 38.23g(ワニスC中のポリイミド前駆体の繰返しユニットの分子量に対して、10ミリモル)加え、室温で3時間攪拌し、均一で粘稠なポリイミド前駆体溶液を得た。仕込み量から計算すると、ポリイミド前駆体の繰り返し単位1モルに対する、1,2−ジメチルイミダゾールは0.1モルである。
PTFE製メンブレンフィルターでろ過した合成例3で得られたワニスCをガラス基板に塗布し、窒素雰囲気下(酸素濃度200ppm以下)、そのままガラス基板上で室温から410℃まで加熱して熱的にイミド化を行い、無色透明なポリイミドフィルム/ガラス積層体を得た。次いで、得られたポリイミドフィルム/ガラス積層体を水に浸漬した後剥離し、乾燥して、膜厚が約10μmのポリイミドフィルムを得た。
1,2−ジメチルイミダゾール 0.10g(1.0ミリモル)とN−メチル−2−ピロリドン 0.10gを反応容器に加え均一な溶液を得た。その溶液に合成例4で得られたワニスD 35.99g(ワニスD中のポリイミド前駆体の繰返しユニットの分子量に対して、10ミリモル)加え、室温で3時間攪拌し、均一で粘稠なポリイミド前駆体溶液を得た。仕込み量から計算すると、ポリイミド前駆体の繰り返し単位1モルに対する、1,2−ジメチルイミダゾールは0.1モルである。
PTFE製メンブレンフィルターでろ過した合成例4で得られたワニスDをガラス基板に塗布し、窒素雰囲気下(酸素濃度200ppm以下)、そのままガラス基板上で室温から410℃まで加熱して熱的にイミド化を行い、無色透明なポリイミドフィルム/ガラス積層体を得た。次いで、得られたポリイミドフィルム/ガラス積層体を水に浸漬した後剥離し、乾燥して、膜厚が約10μmのポリイミドフィルムを得た。
1,2−ジメチルイミダゾール 0.10g(1.0ミリモル)とN−メチル−2−ピロリドン 0.10gを反応容器に加え均一な溶液を得た。その溶液に合成例5で得られたワニスE 35.09g(ワニスE中のポリイミド前駆体の繰返しユニットの分子量に対して、10ミリモル)加え、室温で3時間攪拌し、均一で粘稠なポリイミド前駆体溶液を得た。仕込み量から計算すると、ポリイミド前駆体の繰り返し単位1モルに対する、1,2−ジメチルイミダゾールは0.1モルである。
PTFE製メンブレンフィルターでろ過した合成例5で得られたワニスEをガラス基板に塗布し、窒素雰囲気下(酸素濃度200ppm以下)、そのままガラス基板上で室温から410℃まで加熱して熱的にイミド化を行い、無色透明なポリイミドフィルム/ガラス積層体を得た。次いで、得られたポリイミドフィルム/ガラス積層体を水に浸漬した後剥離し、乾燥して、膜厚が約10μmのポリイミドフィルムを得た。
1,2−ジメチルイミダゾール 0.19g(2.0ミリモル)とN−メチル−2−ピロリドン 0.19gを反応容器に加え均一な溶液を得た。その溶液に合成例6で得られたワニスF 24.97g(ワニスF中のポリイミド前駆体の繰返しユニットの分子量に対して、10ミリモル)加え、室温で3時間攪拌し、均一で粘稠なポリイミド前駆体溶液を得た。仕込み量から計算すると、ポリイミド前駆体の繰り返し単位1モルに対する、1,2−ジメチルイミダゾールは0.2モルである。
PTFE製メンブレンフィルターでろ過した合成例6で得られたワニスFをガラス基板に塗布し、窒素雰囲気下(酸素濃度200ppm以下)、そのままガラス基板上で室温から400℃まで加熱して熱的にイミド化を行い、無色透明なポリイミドフィルム/ガラス積層体を得た。次いで、得られたポリイミドフィルム/ガラス積層体を水に浸漬した後剥離し、乾燥して、膜厚が約10μmのポリイミドフィルムを得た。
1,2−ジメチルイミダゾール 0.19g(2.0ミリモル)とN−メチル−2−ピロリドン 0.19gを反応容器に加え均一な溶液を得た。その溶液に合成例7で得られたワニスG 37.04g(ワニスG中のポリイミド前駆体の繰返しユニットの分子量に対して、10ミリモル)加え、室温で3時間攪拌し、均一で粘稠なポリイミド前駆体溶液を得た。仕込み量から計算すると、ポリイミド前駆体の繰り返し単位1モルに対する、1,2−ジメチルイミダゾールは0.2モルである。
PTFE製メンブレンフィルターでろ過した合成例7で得られたワニスGをガラス基板に塗布し、窒素雰囲気下(酸素濃度200ppm以下)、そのままガラス基板上で室温から350℃まで加熱して熱的にイミド化を行い、無色透明なポリイミドフィルム/ガラス積層体を得た。次いで、得られたポリイミドフィルム/ガラス積層体を水に浸漬した後剥離し、乾燥して、膜厚が約10μmのポリイミドフィルムを得た。
1,2−ジメチルイミダゾール 0.19g(2.0ミリモル)とN−メチル−2−ピロリドン 0.19gを反応容器に加え均一な溶液を得た。その溶液に合成例8で得られたワニスH 33.53g(ワニスH中のポリイミド前駆体の繰返しユニットの分子量に対して、10ミリモル)加え、室温で3時間攪拌し、均一で粘稠なポリイミド前駆体溶液を得た。仕込み量から計算すると、ポリイミド前駆体の繰り返し単位1モルに対する、1,2−ジメチルイミダゾールは0.2モルである。
PTFE製メンブレンフィルターでろ過した合成例8で得られたワニスHをガラス基板に塗布し、窒素雰囲気下(酸素濃度200ppm以下)、そのままガラス基板上で室温から370℃まで加熱して熱的にイミド化を行い、無色透明なポリイミドフィルム/ガラス積層体を得た。次いで、得られたポリイミドフィルム/ガラス積層体を水に浸漬した後剥離し、乾燥して、膜厚が約10μmのポリイミドフィルムを得た。
Claims (12)
- 下記化学式(1)で表される繰り返し単位、または下記化学式(2)で表される繰り返し単位を含むポリイミド前駆体と、
イミダゾール系化合物を含み、
イミダゾール系化合物の含有量が、ポリイミド前駆体の繰り返し単位1モルに対して4モル未満であることを特徴とするポリイミド前駆体組成物。
- このポリイミド前駆体組成物から得られるポリイミドが、厚さ10μmのフィルムでの波長400nmの光透過率が75%以上であることを特徴とする請求項1に記載のポリイミド前駆体組成物。
- 前記イミダゾール系化合物の含有量が、ポリイミド前駆体の繰り返し単位1モルに対して0.05モル以上2モル以下であることを特徴とする請求項1又は2に記載のポリイミド前駆体組成物。
- 前記イミダゾール系化合物の1気圧における沸点が340℃未満であることを特徴とする請求項1〜3のいずれかに記載のポリイミド前駆体組成物。
- 前記イミダゾール系化合物が、1,2−ジメチルイミダゾール、1−メチルイミダゾール、2−メチルイミダゾール、2−フェニルイミダゾール、イミダゾール、またはベンゾイミダゾールのいずれかであることを特徴とする請求項1〜4のいずれかに記載のポリイミド前駆体組成物。
- 請求項1〜5のいずれかに記載のポリイミド前駆体組成物を、最高加熱温度350℃超で加熱処理して、ポリイミド前駆体をイミド化することを特徴とするポリイミドの製造方法。
- 請求項1〜5のいずれかに記載のポリイミド前駆体組成物を基材上に塗布する工程と、
基材上のポリイミド前駆体組成物を、最高加熱温度350℃超で加熱処理して、ポリイミド前駆体をイミド化する工程と
を有することを特徴とする請求項6に記載のポリイミドの製造方法。 - 前記加熱処理の最高加熱温度が400℃を超えることを特徴とする請求項6又は7に記載のポリイミドの製造方法。
- 請求項6〜8のいずれかに記載の方法により製造されるポリイミド。
- 厚さ10μmのフィルムでの波長400nmの光透過率が75%以上であることを特徴とする請求項9に記載のポリイミド。
- 請求項6〜8のいずれかに記載の方法により製造されるポリイミドフィルム。
- 請求項9又は10に記載のポリイミド、又は請求項11に記載のポリイミドフィルムを含むことを特徴とするディスプレイ用、タッチパネル用、または太陽電池用の基板。
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