JP2018502936A5 - - Google Patents

Download PDF

Info

Publication number
JP2018502936A5
JP2018502936A5 JP2017523324A JP2017523324A JP2018502936A5 JP 2018502936 A5 JP2018502936 A5 JP 2018502936A5 JP 2017523324 A JP2017523324 A JP 2017523324A JP 2017523324 A JP2017523324 A JP 2017523324A JP 2018502936 A5 JP2018502936 A5 JP 2018502936A5
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
alkyl
hydrogen
block copolymer
repeating unit
range
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
JP2017523324A
Other languages
English (en)
Japanese (ja)
Other versions
JP6782695B2 (ja
JP2018502936A (ja
Filing date
Publication date
Priority claimed from US14/527,939 external-priority patent/US9505945B2/en
Application filed filed Critical
Publication of JP2018502936A publication Critical patent/JP2018502936A/ja
Publication of JP2018502936A5 publication Critical patent/JP2018502936A5/ja
Application granted granted Critical
Publication of JP6782695B2 publication Critical patent/JP6782695B2/ja
Expired - Fee Related legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Images

JP2017523324A 2014-10-30 2015-10-28 誘導自己集合体施与のためのケイ素含有ブロックコポリマー Expired - Fee Related JP6782695B2 (ja)

Applications Claiming Priority (3)

Application Number Priority Date Filing Date Title
US14/527,939 2014-10-30
US14/527,939 US9505945B2 (en) 2014-10-30 2014-10-30 Silicon containing block copolymers for direct self-assembly application
PCT/EP2015/074980 WO2016066684A1 (en) 2014-10-30 2015-10-28 Silicon containing block copolymers for direct self-assembly application

Related Child Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2019192457A Division JP6810782B2 (ja) 2014-10-30 2019-10-23 誘導自己集合体施与のためのケイ素含有ブロックコポリマー

Publications (3)

Publication Number Publication Date
JP2018502936A JP2018502936A (ja) 2018-02-01
JP2018502936A5 true JP2018502936A5 (https=) 2018-11-01
JP6782695B2 JP6782695B2 (ja) 2020-11-11

Family

ID=54541022

Family Applications (2)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2017523324A Expired - Fee Related JP6782695B2 (ja) 2014-10-30 2015-10-28 誘導自己集合体施与のためのケイ素含有ブロックコポリマー
JP2019192457A Expired - Fee Related JP6810782B2 (ja) 2014-10-30 2019-10-23 誘導自己集合体施与のためのケイ素含有ブロックコポリマー

Family Applications After (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2019192457A Expired - Fee Related JP6810782B2 (ja) 2014-10-30 2019-10-23 誘導自己集合体施与のためのケイ素含有ブロックコポリマー

Country Status (9)

Country Link
US (1) US9505945B2 (https=)
EP (1) EP3212714B1 (https=)
JP (2) JP6782695B2 (https=)
KR (1) KR102226229B1 (https=)
CN (1) CN107075057B (https=)
IL (1) IL250995A0 (https=)
SG (1) SG11201701937RA (https=)
TW (1) TWI677526B (https=)
WO (1) WO2016066684A1 (https=)

Families Citing this family (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US9738765B2 (en) * 2015-02-19 2017-08-22 International Business Machines Corporation Hybrid topographical and chemical pre-patterns for directed self-assembly of block copolymers
US11155666B2 (en) * 2016-11-30 2021-10-26 Lg Chem, Ltd. Block copolymer
KR102096272B1 (ko) * 2016-11-30 2020-04-02 주식회사 엘지화학 블록 공중합체
JP6835969B2 (ja) 2016-12-21 2021-02-24 メルク パテント ゲゼルシャフト ミット ベシュレンクテル ハフツングＭｅｒｃｋ Ｐａｔｅｎｔ Ｇｅｓｅｌｌｓｃｈａｆｔ ｍｉｔ ｂｅｓｃｈｒａｅｎｋｔｅｒ Ｈａｆｔｕｎｇ ブロックコポリマーの自己組織化のための新規組成物及び方法
JP7076701B2 (ja) * 2018-03-05 2022-05-30 東京応化工業株式会社 ブロック共重合体及びその製造方法、ならびに相分離構造を含む構造体の製造方法
FR3089982A1 (fr) * 2018-12-12 2020-06-19 Arkema France Procédé de fabrication d’un copolymère à blocs contenant du silicium
US20240219829A1 (en) 2021-05-18 2024-07-04 Merck Patent Gmbh Hydrophobic crosslinkable pinning underlayers with improved dry etch capabilities for patterning directed self-assembly of ps-b-pmma type block copolymers

Family Cites Families (20)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE3884188T2 (de) * 1987-05-21 1994-03-03 Hughes Aircraft Co Silikon enthaltenes negatives photoresistmaterial und dessen verwendung zum herstellen von gemusterten oberflächen.
US5985524A (en) * 1997-03-28 1999-11-16 International Business Machines Incorporated Process for using bilayer photoresist
US6210856B1 (en) * 1999-01-27 2001-04-03 International Business Machines Corporation Resist composition and process of forming a patterned resist layer on a substrate
JP3963623B2 (ja) * 1999-12-09 2007-08-22 富士フイルム株式会社 ポジ型フォトレジスト組成物
JP3858968B2 (ja) * 2000-01-06 2006-12-20 信越化学工業株式会社 トリス（トリメチルシリル）シリルエチルエステルの製造方法
TW583187B (en) * 2000-01-06 2004-04-11 Shinetsu Chemical Co Preparation of tris(trimethylsilyl) silylethyl esters
US6444408B1 (en) * 2000-02-28 2002-09-03 International Business Machines Corporation High silicon content monomers and polymers suitable for 193 nm bilayer resists
JP3781960B2 (ja) 2000-09-29 2006-06-07 信越化学工業株式会社 反射防止膜材料およびパターン形成方法
JP3912512B2 (ja) * 2002-07-02 2007-05-09 信越化学工業株式会社 珪素含有高分子化合物、レジスト材料及びパターン形成方法
JP4040392B2 (ja) 2002-08-22 2008-01-30 富士フイルム株式会社 ポジ型フォトレジスト組成物
US8696918B2 (en) 2010-05-05 2014-04-15 Micron Technology, Inc. Methods of utilizing block copolymer to form patterns
US8691925B2 (en) * 2011-09-23 2014-04-08 Az Electronic Materials (Luxembourg) S.A.R.L. Compositions of neutral layer for directed self assembly block copolymers and processes thereof
US8697810B2 (en) * 2012-02-10 2014-04-15 Rohm And Haas Electronic Materials Llc Block copolymer and methods relating thereto
US8710150B2 (en) 2012-02-10 2014-04-29 Rohm And Haas Electronic Materials Llc Blended block copolymer composition
US8961918B2 (en) 2012-02-10 2015-02-24 Rohm And Haas Electronic Materials Llc Thermal annealing process
JP5745439B2 (ja) * 2012-02-17 2015-07-08 富士フイルム株式会社 感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、並びに、これを用いたパターン形成方法、レジスト膜及び電子デバイスの製造方法
JP6070964B2 (ja) * 2012-03-27 2017-02-01 日産化学工業株式会社 自己組織化膜の下層膜形成組成物
WO2014003023A1 (ja) * 2012-06-29 2014-01-03 Jsr株式会社 パターン形成用組成物及びパターン形成方法
US8822619B1 (en) * 2013-02-08 2014-09-02 Rohm And Haas Electronic Materials Llc Directed self assembly copolymer composition and related methods
JP5956370B2 (ja) * 2013-03-12 2016-07-27 信越化学工業株式会社 珪素含有下層膜材料及びパターン形成方法

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP2018502936A5 (https=)
KR102125176B1 (ko) 유도 자가 조립을 위한 중성층 중합체 조성물 및 이의 방법
JP5581225B2 (ja) シルセスキオキサン樹脂
TWI466926B (zh) 基於矽之抗反射塗覆組合物
KR100913058B1 (ko) 포지티브형 감광성 수지 조성물, 패턴 형성 방법 및 반도체소자
JP6431129B2 (ja) ブロックコポリマーを製造するための方法およびそれから製造される物品
CN105093833B (zh) 硬掩模组合物和使用所述硬掩模组合物形成图案的方法
JP6810782B2 (ja) 誘導自己集合体施与のためのケイ素含有ブロックコポリマー
TWI753112B (zh) 嵌段共聚物及含有相分離結構之結構體的製造方法
TWI402282B (zh) 聚合物、包括該聚合物之薄膜形成組成物、用該組成物形成之絕緣膜及電子裝置
JP6328946B2 (ja) 誘導自己組織化共重合組成物および関連方法
KR101711919B1 (ko) 모노머, 상기 모노머를 포함하는 하드마스크 조성물 및 상기 하드마스크 조성물을 사용하는 패턴형성방법
KR20170034879A (ko) 블록 코폴리머의 어닐링 방법 및 그로부터 제조된 물품
JP2005089705A (ja) スルホン酸基含有ラダーシリコーン及び組成物
JP7298428B2 (ja) パターン形成方法及びパターン化された基板
JP2000119601A (ja) 膜形成用組成物、膜の形成方法および多孔質膜
KR102191958B1 (ko) 2블록 공중합체의 자가-어셈블리에 의한 나노계측 구조의 제작 방법
TW202414095A (zh) 半導體基板的製造方法及膜形成用組成物
TW202546053A (zh) 相分離結構形成用樹脂組成物、含有相分離結構的結構體之製造方法，及嵌段共聚物
JP2001139684A (ja) 多層配線用層間絶縁膜並びにそれに用いる樹脂及びその製造方法
WO2016159329A1 (ja) パターン形成用組成物及びパターン形成方法
TWI295309B (en) Silica based coating film forming coating liquid
KR101754903B1 (ko) 하드마스크 조성물 및 상기 하드마스크 조성물을 사용하는 패턴형성방법
WO2022102304A1 (ja) 下層膜形成用組成物、下層膜、及び、リソグラフィープロセス
CN115668464A (zh) 上层膜形成用组合物和相分离图案制造方法