JP2018135602A - シリコンナノ粒子の製造方法 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】アルカリ金属ハロゲン化物、アルカリ土類金属ハロゲン化物、または、それらの混合物を含む溶融塩に、平均粒子径が0.5nm〜100μmである二酸化ケイ素の粉末110を、0.1〜20wt%、溶融塩中に懸濁させ、電解浴100の外部において電解浴の表面近傍に陰極22を配置し、陰極22と電解浴表面との間に放電を発生させて二酸化ケイ素の粉末を還元し、電解浴中に生成したシリコンナノ粒子を溶融塩とともに回収し、冷却・固化した塩を水洗により除去する。
【選択図】図1
Description
Claims (5)
- (a)アルカリ金属ハロゲン化物、アルカリ土類金属ハロゲン化物、または、それらの混合物を含む溶融塩を用意するステップと、
(b)平均粒子径が0.5nm〜100μmである二酸化ケイ素の粉末を、前記溶融塩重量に対して0.1〜20wt%、前記溶融塩中に懸濁させ、さらに、アルカリ金属酸化物またはアルカリ土類金属酸化物を添加して電解浴を生成するステップと、
(c)前記電解浴中に導電性セラミクスまたは導電性ダイヤモンドを含む不溶性酸素発生陽極を配置するステップと、
(d)前記電解浴の外部において前記電解浴の表面近傍に陰極を配置するステップと、
(e)前記陰極と前記電解浴表面との間に放電を発生させて前記二酸化ケイ素の粉末を還元するための電圧を、前記陽極と前記陰極との間に印加して通電するステップと、
前記電解浴中に生成したシリコンナノ粒子を溶融塩とともに回収し、冷却・固化した塩を水洗により除去するステップとを備え、
前記二酸化ケイ素の粉末の還元は、前記二酸化ケイ素粉末が陰極直下の前記電解浴表面の近傍に供給されるように、前記電解浴を攪拌しながら行われる、シリコンナノ粒子の製造方法。 - 前記電解浴は、浴の温度が300℃〜1000℃であり、
前記溶融塩の融点は前記浴の温度以下である、請求項1に記載のシリコンナノ粒子の製造方法。 - 前記電解浴は、浴の温度が400℃〜700℃であり、
前記溶融塩の融点は前記浴の温度以下である、請求項1または請求項2に記載のシリコンナノ粒子の製造方法。 - 前記陰極はタングステン製である、請求項1から請求項3までのいずれか1項に記載のシリコンナノ粒子の製造方法。
- 前記溶融塩の比重は、前記二酸化ケイ素粉末の比重よりも大きい、請求項1から請求項4までのいずれか1項に記載のシリコンナノ粒子の製造方法。
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