JP2018095927A - ターゲット用シャッタ機構およびそれを備えた成膜装置 - Google Patents
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- 230000007246 mechanism Effects 0.000 title claims abstract description 67
- 230000008021 deposition Effects 0.000 title 1
- 239000000463 material Substances 0.000 claims abstract description 67
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims description 155
- 230000002093 peripheral effect Effects 0.000 claims description 22
- 238000004544 sputter deposition Methods 0.000 claims description 20
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 7
- 239000002245 particle Substances 0.000 description 5
- 238000013459 approach Methods 0.000 description 4
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 3
- 238000011109 contamination Methods 0.000 description 3
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 2
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 2
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 2
- RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N Titanium Chemical compound [Ti] RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000007547 defect Effects 0.000 description 1
- 238000013461 design Methods 0.000 description 1
- 238000007599 discharging Methods 0.000 description 1
- 239000012634 fragment Substances 0.000 description 1
- 238000009434 installation Methods 0.000 description 1
- 238000012423 maintenance Methods 0.000 description 1
- 230000007257 malfunction Effects 0.000 description 1
- 230000000149 penetrating effect Effects 0.000 description 1
- 238000005477 sputtering target Methods 0.000 description 1
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 1
- 239000013077 target material Substances 0.000 description 1
- 229910052719 titanium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010936 titanium Substances 0.000 description 1
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-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J37/00—Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
- H01J37/32—Gas-filled discharge tubes
- H01J37/34—Gas-filled discharge tubes operating with cathodic sputtering
- H01J37/3411—Constructional aspects of the reactor
- H01J37/3447—Collimators, shutters, apertures
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- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
- C23C14/22—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the process of coating
- C23C14/34—Sputtering
- C23C14/3407—Cathode assembly for sputtering apparatus, e.g. Target
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- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
- C23C14/22—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the process of coating
- C23C14/56—Apparatus specially adapted for continuous coating; Arrangements for maintaining the vacuum, e.g. vacuum locks
- C23C14/564—Means for minimising impurities in the coating chamber such as dust, moisture, residual gases
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J37/00—Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
- H01J37/32—Gas-filled discharge tubes
- H01J37/34—Gas-filled discharge tubes operating with cathodic sputtering
- H01J37/3411—Constructional aspects of the reactor
- H01J37/3414—Targets
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- Chemical & Material Sciences (AREA)
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Abstract
Description
2 チャンバ
3 ターゲット
6 シャッタ
10シャッタ機構
11A〜11D 第1〜第4のシャッタ板
13A〜13D 第1〜第4の回転支持部部
14 駆動部
30 基材対向面
SA〜SD 第1〜第4の回転軸
W 基材
Claims (6)
- スパッタリングに用いられるターゲットを開閉自在に覆うシャッタ機構であって、
前記ターゲットにおいてスパッタリングによって成膜される基材に対向する基材対向面と前記基材との間の位置において当該基材対向面に沿う方向に移動可能であり、当該基材対向面と前記基材との間の位置で互いに接触または近接することが可能な縁部をそれぞれ有する第1のシャッタ板および第2のシャッタ板を有するシャッタと、
前記基材対向面の法線方向に延びる第1の回転軸回りに前記第1のシャッタ板を回転自在に支持する第1の回転支持部と、
前記基材対向面の法線方向に延びる第2の回転軸回りに前記第2のシャッタ板を回転自在に支持する第2の回転支持部と、
前記第1のシャッタ板および第2のシャッタ板を前記第1の回転軸回りおよび前記第2の回転軸回りに回転駆動する駆動部と、
を備え、
前記第1の回転支持部および前記第2の回転支持部は、前記第1のシャッタ板および前記第2のシャッタ板の前記第1の回転軸回りおよび前記第2の回転軸回りのそれぞれの回転により、前記基材対向面と前記基材との間の位置において当該第1のシャッタ板および当該第2のシャッタ板の前記縁部同士が互いに接触または近接する状態で当該第1のシャッタ板および当該第2のシャッタ板が前記基材対向面を閉じる閉位置と前記縁部同士が離間するように当該第1のシャッタ板および当該第2のシャッタ板がそれぞれ前記基材対向面と前記基材との間の位置から退避した開位置との間で移行できるように、当該第1のシャッタ板および当該第2のシャッタ板を回転自在に支持し、
前記第1の回転軸および前記第2の回転軸は、前記第1のシャッタ板および前記第2のシャッタ板のそれぞれの前記縁部が前記開位置において前記基材対向面の外周の縁の少なくとも一部に沿うように、前記閉位置において前記縁部が互いに接触または近接する領域を挟んで両側に分かれて配置されている、
ターゲット用シャッタ機構。 - 前記第1の回転軸および前記第2の回転軸は、これらの間に前記基材対向面を挟むように当該基材対向面の両側に配置されている、
請求項1に記載のターゲット用シャッタ機構。 - 前記ターゲットの前記基材対向面は、矩形形状を有し、
前記閉位置における前記縁部が互いに接触または近接する領域は、当該基材対向面の2つの対角線のうちの特定の1つの対角線に沿って配置され、
前記第1の回転軸および前記第2の回転軸は、前記特定の1つの対角線の両側に分かれて配置されている、
請求項2に記載のターゲット用シャッタ機構。 - 前記第1の回転軸は、前記特定の1つの対角線の延長線と前記基材対向面における外周の縁における互いに対向する2つの辺のうちの一方の辺とのなす角度を二等分する半直線の上に配置され、
前記第2の回転軸は、前記特定の1つの対角線の延長線と前記基材対向面における外周の縁における互いに対向する2つの辺のうちの他方の辺とのなす角度を二等分する半直線の上に配置されている、
請求項3に記載のターゲット用シャッタ機構。 - 前記シャッタは、前記基材対向面と前記基材との間の位置において当該基材対向面に沿う方向に移動可能であり、当該基材対向面と前記基材との間の位置で互いに接触または近接することが可能な縁部をそれぞれ有する第3のシャッタ板および第4のシャッタ板をさらに有し、
前記第3のシャッタ板および前記第4のシャッタ板は、前記第1のシャッタ板および前記第2のシャッタ板に対して前記基材対向面と前記基材との間の位置において前記基材対向面に沿う方向にずれた位置に配置され、
前記第1のシャッタ板、前記第2のシャッタ板、前記第3のシャッタ板、および前記第4のシャッタ板によって、前記基材対向面を開閉するように前記シャッタが構成され、
前記シャッタ機構は、前記基材対向面の法線方向に延びる第3の回転軸回りに前記第3のシャッタ板を回転自在に支持する第3の回転支持部と、前記基材対向面の法線方向に延びる第4の回転軸回りに前記第4のシャッタ板を回転自在に支持する第4の回転支持部とをさらに備え、
前記駆動部は、前記第3のシャッタ板および第4のシャッタ板を前記第3の回転軸回りおよび前記第4の回転軸回りに回転駆動し、
前記第3の回転支持部および前記第4の回転支持部は、前記第3のシャッタ板および前記第4のシャッタ板の前記第3の回転軸回りおよび前記第4の回転軸回りのそれぞれの回転により、前記基材対向面と前記基材との間の位置において当該第3のシャッタ板および当該第4のシャッタ板の前記縁部同士が互いに接触または近接する状態で当該第3のシャッタ板および当該第4のシャッタ板が前記基材対向面を閉じる閉位置と前記縁部同士が離間するように当該第3のシャッタ板および当該第4のシャッタ板がそれぞれ前記基材対向面と前記基材との間の位置から退避した開位置との間で移行できるように、当該第3のシャッタ板および当該第4のシャッタ板を回転自在に支持し、
前記第3の回転軸および前記第4の回転軸は、前記第3のシャッタ板および前記第4のシャッタ板のそれぞれの前記縁部が前記開位置において前記基材対向面の外周の縁の少なくとも一部に沿うように、前記閉位置において前記縁部が互いに接触または近接する領域を挟んで両側に分かれて配置されている、
請求項1〜4のいずれか1項に記載のターゲット用シャッタ機構。 - 請求項1に記載のターゲット用シャッタ機構と、
基材を収容する成膜チャンバと、
基材対向面を有し、当該基材対向面が前記基材を向くように前記成膜チャンバに設置された前記ターゲットと、
を備え、
前記シャッタ機構の前記第1のシャッタ板および前記第2のシャッタ板は、前記成膜チャンバの内部において前記基材対向面と前記基材との間の位置に開閉自在に配置されている、
ことを特徴とする成膜装置。
Priority Applications (6)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2016241916A JP6698509B2 (ja) | 2016-12-14 | 2016-12-14 | ターゲット用シャッタ機構およびそれを備えた成膜装置 |
PCT/JP2017/041898 WO2018110225A1 (ja) | 2016-12-14 | 2017-11-21 | ターゲット用シャッタ機構及びそれを備えた成膜装置 |
CN201780077254.5A CN110036135B (zh) | 2016-12-14 | 2017-11-21 | 靶用遮挡件机构及具备该靶用遮挡件机构的成膜装置 |
US16/462,497 US20190341237A1 (en) | 2016-12-14 | 2017-11-21 | Shutter mechanism for target, and film-forming device provided with same |
EP17879779.1A EP3556902A4 (en) | 2016-12-14 | 2017-11-21 | LOCKING MECHANISM FOR TARGET AND FILM-FORMING DEVICE WITH IT |
KR1020197015438A KR20190076021A (ko) | 2016-12-14 | 2017-11-21 | 타깃용 셔터 기구 및 그것을 구비한 성막 장치 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2016241916A JP6698509B2 (ja) | 2016-12-14 | 2016-12-14 | ターゲット用シャッタ機構およびそれを備えた成膜装置 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2018095927A true JP2018095927A (ja) | 2018-06-21 |
JP6698509B2 JP6698509B2 (ja) | 2020-05-27 |
Family
ID=62558356
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2016241916A Active JP6698509B2 (ja) | 2016-12-14 | 2016-12-14 | ターゲット用シャッタ機構およびそれを備えた成膜装置 |
Country Status (6)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US20190341237A1 (ja) |
EP (1) | EP3556902A4 (ja) |
JP (1) | JP6698509B2 (ja) |
KR (1) | KR20190076021A (ja) |
CN (1) | CN110036135B (ja) |
WO (1) | WO2018110225A1 (ja) |
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-
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-
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- 2017-11-21 EP EP17879779.1A patent/EP3556902A4/en not_active Withdrawn
- 2017-11-21 US US16/462,497 patent/US20190341237A1/en not_active Abandoned
- 2017-11-21 WO PCT/JP2017/041898 patent/WO2018110225A1/ja unknown
- 2017-11-21 CN CN201780077254.5A patent/CN110036135B/zh active Active
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WO2018110225A1 (ja) | 2018-06-21 |
JP6698509B2 (ja) | 2020-05-27 |
KR20190076021A (ko) | 2019-07-01 |
CN110036135A (zh) | 2019-07-19 |
EP3556902A1 (en) | 2019-10-23 |
CN110036135B (zh) | 2022-01-04 |
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Date | Code | Title | Description |
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A621 | Written request for application examination |
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A131 | Notification of reasons for refusal |
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A521 | Request for written amendment filed |
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R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
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