CN102086505B - 镀膜修正板 - Google Patents
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Abstract
一种镀膜修正板，其包括一个主遮挡片及至少一个次遮挡片。所述主遮挡片包括一遮挡面。所述次遮挡片转动连接在所述主遮挡片上，且能够沿与所述遮挡面平行的方向进行旋转。本发明的镀膜修正板，通过转动所述次遮挡片可改变整个镀膜修正板的遮挡面积，即可对所述镀膜修正板的遮挡面积进行调整，可适用于多种镀膜基材，通用性佳。
Description
技术领域
本发明涉及镀膜装置，尤其涉及一种镀膜修正板。
背景技术
现有的蒸镀设备一般包括一个蒸镀源及一个设置于蒸镀源上方用来承载镀膜基材的镀膜伞架。蒸镀时，镀膜伞架转动以使分布在镀膜伞架各处的镀膜基材的膜厚均一。然而，由于蒸镀源正上方的蒸发物浓度较高，导致蒸镀源正对的镀膜伞架的中间层圈的待镀基材上的膜层较厚，而位于上层圈(靠近伞架中心)的镀膜基材与位于下层圈(靠近伞架边缘)的镀膜基材上的膜层较薄。因此，蒸镀设备通常还包括一个设置于镀膜伞架与蒸镀源之间的镀膜修正板，用于遮挡蒸镀源正上方的蒸发物，以减少蒸镀源正对的镀膜基材上的膜层的厚度，从而修正镀膜伞架上位于不同层圈的镀膜基材上的膜层厚度的差异。可以理解，由于各种镀膜基材采用的蒸镀源的蒸发速率、蒸镀的沉积速率及镀膜基材的形状不同，各种镀膜基材对镀膜修正板的遮挡面积的要求也不同。因此，一种镀膜基板一般需采用对应的一种镀膜修正板，镀膜修正板的通用性差。
发明内容
有鉴于此，有必要提供一种通用性佳的镀膜修正板。
一种镀膜修正板，其包括一个主遮挡片及多个次遮挡片。所述主遮挡片包括一遮挡面。所述次遮挡片转动连接在所述主遮挡片上，且能够沿与所述遮挡面平行的方向相对于该主遮挡片进行旋转。每个所述次遮挡片均能够相对于其他的所述次遮挡片独立地进行转动。
本发明的镀膜修正板，通过转动所述次遮挡片可改变整个镀膜修正板的遮挡面积，即可对所述镀膜修正板的遮挡面积进行调整，可适用于多种镀膜基材，通用性佳。
附图说明
图1是本发明较佳实施方式的镀膜修正板的结构示意图；
图2是图1的镀膜修正板的分解图；
图3是图1的镀膜修正板的状态示意图。
主要元件符号说明
镀膜修正板 100
主遮挡片 110
第一侧边 111
第二侧边 112
第三侧边 113
第四侧边 114
第一螺孔 115
遮挡面 116
连接面 117
次遮挡片 130
第五侧边 131
第六侧边 132
第二螺孔 133
螺钉 150
具体实施方式
下面将结合附图，对本发明作进一步的详细说明。
请参阅图1，为本发明实施方式提供的一种镀膜修正板100，其位于镀膜伞架(未图示)与蒸镀源(未图示)之间，用于对所述镀膜伞架上的待镀基材进行遮挡。所述镀膜修正板100包括一主遮挡片110及四个次遮挡片130。所述次遮挡片130转动设置在所述主遮挡片110上。可以理解，所述次遮挡片130的数量并不局限于四片，还可为其他数量。
如图2所示，所述主遮挡片110为沿轴线AA′左右对称及沿轴线BB′前后对称的扇叶形片体，其包括第一侧边111、第二侧边112、第三侧边113及第四侧边114。所述第一侧边111和所述第二侧边112平行相对，均为直线形边。所述第三侧边113和所述第四侧边114相对，均为向外凸出的曲线形边。所述主遮挡片110上靠近所述第三侧边113及所述第四侧边114的位置对称开设有四个第一螺孔115。所述主遮挡片110还包括一遮挡面116及一连接面117。所述遮挡面116与所述连接面117相背设置。所述遮挡面116面向蒸镀源，用于沉积靶材。所述连接面117用于连接所述次遮挡片130。
所述次遮挡片130的形状与所述主遮挡片110沿轴线AA′及轴线BB′分割而成的四分之一的形状相近。所述次遮挡片130包括相对设置的第五侧边131及第六侧边132。所述第五侧边131为直线形边。所述第六侧边132的形状与所述第三侧边113的形状相似，为向外凸出的曲线形边。所述次遮挡片130上靠近所述第五侧边131的位置开设有一第二螺孔133。所述第二螺孔133贯穿所述次遮挡片130的上、下表面。所述四个次遮挡片130对称设置在所述主遮挡片110的连接面117上，且所述第二螺孔133分别与所述主遮挡片110上的四个第一螺孔115对齐设置。四个螺钉150分别依次穿过所述第二螺孔133及第一螺孔115，从而将所述次遮挡片130转动设置在所述主遮挡片110上。
可以理解，所述四个次遮挡片130也可同时设置在所述遮挡面116上。或者其中两个次遮挡片130设置在所述遮挡面116上，另外两个次遮挡片130设置在所述连接面117上。所述次遮挡片130也可用其他的方式转动连接在所述主遮挡片110上，比如通过互相啮合的齿轮连接等等。可以理解，所述主遮挡片110及次遮挡片130也可以为方形、圆形、椭圆形或其他形状。
如图3所示，在所述镀膜修正板100的使用过程中，当需要改变所述镀膜修正板100的形状时，先将所述螺钉150拧松，将所述次遮挡片130转动到合适位置，然后再将所述螺钉150拧紧，将所述次遮挡片130固定在所述主遮挡片110上即可。
可以理解，将所述次遮挡片130向远离轴线AA′的方向旋转，使所述次遮挡片130与所述主遮挡片110的重叠面积变小，就可增大所述镀膜修正板100的遮挡面积；将所述次遮挡片130向靠近轴线AA′的方向旋转，使所述次遮挡片130与所述主遮挡片110的重叠面积变大，就可减小所述镀膜修正板100的遮挡面积。
本发明的镀膜修正板，由于其包括多个能够相对所述主遮挡片进行旋转的次遮挡片，通过转动所述次遮挡片可改变整个镀膜修正板的遮挡面积，即可对所述镀膜修正板的遮挡面积进行调整，适用于多种镀膜基材，通用性佳。
可以理解的是，对于本领域的普通技术人员来说，可以根据本发明的技术构思做出其它各种相应的改变与变形，而所有这些改变与变形都应属于本发明权利要求的保护范围。
Claims (7)
1.一种镀膜修正板，其包括一个主遮挡片及多个次遮挡片，所述主遮挡片包括一遮挡面，所述次遮挡片转动连接在所述主遮挡片上，且能够沿与所述遮挡面平行的方向相对于该主遮挡片进行旋转，每个所述次遮挡片均能够相对于其他的所述次遮挡片独立地进行转动。
2.如权利要求1所述的镀膜修正板，其特征在于，所述主遮挡片上开设多个第一螺孔，每个所述次遮挡片上开设一第二螺孔，所述第二螺孔贯穿所述修正板的上、下表面，一螺钉分别穿过所述第二螺孔及对应的所述第一螺孔，从而将所述次遮挡片转动设置在所述主遮挡片上。
3.如权利要求1所述的镀膜修正板，其特征在于，所述次遮挡片的数量为四个。
4.如权利要求1所述的镀膜修正板，其特征在于，所述主遮挡片还包括一连接面，用于连接所述次遮挡片。
5.如权利要求4所述的镀膜修正板，其特征在于，所述次遮挡片设置在所述主遮挡片的连接面上。
6.如权利要求1所述的镀膜修正板，其特征在于，所述次遮挡片设置在所述主遮挡片的遮挡面上。
7.如权利要求1所述的镀膜修正板，其特征在于，所述主遮挡片为扇叶形片体。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| CN 200910310812 CN102086505B (zh) | 2009-12-03 | 2009-12-03 | 镀膜修正板 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| CN 200910310812 CN102086505B (zh) | 2009-12-03 | 2009-12-03 | 镀膜修正板 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| CN102086505A CN102086505A (zh) | 2011-06-08 |
| CN102086505B true CN102086505B (zh) | 2013-11-06 |
Family
ID=44098507
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| CN 200910310812 Expired - Fee Related CN102086505B (zh) | 2009-12-03 | 2009-12-03 | 镀膜修正板 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| CN (1) | CN102086505B (zh) |
Families Citing this family (7)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN103088298B (zh) * | 2011-10-31 | 2016-05-11 | 鸿富锦精密工业（深圳）有限公司 | 镀膜修正板及镀膜装置 |
| CN103088299B (zh) * | 2011-11-04 | 2016-12-07 | 鸿富锦精密工业（深圳）有限公司 | 镀膜修正板及其组装方法 |
| CN104313537B (zh) * | 2014-10-24 | 2016-08-24 | 杰莱特（苏州）精密仪器有限公司 | 真空镀膜用实时膜厚修正板及其控制方法 |
| JP6698509B2 (ja) * | 2016-12-14 | 2020-05-27 | 株式会社神戸製鋼所 | ターゲット用シャッタ機構およびそれを備えた成膜装置 |
| CN107630188A (zh) * | 2017-10-31 | 2018-01-26 | 安徽富芯微电子有限公司 | 一种用于提高金属层镀膜均匀性的镀膜机构及其使用方法 |
| CN109371369B (zh) * | 2018-12-05 | 2020-10-13 | 武汉华星光电半导体显示技术有限公司 | 蒸镀腔结构及遮挡板结构 |
| CN113512712A (zh) * | 2021-06-01 | 2021-10-19 | 东莞隆润光学技术有限公司 | 膜厚修正板及光学直接监控镀膜设备 |
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| CN2915882Y (zh) * | 2006-05-30 | 2007-06-27 | 南昌大学 | 真空镀膜用旋转掩膜装置 |
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| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2008081768A (ja) * | 2006-09-26 | 2008-04-10 | Seiko Epson Corp | 真空成膜装置 |
-
2009
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Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| CN102086505A (zh) | 2011-06-08 |
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Legal Events
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|---|---|---|---|
| C06 | Publication | ||
| PB01 | Publication | ||
| C10 | Entry into substantive examination | ||
| SE01 | Entry into force of request for substantive examination | ||
| C14 | Grant of patent or utility model | ||
| GR01 | Patent grant | ||
| CF01 | Termination of patent right due to non-payment of annual fee |
Granted publication date: 20131106 Termination date: 20141203 |
|
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