JP6698509B2 - ターゲット用シャッタ機構およびそれを備えた成膜装置 - Google Patents
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Description
また、上記の構成によれば、前記第1の回転軸および前記第2の回転軸は、これらの間に前記基材対向面を挟むように当該基材対向面の両側に配置されている。そのため、第1のシャッタ板および第2のシャッタ板は、閉位置から開位置へ移行したときには、それらの縁部がターゲットの基材対向面の外周の縁における互いに対向する部分にそれぞれ沿った状態で、分散して配置される。これにより、第1のシャッタ板および第2のシャッタ板の閉位置から開位置への回転角度を小さくすることが可能になる。その結果、シャッタの退避空間をより小さくすることが可能になる。
さらに、上記の構成によれば、前記ターゲットの前記基材対向面は、矩形形状を有し、前記閉位置における前記縁部が互いに接触または近接する領域は、当該基材対向面の2つの対角線のうちの特定の1つの対角線に沿って配置され、前記第1の回転軸および前記第2の回転軸は、前記特定の1つの対角線の両側に分かれて配置されている。そのため、第1のシャッタ板および第2のシャッタ板が閉位置から開位置へ移行したときには、当該第1のシャッタ板および第2のシャッタ板は、それぞれの縁部がターゲットの矩形形状の基材対向面の外周の縁における互いに対向する2つの辺に沿って平行に延びた状態で、分散して配置される。これにより、第1のシャッタ板および第2のシャッタ板の閉位置から開位置への回転角度を小さくすることが可能になる。その結果、矩形形状の基材対向面を有するターゲットの周辺においてシャッタの退避空間を小さくすることが可能になる。
2 チャンバ
3 ターゲット
6 シャッタ
10シャッタ機構
11A〜11D 第1〜第4のシャッタ板
13A〜13D 第1〜第4の回転支持部部
14 駆動部
30 基材対向面
SA〜SD 第1〜第4の回転軸
W 基材
Claims (4)
- スパッタリングに用いられるターゲットを開閉自在に覆うシャッタ機構であって、
前記ターゲットにおいてスパッタリングによって成膜される基材に対向するとともに矩形形状を有する基材対向面と前記基材との間の位置において当該基材対向面に沿う方向に移動可能であり、当該基材対向面と前記基材との間の位置で互いに接触または近接することが可能な縁部をそれぞれ有する第1のシャッタ板および第2のシャッタ板を有するシャッタと、
前記基材対向面の法線方向に延びる第1の回転軸回りに前記第1のシャッタ板を回転自在に支持する第1の回転支持部と、
前記基材対向面の法線方向に延びる第2の回転軸回りに前記第2のシャッタ板を回転自在に支持する第2の回転支持部と、
前記第1のシャッタ板および第2のシャッタ板を前記第1の回転軸回りおよび前記第2の回転軸回りに回転駆動する駆動部と、
を備え、
前記第1の回転支持部および前記第2の回転支持部は、前記第1のシャッタ板および前記第2のシャッタ板の前記第1の回転軸回りおよび前記第2の回転軸回りのそれぞれの回転により、前記基材対向面と前記基材との間の位置において当該第1のシャッタ板および当該第2のシャッタ板の前記縁部同士が互いに接触または近接する状態で当該第1のシャッタ板および当該第2のシャッタ板が前記基材対向面を閉じる閉位置と前記縁部同士が離間するように当該第1のシャッタ板および当該第2のシャッタ板がそれぞれ前記基材対向面と前記基材との間の位置から退避した開位置との間で移行できるように、当該第1のシャッタ板および当該第2のシャッタ板を回転自在に支持し、
前記第1の回転軸および前記第2の回転軸は、前記第1のシャッタ板および前記第2のシャッタ板のそれぞれの前記縁部が前記開位置において前記基材対向面の外周の縁の少なくとも一部に沿うように前記閉位置において前記縁部が互いに接触または近接する領域を挟んで両側に分かれるとともに、当該第1の回転軸および当該第2の回転軸の間に前記基材対向面を挟むように当該基材対向面の両側に配置され、
前記閉位置における前記縁部が互いに接触または近接する領域は、当該基材対向面の2つの対角線のうちの特定の1つの対角線に沿って配置され、
前記第1の回転軸および前記第2の回転軸は、前記特定の1つの対角線の両側に分かれて配置されている、
ターゲット用シャッタ機構。 - 前記第1の回転軸は、前記特定の1つの対角線の延長線と前記基材対向面における外周の縁における互いに対向する2つの辺のうちの一方の辺とのなす角度を二等分する半直線の上に配置され、
前記第2の回転軸は、前記特定の1つの対角線の延長線と前記基材対向面における外周の縁における互いに対向する2つの辺のうちの他方の辺とのなす角度を二等分する半直線の上に配置されている、
請求項1に記載のターゲット用シャッタ機構。 - 前記シャッタは、前記基材対向面と前記基材との間の位置において当該基材対向面に沿う方向に移動可能であり、当該基材対向面と前記基材との間の位置で互いに接触または近接することが可能な縁部をそれぞれ有する第3のシャッタ板および第4のシャッタ板をさらに有し、
前記第3のシャッタ板および前記第4のシャッタ板は、前記第1のシャッタ板および前記第2のシャッタ板に対して前記基材対向面と前記基材との間の位置において前記基材対向面に沿う方向にずれた位置に配置され、
前記第1のシャッタ板、前記第2のシャッタ板、前記第3のシャッタ板、および前記第4のシャッタ板によって、前記基材対向面を開閉するように前記シャッタが構成され、
前記シャッタ機構は、前記基材対向面の法線方向に延びる第3の回転軸回りに前記第3のシャッタ板を回転自在に支持する第3の回転支持部と、前記基材対向面の法線方向に延びる第4の回転軸回りに前記第4のシャッタ板を回転自在に支持する第4の回転支持部とをさらに備え、
前記駆動部は、前記第3のシャッタ板および第4のシャッタ板を前記第3の回転軸回りおよび前記第4の回転軸回りに回転駆動し、
前記第3の回転支持部および前記第4の回転支持部は、前記第3のシャッタ板および前記第4のシャッタ板の前記第3の回転軸回りおよび前記第4の回転軸回りのそれぞれの回転により、前記基材対向面と前記基材との間の位置において当該第3のシャッタ板および当該第4のシャッタ板の前記縁部同士が互いに接触または近接する状態で当該第3のシャッタ板および当該第4のシャッタ板が前記基材対向面を閉じる閉位置と前記縁部同士が離間するように当該第3のシャッタ板および当該第4のシャッタ板がそれぞれ前記基材対向面と前記基材との間の位置から退避した開位置との間で移行できるように、当該第3のシャッタ板および当該第4のシャッタ板を回転自在に支持し、
前記第3の回転軸および前記第4の回転軸は、前記第3のシャッタ板および前記第4のシャッタ板のそれぞれの前記縁部が前記開位置において前記基材対向面の外周の縁の少なくとも一部に沿うように、前記閉位置において前記縁部が互いに接触または近接する領域を挟んで両側に分かれて配置されている、
請求項1または2に記載のターゲット用シャッタ機構。 - 請求項1に記載のシャッタ機構と、
基材を収容する成膜チャンバと、
基材対向面を有し、当該基材対向面が前記基材を向くように前記成膜チャンバに設置された前記ターゲットと、
を備え、
前記シャッタ機構の前記第1のシャッタ板および前記第2のシャッタ板は、前記成膜チャンバの内部において前記基材対向面と前記基材との間の位置に開閉自在に配置されている、
ことを特徴とする成膜装置。
Priority Applications (6)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2016241916A JP6698509B2 (ja) | 2016-12-14 | 2016-12-14 | ターゲット用シャッタ機構およびそれを備えた成膜装置 |
KR1020197015438A KR20190076021A (ko) | 2016-12-14 | 2017-11-21 | 타깃용 셔터 기구 및 그것을 구비한 성막 장치 |
PCT/JP2017/041898 WO2018110225A1 (ja) | 2016-12-14 | 2017-11-21 | ターゲット用シャッタ機構及びそれを備えた成膜装置 |
US16/462,497 US20190341237A1 (en) | 2016-12-14 | 2017-11-21 | Shutter mechanism for target, and film-forming device provided with same |
EP17879779.1A EP3556902A4 (en) | 2016-12-14 | 2017-11-21 | LOCKING MECHANISM FOR TARGET AND FILM-FORMING DEVICE WITH IT |
CN201780077254.5A CN110036135B (zh) | 2016-12-14 | 2017-11-21 | 靶用遮挡件机构及具备该靶用遮挡件机构的成膜装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2016241916A JP6698509B2 (ja) | 2016-12-14 | 2016-12-14 | ターゲット用シャッタ機構およびそれを備えた成膜装置 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2018095927A JP2018095927A (ja) | 2018-06-21 |
JP6698509B2 true JP6698509B2 (ja) | 2020-05-27 |
Family
ID=62558356
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2016241916A Active JP6698509B2 (ja) | 2016-12-14 | 2016-12-14 | ターゲット用シャッタ機構およびそれを備えた成膜装置 |
Country Status (6)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US20190341237A1 (ja) |
EP (1) | EP3556902A4 (ja) |
JP (1) | JP6698509B2 (ja) |
KR (1) | KR20190076021A (ja) |
CN (1) | CN110036135B (ja) |
WO (1) | WO2018110225A1 (ja) |
Families Citing this family (12)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US20210140035A1 (en) * | 2019-11-08 | 2021-05-13 | Kurt J. Lesker Company | Compound Motion Vacuum Environment Deposition Source Shutter Mechanism |
KR102273471B1 (ko) * | 2020-08-10 | 2021-07-05 | 이상신 | 물리적 기상 증착 장치 |
KR102273472B1 (ko) * | 2020-08-10 | 2021-07-05 | 이상신 | 물리적 기상 증착 장치 |
DE102020004935B4 (de) | 2020-08-13 | 2022-08-25 | Singulus Technologies Aktiengesellschaft | Spaltblende |
WO2022122095A1 (de) * | 2020-12-07 | 2022-06-16 | Solayer Gmbh | Blendenanordnung zur begrenzung des beschichtungsbereichs einer sputterquelle und sputtervorrichtung |
CN115537763A (zh) * | 2021-06-29 | 2022-12-30 | 鑫天虹(厦门)科技有限公司 | 开合式遮蔽构件及具有开合式遮蔽构件的薄膜沉积机台 |
CN115537752A (zh) * | 2021-06-29 | 2022-12-30 | 鑫天虹(厦门)科技有限公司 | 具有对开式遮蔽构件的薄膜沉积设备 |
CN115537753A (zh) * | 2021-06-29 | 2022-12-30 | 鑫天虹(厦门)科技有限公司 | 开合式遮蔽构件及具有开合式遮蔽构件的薄膜沉积机台 |
CN115537751A (zh) * | 2021-06-29 | 2022-12-30 | 鑫天虹(厦门)科技有限公司 | 遮蔽机构及具有遮蔽机构的薄膜沉积腔体 |
TWI766741B (zh) * | 2021-06-29 | 2022-06-01 | 天虹科技股份有限公司 | 開合式遮蔽構件及具有開合式遮蔽構件的薄膜沉積機台 |
TWI773411B (zh) * | 2021-06-29 | 2022-08-01 | 天虹科技股份有限公司 | 遮蔽裝置及具有遮蔽裝置的薄膜沉積設備 |
CN115612981A (zh) * | 2021-07-16 | 2023-01-17 | 鑫天虹(厦门)科技有限公司 | 双层式遮蔽构件及具有双层式遮蔽构件的薄膜沉积机台 |
Family Cites Families (17)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US3526455A (en) * | 1967-07-17 | 1970-09-01 | Gaspar Cisneros Barnette | Tachistoscopic apparatus |
JPH02250963A (ja) * | 1989-03-24 | 1990-10-08 | Sumitomo Electric Ind Ltd | スパッタリング装置 |
JPH05339725A (ja) | 1992-06-11 | 1993-12-21 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | スパッタリング装置 |
JPH0625844A (ja) * | 1992-07-09 | 1994-02-01 | Sony Corp | 成膜装置及びターゲット材料 |
US6132805A (en) * | 1998-10-20 | 2000-10-17 | Cvc Products, Inc. | Shutter for thin-film processing equipment |
JP3994000B2 (ja) * | 2001-12-03 | 2007-10-17 | 株式会社アルバック | 薄膜の成膜装置及び成膜方法 |
JP4562764B2 (ja) | 2007-12-27 | 2010-10-13 | キヤノンアネルバ株式会社 | スパッタ装置 |
CN101280418B (zh) * | 2008-04-29 | 2010-09-01 | 南京邮电大学 | 具有多层辐射式蒸发源分布结构的多源真空蒸镀装置 |
JP5423205B2 (ja) * | 2008-08-29 | 2014-02-19 | 東京エレクトロン株式会社 | 成膜装置 |
CN201538813U (zh) * | 2009-09-30 | 2010-08-04 | 东莞宏威数码机械有限公司 | 基片镀膜用处理机构 |
CN102086505B (zh) * | 2009-12-03 | 2013-11-06 | 鸿富锦精密工业(深圳)有限公司 | 镀膜修正板 |
JP2011190530A (ja) * | 2010-02-16 | 2011-09-29 | Canon Anelva Corp | シャッター装置及び真空処理装置 |
WO2012147298A1 (ja) * | 2011-04-28 | 2012-11-01 | キヤノンアネルバ株式会社 | 成膜装置 |
CN103088298B (zh) * | 2011-10-31 | 2016-05-11 | 鸿富锦精密工业(深圳)有限公司 | 镀膜修正板及镀膜装置 |
JP6008321B2 (ja) * | 2011-11-28 | 2016-10-19 | 国立研究開発法人物質・材料研究機構 | 蒸着用シャッター装置及びこれを用いた成膜装置 |
CN103243302B (zh) * | 2013-05-21 | 2015-07-08 | 上海和辉光电有限公司 | 挡板机构、薄膜沉积装置及薄膜沉积方法 |
JP6131145B2 (ja) * | 2013-08-06 | 2017-05-17 | 株式会社神戸製鋼所 | 成膜装置 |
-
2016
- 2016-12-14 JP JP2016241916A patent/JP6698509B2/ja active Active
-
2017
- 2017-11-21 WO PCT/JP2017/041898 patent/WO2018110225A1/ja unknown
- 2017-11-21 CN CN201780077254.5A patent/CN110036135B/zh active Active
- 2017-11-21 EP EP17879779.1A patent/EP3556902A4/en not_active Withdrawn
- 2017-11-21 KR KR1020197015438A patent/KR20190076021A/ko not_active Application Discontinuation
- 2017-11-21 US US16/462,497 patent/US20190341237A1/en not_active Abandoned
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
EP3556902A4 (en) | 2020-08-12 |
CN110036135A (zh) | 2019-07-19 |
JP2018095927A (ja) | 2018-06-21 |
KR20190076021A (ko) | 2019-07-01 |
CN110036135B (zh) | 2022-01-04 |
WO2018110225A1 (ja) | 2018-06-21 |
US20190341237A1 (en) | 2019-11-07 |
EP3556902A1 (en) | 2019-10-23 |
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Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20181203 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
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A521 | Written amendment |
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|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
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A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
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