CN101994096B - 真空镀膜装置 - Google Patents

Abstract

一种真空镀膜装置，其用于对待镀膜基板进行镀膜。真空镀膜装置包括反应腔、盖体、间隔部、承载组件、第一开合部及第二开合部。反应腔开设一通孔。盖体活动设置在反应腔上用以暴露或密封通孔。间隔部设置在反应腔内将反应腔分为第一收容腔及第二收容腔。间隔部开设一与通孔相对应的贯穿开口。承载组件可转动的设置在开口内以承载并带动基板翻转。第一开合部与第二开合部分别可移动的设置在第一收容腔与第二收容腔内用以暴露或密封开口。镀膜装置通过设置间隔部将反应腔分为第一收容腔及第二收容腔，及在开口内设置可转动的承载组件，从而分别在第一收容腔及第二收容腔内对基板进行不同膜层的镀膜，无需将基板移出反应腔，操作简单，镀膜效果较好。

Description

真空镀膜装置

技术领域

本发明涉及一种镀膜装置，尤其涉及一种真空镀膜装置。

背景技术

目前，在待镀膜基板上需要进行多层镀膜时，尤其是利用不同的镀膜技术进行多层镀膜时，需将待镀膜基板分别放置在对应的镀膜装置内进行对应膜层的镀膜。

然而，采用此种镀膜方式镀膜时，由于需要将基板在不同的镀膜装置之间进行移动，操作麻烦，同时也影响了镀膜效果。

发明内容

有鉴于此，有必要提供一种操作简单、镀膜效果好的镀膜装置。

一种真空镀膜装置，其用于对一个待镀膜基板进行镀膜。所述镀膜装置包括一个反应腔、一个盖体、一个间隔部、一个承载组件、一个第一开合部及一个第二开合部。所述待镀膜基板收容于所述反应腔内。所述反应腔开设一个通孔。所述盖体活动设置在所述反应腔并用以暴露或密封所述通孔。所述间隔部设置在所述反应腔内将所述反应腔分为一个第一收容腔及一个第二收容腔。所述间隔部开设一个与所述通孔相对应的贯穿开口。所述承载组件可转动的设置在所述开口内以承载并带动所述待镀膜基板翻转。所述第一开合部可移动的设置在所述第一收容腔内用以暴露或密封所述开口。所述第二开合部可移动的设置在所述第二收容腔内用以暴露或密封所述开口。

相较于现有技术，所述镀膜装置通过设置间隔部将反应腔分为第一收容腔及第二收容腔，及在间隔部的开口内设置可转动的待镀膜基板的承载组件，从而可分别在第一收容腔及第二收容腔内对待镀膜基板进行不同膜层的镀膜，无需将待镀膜基板移出反应腔，操作简单，镀膜效果较好。

附图说明

图1为本发明实施方式提供的真空镀膜装置的示意图。

图2为图1的真空镀膜装置沿II-II方向的剖视图。

图3为图2的真空镀膜装置在蒸镀时第一开合部与第二开合部的位置状态示意图。

图4为图2的真空镀膜装置在溅镀时第一开合部与第二开合部的位置状态示意图。

具体实施方式

下面将结合附图对本发明实施方式作进一步的详细说明。

请参阅图1至图4，其为本发明实施方式提供的真空镀膜装置10，其用于对一个待镀膜基板40(见图2)进行镀膜。所述真空镀膜装置10包括一个反应腔110、一个盖体120、一个间隔部130、一个承载组件140、一个第一开合部150、一个第二开合部160及一个抽真空装置170。所述待镀膜基板40收容于所述反应腔110内。本实施方式中，镀膜装置10利用一个蒸镀源20(见图3)及一个靶材30对待镀膜基板40进行镀膜。

如图2所示，反应腔110开设一个通孔112及一个与通孔112相对应的第一收容槽114。蒸镀源20收容在所述第一收容槽114内。

所述盖体120活动设置在反应腔110上用以暴露或密封所述通孔112。盖体120包括一个承载面122。所述承载面122开设一个第二收容槽124用于收容靶材30，当盖体120密封反应腔110的通孔112时，所述第二收容槽124与通孔112相对应。本实施方式中，靶材30通过耐热胶粘贴固定在第二收容槽124的槽底。

所述间隔部130设置在反应腔110内将反应腔110分为第一收容腔116及一个第二收容腔118。间隔部130开设一个贯穿间隔部130且与通孔112相对应的开口132。所述开口132将间隔部130分为第一间隔板130a及一个与所述第一间隔板130a相对应的第二间隔板130b。本实施方式中，第一间隔板130a与第二间隔板130b相对的侧壁开设一个贯穿第一间隔板130a的第一收容孔134。所述第二间隔板130b开设一个与所述第一收容孔134相对应的第二收容孔136。开口132将第一收容腔116分为第一子收容腔116a及一个第二子收容腔116b。开口132将第二收容腔118分为第一子收容腔118a及一个第二子收容腔118b。

所述承载组件140包括一个承载板142及一个转轴144。所述承载板142与所述转轴144固定连接。承载板142用于承载待镀膜基板40。本实施方式中，待镀膜基板40通过耐热胶粘贴固定在承载板142上。转轴144可转动的设置于第一间隔板130a与第二间隔板130b之间。本实施方式中，转轴144的两端分别可转动地收容在第一收容孔134与第二收容孔136内。一驱动件(图未示)驱动转轴144转动，从而带动承载板142及固定在承载板142上的待镀膜基板40转动。

如图3所示，所述第一开合部150可移动的设置在第一收容腔116内用以暴露或密封开口132。本实施方式中，第一开合部150包括一个第一开合件152、一个与所述第一开合件152相对应的第二开合件154及两个第一驱动杆180。所述第一开合件152收容在第一子收容腔116a内。所述第二开合件154收容在第二子收容腔116b内。各第一驱动杆180分别可移动地与第一开合件150与第二开合件154相固定连接。各第一驱动杆180通过外部驱动装置(图未示)来控制其移动以带动第一开合件152及第二开合件154的移动。

如图4所示，所述第二开合部160可移动的设置在第二收容腔118内用以暴露或密封开口132。本实施方式中，第二开合部160包括一个第三开合件162、一个与所述第三开合件162相对应的第四开合件164及两个第二驱动杆182。所述第三开合件162收容在第三子收容腔118a内。第四开合件164收容在第四子收容腔118b内。各第二驱动杆182分别可移动地与第三开合件162与第四开合件164相固定连接。各第二驱动杆182通过外部驱动装置(图未示)来控制其移动以带动第三开合件162及第四开合件164移动。

所述抽真空装置170包括一个真空泵172及一个管道174。所述真空泵172通过管道174与反应腔110相连通并对反应腔110进行抽真空(见图1)，从而使镀膜装置10在真空状态下工作。

为便于第一开合部150与第二开合部160分别在第一收容腔116及第二收容腔118内移动，可在镀膜装置10的第一收容腔116的两相对侧壁沿第一开合件152及第二开合件154的移动方向，及在第二收容腔118的两相对侧壁沿第三开合件162及第四开合件164的移动方向分别设置多个滚轮119。第一开合件152、第二开合件154、第三开合件162及第四开合件164分别开设与滚轮119相对应的滑槽146，从而使第一开合件152及第二开合件154与第一收容腔116的滚轮119相配合进行移动以暴露或密封开口132，以及使第三开合件162及所述第四开合件164的滑槽146与第二收容腔116的滚轮119相配合进行移动以暴露或密封开口132。

镀膜装置10工作时，首先，将蒸镀源20与靶材30分别对应安装至第一收容槽114及第二收容槽124内，将盖体120合上以密封通孔112，再利用抽真空装置170抽真空以使反应腔110内为真空状态，进行蒸镀时，如图3所示，使第一开合件152及第二开合件154密封开口132，同时且第三开合件162及第四开合件164暴露开口132，从而使蒸镀源20通过开口132对待镀膜基板40进行蒸镀。当蒸镀完成后，使第一开合件152及第二开合件154暴露开口132，使承载组件140的转轴144转动大约180度以带动承载部132上的待镀膜基板40在开口132内转动180度，以使待镀膜基板40的镀膜面对准开口132，同时使第三开合件162及第四开合件164密封开口132，如图4所示，此时利用靶材30通过通孔112对待镀膜基板40进行溅镀。

靶材30可直接从盖体120上取下进行更换，若需要更换蒸镀源20及待镀膜基板40，则同时使第一开合件152及第二开合件154与第三开合件162及第四开合件164移动暴露开口132即可。

所述镀膜装置10通过设置间隔部130将反应腔110分为第一收容腔116及第二收容腔118，及在间隔部130的开口132内设置可转动的待镀膜基板40的承载组件140，从而可分别在第一收容腔116及第二收容腔118内对待镀膜基板40进行不同膜层的镀膜，无需将待镀膜基板40移出反应腔110，操作简单，镀膜效果较好。

另外，本领域技术人员还可以在本发明精神内做其它变化，当然，这些依据本发明精神所做的变化，都应包含在本发明所要求保护的范围之内。

Claims (8)

1.一种真空镀膜装置，其用于对一个待镀膜基板进行镀膜，所述镀膜装置包括一个反应腔及一个盖体，所述待镀膜基板收容于所述反应腔内，所述反应腔开设一个通孔，所述盖体活动设置在所述反应腔并用以暴露或密封所述通孔，其特征在于，所述镀膜装置还包括一个间隔部、一个承载组件、一个第一开合部及一个第二开合部，所述间隔部设置在所述反应腔内将所述反应腔分为一个第一收容腔及一个第二收容腔，所述间隔部开设一个与所述通孔相对应的贯穿开口，所述承载组件可转动的设置在所述开口内以承载并带动所述待镀膜基板在所述开口内转动，所述第一开合部可移动的设置在所述第一收容腔内用以暴露或密封所述开口，所述第二开合部可移动的设置所述第二收容腔内用以暴露或密封所述开口。

2.如权利要求1所述的真空镀膜装置，其特征在于，所述承载组件包括一个承载板及一个转轴，所述承载板与所述转轴可拆卸地固定在所述间隔部上，所述承载板用于承载所述待镀膜基板，所述开口将所述间隔部分为第一间隔板及一个与所述第一间隔板相对应的第二间隔板，所述转轴可转动的设置于所述第一间隔板与所述第二间隔板之间，所述转轴转动以带动所述承载板转动。

3.如权利要求2所述的真空镀膜装置，其特征在于，所述第一间隔板与所述第二间隔板相对的侧壁开设一个第一收容孔，所述第二间隔板开设一个与所述第一收容孔相对应的第二收容孔，所述转轴的两端分别可转动地收容在所述第一收容孔与所述第二收容孔内。

4.如权利要求1所述的真空镀膜装置，其特征在于，所述反应腔开设一个与所述开口相对应的第一收容槽，所述第一收容槽用于放置一个蒸镀源。

5.如权利要求1所述的真空镀膜装置，其特征在于，所述盖体包括一个承载面，所述承载面开设一个第二收容槽，所述第二收容槽用于收容一个靶材，当所述盖体密封所述反应腔的开口时，所述第二收容槽与所述开口相对应。

6.如权利要求1所述的真空镀膜装置，其特征在于，所述第一收容腔的相对两侧壁沿所述第一开合部的移动方向分别设置多个滚轮，所述第一开合部包括一个第一开合件、一个第二开合件及两个第一驱动杆，各第一驱动杆分别可移动地与所述第一开合件与所述第二开合件相固定连接，所述第一开合件及所述第二开合件分别开设一个与所述多个滚轮相对应的滑槽，所述第一驱动杆移动以带动所述滑槽与所述多个滚轮相配合进行移动以使所述第一开合件及所述第二开合件暴露或密封所述开口。

7.如权利要求1所述的真空镀膜装置，其特征在于，所述第二收容腔的相对两侧壁沿所述第二开合部的移动方向分别设置多个滚轮，所述第二开合部包括一个第三开合件、一个第四开合件及两个第二驱动杆，各第二驱动杆分别可移动地与所述第三开合件及所述第四开合件相固定连接，所述第三开合件及所述第四开合件分别开设一个与所述多个滚轮相对应的滑槽，所述第二驱动杆移动以带动所述滑槽与所述多个滚轮相配合进行移动以使所述第三开合件及所述第四开合件暴露或密封所述开口。

8.如权利要求1所述的真空镀膜装置，其特征在于，所述镀膜装置还包括一个用于对所述反应腔进行抽真空的抽真空装置。

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