TWI450988B - 鍍膜修正板 - Google Patents

鍍膜修正板 Download PDF

Info

Publication number
TWI450988B
TWI450988B TW098143029A TW98143029A TWI450988B TW I450988 B TWI450988 B TW I450988B TW 098143029 A TW098143029 A TW 098143029A TW 98143029 A TW98143029 A TW 98143029A TW I450988 B TWI450988 B TW I450988B
Authority
TW
Taiwan
Prior art keywords
shielding
correction plate
piece
main
coating
Prior art date
Application number
TW098143029A
Other languages
English (en)
Other versions
TW201122126A (en
Inventor
Tai Sheng Tsai
Original Assignee
Hon Hai Prec Ind Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Hon Hai Prec Ind Co Ltd filed Critical Hon Hai Prec Ind Co Ltd
Priority to TW098143029A priority Critical patent/TWI450988B/zh
Publication of TW201122126A publication Critical patent/TW201122126A/zh
Application granted granted Critical
Publication of TWI450988B publication Critical patent/TWI450988B/zh

Links

Landscapes

  • Physical Vapour Deposition (AREA)

Description

鍍膜修正板
本發明涉及一種鍍膜裝置,尤其涉及一種鍍膜修正板。
先前之蒸鍍設備一般包括一個蒸鍍源及一個設置於蒸鍍源上方用來承載鍍膜基材之鍍膜傘架。蒸鍍時,鍍膜傘架轉動以使分佈在鍍膜傘架各處之鍍膜基材之膜厚均勻。然,由於蒸鍍源正上方之蒸發物濃度較高,導致蒸鍍源正對之鍍膜傘架之中間層圈之待鍍基材上之膜層較厚,而位於上層圈(靠近傘架中心)之鍍膜基材與位於下層圈(靠近傘架邊緣)之鍍膜基材上之膜層較薄。因此,蒸鍍設備通常還包括一個設置於鍍膜傘架與蒸鍍源之間之鍍膜修正板,用於遮擋蒸鍍源正上方之蒸發物,以減少蒸鍍源正對之鍍膜基材上之膜層之厚度,從而修正鍍膜傘架上位於不同層圈之鍍膜基材上之膜層厚度之差異。可以理解,由於各種鍍膜基材採用之蒸鍍源之蒸發速率、蒸鍍之沉積速率及鍍膜基材之形狀不同,各種鍍膜基材對鍍膜修正板之遮擋面積之要求也不同。因此,一種鍍膜基板一般需採用對應之一種鍍膜修正板,鍍膜修正板之通用性差。
有鑒於此,有必要提供一種通用性佳之鍍膜修正板。
一種鍍膜修正板,其包括一個主遮擋片及至少一個次遮擋片。該主遮擋片包括一遮擋面。該次遮擋片轉動連接在該主遮擋片上,且能夠沿與該遮擋面平行之方向進行旋轉。
相較於先前技術,本發明之鍍膜修正板,藉由轉動該次遮擋片可改變整個鍍膜修正板之遮擋面積,即可對該鍍膜修正板之遮擋面積進行調整,可適用於多種鍍膜基材,通用性佳。
下面將結合附圖,對本發明作進一步的詳細說明。
請參閱圖1,為本發明實施方式提供之一種鍍膜修正板100,其位於鍍膜傘架(未圖示)與蒸鍍源(未圖示)之間,用於對該鍍膜傘架上之待鍍基材進行遮擋。該鍍膜修正板100包括一主遮擋片110及四個次遮擋片130。該次遮擋片130轉動設置在該主遮擋片110上。可以理解,該次遮擋片130之數量並不局限於四片,還可為其他數量。
如圖2所示,該主遮擋片110為沿軸線AA´左右對稱及沿軸線BB´前後對稱之扇葉形片體,其包括第一側邊111、第二側邊112、第三側邊113及第四側邊114。該第一側邊111和該第二側邊112平行相對,均為直線形邊。該第三側邊113和該第四側邊114相對,均為向外凸出之曲線形邊。該主遮擋片110上靠近該第三側邊113及該第四側邊114之位置對稱開設有四個第一螺孔115。該主遮擋片110還包括一遮擋面116及一連接面117。該遮擋面116與該連接面117相背設置。該遮擋面116面向蒸鍍源,用於沉積靶材。該連接面117用於連接該次遮擋片130。
該次遮擋片130之形狀與該主遮擋片110沿軸線AA´及軸線BB´分割而成之四分之一之形狀相近。該次遮擋片130包括相對設置之第五側邊131及第六側邊132。該第五側邊131為直線形邊。該第六側邊132之形狀與該第三側邊113之形狀相似,為向外凸出之曲線形邊。該次遮擋片130上靠近該第五側邊131之位置開設有一第二螺孔133。該第二螺孔133貫穿該次遮擋片130之上、下表面。該四個次遮擋片130對稱設置在該主遮擋片110之連接面117上,且該第二螺孔133分別與該主遮擋片110上之四個第一螺孔115對齊設置。四個螺釘150分別依次穿過該第二螺孔133及第一螺孔115,從而將該次遮擋片130轉動設置在該主遮擋片110上。
可以理解,該四個次遮擋片130也可同時設置在該遮擋面116上。或者其中兩個次遮擋片130設置在該遮擋面116上,另外兩個次遮擋片130設置在該連接面117上。該次遮擋片130也可用其他之方式轉動連接在該主遮擋片110上,比如藉由互相嚙合之齒輪連接等等。可以理解,該主遮擋片110及次遮擋片130也可以為方形、圓形、橢圓形或其他形狀。
如圖3所示,在該鍍膜修正板100之使用過程中,當需要改變該鍍膜修正板100之形狀時,先將該螺釘150擰松,將該次遮擋片130轉動到合適位置,然後再將該螺釘150擰緊,將該次遮擋片130固定在該主遮擋片110上即可。
可以理解,將該次遮擋片130向遠離軸線AA´之方向旋轉,使該次遮擋片130與該主遮擋片110之重疊面積變小,就可增大該鍍膜修正板100之遮擋面積;將該次遮擋片130向靠近軸線AA´之方向旋轉,使該次遮擋片130與該主遮擋片110之重疊面積變大,就可減小該鍍膜修正板100之遮擋面積。
本發明之鍍膜修正板,由於其包括複數能夠相對該主遮擋片進行旋轉之次遮擋片,藉由轉動該次遮擋片可改變整個鍍膜修正板之遮擋面積,即可對該鍍膜修正板之遮擋面積進行調整,適用於多種鍍膜基材,通用性佳。
另外,本領域技術人員可在本發明精神內做其他變化,然,凡依據本發明精神實質所做的變化,都應包含在本發明所要求保護的範圍之內。
100‧‧‧鍍膜修正板
110‧‧‧主遮擋片
111‧‧‧第一側邊
112‧‧‧第二側邊
113‧‧‧第三側邊
114‧‧‧第四側邊
115‧‧‧第一螺孔
116‧‧‧遮擋面
117‧‧‧連接面
130‧‧‧次遮擋片
131‧‧‧第五側邊
132‧‧‧第六側邊
133‧‧‧第二螺孔
150‧‧‧螺釘
圖1係本發明較佳實施方式之鍍膜修正板之結構示意圖;
圖2係圖1之鍍膜修正板之分解圖;
圖3係圖1之鍍膜修正板之狀態示意圖。
100‧‧‧鍍膜修正板
110‧‧‧主遮擋片
130‧‧‧次遮擋片
150‧‧‧螺釘

Claims (7)

  1. 一種鍍膜修正板,其包括一個主遮擋片及至少一個次遮擋片,該主遮擋片包括一遮擋面,該次遮擋片轉動連接在該主遮擋片上,且能夠沿與該遮擋面平行之方向進行旋轉。
  2. 如申請專利範圍第1項所述的鍍膜修正板,其中,該主遮擋片上開設至少一第一螺孔,該次遮擋片上開設一第二螺孔,該第二螺孔貫穿該修正板之上、下表面,一螺釘穿過該第二螺孔及第一螺孔,從而將該次遮擋片轉動設置在該主遮擋片上。
  3. 如申請專利範圍第1項所述的鍍膜修正板,其中,該次遮擋片之數量為四個。
  4. 如申請專利範圍第1項所述的鍍膜修正板,其中,該主遮擋片還包括一連接面,用於連接該次遮擋片。
  5. 如申請專利範圍第4項所述的鍍膜修正板,其中,該次遮擋片設置在該主遮擋片之連接面上。
  6. 如申請專利範圍第1項所述的鍍膜修正板,其中,該次遮擋片設置在該主遮擋片之遮擋面上。
  7. 如申請專利範圍第1項所述的鍍膜修正板,其中,該主遮擋片為扇葉形片體。
TW098143029A 2009-12-16 2009-12-16 鍍膜修正板 TWI450988B (zh)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
TW098143029A TWI450988B (zh) 2009-12-16 2009-12-16 鍍膜修正板

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
TW098143029A TWI450988B (zh) 2009-12-16 2009-12-16 鍍膜修正板

Publications (2)

Publication Number Publication Date
TW201122126A TW201122126A (en) 2011-07-01
TWI450988B true TWI450988B (zh) 2014-09-01

Family

ID=45045926

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
TW098143029A TWI450988B (zh) 2009-12-16 2009-12-16 鍍膜修正板

Country Status (1)

Country Link
TW (1) TWI450988B (zh)

Families Citing this family (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
TWI513837B (zh) * 2011-11-04 2015-12-21 Hon Hai Prec Ind Co Ltd 鍍膜修正板及其組裝方法

Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN201212059Y (zh) * 2008-06-27 2009-03-25 贵州振华云科电子有限公司 溅射薄膜的厚度均匀性修正装置

Patent Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN201212059Y (zh) * 2008-06-27 2009-03-25 贵州振华云科电子有限公司 溅射薄膜的厚度均匀性修正装置

Also Published As

Publication number Publication date
TW201122126A (en) 2011-07-01

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP7005672B2 (ja) 蒸着用マスク及びこれを用いたoledパネル
CN102086505B (zh) 镀膜修正板
TWI707966B (zh) 附框架蒸鍍遮罩之製造方法、拉張裝置、有機半導體元件之製造裝置及有機半導體元件之製造方法
JP5911958B2 (ja) 長方形基板に層を堆積させるためのマスク構造体、装置および方法
WO2017173874A1 (zh) 显示基板制作方法、显示基板和显示装置
WO2009018110A3 (en) Oblique vacuum deposition for roll-roll coating of wire grid polarizer lines oriented in a down-web direction
JP5883230B2 (ja) 蒸着装置並びに蒸着方法
WO2022188428A1 (zh) 掩膜板组件及蒸镀设备
US8052850B2 (en) Sputtering apparatus, method of operating the same, and method of manufacturing substrate using the same
CN111886357B (zh) 一种蒸镀掩模及其制造方法
US8023189B2 (en) Retardation compensation element and manufacturing method of the same
TWI450988B (zh) 鍍膜修正板
US20170067144A1 (en) Vacuum evaporation source apparatus and vacuum evaporation equipment
US20140130734A1 (en) Device for depositing organic material
CN103088298B (zh) 镀膜修正板及镀膜装置
US9644256B2 (en) Mask assembly and thin film deposition method using the same
JP2010049141A (ja) 位相差補償板及びその製造方法
KR101686318B1 (ko) 스퍼터링을 이용한 전자파 차단 차폐막 형성 방법 및 그 장치
JP2007084880A (ja) 蒸着装置及び位相差補償素子
US9090963B2 (en) Adjustable mask for use in optical coating process
WO2012127993A1 (ja) 蒸着装置並びに蒸着方法
TW201317372A (zh) 鍍膜修正板及鍍膜裝置
JPS63313123A (ja) 液晶表示素子の製造方法
CN202492566U (zh) 镀膜机修正板结构
TWI331635B (en) Substrate holder

Legal Events

Date Code Title Description
MM4A Annulment or lapse of patent due to non-payment of fees