JPH0730677Y2 - シャッター装置 - Google Patents

Description

【考案の詳細な説明】 （産業上の利用分野） この考案は、薄膜形成装置の基板と蒸発源の間、或いは
基板とガス供給源の間などに設置されるシャッター装置
に関する。

（従来の技術） 従来、薄膜形成装置の基板と蒸発源の間に設置されるシ
ャッター装置としては、シャッター板を回動軸、昇降
軸、或いは摺動軸などの駆動軸で支持し、該駆動軸によ
りシャッター板を基板と蒸発源の間の遮蔽位置から外部
位置へ退避できるようにした構造のものが知られてい
た。

（考案により解決すべき課題） 前記のような従来のシャッター装置においては、シャッ
ター板と蒸発源（例えばルツボ）との間は、通常、一定
の間隔を保つようにしていたので、Ｖ族（As、Ｐ）やVI
族（Ｓ、Se、Te）に属する昇華性物質を蒸発物質とする
場合には、シャッター板と蒸発源の間から蒸発物質が基
板側に漏れる問題点があった。

このような漏れを無くする為には、シャッター板をルツ
ボの開口縁部に可及的に近接するなど、シャッター板と
蒸発源との間の距離を短くする手段が採られていたが、
シャッター板の移動を確保する必要上、シャッター板と
蒸発源を当接させて隙間を無くすることはできず、漏れ
を完全に防ぐことはできなかった。また、シャッター板
を蒸発源に近接させた場合には、シャッター板を退避さ
せた際の蒸発物質のオーバーシュートが基板に形成した
薄膜の膜質に影響する問題点がある。望ましい解決手段
とは言えなかった。

この考案は、以上のような問題点を解決し、蒸発物の遮
蔽効果が高く、かつオーバーシュートによる薄膜への影
響が無いシャッター装置を提供することを目的としてい
る。

（課題を解決する為の手段） この考案のシャッター装置は、筒体の内側に、筒体の断
面形状と相似形のシャッター板が回動可能に設置してあ
ると共に、前記シャッター板の遮蔽時に、シャッター板
の略全周の周縁部に重合して、シャッター板の縁部と筒
体の内壁間の隙間を塞ぐための半環状遮蔽板が筒体の内
壁の略全周に沿って設けてあることを特徴としている。

前記筒体は、主として円筒が用いられるが、角筒として
も良い。シャッター板は当然のこと乍ら、筒体の長手方
向と直交する面内に設置され、前記面内に存在する回動
中心の回りで回動可能とされるのであるが、回動の中心
は、必ずしもシャッター板の中心と一致する必要はな
く、中心より何れか一側へ偏っていても良い。

（作用） この考案のシャッター装置においては、シャッター板を
円筒の長手方向と直交する面内の遮蔽位置とした場合、
シャッター板の周縁部と筒体内壁の間隙が半環状遮蔽板
で塞がれることから、完全な遮断を得ることができる。
然してシャッター装置と蒸発源の距離上の制約が無く、
十分な間隔を保つことが可能で、シャッター板を開けた
際の蒸発物のオーバーシュートを小さくすることができ
る。

（実施例） 以下、この考案の実施例を図面を参照して説明する。

第２図は、薄膜形成装置における薄膜形成室１と、蒸発
源たるルツボ２の間に設置した実施例で、前記ルツボ２
は円筒３で構成された蒸発源取付用ポート４内に設置さ
れている。

シャッター装置５は、前記円筒３を介して第１図のよう
に構成されているもので、円筒３の内側に、円盤でなる
シャッター板６が、円筒３の側壁を貫通して取付けた回
転導入機７で回動可能に設置してある。前記シャッター
板６は、円筒３の内側を略塞ぐ大きさとしてあるが、内
壁3aとの間には若干の間隙が保たれて、回動に支障の無
いようにしてある。

前記シャッター板６の回動の中心は回転導入機７の回転
軸８の延長線8a上となっており、該延長線8aを挟んでシ
ャッター板６の一側（第１図中左側）上面周縁部および
他側（第１図中右側）下面周縁部は、シャッター板６の
回動に支障を与えない略全周の範囲で、筒体内壁3aに沿
って設けた弧状の半環状遮蔽板9a、9bの縁部と重合する
ようにしてある。

第２図および第３図は、シャッター装置５を遮断した状
態を表わしたもので、円筒３の内壁3aとシャッター板６
の縁部に保った間隙による隙間は半環状遮蔽板9a、9bで
塞がれる結果、薄膜形成室１とルツボ２の間は完全に塞
がれて、ルツボ２から蒸発又は昇華した物質が薄膜形成
室１へ漏れるのを防止することができる。

第４図および第５図は、シャッター板６を第１図中矢示
10のように90度回動させて、シャッター装置５を開放し
た状態を表わしたもので、ルツボ２から蒸発又は昇華し
た物質は薄膜形成室１へと導かれ、基板（図示していな
い）表面における薄膜形成が可能となる。この実施例の
場合、シャッター装置５と蒸発源であるルツボ２との間
は所要の距離を保つことが可能であるので、シャッター
装置５を開放した際のオーバーシュートを避けることが
できる。従って、基板に形成される薄膜に対する影響も
無く、膜質の良好な薄膜を形成することができる。

第６図は、前記実施例におけるルツボ２に代えて、筒体
３内にガス供給ノズル11を設置した実施例である。

この実施例でも、シャッター装置５の機能は前記実施例
と同様であって、薄膜形成室１に対して完全な遮断が可
能であると共に、開放した際のオーバーシュートを小さ
くすることができる。

前記の各実施例においては、シャッター装置５は何れも
円筒３を用いて構成したが、必ずしも円筒に限定される
ものではなく、角筒（三角筒又は四角以上）とすること
もできる。また、シャッター板６の回動の中心は、シャ
ッター板６の中心に一致させたものについて説明した
が、一側に偏ることもできる。

第７図は、四角筒12内に構成した実施例で、四角筒12内
には方形のシャッター板13が、四角筒12の側壁を貫通し
て設置した回転導入機７を介して回動可能に設置してあ
る。

前記回転導入機７は四角筒12の側壁中央より一側に偏っ
ており、従って、シャッター板13の回動の中心も、回転
導入機７の回転軸８の延長線8a上にあり、四角筒12の中
心より一側に偏っている。四角筒12の内壁12aには、略
全周に亘ってコ字状の半環状遮蔽板14a、14bが設置して
あり、前記シャッター板13の回転の中心より一側（第７
図中左側）上側面と、他側（第７図中右側）下側面の周
縁部が夫々、半環状遮蔽板14a、14bの縁部と重合して、
シャッター板13の縁部と四角筒12の内壁間の隙間を塞ぐ
ことができるようになっている。

第７図に示した実施例も、前記実施例と同様の使用が可
能で、蒸発物質の完全な遮断と、開放時のオーバーシュ
ートの低減が可能である。

（考案の効果） 以上に説明したように、この考案のシャッター装置によ
れば、シャッター板の縁部と筒体の内壁間の隙間を略全
周に亘って塞いだので、蒸発物質の完全な遮断が可能で
あると共に、蒸発又は昇華物質或いはガスの、シャッタ
ー開放時のオーバーシュートを低減できるので、所要の
薄膜形成が可能であり、かつ膜質を良好に保つなどの効
果がある。

【図面の簡単な説明】

第１図はこの考案の実施例の斜視図、第２図は実施例を
用いた薄膜形成装置の一部断面図で、シャッター装置を
遮断した状態の図、第３図は同じくシャッター装置を遮
断した状態の他の断面図、第４図は同じくシャッター装
置を開放した状態の断面図、第５図は同じくシャッター
装置を開放した状態の他の断面図、第６図は実施例を用
いた別の薄膜形成装置の一部断面図、第７図はこの考案
の他の実施例の斜視図である。 ３……円筒、3a……内壁 ５……シャッター装置、６、13……シャッター板 ７……回転導入機 9a、9b、14a、14b……半環状遮蔽板 12……四角筒、12a……内壁

Claims (1)

【実用新案登録請求の範囲】
1. 【請求項１】筒体の内側に、筒体の断面形状と相似形の
   シャッター板が回動可能に設置してあると共に、前記シ
   ャッター板の遮蔽時に、シャッター板の略全周の周縁部
   に重合して、シャッター板の縁部と筒体の内壁間の隙間
   を塞ぐための半環状遮蔽板が筒体の内壁の略全周に沿っ
   て設けてあることを特徴としたシャッター装置