JP2595805Y2 - 真空蒸着装置 - Google Patents
真空蒸着装置Info
- Publication number
- JP2595805Y2 JP2595805Y2 JP1992064330U JP6433092U JP2595805Y2 JP 2595805 Y2 JP2595805 Y2 JP 2595805Y2 JP 1992064330 U JP1992064330 U JP 1992064330U JP 6433092 U JP6433092 U JP 6433092U JP 2595805 Y2 JP2595805 Y2 JP 2595805Y2
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- JP
- Japan
- Prior art keywords
- substrate
- evaporation source
- substrate holder
- evaporation
- vacuum
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Lifetime
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- Physical Vapour Deposition (AREA)
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】この考案は、真空容器内に蒸発源
と基板ホルダを対向設置して構成された真空蒸着装置に
関する。
と基板ホルダを対向設置して構成された真空蒸着装置に
関する。
【０００２】
【従来の技術】従来の真空蒸着装置は、図５に示したよ
うに、真空容器１内に、蒸発源２と基板ホルダ３を対向
設置して構成されていた。蒸発源２は、蒸発試料４を加
熱により蒸発させるもので、抵抗加熱方式、電子ビーム
加熱方式、誘導加熱方式等があった。基板ホルダ３は、
蒸発源２側が基板支持面とされ、この面内に基板５を支
持するように構成されたもので、基板ホルダ３の中心に
立てた法線６が、前記蒸発源２を通るように配置されて
いた。基板ホルダ３は法線６の回りで回転するようにし
たものもあった。
うに、真空容器１内に、蒸発源２と基板ホルダ３を対向
設置して構成されていた。蒸発源２は、蒸発試料４を加
熱により蒸発させるもので、抵抗加熱方式、電子ビーム
加熱方式、誘導加熱方式等があった。基板ホルダ３は、
蒸発源２側が基板支持面とされ、この面内に基板５を支
持するように構成されたもので、基板ホルダ３の中心に
立てた法線６が、前記蒸発源２を通るように配置されて
いた。基板ホルダ３は法線６の回りで回転するようにし
たものもあった。
【０００３】
【考案により解決すべき課題】前記のような従来の真空
蒸着装置では、基板ホルダ３の中心（法線６と交わる位
置）から離れるに従って、基板５へ入射する蒸発粒子の
入射角度が大きくなり、基板５に形成される蒸着膜の性
質が変化するので、これを避ける為に蒸発源２と基板ホ
ルダ３の距離を大きくし、基板５に形成される蒸着膜が
基板５内で、できるだけ均一になるようにしていた。
蒸着装置では、基板ホルダ３の中心（法線６と交わる位
置）から離れるに従って、基板５へ入射する蒸発粒子の
入射角度が大きくなり、基板５に形成される蒸着膜の性
質が変化するので、これを避ける為に蒸発源２と基板ホ
ルダ３の距離を大きくし、基板５に形成される蒸着膜が
基板５内で、できるだけ均一になるようにしていた。
【０００４】この為、従来の真空蒸着装置は、真空容器
１が大きくなり、又、蒸着速度が小さくなるという問題
点があった。
１が大きくなり、又、蒸着速度が小さくなるという問題
点があった。
【０００５】
【課題を解決するための手段】この考案は、前記のよう
な問題点に鑑みてなされたもので、装置の小形化が可能
で、かつ基板に入射する蒸発粒子の入射角度を垂直にで
きる真空蒸着装置を提供することを目的としている。
な問題点に鑑みてなされたもので、装置の小形化が可能
で、かつ基板に入射する蒸発粒子の入射角度を垂直にで
きる真空蒸着装置を提供することを目的としている。
【０００６】この考案の真空蒸着装置は、真空容器内に
蒸発源と基板ホルダを対向設置してなる真空蒸着装置に
おいて、前記基板ホルダは、蒸発源を通る基板ホルダに
立てた法線から離れた位置を中心として基板支持面内で
自転可能としてあると共に、自転中心の一側蒸発源側
に、基板へほぼ垂直に入射する蒸着粒子のみに制限する
為の遮蔽板が設置してあることを特徴としている。
蒸発源と基板ホルダを対向設置してなる真空蒸着装置に
おいて、前記基板ホルダは、蒸発源を通る基板ホルダに
立てた法線から離れた位置を中心として基板支持面内で
自転可能としてあると共に、自転中心の一側蒸発源側
に、基板へほぼ垂直に入射する蒸着粒子のみに制限する
為の遮蔽板が設置してあることを特徴としている。
【０００７】
【作用】この考案の真空蒸着装置においては、蒸発源か
ら放出された蒸発粒子のうち、基板に対して大きな入射
角度で入射する蒸発粒子が遮蔽板で遮断され、基板に入
射するのを制限される。従って、基板上には略垂直に入
射する蒸発粒子だけが入射し、蒸着膜を形成することが
できる。
ら放出された蒸発粒子のうち、基板に対して大きな入射
角度で入射する蒸発粒子が遮蔽板で遮断され、基板に入
射するのを制限される。従って、基板上には略垂直に入
射する蒸発粒子だけが入射し、蒸着膜を形成することが
できる。
【０００８】この結果、蒸発源と基板ホルダの距離を近
接させることが可能である。
接させることが可能である。
【０００９】
【実施例】以下この考案の実施例を図を参照して説明す
る。
る。
【００１０】この考案の実施例の真空蒸着装置の一部を
示したものである。
示したものである。
【００１１】図１の実施例は真空容器１１内に蒸発源１
２と基板ホルダ１３が対向設置して あり、前記基板ホル
ダ１３の蒸発源１２側に遮蔽板２２が設置してある。前
記基板ホルダ１３は、法線１４が蒸発源１２を通るよう
にされ、かつ該法線１４から一側に離れた位置を中心と
して、矢示２３のように基板支持面１３ａ内で自転可能
としてある。そして前記遮蔽板２２は、自転の中心より
一側の位置に配置され、基板１５の一側を覆うようにな
っている。
２と基板ホルダ１３が対向設置して あり、前記基板ホル
ダ１３の蒸発源１２側に遮蔽板２２が設置してある。前
記基板ホルダ１３は、法線１４が蒸発源１２を通るよう
にされ、かつ該法線１４から一側に離れた位置を中心と
して、矢示２３のように基板支持面１３ａ内で自転可能
としてある。そして前記遮蔽板２２は、自転の中心より
一側の位置に配置され、基板１５の一側を覆うようにな
っている。
【００１２】この実施例の場合、遮蔽板２２が、蒸発粒
子のうち、基板１５に対して大きな入射角度で入射する
蒸発粒子を遮蔽し、略垂直で入射する蒸発粒子だけを基
板１５側へ通過させる。基板１５を自転させる結果、基
板１５の表面には、略垂直に入射する蒸発粒子による均
一な蒸着膜が形成される。
子のうち、基板１５に対して大きな入射角度で入射する
蒸発粒子を遮蔽し、略垂直で入射する蒸発粒子だけを基
板１５側へ通過させる。基板１５を自転させる結果、基
板１５の表面には、略垂直に入射する蒸発粒子による均
一な蒸着膜が形成される。
【００１３】この結果、蒸発源１２と基板ホルダ１３を
近接させることが可能である。
近接させることが可能である。
【００１４】
【考案の効果】以上に説明したように、この考案によれ
ば、基板に到達する蒸発粒子を、基板に対して略垂直に
入射する蒸発粒子に制限できるようにしたので、蒸発源
と基板ホルダを近接させて、これらを収容する真空容器
を小型化できる効果がある。
ば、基板に到達する蒸発粒子を、基板に対して略垂直に
入射する蒸発粒子に制限できるようにしたので、蒸発源
と基板ホルダを近接させて、これらを収容する真空容器
を小型化できる効果がある。
【００１５】蒸発源と基板ホルダを近接させるので、遮
蔽板の設置による蒸着速度の低下を避けることができ
る。
蔽板の設置による蒸着速度の低下を避けることができ
る。
【００１６】又、基板に形成される蒸着膜は、略垂直に
入射する蒸発粒子で形成されるので、蒸着膜の諸特性を
蒸発源と基板ホルダの距離に律則されることなく、向上
できる効果もある。
入射する蒸発粒子で形成されるので、蒸着膜の諸特性を
蒸発源と基板ホルダの距離に律則されることなく、向上
できる効果もある。
【図１】この考案の実施例の要部構成図である。
【図２】従来の真空蒸着装置の構成図である。
１１ 真空容器 １２ 蒸発源 １３ 基板ホルダ １３ａ 基板支持面 １４ 法線 １５ 基板 １９ 蒸発試料 ２２ 遮蔽板 ２３ 矢示
Claims (1)
- 【請求項１】 真空容器内に、蒸発源と基板ホルダを対
向設置してなる真空蒸着装置において、前記基板ホルダ
は、蒸発源を通る基板ホルダに立てた法線から離れた位
置を中心として基板支持面内で自転可能としてあると共
に、自転中心の一側蒸発源側に、基板へほぼ垂直に入射
する蒸着粒子のみに制限する為の遮蔽板が設置してある
ことを特徴とした真空蒸着装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1992064330U JP2595805Y2 (ja) | 1992-08-21 | 1992-08-21 | 真空蒸着装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1992064330U JP2595805Y2 (ja) | 1992-08-21 | 1992-08-21 | 真空蒸着装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0622364U JPH0622364U (ja) | 1994-03-22 |
| JP2595805Y2 true JP2595805Y2 (ja) | 1999-06-02 |
Family
ID=13255126
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP1992064330U Expired - Lifetime JP2595805Y2 (ja) | 1992-08-21 | 1992-08-21 | 真空蒸着装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2595805Y2 (ja) |
-
1992
- 1992-08-21 JP JP1992064330U patent/JP2595805Y2/ja not_active Expired - Lifetime
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH0622364U (ja) | 1994-03-22 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| R250 | Receipt of annual fees |
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