JPH0336264A - レーザーｐｖｄ装置 - Google Patents
レーザーｐｖｄ装置Info
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- JPH0336264A JPH0336264A JP16802289A JP16802289A JPH0336264A JP H0336264 A JPH0336264 A JP H0336264A JP 16802289 A JP16802289 A JP 16802289A JP 16802289 A JP16802289 A JP 16802289A JP H0336264 A JPH0336264 A JP H0336264A
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- JP
- Japan
- Prior art keywords
- laser light
- vacuum chamber
- laser
- particles
- target material
- Prior art date
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- Granted
Links
- 239000002245 particle Substances 0.000 claims abstract description 16
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims abstract description 11
- 239000010409 thin film Substances 0.000 claims abstract description 9
- 239000013077 target material Substances 0.000 claims description 28
- 230000008021 deposition Effects 0.000 abstract description 2
- 230000001678 irradiating effect Effects 0.000 abstract description 2
- 238000000151 deposition Methods 0.000 abstract 2
- 230000008016 vaporization Effects 0.000 abstract 2
- 230000008020 evaporation Effects 0.000 description 4
- 238000001704 evaporation Methods 0.000 description 4
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 3
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 238000007740 vapor deposition Methods 0.000 description 1
Landscapes
- Physical Vapour Deposition (AREA)
- Physical Deposition Of Substances That Are Components Of Semiconductor Devices (AREA)
- Lasers (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
（産業上の利用分野）
この発明は、レーザー光の照射により蒸発したターゲッ
ト材粒子の付着によって基板に薄膜を形成するレーザー
ＰＶＤ装置に関するものである。
ト材粒子の付着によって基板に薄膜を形成するレーザー
ＰＶＤ装置に関するものである。
（従来の技術）
従来のレーザーＰＶＤ装置は、第３図に示されるように
真空槽１外にはレーザー発振器２が大気中に設置され、
その１ノ一ザー発振器２より発生したレーザー光３は真
空槽１の壁に取り付けられたレーザー光導入窓４を通過
して、真空槽１内に入射されている。真空槽１内にはロ
ール状のターゲット材５が静止するように配置され、そ
のターゲット材５にレーザー光導入窓４を通過したレー
ザー光３が照射されている。レーザー光３の照射により
蒸発したターゲット材５の粒子は、真空槽１内に配設さ
れた基板６に付着（７、その表面に薄膜を形成するよう
になる。
真空槽１外にはレーザー発振器２が大気中に設置され、
その１ノ一ザー発振器２より発生したレーザー光３は真
空槽１の壁に取り付けられたレーザー光導入窓４を通過
して、真空槽１内に入射されている。真空槽１内にはロ
ール状のターゲット材５が静止するように配置され、そ
のターゲット材５にレーザー光導入窓４を通過したレー
ザー光３が照射されている。レーザー光３の照射により
蒸発したターゲット材５の粒子は、真空槽１内に配設さ
れた基板６に付着（７、その表面に薄膜を形成するよう
になる。
（発明が解決しようとする課題）
従来のレーザーＰＶＤ装置は、上記のようにレーザー光
３の照射により蒸発したターゲット材５の粒子を基板６
に付着させて、薄膜を形成するようにしているが、その
際、ターゲット材５の粒子が真空槽１の壁やレーザー光
導入窓４にも付着するようになるため、装置を長時間便
用Ｉ、ていると、レーザー発振器２より発生したレーザ
ー光３が１ノ−ザー光導入窓４を通過しなくなり、装置
の長時間運転が不可能になる問題が発生した。
３の照射により蒸発したターゲット材５の粒子を基板６
に付着させて、薄膜を形成するようにしているが、その
際、ターゲット材５の粒子が真空槽１の壁やレーザー光
導入窓４にも付着するようになるため、装置を長時間便
用Ｉ、ていると、レーザー発振器２より発生したレーザ
ー光３が１ノ−ザー光導入窓４を通過しなくなり、装置
の長時間運転が不可能になる問題が発生した。
この発明の目的は、上記従来の問題を解決して、長時間
にわたるレーザー光のレーザー光導入窓への通過を可能
にして、装置の長時間運転をできるようにするレーザー
ＰＶＤ装置を提供することにある。
にわたるレーザー光のレーザー光導入窓への通過を可能
にして、装置の長時間運転をできるようにするレーザー
ＰＶＤ装置を提供することにある。
（課題を解決するための手段）
上記目的を達成するために、この発明のレーザーＰＶＤ
装置は、真空槽と、この真空槽外の大気中に設置された
レーザー発振器と、このレーザー発振器より発生したレ
ーザー光を真空槽に導入するために、真空槽の壁に取り
付けられたレーザー光導入窓と、真空槽内で回転しなが
ら、レーザー光導入窓を通過したレーザー光によって照
射されたターゲット材と、真空槽内に配置され、レーザ
ー光の照射により蒸発したターゲット材粒子の付着によ
って薄膜の形成される基板とを備えたことを特徴とする
ものである。
装置は、真空槽と、この真空槽外の大気中に設置された
レーザー発振器と、このレーザー発振器より発生したレ
ーザー光を真空槽に導入するために、真空槽の壁に取り
付けられたレーザー光導入窓と、真空槽内で回転しなが
ら、レーザー光導入窓を通過したレーザー光によって照
射されたターゲット材と、真空槽内に配置され、レーザ
ー光の照射により蒸発したターゲット材粒子の付着によ
って薄膜の形成される基板とを備えたことを特徴とする
ものである。
（作用）
この発明においては、レーザー光導入窓を通過したレー
ザー光をターゲット材に照射することにより、ターゲッ
ト材が１０００°Ｃ以上に加熱されて蒸発され、そして
、ターゲット材粒子の蒸発方向がｃｏｓ ｉｎの法則に
準じるようになるが、ターゲット材が真空槽内で回転し
ているので、ターゲット材粒子の蒸発方向が変化し、タ
ーゲット材粒子がレーザー光導入窓に付着することなく
、基板に付着し、その表面に薄膜を形成するようになる
。
ザー光をターゲット材に照射することにより、ターゲッ
ト材が１０００°Ｃ以上に加熱されて蒸発され、そして
、ターゲット材粒子の蒸発方向がｃｏｓ ｉｎの法則に
準じるようになるが、ターゲット材が真空槽内で回転し
ているので、ターゲット材粒子の蒸発方向が変化し、タ
ーゲット材粒子がレーザー光導入窓に付着することなく
、基板に付着し、その表面に薄膜を形成するようになる
。
（実施例）
以下、この発明の実施例について図面を参照しながら説
明する。
明する。
第１図はこの発明の実施例を示しており、同図において
、真空槽１外にはレーザー発振器２が大気中に設置され
、そのレーザー発振器２より発生したレーザー光３は真
空槽ｌの壁に取り付けられたレーザー光導入窓４を通過
して、真空槽１内に入射されている。真空槽１内にはロ
ール状のターゲット材５が配置され、そのターゲット材
５は回転機構（図示せず）により真空槽ｌ内で回転させ
られながら、レーザー光導入窓４を通過したレーザー光
３で照射され、１０００℃以上に加熱される。したがっ
て、ターゲット材５の粒子の蒸発方向がｃｏｓｉｎの法
則に準じるようになるが、ターゲット材５の回転により
、ターゲット材５の粒子は、その蒸発方向を変化させ、
レーザー光導入窓４に付着することなく、真空槽１内に
配置された基板６に付着し、その表面に薄膜を形成する
ようになる。
、真空槽１外にはレーザー発振器２が大気中に設置され
、そのレーザー発振器２より発生したレーザー光３は真
空槽ｌの壁に取り付けられたレーザー光導入窓４を通過
して、真空槽１内に入射されている。真空槽１内にはロ
ール状のターゲット材５が配置され、そのターゲット材
５は回転機構（図示せず）により真空槽ｌ内で回転させ
られながら、レーザー光導入窓４を通過したレーザー光
３で照射され、１０００℃以上に加熱される。したがっ
て、ターゲット材５の粒子の蒸発方向がｃｏｓｉｎの法
則に準じるようになるが、ターゲット材５の回転により
、ターゲット材５の粒子は、その蒸発方向を変化させ、
レーザー光導入窓４に付着することなく、真空槽１内に
配置された基板６に付着し、その表面に薄膜を形成する
ようになる。
そこで、ターゲット材５にＢａＹＣｕＯを使用し、ター
ゲット材５を回転させながら、装置の連続蒸着可能時間
を測定すると、次の第１表に示されるようにターゲット
材５を高速で回転させるにしたがって、装置の連続蒸着
可能時間が長くなった。
ゲット材５を回転させながら、装置の連続蒸着可能時間
を測定すると、次の第１表に示されるようにターゲット
材５を高速で回転させるにしたがって、装置の連続蒸着
可能時間が長くなった。
第１表
なお、上記実施例はターゲット材５にロール状のものを
使用しているが、その代わりに、第２図に示すように円
板のターゲット材５を使用してもよい。
使用しているが、その代わりに、第２図に示すように円
板のターゲット材５を使用してもよい。
（発明の効果）
この発明は、上記のようにターゲット材が真空槽内で回
転しているので、レーザー光の照射により蒸発したター
ゲット材粒子は、レーザー光導入窓に付着することなく
、基板に付着し、その表面に薄膜を形成するようになる
。そのため、長時間にわたるレーザー光のレーザー光導
入窓への通過が可能となり、装置の長時間運転ができる
ようになる。
転しているので、レーザー光の照射により蒸発したター
ゲット材粒子は、レーザー光導入窓に付着することなく
、基板に付着し、その表面に薄膜を形成するようになる
。そのため、長時間にわたるレーザー光のレーザー光導
入窓への通過が可能となり、装置の長時間運転ができる
ようになる。
第１図はこの発明の実施例を示す説明図、第２図はこの
発明のその他の実施例を示す説明図である。第３図は従
来の装置を示す説明図である。 図中、 真空槽 レーザー発振器 レーザー光 レーザー光導入窓 ターゲット材 基板
発明のその他の実施例を示す説明図である。第３図は従
来の装置を示す説明図である。 図中、 真空槽 レーザー発振器 レーザー光 レーザー光導入窓 ターゲット材 基板
Claims (1)
- １．真空槽と、この真空槽外の大気中に設置されたレー
ザー発振器と、このレーザー発振器より発生したレーザ
ー光を真空槽に導入するために、真空槽の壁に取り付け
られたレーザー光導入窓と、真空槽内で回転しながら、
レーザー光導入窓を通過したレーザー光によって照射さ
れたターゲット材と、真空槽内に配置され、レーザー光
の照射により蒸発したターゲット材粒子の付着によって
薄膜の形成される基板とを備えたことを特徴とするレー
ザーＰＶＤ装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1168022A JP2756309B2 (ja) | 1989-06-29 | 1989-06-29 | レーザーｐｖｄ装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1168022A JP2756309B2 (ja) | 1989-06-29 | 1989-06-29 | レーザーｐｖｄ装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0336264A true JPH0336264A (ja) | 1991-02-15 |
| JP2756309B2 JP2756309B2 (ja) | 1998-05-25 |
Family
ID=15860360
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP1168022A Expired - Fee Related JP2756309B2 (ja) | 1989-06-29 | 1989-06-29 | レーザーｐｖｄ装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2756309B2 (ja) |
Citations (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS62230A (ja) * | 1985-06-26 | 1987-01-06 | 三機工業株式会社 | 実験動物飼育装置 |
| JPS6338427A (ja) * | 1986-08-04 | 1988-02-19 | セイワ株式会社 | モツプ |
| JPS6338424A (ja) * | 1986-07-31 | 1988-02-19 | アイシン精機株式会社 | 便座の衝撃緩和装置 |
| JPS63157860A (ja) * | 1986-12-19 | 1988-06-30 | Mitsubishi Electric Corp | レ−ザ蒸着装置 |
-
1989
- 1989-06-29 JP JP1168022A patent/JP2756309B2/ja not_active Expired - Fee Related
Patent Citations (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS62230A (ja) * | 1985-06-26 | 1987-01-06 | 三機工業株式会社 | 実験動物飼育装置 |
| JPS6338424A (ja) * | 1986-07-31 | 1988-02-19 | アイシン精機株式会社 | 便座の衝撃緩和装置 |
| JPS6338427A (ja) * | 1986-08-04 | 1988-02-19 | セイワ株式会社 | モツプ |
| JPS63157860A (ja) * | 1986-12-19 | 1988-06-30 | Mitsubishi Electric Corp | レ−ザ蒸着装置 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP2756309B2 (ja) | 1998-05-25 |
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Legal Events
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