JP2756309B2 - レーザーｐｖｄ装置 - Google Patents
レーザーｐｖｄ装置Info
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- JP2756309B2 JP2756309B2 JP1168022A JP16802289A JP2756309B2 JP 2756309 B2 JP2756309 B2 JP 2756309B2 JP 1168022 A JP1168022 A JP 1168022A JP 16802289 A JP16802289 A JP 16802289A JP 2756309 B2 JP2756309 B2 JP 2756309B2
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- Japan
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- target material
- vacuum chamber
- laser light
- laser
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Description
【発明の詳細な説明】 （産業上の利用分野） この発明は、レーザー光の照射により蒸発したターゲ
ット材粒子の付着によって基板に薄膜を形成するレーザ
ーPVD装置に関するものである。
ット材粒子の付着によって基板に薄膜を形成するレーザ
ーPVD装置に関するものである。
（従来の技術） 従来のレーザーPVD装置は、第３図に示されるように
真空槽１外にはレーザー発振器２が大気中に設置され、
そのレーザー発振器２より発生したレーザー光３は真空
槽１の壁に取り付けられたレーザー光導入窓４を通過し
て、真空槽１内に入射されている。真空槽１内にはロー
ル状のターゲット材５が静止するように配置され、その
ターゲット材５にレーザー光導入窓４を通過したレーザ
ー光３が照射されている。レーザー光３の照射により蒸
発したターゲット材５の粒子は、真空槽１内に配設され
た基板６に付着し、その表面に薄膜を形成するようにな
る。
真空槽１外にはレーザー発振器２が大気中に設置され、
そのレーザー発振器２より発生したレーザー光３は真空
槽１の壁に取り付けられたレーザー光導入窓４を通過し
て、真空槽１内に入射されている。真空槽１内にはロー
ル状のターゲット材５が静止するように配置され、その
ターゲット材５にレーザー光導入窓４を通過したレーザ
ー光３が照射されている。レーザー光３の照射により蒸
発したターゲット材５の粒子は、真空槽１内に配設され
た基板６に付着し、その表面に薄膜を形成するようにな
る。
（発明が解決しようとする課題） 従来のレーザーPVD装置は、上記のようにレーザー光
３の照射により蒸発したターゲット材５の粒子を基板６
に付着させて、薄膜を形成するようにしているが、その
際、ターゲット材５の粒子が真空槽１の壁やレーザー光
導入窓４にも付着するようになるため、装置を長時間使
用していると、レーザー発振器２より発生したレーザー
光３がレーザー光導入窓４を通過しなくなり、装置の長
時間運転が不可能になる問題が発生した。
３の照射により蒸発したターゲット材５の粒子を基板６
に付着させて、薄膜を形成するようにしているが、その
際、ターゲット材５の粒子が真空槽１の壁やレーザー光
導入窓４にも付着するようになるため、装置を長時間使
用していると、レーザー発振器２より発生したレーザー
光３がレーザー光導入窓４を通過しなくなり、装置の長
時間運転が不可能になる問題が発生した。
この発明の目的は、上記従来の問題を解決して、長時
間にわたるレーザー光のレーザー光導入窓への通過を可
能にして、装置の長時間運転をできるようにするレーザ
ーPVD装置を提供することにある。
間にわたるレーザー光のレーザー光導入窓への通過を可
能にして、装置の長時間運転をできるようにするレーザ
ーPVD装置を提供することにある。
（課題を解決するための手段） 上記目的を達成するために、この発明のレーザーPVD
装置は、真空槽と、この真空槽外の大気中に設置された
レーザー発振器と、このレーザー発振器より発生したレ
ーザー光を真空槽に導入するために、真空槽の壁に取り
付けられたレーザー光導入窓と、真空槽内に配置され、
レーザー光導入窓を通過したレーザー光によって照射さ
れたターゲット材と、真空槽内に配置され、レーザー光
の照射により蒸発したターゲット材粒子の付着によって
薄膜の形成される基板とを備え、ターゲット材から蒸発
したターゲット材粒子がレーザー光導入点に付着するも
を防止するのに十分な高速回転でターゲット材を回転さ
せるように構成したことを特徴とするものである。
装置は、真空槽と、この真空槽外の大気中に設置された
レーザー発振器と、このレーザー発振器より発生したレ
ーザー光を真空槽に導入するために、真空槽の壁に取り
付けられたレーザー光導入窓と、真空槽内に配置され、
レーザー光導入窓を通過したレーザー光によって照射さ
れたターゲット材と、真空槽内に配置され、レーザー光
の照射により蒸発したターゲット材粒子の付着によって
薄膜の形成される基板とを備え、ターゲット材から蒸発
したターゲット材粒子がレーザー光導入点に付着するも
を防止するのに十分な高速回転でターゲット材を回転さ
せるように構成したことを特徴とするものである。
（作用） この発明においては、レーザー光導入窓を通過したレ
ーザー光をターゲット材に照射することにより、ターゲ
ット材が1000℃以上に加熱されて蒸発され、そして、タ
ーゲット材粒子の蒸発方向がcosinの法則に準じるよう
になるが、ターゲット材が真空槽内で回転しているの
で、ターゲット材粒子の蒸発方向が変化し、ターゲット
材粒子がレーザー光導入窓に付着することなく、基板に
付着し、その表面に薄膜を形成するようになる。
ーザー光をターゲット材に照射することにより、ターゲ
ット材が1000℃以上に加熱されて蒸発され、そして、タ
ーゲット材粒子の蒸発方向がcosinの法則に準じるよう
になるが、ターゲット材が真空槽内で回転しているの
で、ターゲット材粒子の蒸発方向が変化し、ターゲット
材粒子がレーザー光導入窓に付着することなく、基板に
付着し、その表面に薄膜を形成するようになる。
（実施例） 以下、この発明の実施例について図面を参照しながら
説明する。
説明する。
第１図はこの発明の実施例を示しており、同図におい
て、真空槽１外にはレーザー発振器２が大気中に設置さ
れ、そのレーザー発振器２より発生したレーザー光３は
真空槽１の壁に取り付けられたレーザー光導入窓４を通
過して、真空槽１内に入射されている。真空槽１内には
ロール状のターゲット材５が配置され、そのターゲット
材５は回転機構（図示せず）により真空槽１内で回転さ
せられながら、レーザー光導入窓４を通過したレーザー
光３で照射され、1000℃以上に加熱される。したがっ
て、ターゲット材５の粒子の蒸発方向がcosinの法則に
準じるようになるが、ターゲット材５の回転により、タ
ーゲット材５の粒子は、その蒸発方向を変化させ、レー
ザー光導入窓４に付着することなく、真空槽１内に配置
された基板６に付着し、その表面に薄膜を形成するよう
になる。
て、真空槽１外にはレーザー発振器２が大気中に設置さ
れ、そのレーザー発振器２より発生したレーザー光３は
真空槽１の壁に取り付けられたレーザー光導入窓４を通
過して、真空槽１内に入射されている。真空槽１内には
ロール状のターゲット材５が配置され、そのターゲット
材５は回転機構（図示せず）により真空槽１内で回転さ
せられながら、レーザー光導入窓４を通過したレーザー
光３で照射され、1000℃以上に加熱される。したがっ
て、ターゲット材５の粒子の蒸発方向がcosinの法則に
準じるようになるが、ターゲット材５の回転により、タ
ーゲット材５の粒子は、その蒸発方向を変化させ、レー
ザー光導入窓４に付着することなく、真空槽１内に配置
された基板６に付着し、その表面に薄膜を形成するよう
になる。
そこで、ターゲット材５にBaYCuOを使用し、ターゲッ
ト材５を回転させながら、装置の連続蒸着可能時間を測
定すると、次の第１表に示されるようにターゲット材５
を高速で回転させるにしたがって、装置の連続蒸着可能
時間が長くなった。
ト材５を回転させながら、装置の連続蒸着可能時間を測
定すると、次の第１表に示されるようにターゲット材５
を高速で回転させるにしたがって、装置の連続蒸着可能
時間が長くなった。
なお、上記実施例はターゲット材５にロール状のもの
を使用しているが、その代わりに、第２図に示すように
円板のターゲット材５を使用してもよい。
を使用しているが、その代わりに、第２図に示すように
円板のターゲット材５を使用してもよい。
（発明の効果） この発明は、上記のようにターゲット材が真空槽内で
回転しているので、レーザー光の照射により蒸発したタ
ーゲット材粒子は、レーザー光導入窓に付着することな
く、基板に付着し、その表面に薄膜を形成するようにな
る。そのため、長時間にわたるレーザー光のレーザー光
導入窓への通過が可能となり、装置の長時間運転ができ
るようになる。
回転しているので、レーザー光の照射により蒸発したタ
ーゲット材粒子は、レーザー光導入窓に付着することな
く、基板に付着し、その表面に薄膜を形成するようにな
る。そのため、長時間にわたるレーザー光のレーザー光
導入窓への通過が可能となり、装置の長時間運転ができ
るようになる。
第１図はこの発明の実施例を示す説明図、第２図はこの
発明のその他の実施例を示す説明図である。第３図は従
来の装置を示す説明図である。 図中、 １……真空槽 ２……レーザー発振器 ３……レーザー光 ４……レーザー光導入窓 ５……ターゲット材 ６……基板
発明のその他の実施例を示す説明図である。第３図は従
来の装置を示す説明図である。 図中、 １……真空槽 ２……レーザー発振器 ３……レーザー光 ４……レーザー光導入窓 ５……ターゲット材 ６……基板
Claims (1)
- 【請求項１】真空槽と、この真空槽外の大気中に設置さ
れたレーザー発振器と、このレーザー発振器より発生し
たレーザー光を真空槽に導入するために、真空槽の壁に
取り付けられたレーザー光導入窓と、真空槽内に配置さ
れ、レーザー光導入窓を通過したレーザー光によって照
射されたターゲット材と、真空槽内に配置され、レーザ
ー光の照射により蒸発したターゲット材粒子の付着によ
って薄膜の形成される基板とを備え、ターゲット材から
蒸発したターゲット材粒子がレーザー光導入点に付着す
るもを防止するのに十分な高速回転でターゲット材を回
転させるように構成したことを特徴とするレーザーPVD
装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1168022A JP2756309B2 (ja) | 1989-06-29 | 1989-06-29 | レーザーｐｖｄ装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1168022A JP2756309B2 (ja) | 1989-06-29 | 1989-06-29 | レーザーｐｖｄ装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0336264A JPH0336264A (ja) | 1991-02-15 |
| JP2756309B2 true JP2756309B2 (ja) | 1998-05-25 |
Family
ID=15860360
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP1168022A Expired - Fee Related JP2756309B2 (ja) | 1989-06-29 | 1989-06-29 | レーザーｐｖｄ装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2756309B2 (ja) |
Family Cites Families (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS62230A (ja) * | 1985-06-26 | 1987-01-06 | 三機工業株式会社 | 実験動物飼育装置 |
| JPH0618541B2 (ja) * | 1986-07-31 | 1994-03-16 | アイシン精機株式会社 | 便座の衝撃緩和装置 |
| JPS6338427A (ja) * | 1986-08-04 | 1988-02-19 | セイワ株式会社 | モツプ |
| JPH0733572B2 (ja) * | 1986-12-19 | 1995-04-12 | 三菱電機株式会社 | レ−ザ蒸着装置 |
-
1989
- 1989-06-29 JP JP1168022A patent/JP2756309B2/ja not_active Expired - Fee Related
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH0336264A (ja) | 1991-02-15 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
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