JPS6179766A - レ−ザ蒸着装置 - Google Patents
レ−ザ蒸着装置Info
- Publication number
- JPS6179766A JPS6179766A JP20336984A JP20336984A JPS6179766A JP S6179766 A JPS6179766 A JP S6179766A JP 20336984 A JP20336984 A JP 20336984A JP 20336984 A JP20336984 A JP 20336984A JP S6179766 A JPS6179766 A JP S6179766A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- vapor deposition
- laser beam
- laser
- substrate
- metal substrate
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
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Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
- C23C14/22—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the process of coating
- C23C14/24—Vacuum evaporation
- C23C14/28—Vacuum evaporation by wave energy or particle radiation
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Health & Medical Sciences (AREA)
- Toxicology (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
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- Mechanical Engineering (AREA)
- Metallurgy (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Physical Vapour Deposition (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
（産業上の利用分野〕
本発明は、金属基板の表面にセラミック等の蒸着膜を形
成するためのレーザ蒸着装置に関する。
成するためのレーザ蒸着装置に関する。
従来、レーザ蒸着装置は、通常第２図に示すように構成
されている。即ち、装置本体である真空容器１０内には
、セラミック等の蒸着材料１１及び被蒸着体である金属
基板１２が設置される。真空容器１０Ｋｌｒｉ、レーザ
ビーム１３を通過させるための光学窓１４′が設けられ
ている。
されている。即ち、装置本体である真空容器１０内には
、セラミック等の蒸着材料１１及び被蒸着体である金属
基板１２が設置される。真空容器１０Ｋｌｒｉ、レーザ
ビーム１３を通過させるための光学窓１４′が設けられ
ている。
レーザビーム１３は、凸レンズ１５により集光された後
、光学窓１４を通過して蒸着材料１１０表面に照射する
ように入射される。これＫより、蒸着材料１１が蒸気状
態となり、金属基板１２の表面に蒸着されることＫなる
。このとき、金属基板１２は１図示しないヒータにより
加熱されている。このようにして、金属基板１２０表面
には、セラミック等の蒸着膜が形成されることになる。
、光学窓１４を通過して蒸着材料１１０表面に照射する
ように入射される。これＫより、蒸着材料１１が蒸気状
態となり、金属基板１２の表面に蒸着されることＫなる
。このとき、金属基板１２は１図示しないヒータにより
加熱されている。このようにして、金属基板１２０表面
には、セラミック等の蒸着膜が形成されることになる。
ところで、上記のようにレーザビーム１３の集光、照射
により、蒸気材料１１の蒸気１６が発生する。この蒸気
１６は、金属基板１２の表１４はレーザビーム１３に対
するエネルギー吸収率が急激に増大して、熱歪を生じた
り、破壊されることがある。また、レーザビーム１３０
通過量が減少し、蒸着材料１１に対して十分なエネルギ
ーが与えられないことになる。このため、金属基板１２
に対する蒸着が困難となる。
により、蒸気材料１１の蒸気１６が発生する。この蒸気
１６は、金属基板１２の表１４はレーザビーム１３に対
するエネルギー吸収率が急激に増大して、熱歪を生じた
り、破壊されることがある。また、レーザビーム１３０
通過量が減少し、蒸着材料１１に対して十分なエネルギ
ーが与えられないことになる。このため、金属基板１２
に対する蒸着が困難となる。
したがって、従来では、光学窓１４を比較的４頻繁に交
換する必要があるため、装置の運転コストが増大する問
題があった。
換する必要があるため、装置の運転コストが増大する問
題があった。
本発明は上記の事情に鑑みてなされたもので。
確実に蒸着処理を行なうことができ、しかも運転コスト
を減少することができるレーザ蒸着装置を提供すること
Ｋある。
を減少することができるレーザ蒸着装置を提供すること
Ｋある。
〔問題点を解決するための手段及び作用〕本発明は、真
空容器内に入射されるレーザビームを被蒸着体である金
属基板で反射させ、その反射レーザが蒸着材料に集光照
射するように構成する。この場合、レーザビームの入射
用の光学窓は、レーザビームの蒸着材料に対する照射点
より立体角にして２πより後方の位置に設置される。
空容器内に入射されるレーザビームを被蒸着体である金
属基板で反射させ、その反射レーザが蒸着材料に集光照
射するように構成する。この場合、レーザビームの入射
用の光学窓は、レーザビームの蒸着材料に対する照射点
より立体角にして２πより後方の位置に設置される。
このような構成により、蒸着材料の蒸気が光学窓に付着
することを確実に防止できるものである。
することを確実に防止できるものである。
以下図面を参照して本発明の一実施例について説明する
。第１図は一実施例に係わるレーザ蒸着装置の構成を示
す図である。第１図において、被蒸着体である金属基板
１２は、真空容器１０中に水平方向に移動可能な手段（
図示せず）により設置される。蒸着材料（セラミック等
）１１は、板状または円板状で、蒸着中は回転されたり
、移動されるようになっている。
。第１図は一実施例に係わるレーザ蒸着装置の構成を示
す図である。第１図において、被蒸着体である金属基板
１２は、真空容器１０中に水平方向に移動可能な手段（
図示せず）により設置される。蒸着材料（セラミック等
）１１は、板状または円板状で、蒸着中は回転されたり
、移動されるようになっている。
真空容器１０外から供給されるレーザビーム１３は、凸
レンズ１５によって集光されながら、光学窓１４を通過
して、金属基板１２に直接入射されるようになっている
。光学窓１４は、レーザビーム１３が金属基板１２から
反射して蒸着材料１１に照射される位置関係において、
蒸着材料１ノのレーザ照射点から立体角にして、２πよ
りも後方に位置している。
レンズ１５によって集光されながら、光学窓１４を通過
して、金属基板１２に直接入射されるようになっている
。光学窓１４は、レーザビーム１３が金属基板１２から
反射して蒸着材料１１に照射される位置関係において、
蒸着材料１ノのレーザ照射点から立体角にして、２πよ
りも後方に位置している。
このような構造のレーザ蒸着装＃において。
一実施例に係わる作用効果を説明する。先ず、レーザビ
ーム発生源（例えばＩＫＷＣＯ，レーザ発生源）からレ
ーザビーム１３が発生されると、レーザビーム１３は凸
レンズ１５により集光されながら、光学窓１４を通過し
て真空容器１０内に入射される。入射されたレーザビー
ム１３は、例えはアルミニニウムまたは銅の金属基板１
２により反射された後、セラミック等の蒸着材料１１に
照射することになる。これにより、蒸着材料１ノは蒸発
する。このとき、蒸着材料１１は、例えば円板状で、６
００℃以上に加熱されながら、回転している。この蒸発
材料１１の表面（レーザビーム１３が照射される面）の
法線方向に分布しながら、立体角にして２π方向に拡が
り、金属基板１２の表面に蒸着される。
ーム発生源（例えばＩＫＷＣＯ，レーザ発生源）からレ
ーザビーム１３が発生されると、レーザビーム１３は凸
レンズ１５により集光されながら、光学窓１４を通過し
て真空容器１０内に入射される。入射されたレーザビー
ム１３は、例えはアルミニニウムまたは銅の金属基板１
２により反射された後、セラミック等の蒸着材料１１に
照射することになる。これにより、蒸着材料１ノは蒸発
する。このとき、蒸着材料１１は、例えば円板状で、６
００℃以上に加熱されながら、回転している。この蒸発
材料１１の表面（レーザビーム１３が照射される面）の
法線方向に分布しながら、立体角にして２π方向に拡が
り、金属基板１２の表面に蒸着される。
このとき、金属基板１２は、第１図の矢印の方向に除々
に移動する（例えば１備／分の速度）ことＫより、表面
全体に蒸着がなされ、例えば数μｍの蒸着膜が形成され
る。ここで、金属基板１２の後端には、例えばアルミニ
ニウムまたは銅等の金属板１７が接着剤またはデルト締
め等により設けられる。この金属板１２は、金属基板１
２が移動するに伴って、レーザビーム１３を蒸着材料１
１に反射させることにより、金属基板１２の後端面まで
確実に蒸着させるものである。
に移動する（例えば１備／分の速度）ことＫより、表面
全体に蒸着がなされ、例えば数μｍの蒸着膜が形成され
る。ここで、金属基板１２の後端には、例えばアルミニ
ニウムまたは銅等の金属板１７が接着剤またはデルト締
め等により設けられる。この金属板１２は、金属基板１
２が移動するに伴って、レーザビーム１３を蒸着材料１
１に反射させることにより、金属基板１２の後端面まで
確実に蒸着させるものである。
このようにして、金属板１２の表面に蒸着膜を形成する
ことができる。このとき、レーザビーム１３の照射によ
り発生する蒸気１６は、＃１とんど立体角にして２π方
向に拡散される。光学窓１４は、上記角度より後方に位
置しているため、蒸気１６が付着することはない。
ことができる。このとき、レーザビーム１３の照射によ
り発生する蒸気１６は、＃１とんど立体角にして２π方
向に拡散される。光学窓１４は、上記角度より後方に位
置しているため、蒸気１６が付着することはない。
以上詳述したように本発明によれば、レーザビームの入
射用の光学窓に対して蒸着材料の蒸気が付着するのを確
実に防止することができる。
射用の光学窓に対して蒸着材料の蒸気が付着するのを確
実に防止することができる。
したがって、光学窓が破損するなどの事態を防止できる
ため、レーザビームの入射による蒸着処理を確実に行な
うことができる。また、メインテナンスのだめ光学窓を
交換する回数も減少できるため、蒸着装置の運転コスト
を低下させることができる効果も得ることができるもの
である。
ため、レーザビームの入射による蒸着処理を確実に行な
うことができる。また、メインテナンスのだめ光学窓を
交換する回数も減少できるため、蒸着装置の運転コスト
を低下させることができる効果も得ることができるもの
である。
第１図は本発明の一実施例に係わるレーザ蒸着装置の構
成を示す図、第２図は従来のレーザ蒸着装置の構成を示
す図である。 １０・・・真空容器、１１・・・蒸着材料、１２・・・
金属基板、１４・・・光学窓。 出願人復代理人 弁理士 鈴 江 武 彦第１図 １フ 第２図
成を示す図、第２図は従来のレーザ蒸着装置の構成を示
す図である。 １０・・・真空容器、１１・・・蒸着材料、１２・・・
金属基板、１４・・・光学窓。 出願人復代理人 弁理士 鈴 江 武 彦第１図 １フ 第２図
Claims (1)
- レーザビームを装置本体内に照射させるように通過させ
る光学窓と、この光学窓を通過したレーザビームを被蒸
着体である金属基板に所定の角度で照射させるように上
記金属基板の位置を設定する設定手段と、上記金属基板
に照射されたレーザビームの反射光を照射されて金属基
板の表面に蒸着する蒸着材とを具備し、上記光学窓が上
記レーザビームの上記蒸着材に対する照射点より立体角
にして２πより後方の位置に設置されたことを特徴とす
るレーザ蒸着装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP20336984A JPS6179766A (ja) | 1984-09-28 | 1984-09-28 | レ−ザ蒸着装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP20336984A JPS6179766A (ja) | 1984-09-28 | 1984-09-28 | レ−ザ蒸着装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6179766A true JPS6179766A (ja) | 1986-04-23 |
Family
ID=16472885
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP20336984A Pending JPS6179766A (ja) | 1984-09-28 | 1984-09-28 | レ−ザ蒸着装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS6179766A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5097793A (en) * | 1989-05-11 | 1992-03-24 | Mitsubishi Denki Kabushiki Kaisha | Thin film vacuum evaporation device |
-
1984
- 1984-09-28 JP JP20336984A patent/JPS6179766A/ja active Pending
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5097793A (en) * | 1989-05-11 | 1992-03-24 | Mitsubishi Denki Kabushiki Kaisha | Thin film vacuum evaporation device |
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