JPH0722694Y2 - プラネタリウム用の恒星投影原板 - Google Patents
プラネタリウム用の恒星投影原板Info
- Publication number
- JPH0722694Y2 JPH0722694Y2 JP1988071577U JP7157788U JPH0722694Y2 JP H0722694 Y2 JPH0722694 Y2 JP H0722694Y2 JP 1988071577 U JP1988071577 U JP 1988071577U JP 7157788 U JP7157788 U JP 7157788U JP H0722694 Y2 JPH0722694 Y2 JP H0722694Y2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- projection
- light
- laser
- shielding film
- planetarium
- Prior art date
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- Expired - Lifetime
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- Instructional Devices (AREA)
Description
【考案の詳細な説明】 産業上の利用分野 本考案はプラネタリウム用の恒星投影原板に関するもの
である。
である。
従来の技術 従来、面積差投影法により恒星を投影するための投影原
板として、厚さ50μｍの金属板等に一枚について800個
から1000個程度の投影孔を機械的にあけたものが用いら
れている。この投影孔の直径は、大きなもので数百μｍ
程度であるが、小さなものになると面積差投影法上数μ
ｍ程度と小さくなる。
板として、厚さ50μｍの金属板等に一枚について800個
から1000個程度の投影孔を機械的にあけたものが用いら
れている。この投影孔の直径は、大きなもので数百μｍ
程度であるが、小さなものになると面積差投影法上数μ
ｍ程度と小さくなる。
考案が解決しようとする課題 このような数μｍといった小さな投影孔を金属板等に機
械的に安定してあけるのは技術的に困難であり、投影原
板の製作に時間がかかってしまう。また結果として、こ
のことは投影原板のコスト上昇にもなる。
械的に安定してあけるのは技術的に困難であり、投影原
板の製作に時間がかかってしまう。また結果として、こ
のことは投影原板のコスト上昇にもなる。
課題を解決するための手段 本考案は前記のような課題を解決するために、レーザ光
透過性のガラス基板上に塗料よりなる遮光膜を形成し、
この遮光膜に投影孔をレーザ加工により形成したことを
特徴とする。
透過性のガラス基板上に塗料よりなる遮光膜を形成し、
この遮光膜に投影孔をレーザ加工により形成したことを
特徴とする。
作用 レーザ光透過性ガラス基板上に支持された塗料による遮
光膜は、30〜50μｍ程度の薄さにおいて投影原板として
の遮光板の役目を果す。そして、塗料としてレーザ光に
対する吸収率の良い黒色系統のものを選択し、適切な径
のレーザ光を照射することにより小さな投影孔を形成す
る。
光膜は、30〜50μｍ程度の薄さにおいて投影原板として
の遮光板の役目を果す。そして、塗料としてレーザ光に
対する吸収率の良い黒色系統のものを選択し、適切な径
のレーザ光を照射することにより小さな投影孔を形成す
る。
実施例 以下、本考案のプラネタリウムの恒星投影原板について
図面を用いて説明する。
図面を用いて説明する。
第１図は、本考案の恒星投影原板の断面図であり、レー
ザ光透過性で耐熱性のある透明なパイレックス（商標
名）ガラスよりなる基板（１）の一面に、シリコン系の
耐熱性塗料を焼付塗装した遮光膜（２）がコートされて
いる。コート厚は約30μｍ〜50μｍであり、充分に遮光
できる程度である。この遮光膜（２）には、投影する恒
星の明るさ、つまり、等級に比例した面積比をもった各
投影孔（３）がレーザ加工によりあけられており、その
大きさは例えば直径数μｍから数百μｍである。
ザ光透過性で耐熱性のある透明なパイレックス（商標
名）ガラスよりなる基板（１）の一面に、シリコン系の
耐熱性塗料を焼付塗装した遮光膜（２）がコートされて
いる。コート厚は約30μｍ〜50μｍであり、充分に遮光
できる程度である。この遮光膜（２）には、投影する恒
星の明るさ、つまり、等級に比例した面積比をもった各
投影孔（３）がレーザ加工によりあけられており、その
大きさは例えば直径数μｍから数百μｍである。
第２図は、レーザ光により投影孔（３）をあける様子を
示しており、基板（１）上の遮光膜（２）に遮光膜
（２）側からレーザ光（４）を集光レンズ（５）により
集光させて照射し、所定の位置に所定の大きさの投影孔
（３）をあけている。つまり、遮光膜（２）として使用
している耐熱性塗料にはレーザ光（４）に対する吸収率
が高く、比較的融点の低い顔料等が含まれているものを
選定する。その遮光膜（２）にレーザ光（４）を集光さ
せると融点に達し、分解離散したその部分が投影孔
（３）として形成されるのである。また、あけられる投
影孔（３）の大きさは、レーザ加工に関するパラメー
タ、つまり集光レンズ（５）の焦点距離、レーザ光の波
長、レーザ光の拡がり角、レーザ出力、デフォーカス量
を変化させることで調節することができる。レーザ光と
しては、YAGレーザ、ルビーレーザ、ガラスレーザ等種
々のものを使用することができ、波長1.06μｍ以下が好
適である。
示しており、基板（１）上の遮光膜（２）に遮光膜
（２）側からレーザ光（４）を集光レンズ（５）により
集光させて照射し、所定の位置に所定の大きさの投影孔
（３）をあけている。つまり、遮光膜（２）として使用
している耐熱性塗料にはレーザ光（４）に対する吸収率
が高く、比較的融点の低い顔料等が含まれているものを
選定する。その遮光膜（２）にレーザ光（４）を集光さ
せると融点に達し、分解離散したその部分が投影孔
（３）として形成されるのである。また、あけられる投
影孔（３）の大きさは、レーザ加工に関するパラメー
タ、つまり集光レンズ（５）の焦点距離、レーザ光の波
長、レーザ光の拡がり角、レーザ出力、デフォーカス量
を変化させることで調節することができる。レーザ光と
しては、YAGレーザ、ルビーレーザ、ガラスレーザ等種
々のものを使用することができ、波長1.06μｍ以下が好
適である。
第３図、第４図および第５図は、各々レーザ光（４）と
投影原板の間に複数の所定孔を設けたパターンマスク
（６）を介在させることにより、同時に複数個の投影孔
（３）を加工する様子を示している。特に、第４図に示
すように、基板（１）がレーザ光透過性であるため、レ
ーザ光（４）照射は投影原板の基板（１）側から行って
もよい。また、第５図に示すように、パターンマスク
（６）と原板の間に集光レンズ（５）を入れることによ
り縮小投影して投影孔（３）を形成することも可能であ
る。
投影原板の間に複数の所定孔を設けたパターンマスク
（６）を介在させることにより、同時に複数個の投影孔
（３）を加工する様子を示している。特に、第４図に示
すように、基板（１）がレーザ光透過性であるため、レ
ーザ光（４）照射は投影原板の基板（１）側から行って
もよい。また、第５図に示すように、パターンマスク
（６）と原板の間に集光レンズ（５）を入れることによ
り縮小投影して投影孔（３）を形成することも可能であ
る。
そして、以上のようなレーザ加工法によれば、第６図の
ような曲面原板の製作も容易となる。尚、このレーザ加
工法においては、レーザ光によって加工されるのは塗装
膜だけであり、基板はレーザ光を透過するので加工され
ない。
ような曲面原板の製作も容易となる。尚、このレーザ加
工法においては、レーザ光によって加工されるのは塗装
膜だけであり、基板はレーザ光を透過するので加工され
ない。
考案の効果 以上説明したように、塗料により遮光膜を形成した恒星
投影原板の投影孔をレーザ加工法で形成するため、微細
な投影孔を能率よく安定して製作することができるとと
もに、非常に安価な投影原板を供給できる。
投影原板の投影孔をレーザ加工法で形成するため、微細
な投影孔を能率よく安定して製作することができるとと
もに、非常に安価な投影原板を供給できる。
第１図は本考案のプラネタリウム用の恒星投影原板の断
面図、第２図は加工状態を示す断面図、第３図、第４図
および第５図は他の加工法を示す断面図、第６図は曲面
形状の投影原板の断面図である。 １……基板、２……遮光膜 ３……投影孔、４……レーザ光 ５……集光レンズ、６……パターンマスク
面図、第２図は加工状態を示す断面図、第３図、第４図
および第５図は他の加工法を示す断面図、第６図は曲面
形状の投影原板の断面図である。 １……基板、２……遮光膜 ３……投影孔、４……レーザ光 ５……集光レンズ、６……パターンマスク
Claims (1)
- 【請求項１】レーザ光透過性のガラス基板上に塗料より
なる遮光膜を形成し、この遮光膜に投影孔をレーザ加工
により形成したことを特徴とするプラネタリウム用の恒
星投影原板。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1988071577U JPH0722694Y2 (ja) | 1988-05-30 | 1988-05-30 | プラネタリウム用の恒星投影原板 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1988071577U JPH0722694Y2 (ja) | 1988-05-30 | 1988-05-30 | プラネタリウム用の恒星投影原板 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH01173770U JPH01173770U (ja) | 1989-12-11 |
| JPH0722694Y2 true JPH0722694Y2 (ja) | 1995-05-24 |
Family
ID=31296783
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP1988071577U Expired - Lifetime JPH0722694Y2 (ja) | 1988-05-30 | 1988-05-30 | プラネタリウム用の恒星投影原板 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0722694Y2 (ja) |
Families Citing this family (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP3675924B2 (ja) * | 1996-01-17 | 2005-07-27 | 株式会社五藤光学研究所 | プラネタリウムにおける星雲又は星団の投映方法及びそれに使用する投映原板の作成方法 |
| JP4633596B2 (ja) * | 2005-10-24 | 2011-02-16 | ステラ精密株式会社 | 星空表示装置，これを有する家具，建造物およびミラーハウス |
Family Cites Families (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS4940652A (ja) * | 1972-08-23 | 1974-04-16 | ||
| JPS531687A (en) * | 1976-06-28 | 1978-01-09 | Shinagawa Furnace | Method of exchanging adsorbent in deodorization apparatus |
| JPS59226308A (ja) * | 1983-06-07 | 1984-12-19 | Kiyoshi Hajikano | 光コネクタ用微細孔 |
-
1988
- 1988-05-30 JP JP1988071577U patent/JPH0722694Y2/ja not_active Expired - Lifetime
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH01173770U (ja) | 1989-12-11 |
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