JPS5842268B2 - ジヨウチヤクソウチ - Google Patents

ジヨウチヤクソウチ

Info

Publication number
JPS5842268B2
JPS5842268B2 JP49058072A JP5807274A JPS5842268B2 JP S5842268 B2 JPS5842268 B2 JP S5842268B2 JP 49058072 A JP49058072 A JP 49058072A JP 5807274 A JP5807274 A JP 5807274A JP S5842268 B2 JPS5842268 B2 JP S5842268B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
deposited
vapor
monitor
vapor deposition
mask
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Expired
Application number
JP49058072A
Other languages
English (en)
Other versions
JPS50149547A (ja
Inventor
光治 沢村
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Canon Inc
Original Assignee
Canon Inc
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Canon Inc filed Critical Canon Inc
Priority to JP49058072A priority Critical patent/JPS5842268B2/ja
Publication of JPS50149547A publication Critical patent/JPS50149547A/ja
Publication of JPS5842268B2 publication Critical patent/JPS5842268B2/ja
Expired legal-status Critical Current

Links

Landscapes

  • Physical Vapour Deposition (AREA)

Description

【発明の詳細な説明】 本発明は膜厚監視用モニターを被蒸着面に蒸着される膜
の厚さを均一にするために蒸発源と被蒸着面との間に配
置されたマスク部材又は該マスク部材の近傍に設置した
蒸着装置に関するものである。
被蒸着面に蒸着される蒸着膜の厚さを均一にするために
蒸発源と被蒸着面との間に所定の形状のマスク部材が配
置された蒸着装置は既によく知られている。
又、被蒸着面に蒸着されるべき膜厚を蒸着中監視するた
めのモニターを有する蒸着装置は既に知られている。
第1図は蒸着源と被蒸着面との間に、被蒸着面に蒸着さ
れる膜の厚さを均一にするためにマスクを設けた蒸着装
置の従来の一実施例を示す図である。
第1図において、1は真空室である。この室は排気口2
及び透明窓3を有している。
4は被蒸着面を有する被蒸着体5を支持する回転支持体
であり、蒸着の間、被蒸着体の各部分が同一の条件で蒸
着される様に被蒸着体5を回転させる。
6は膜厚監視用モニター 7は蒸着源である。
8はモニター6に監視用ビームを投光する投光部材、9
はモニター6からの光を受ける受光部材である。
蒸着操作中、この受光部材で受けるモニター6からの反
射光の強度変化を監視することによって膜厚変化を監視
する。
10は蒸着源7と被蒸着面との間に配置されたマスク部
材で、このマスクは均一膜厚を得るために被蒸着面、蒸
着源及びこれらの配置によって定まる形状をもつ。
被蒸着体5の被蒸着面に蒸着される膜厚を均一にする為
のマスク板の効果を発揮させる為には、被蒸着面がモニ
ター6によって遮蔽されない様に、第1図に示す如く、
モニター6を被蒸着体5の側方に設置しなげればならな
い。
しかしながらモニター6を被蒸着体5の周辺部に配置す
ることは、被蒸着体5の回転中心より大きく離れている
為、被蒸着面に蒸着される膜厚とモニター上に蒸着され
る膜厚が蒸発分布が安定しない場合、対応が付かない恐
れが生じる。
本発明の目的は、蒸着源と被蒸着面の間にマスク部材を
配して被蒸着面に蒸着される膜厚を均一にする蒸着装置
において、被蒸着面に蒸着される膜厚を正確に測定でき
る蒸着装置を提供することにある。
本発明に係る蒸着装置においては、マスク部材の一部に
透孔を設げ、該透孔を充分に覆うだけの大きさを有する
モニターを、マスク部材と被蒸着面の間の空間に、前記
マスク部材に近接して配することにより上記目的を達成
せんとするものである。
即ち、本発明では、モニターに、膜厚監視の役割と同時
にマスクの役割を持たせることにより、上記目的を達成
する。
以下、図面を用いて本発明を先べろ。
第2図及び第3図は各々、本発明の蒸着装置の一実施例
を示す図である。
第2図、第3図において、第1図と同一の番号を付した
部材は、同一の部材を示すものであるので、ここでは説
明を省く。
蒸着源7と被蒸着体5の間に配されたマスク板11はそ
の一部に孔12を有しており、該透孔12を覆う様にモ
ニター6がマスク板11に固設されている。
従って蒸着源7からの蒸発粒子の一部は透孔12を通過
してモニター6土に付着される。
このモニター6を前記監視機構9,10で監視すること
により、被蒸着体5上の膜厚を制御する。
第2図はマスク板11が蒸着源7の直接上に配置されて
いる場合を示すもので、モニター6が設けられる透孔1
2は、被蒸着面の回転中心部に設けられている。
又第3図に示す装置は、マスク板11が蒸着源7の直接
上に配置されていない場合を示すものであるが、モニタ
ー6が設けられる透孔12の位置は、マスク板へ進行す
る蒸気の進路中で、かつ被蒸着面の回転中心部に配する
ことが望ましい。
本発明の装置に基づいて実験を行なった結果被蒸着面の
回転中心の膜厚をt。
、その周辺の膜厚をtとするならば膜厚比1/1oは蒸
着後の全面において1.0士0.02であり、はぼ均一
な膜厚が得られ各ロット間の膜厚のバラツキも1%位で
あった。
又、本発明の装置でモニターは光学的なものとして説明
したが水晶発振器等の電気的なものであってもよい。
【図面の簡単な説明】
第1図は従来の蒸着装置を示す図、第2図及び第3図は
各々、本発明に係る蒸着装置の一実施例を示す。 図中、1は真空室、2は排気口、3は透明窓、4は回転
ドーム、5は被蒸着体、6はモニター1は蒸発源、11
はマスク、12は透孔である。

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 1 被蒸着面に蒸着される膜の厚さを均一にするための
    マスク部材が蒸発源と被蒸着面との間に配置された蒸着
    装置において、前記マスク部材の一部に透孔を設け、前
    記マスク部材と被蒸着面の間に前記透孔を覆う大きさを
    有するモニターをマスク部材に近接して設けることを特
    徴とする蒸着装置。
JP49058072A 1974-05-23 1974-05-23 ジヨウチヤクソウチ Expired JPS5842268B2 (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP49058072A JPS5842268B2 (ja) 1974-05-23 1974-05-23 ジヨウチヤクソウチ

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP49058072A JPS5842268B2 (ja) 1974-05-23 1974-05-23 ジヨウチヤクソウチ

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JPS50149547A JPS50149547A (ja) 1975-11-29
JPS5842268B2 true JPS5842268B2 (ja) 1983-09-19

Family

ID=13073694

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP49058072A Expired JPS5842268B2 (ja) 1974-05-23 1974-05-23 ジヨウチヤクソウチ

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JPS5842268B2 (ja)

Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS495834A (ja) * 1972-04-15 1974-01-19

Patent Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS495834A (ja) * 1972-04-15 1974-01-19

Also Published As

Publication number Publication date
JPS50149547A (ja) 1975-11-29

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US3383238A (en) Method and apparatus of controlling thin film deposition in a vacuum
US5262194A (en) Methods and apparatus for controlling film deposition
US3747558A (en) Cross-mounted mask changer with thickness monitoring
US3063867A (en) Deposition and measurement of layer thickness
KR20120007216A (ko) 진공증착기의 증착박막 두께 측정센서부
US3417733A (en) Apparatus for vacuum coating
JPS5842268B2 (ja) ジヨウチヤクソウチ
US3773548A (en) Method of monitoring the rate of depositing a coating solely by its optical properties
US2469929A (en) Apparatus for coating articles
JP3892525B2 (ja) 膜厚モニタ装置ならびに真空蒸着方法および真空蒸着装置
WO2015004755A1 (ja) 光学式膜厚計,薄膜形成装置及び膜厚測定方法
US3853093A (en) Optical thickness rate monitor
KR100670065B1 (ko) 두께 측정 장치 및 이를 이용한 진공 증착기
GB1057119A (en) Method of and apparatus for the production of thin films on a substrate or carrier by ion beam sputtering
US3663273A (en) Tilting variable speed rotary shadower
JP2752409B2 (ja) 真空蒸着装置
JPH0665722A (ja) 真空蒸着装置
JPS61288064A (ja) イオンビ−ムアシスト成膜装置
JPH0336264A (ja) レーザーpvd装置
JP2000265261A (ja) 真空蒸着装置
JPH08188874A (ja) 真空成膜装置
JPH04332810A (ja) 膜厚モニター方法
JP2595805Y2 (ja) 真空蒸着装置
JPS63192860A (ja) 蒸着用ボ−ト
JPH02232367A (ja) 真空成膜装置