JP2017220503A - 貼り合わせsoiウェーハの製造方法 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】ベースウェーハ1の貼り合わせ面側に多結晶シリコン層3を堆積し、多結晶シリコン層の表面を研磨して研磨面を得て、研磨面に熱酸化膜4を形成する工程と、ボンドウェーハ2の貼り合わせ面に絶縁膜5を形成する工程と、絶縁膜と熱酸化膜とを密着させてボンドウェーハとベースウェーハを貼り合わせ、貼り合わせられたボンドウェーハを薄膜化してSOI層を形成する工程とを有する。ベースウェーハとして抵抗率が100Ω・cm以上のシリコン単結晶ウェーハを用い、研磨面に形成する熱酸化膜の膜厚を15nm以上とし、熱酸化膜の表面のRMSを0.6nm以下とし、貼り合わせ工程の後に行われる熱処理の最高処理温度を1150℃以下とする。
【選択図】図1
Description
図1の貼り合わせSOIウェーハの製造方法では、まず、いずれもシリコン単結晶からなるベースウェーハ1及びボンドウェーハ2を準備する(図1(a)、(e))。このとき、ベースウェーハ1としては、抵抗率が100Ω・cm以上のシリコン単結晶ウェーハを用意する。
イオン注入剥離法によってSOI層を形成する場合は、貼り合わせたウェーハに対して、イオン注入層6に微小気泡層を発生させる熱処理(剥離熱処理)を施し、イオン注入層6(微小気泡層)でボンドウェーハ2を剥離して、ベースウェーハ1上に絶縁膜5とSOI層7が形成された貼り合わせSOIウェーハ8を作製する(図1(i))。
ベースウェーハとして、直径300mm、結晶方位<100>、抵抗率3000Ω・cmの鏡面研磨されたシリコン単結晶ウェーハを複数用意した。このウェーハの表面に、常圧エピタキシャル成長装置を用いて、厚さ3μmの多結晶シリコン層を堆積し、その表面を1μm研磨することで、多結晶シリコン層の研磨面の表面粗さ(AFM(原子間力顕微鏡)で1μm角のRMS)が0.20nmのウェーハを作製した。
これらのウェーハに熱酸化時間を変えて熱酸化を行い、膜厚がそれぞれ15nm,20nm,28nm,34nmの熱酸化膜を形成し、それぞれの熱酸化膜表面の表面粗さ(AFMで1μm角のRMS)を測定した。その結果を表1及び図2に示す。なお、図2は表1の結果をグラフにプロットしたものである。
実験例1で作製した貼り合わせSOIウェーハのSOI層の表面に900℃で犠牲酸化と酸化膜除去を行った後、平坦化熱処理として1100〜1200℃の範囲で2時間の熱処理(100%Ar雰囲気)を行い、貼り合わせ界面からベースウェーハの表面近傍の深さ方向の抵抗率分布をSR(Spreading Resistance)測定により測定し、抵抗率の最小値を求めた。その結果を表2及び図3に示す。なお、図3は表2の結果をグラフにプロットしたものである。
ベースウェーハとして、直径300mm、p型、結晶方位<100>、抵抗率3000Ω・cmの鏡面研磨されたシリコン単結晶ウェーハを用意した。ベースウェーハの表面に、常圧エピタキシャル成長装置を用いて、厚さ3μmの多結晶シリコン層を堆積し、その表面を1μm研磨することで、多結晶シリコン層の研磨面の表面粗さ(AFMで1μm角のRMS)を0.20nmとした。
このベースウェーハに熱酸化を行い、多結晶シリコン層の研磨面に膜厚が15nmの熱酸化膜を形成した。この熱酸化膜の表面の表面粗さ(AFMで1μm角のRMS)を測定したところ、0.35nmであった。
その後、イオン注入剥離法により薄膜化するために、形成した酸化膜の上から水素イオンの注入を行った。なお、水素イオンの注入条件は加速エネルギー50keV、ドーズ量5×1016/cm2とした。
上記の熱処理を行った貼り合わせSOIウェーハについて、ベースウェーハの抵抗率(Ω・cm)を測定し、その結果を表3に示した。
実施例1と同様にして貼り合わせSOIウェーハの作製及び熱処理を行った。ただし、多結晶シリコン層の研磨面に形成する熱酸化膜の膜厚は20nmとした。この熱酸化膜の表面のRMSは0.45nmであった。
また、実施例1と同様にして、ボイド発生の有無の評価、及びベースウェーハの抵抗率の測定を行い、これらの結果を表3に示した。
実施例1と同様にして貼り合わせSOIウェーハの作製及び熱処理を行った。ただし、多結晶シリコン層の研磨面に形成する熱酸化膜の膜厚は25nmとした。この熱酸化膜の表面のRMSは0.55nmであった。
また、実施例1と同様にして、ボイド発生の有無の評価、及びベースウェーハの抵抗率の測定を行い、これらの結果を表3に示した。
実施例1と同様にして貼り合わせSOIウェーハの作製及び熱処理を行った。ただし、多結晶シリコン層の研磨面に形成する熱酸化膜の膜厚は30nmとした。この熱酸化膜の表面のRMSは0.8nmであった。
また、実施例1と同様にして、ボイド発生の有無の評価、及びベースウェーハの抵抗率の測定を行い、これらの結果を表3に示した。
実施例1と同様にして貼り合わせSOIウェーハの作製及び熱処理を行った。ただし、多結晶シリコン層の研磨面に形成する熱酸化膜の膜厚は10nmとした。この熱酸化膜の表面のRMSは0.3nmであった。
また、実施例1と同様にして、ボイド発生の有無の評価、及びベースウェーハの抵抗率の測定を行い、これらの結果を表3に示した。
実施例1と同様にして貼り合わせSOIウェーハの作製及び熱処理を行った。ただし、多結晶シリコン層の研磨面には熱酸化膜を形成しなかった。
また、実施例1と同様にして、ボイド発生の有無の評価、及びベースウェーハの抵抗率の測定を行い、これらの結果を表3に示した。
実施例1と同様にして貼り合わせSOIウェーハの作製及び熱処理を行った。ただし、平坦化熱処理は1200℃、1時間、100%Ar雰囲気の条件で行った。
また、実施例1と同様にして、ボイド発生の有無の評価、及びベースウェーハの抵抗率の測定を行い、これらの結果を表3に示した。
実施例1と同様にして貼り合わせSOIウェーハの作製及び熱処理を行った。ただし、多結晶シリコン層の研磨面に形成する熱酸化膜の膜厚は25nmとし、また、平坦化熱処理は1200℃、1時間、100%Ar雰囲気の条件で行った。多結晶シリコン層の研磨面に形成した熱酸化膜の表面のRMSは0.55nmであった。
また、実施例1と同様にして、ボイド発生の有無の評価、及びベースウェーハの抵抗率の測定を行い、これらの結果を表3に示した。
4…熱酸化膜、 5…絶縁膜、 6…イオン注入層、 7…SOI層、
8…貼り合わせSOIウェーハ。
Claims (2)
- いずれもシリコン単結晶からなるボンドウェーハとベースウェーハとを絶縁膜を介して貼り合わせて貼り合わせSOIウェーハを製造する方法であって、
前記ベースウェーハの貼り合わせ面側に多結晶シリコン層を堆積する工程と、
該多結晶シリコン層の表面を研磨して研磨面を得る工程と、
該研磨面に熱酸化膜を形成する工程と、
前記ボンドウェーハの貼り合わせ面に前記絶縁膜を形成する工程と、
該絶縁膜と前記熱酸化膜とを密着させて前記ボンドウェーハと前記ベースウェーハを貼り合わせる貼り合わせ工程と、
貼り合わせられた前記ボンドウェーハを薄膜化してSOI層を形成する工程とを有し、
前記ベースウェーハとして抵抗率が100Ω・cm以上のシリコン単結晶ウェーハを用い、
前記研磨面に形成する前記熱酸化膜の膜厚を15nm以上とし、
前記研磨面に形成する前記熱酸化膜の表面のRMSを0.6nm以下とし、
前記貼り合わせ工程の後に行われる熱処理の最高処理温度を1150℃以下とすることを特徴とする貼り合わせSOIウェーハの製造方法。 - 前記研磨面のRMSを0.3nm以下とし、前記研磨面に形成する前記熱酸化膜の膜厚を25nm以下とすることを特徴とする請求項1に記載の貼り合わせSOIウェーハの製造方法。
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