JP2017215489A - パターン形成装置、基板配置方法及び物品の製造方法 - Google Patents
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Abstract
Description
なお、基準マーク401、401´を、マーク板410に設けるのではなく、図12に示すように、チャック400を構成する部材の表面に形成したマーク420、420´としても良い。その場合は、チャック400の表面上にも基板アライメント検出系16のピントが合うように基板ステージ4のZ方向のストロークを確保する必要がある。
次に、前述のリソグラフィ装置を利用した物品(半導体IC素子、液晶表示素子等)の製造方法を説明する。かかる物品は、前述のリソグラフィ装置を用いてパターンを基板(ウエハ、ガラスプレート、フィルム状基板等)に形成する工程と、パターンが形成された基板を加工(現像、エッチングなど)する工程とを含む。本物品の製造方法は、従来に比べて、物品の性能、品質、生産性及び生産コストの少なくとも1つにおいて有利である。または、前述のリソグラフィ装置は、高いスループットで経済性よく高品位なデバイス(半導体集積回路素子、液晶表示素子等)などの物品を提供することができる。
次に、前述のリソグラフィ装置を利用した物品(半導体IC素子、液晶表示素子等)の製造方法を説明する。かかる方法は、前述のリソグラフィ装置を用いてパターンを基板(ウエハ、ガラスプレート、フィルム状基板等)に形成する工程と、パターンが形成された基板を加工(現像、エッチングなど)する工程とを含む。本物品の製造方法は、従来に比べて、物品の性能、品質、生産性及び生産コストの少なくとも1つにおいて有利である。または、前述のリソグラフィ装置は、高いスループットで経済性よく高品位なデバイス(半導体集積回路素子、液晶表示素子等)などの物品を提供することができる。
Claims (14)
- 基板上にパターンを形成するパターン形成装置であって、
移動可能なステージと、
前記ステージに対して着脱可能に設けられる、前記基板を吸着して保持する保持部と、
前記保持部に対する位置が固定して設けられ、前記保持部に吸着される前記基板のアライメントマークを前記基板の吸着面側から検出するための光学系と、
前記光学系の検出視野の位置を測定するための基準マークと、
前記基準マークを検出する検出系と、を有し、
前記光学系により前記基板の吸着面側から検出される前記基板のアライメントマークが前記光学系の検出視野内に入るように、前記検出系により検出された前記基準マークの位置に基づいて前記保持部に前記基板を配置する、ことを特徴とするパターン形成装置。 - 前記基準マークを複数、有し、
前記検出系が複数の前記基準マークを検出し、
前記パターン形成装置は、
前記検出系による前記複数の基準マークの検出結果に基づいて前記保持部の位置と角度を求め、
求められた前記保持部の位置と角度に基づいて前記保持部に前記基板を配置する、ことを特徴とする請求項1に記載のパターン形成装置。 - 前記光学系を複数、有し、
前記保持部に前記基板が配置された後、複数の前記光学系が前記基板の複数のアライメントマークを検出して、前記基板の位置と角度を求め、
求められた前記基板の位置と角度に基づいて前記基板の位置合わせを行い、前記基板上にパターンを形成する、ことを特徴とする請求項1又は2に記載のパターン形成装置。 - 前記基準マークは、前記保持部を構成する部材に形成されていることを特徴とする請求項1乃至3の何れか1項に記載のパターン形成装置。
- 前記基準マークは、前記保持部に取り付けられた部材に形成されていることを特徴とする請求項1乃至3の何れか1項に記載のパターン形成装置。
- 前記基準マークは工具基板に形成されていることを特徴とする請求項1乃至3の何れか1項に記載のパターン形成装置。
- 前記光学系は、前記保持部の内部に固定して設けられている、ことを特徴とする請求項1乃至6の何れか1項に記載のパターン形成装置。
- 前記光学系は、前記保持部の内部に固定して設けられているリレー光学系である、ことを特徴とする請求項7に記載のパターン形成装置。
- 移動可能なステージと、
前記ステージに対して着脱可能に設けられる、基板を吸着して保持する保持部と、
前記保持部に対する位置が固定して設けられ、前記保持部に吸着される前記基板のアライメントマークを前記基板の吸着面側から検出するための光学系と、
前記光学系の検出視野の位置を測定するための基準マークを検出する検出系と、を有する、基板上にパターンを形成するパターン形成装置を用いて、前記保持部に前記基板を配置する配置方法であって、
前記光学系により前記基板の吸着面側から検出される前記基板のアライメントマークが前記光学系の検出視野内に入るように、前記検出系により検出された前記基準マークの位置に基づいて前記保持部に前記基板を配置する、ことを特徴とする配置方法。 - 前記保持部を交換した後、前記光学系の検出視野の位置を測定するための基準マークを検出し、
前記検出系により検出された前記基準マークの位置に基づいて前記保持部に前記基板を配置する、ことを特徴とする請求項9に記載の配置方法。 - 前記光学系により前記基板の吸着面側から検出される前記基板のアライメントマークが前記光学系の検出視野内に入るように、前記検出系により検出された前記基準マークの位置に基づいて前記ステージを制御して、前記保持部に前記基板を配置することを特徴とする請求項9又は10に記載の配置方法。
- 前記光学系により前記基板の吸着面側から検出される前記基板のアライメントマークが前記光学系の検出視野内に入るように、前記検出系により検出された前記基準マークの位置に基づいて、前記基板を搬送する搬送部を制御して前記保持部に前記基板を配置することを特徴とする請求項9乃至11の何れか1項に記載の配置方法。
- 前記基板を保持するステージと前記基板の位置を計測する計測部とを含むプリアライメント検出部のステージを制御して前記基板の位置又は角度を調整した後、前記プリアライメント検出部から前記保持部へ前記基板を搬送して前記保持部に前記基板を配置することを特徴とする請求項9乃至12の何れか1項に記載の配置方法。
- 請求項1乃至8の何れか1項に記載のパターン形成装置を用いて基板上にパターンを形成する工程と、
パターンが形成された基板を加工することによって物品を製造する工程とを有することを特徴とする物品の製造方法。
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