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  1. 第1のトランジスタと、第2のトランジスタと、第3のトランジスタと、第4のトランジスタと、光電変換素子と、を有する撮像装置であって、
    前記光電変換素子の一方の電極は、前記第1のトランジスタのソース電極またはドレイン電極の一方と電気的に接続され、
    前記光電変換素子の一方の電極は、前記第3のトランジスタのソース電極またはドレイン電極の一方と電気的に接続され、
    前記第1のトランジスタのソース電極またはドレイン電極の他方は、前記第2のトランジスタのゲート電極と電気的に接続され、
    前記第2のトランジスタのソース電極またはドレイン電極の一方は、前記第4のトランジスタのソース電極またはドレイン電極の一方と電気的に接続され、
    前記光電変換素子の他方の電極は、第1の配線と電気的に接続され、
    前記第1のトランジスタのゲート電極は、第2の配線と電気的に接続され、
    前記第1の配線に供給される電位がHVDDであるとき、前記第2の配線に供給される電位の最大値は、HVDDよりも小さい撮像装置。
  2. 請求項1において、
    前記第2のトランジスタのソースまたはドレインの他方は、第3の配線と電気的に接続され、
    前記第1の配線に供給される電位がHVDDであり、前記第3の配線に供給される電位がVDDであり、HVDDがVDDよりも大きい電位であるとき、前記第2の配線に供給される電位の最大値は、VDDである撮像装置。
  3. 請求項1または2において、
    前記第1のトランジスタおよび前記第3のトランジスタは活性層に酸化物半導体を有し、
    前記酸化物半導体は、Inと、Znと、M(MはAl、Ti、Ga、Sn、Y、Zr、La、Ce、NdまたはHf)と、を有する撮像装置。
  4. 請求項1乃至3のいずれか一項において、
    前記第2のトランジスタおよび前記第4のトランジスタは活性層または活性領域にシリコンを有する撮像装置。
  5. 請求項1乃至4のいずれか一項において、
    前記光電変換素子は、光電変換層にセレンを有する、撮像装置。
  6. 請求項1乃至のいずれか一項に記載の撮像装置と、表示装置と、を有する電子機器。
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