JP2017055401A5 - 撮像装置 - Google Patents

撮像装置 Download PDF

Info

Publication number
JP2017055401A5
JP2017055401A5 JP2016174201A JP2016174201A JP2017055401A5 JP 2017055401 A5 JP2017055401 A5 JP 2017055401A5 JP 2016174201 A JP2016174201 A JP 2016174201A JP 2016174201 A JP2016174201 A JP 2016174201A JP 2017055401 A5 JP2017055401 A5 JP 2017055401A5
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
transistor
drain
source
electrically connected
photoelectric conversion
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
JP2016174201A
Other languages
English (en)
Other versions
JP2017055401A (ja
JP6840493B2 (ja
Filing date
Publication date
Application filed filed Critical
Publication of JP2017055401A publication Critical patent/JP2017055401A/ja
Publication of JP2017055401A5 publication Critical patent/JP2017055401A5/ja
Application granted granted Critical
Publication of JP6840493B2 publication Critical patent/JP6840493B2/ja
Active legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Claims (8)

  1. 第1および第2の光電変換素子と、第1乃至第6のトランジスタと、を有し
    記第1の光電変換素子の一方の端子は、前記第1のトランジスタのソースまたはドレインの一方と電気的に接続され、
    前記第2の光電変換素子の一方の端子は、前記第2のトランジスタのソースまたはドレインの一方と電気的に接続され、
    前記第1のトランジスタのソースまたはドレインの他方は、前記第3のトランジスタのソースまたはドレインの一方と電気的に接続され、
    前記第2のトランジスタのソースまたはドレインの他方は、前記第4のトランジスタのソースまたはドレインの一方と電気的に接続され、
    前記第3のトランジスタのソースまたはドレインの他方は、前記第のトランジスタのソースまたはドレインのと、前記第6のトランジスタのゲートと電気的に接続され、
    前記第4のトランジスタのソースまたはドレインの他方は、前記第5のトランジスタのソースまたはドレインの一方と、前記第6のトランジスタのゲートと電気的に接続され、
    前記第5のトランジスタのソースまたはドレインの一方は、前記第6のトランジスタのゲートと電気的に接続されている撮像装置。
  2. 第1および第2の画素を有する撮像装置であって、
    前記第1および前記第2の画素の各々は、第1および第2の光電変換素子と、第1乃至第6のトランジスタと、を有し、
    前記第1の光電変換素子の一方の端子は、前記第1のトランジスタのソースまたはドレインの一方と電気的に接続され、
    前記第2の光電変換素子の一方の端子は、前記第2のトランジスタのソースまたはドレインの一方と電気的に接続され、
    前記第1のトランジスタのソースまたはドレインの他方は、前記第3のトランジスタのソースまたはドレインの一方と電気的に接続され、
    前記第2のトランジスタのソースまたはドレインの他方は、前記第4のトランジスタのソースまたはドレインの一方と電気的に接続され、
    前記第3のトランジスタのソースまたはドレインの他方は、前記第5のトランジスタのソースまたはドレインの一方と、前記第6のトランジスタのゲートと電気的に接続され、
    前記第4のトランジスタのソースまたはドレインの他方は、前記第5のトランジスタのソースまたはドレインの一方と、前記第6のトランジスタのゲートと電気的に接続され、
    前記第5のトランジスタのソースまたはドレインの一方は、前記第6のトランジスタのゲートと電気的に接続され、
    前記第6のトランジスタのソースまたはドレインの一方は、電源線と電気的に接続され、
    前記第1の画素の前記第6のトランジスタのソースまたはドレインの他方は、前記第2の画素の前記第6のトランジスタのソースまたはドレインの他方と電気的に接続されている撮像装置。
  3. 請求項1または2において、
    前記第1の光電変換素子の他方の端子には、高電位が印加され、
    前記第2の光電変換素子の他方の端子には、高電位が印加される撮像装置。
  4. 請求項1乃至3のいずれか一項において、
    前記第1および前記第2の光電変換素子と、前記第1乃至前記第6のトランジスタと、が積層されて設けられている撮像装置。
  5. 請求項1乃至4のいずれか一項において、
    第1の容量素子と、第2の容量素子と、を有し、
    前記第1の容量素子の一方の端子は前記第1のトランジスタのソースまたはドレインの他方と、前記第3のトランジスタのソースまたはドレインの一方と電気的に接続され、
    前記第2の容量素子の一方の端子は前記第2のトランジスタのソースまたはドレインの他方と、前記第4のトランジスタのソースまたはドレインの一方と電気的に接続される撮像装置。
  6. 請求項1乃至5のいずれか一項において、
    前記第1の光電変換素子と、前記第2の光電変換素子と、はセレンを含む材料を有する撮像装置。
  7. 請求項1乃至6のいずれか一項において、
    前記第1乃至前記第5のトランジスタは、活性層に酸化物半導体を有する撮像装置。
  8. 請求項において、
    前記酸化物半導体は、Inと、Znと、M(MはAl、Ti、Ga、Sn、Y、Zr、La、Ce、NdまたはHf)と、を有する撮像装置。
JP2016174201A 2015-09-07 2016-09-07 撮像装置 Active JP6840493B2 (ja)

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2015175427 2015-09-07
JP2015175427 2015-09-07

Related Child Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2021022962A Division JP2021083112A (ja) 2015-09-07 2021-02-17 撮像装置

Publications (3)

Publication Number Publication Date
JP2017055401A JP2017055401A (ja) 2017-03-16
JP2017055401A5 true JP2017055401A5 (ja) 2019-10-24
JP6840493B2 JP6840493B2 (ja) 2021-03-10

Family

ID=58191075

Family Applications (3)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2016174201A Active JP6840493B2 (ja) 2015-09-07 2016-09-07 撮像装置
JP2021022962A Withdrawn JP2021083112A (ja) 2015-09-07 2021-02-17 撮像装置
JP2022079449A Withdrawn JP2022116063A (ja) 2015-09-07 2022-05-13 撮像装置、電子機器

Family Applications After (2)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2021022962A Withdrawn JP2021083112A (ja) 2015-09-07 2021-02-17 撮像装置
JP2022079449A Withdrawn JP2022116063A (ja) 2015-09-07 2022-05-13 撮像装置、電子機器

Country Status (2)

Country Link
US (1) US10090344B2 (ja)
JP (3) JP6840493B2 (ja)

Families Citing this family (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
TWI738569B (zh) 2015-07-07 2021-09-01 日商半導體能源研究所股份有限公司 成像裝置及其運作方法
KR102618850B1 (ko) 2015-09-10 2023-12-27 가부시키가이샤 한도오따이 에네루기 켄큐쇼 촬상 장치, 모듈, 전자 기기, 및 촬상 장치의 동작 방법
US10109667B2 (en) 2015-10-09 2018-10-23 Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. Imaging device, module, and electronic device
JP2018186398A (ja) * 2017-04-26 2018-11-22 ソニーセミコンダクタソリューションズ株式会社 固体撮像装置、および電子機器
CN112189261A (zh) 2018-06-21 2021-01-05 株式会社半导体能源研究所 摄像装置及其工作方法以及电子设备
CN111244119B (zh) * 2019-12-13 2024-09-10 京东方科技集团股份有限公司 一种探测基板、其制作方法及平板探测器
WO2023131996A1 (ja) * 2022-01-05 2023-07-13 キヤノン株式会社 光電変換装置及び光検出システム

Family Cites Families (46)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP3360928B2 (ja) * 1994-05-12 2003-01-07 浜松ホトニクス株式会社 固体撮像素子の作製方法
KR100787938B1 (ko) * 2005-07-15 2007-12-24 삼성전자주식회사 공유 능동 화소 센서 구조의 씨모스 이미지 센서 및 그구동 방법
JP5078246B2 (ja) 2005-09-29 2012-11-21 株式会社半導体エネルギー研究所 半導体装置、及び半導体装置の作製方法
EP1998374A3 (en) 2005-09-29 2012-01-18 Semiconductor Energy Laboratory Co, Ltd. Semiconductor device having oxide semiconductor layer and manufacturing method thereof
JP5064747B2 (ja) 2005-09-29 2012-10-31 株式会社半導体エネルギー研究所 半導体装置、電気泳動表示装置、表示モジュール、電子機器、及び半導体装置の作製方法
JPWO2009078299A1 (ja) * 2007-12-19 2011-04-28 ローム株式会社 固体撮像装置およびその製造方法
KR101503682B1 (ko) * 2008-04-18 2015-03-20 삼성전자 주식회사 공유 픽셀형 이미지 센서 및 그 제조 방법
WO2011055626A1 (en) 2009-11-06 2011-05-12 Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. Semiconductor device
SG10201500220TA (en) * 2010-01-15 2015-03-30 Semiconductor Energy Lab Semiconductor device and method for driving the same
CN102754209B (zh) 2010-02-12 2015-11-25 株式会社半导体能源研究所 半导体装置及其驱动方法
CN104979369B (zh) 2010-03-08 2018-04-06 株式会社半导体能源研究所 半导体器件及其制造方法
CN102804380B (zh) 2010-03-12 2015-11-25 株式会社半导体能源研究所 半导体装置
KR101770550B1 (ko) 2010-03-12 2017-08-23 가부시키가이샤 한도오따이 에네루기 켄큐쇼 표시 장치의 구동 방법
JP5771079B2 (ja) 2010-07-01 2015-08-26 株式会社半導体エネルギー研究所 撮像装置
JP2012256819A (ja) 2010-09-08 2012-12-27 Semiconductor Energy Lab Co Ltd 半導体装置
JP5925475B2 (ja) 2010-12-09 2016-05-25 株式会社半導体エネルギー研究所 光検出回路
JP5774974B2 (ja) 2010-12-22 2015-09-09 株式会社半導体エネルギー研究所 半導体装置の駆動方法
TWI596769B (zh) * 2011-01-13 2017-08-21 半導體能源研究所股份有限公司 半導體裝置及半導體儲存裝置
US9116248B2 (en) 2011-02-17 2015-08-25 Analogic Corporation Detector array having effective size larger than actual size
JP2013156325A (ja) * 2012-01-27 2013-08-15 Seiko Epson Corp 分光センサー及び角度制限フィルター
JP5821315B2 (ja) 2011-06-21 2015-11-24 ソニー株式会社 電子機器、電子機器の駆動方法
US8836626B2 (en) 2011-07-15 2014-09-16 Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. Semiconductor device and method for driving the same
KR101962261B1 (ko) 2011-07-15 2019-03-26 가부시키가이샤 한도오따이 에네루기 켄큐쇼 반도체 장치 및 반도체 장치의 구동 방법
WO2013042643A1 (en) 2011-09-22 2013-03-28 Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. Photodetector and method for driving photodetector
JP5987326B2 (ja) * 2012-01-23 2016-09-07 ソニー株式会社 固体撮像素子および信号処理方法、並びに電子機器
US9916793B2 (en) 2012-06-01 2018-03-13 Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. Semiconductor device and method of driving the same
US8872120B2 (en) 2012-08-23 2014-10-28 Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. Imaging device and method for driving the same
JP2014072788A (ja) * 2012-09-28 2014-04-21 Sony Corp 固体撮像装置および駆動方法、並びに電子機器
US8773562B1 (en) * 2013-01-31 2014-07-08 Apple Inc. Vertically stacked image sensor
JP2014175934A (ja) * 2013-03-11 2014-09-22 Canon Inc 撮像素子、その駆動方法および撮像装置
JP6087681B2 (ja) * 2013-03-21 2017-03-01 キヤノン株式会社 固体撮像装置及び撮像システム
JP6162999B2 (ja) * 2013-04-15 2017-07-12 キヤノン株式会社 固体撮像装置およびカメラ
US9379138B2 (en) * 2013-07-19 2016-06-28 Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. Imaging device with drive voltage dependent on external light intensity
US9805952B2 (en) * 2013-09-13 2017-10-31 Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. Method for manufacturing semiconductor device
JP2015135896A (ja) 2014-01-17 2015-07-27 株式会社Joled 半導体装置、表示装置及び半導体装置の製造方法
US9674470B2 (en) 2014-04-11 2017-06-06 Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. Semiconductor device, method for driving semiconductor device, and method for driving electronic device
JP2016029795A (ja) 2014-07-18 2016-03-03 株式会社半導体エネルギー研究所 半導体装置、撮像装置及び電子機器
KR102509203B1 (ko) 2014-08-29 2023-03-14 가부시키가이샤 한도오따이 에네루기 켄큐쇼 촬상 장치 및 전자 기기
WO2016034983A1 (en) 2014-09-02 2016-03-10 Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. Imaging device and electronic device
JP2016092413A (ja) 2014-10-29 2016-05-23 株式会社半導体エネルギー研究所 撮像装置および電子機器
US9774801B2 (en) * 2014-12-05 2017-09-26 Qualcomm Incorporated Solid state image sensor with enhanced charge capacity and dynamic range
US9729810B2 (en) 2015-03-23 2017-08-08 Tower Semiconductor Ltd. Image sensor pixel with memory node having buried channel and diode portions
US9591245B2 (en) 2015-04-14 2017-03-07 Semiconductor Components Industries, Llc Image sensor pixels with adjustable body bias
TWI738569B (zh) 2015-07-07 2021-09-01 日商半導體能源研究所股份有限公司 成像裝置及其運作方法
US10896923B2 (en) 2015-09-18 2021-01-19 Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. Method of operating an imaging device with global shutter system
US10109667B2 (en) 2015-10-09 2018-10-23 Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. Imaging device, module, and electronic device

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP2017055401A5 (ja) 撮像装置
JP2017055403A5 (ja) 撮像装置、モジュール、電子機器
JP2016096545A5 (ja)
JP2017059829A5 (ja) 撮像装置
JP2016195262A5 (ja)
JP2015188083A5 (ja) 撮像装置及び電子機器
JP2016015485A5 (ja) 撮像装置及び電子機器
JP2015195378A5 (ja)
JP2015014786A5 (ja) 半導体装置
JP2016146626A5 (ja)
JP2012252329A5 (ja) 表示装置
JP2017059856A5 (ja)
JP2015128163A5 (ja)
JP2015111706A5 (ja) 表示装置および電子機器
JP2015222807A5 (ja)
JP2013153169A5 (ja)
JP2015073101A5 (ja) 半導体装置
JP2015216369A5 (ja)
JP2013042482A5 (ja) イメージセンサ
JP2016001292A5 (ja)
JP2014006518A5 (ja)
JP2013243355A5 (ja) 半導体装置
JP2014150273A5 (ja) 半導体装置
JP2014112720A5 (ja)
JP2012039058A5 (ja)