JP2016117885A5 - - Google Patents
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- 239000000203 mixture Substances 0.000 claims description 21
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 claims description 11
- 239000000178 monomer Substances 0.000 claims description 9
- NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N acrylic acid group Chemical group C(C=C)(=O)O NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 8
- 239000011521 glass Substances 0.000 claims description 4
- 239000003999 initiator Substances 0.000 claims description 3
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 claims 15
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims 9
- 239000007789 gas Substances 0.000 claims 6
- 238000005530 etching Methods 0.000 claims 3
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 claims 3
- 238000001312 dry etching Methods 0.000 claims 2
- 238000005468 ion implantation Methods 0.000 claims 2
- 230000003287 optical Effects 0.000 claims 2
- LIRZNCFVMPOMGF-UHFFFAOYSA-N (2-phenyl-2-prop-2-enoyloxyethyl) prop-2-enoate Chemical compound C=CC(=O)OCC(OC(=O)C=C)C1=CC=CC=C1 LIRZNCFVMPOMGF-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 1
- OOGRWVMCAMQXMO-UHFFFAOYSA-N C(C=C)(=O)OCC(COC(C=C)=O)C1=CC=CC=C1 Chemical compound C(C=C)(=O)OCC(COC(C=C)=O)C1=CC=CC=C1 OOGRWVMCAMQXMO-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 1
- MSSNHSVIGIHOJA-UHFFFAOYSA-N Pentafluoropropane Chemical compound FC(F)CC(F)(F)F MSSNHSVIGIHOJA-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 1
- 229920002397 Thermoplastic olefin Polymers 0.000 claims 1
- WUGVSRAAQKDLJT-UHFFFAOYSA-N [3-(prop-2-enoyloxymethyl)phenyl]methyl prop-2-enoate Chemical compound C=CC(=O)OCC1=CC=CC(COC(=O)C=C)=C1 WUGVSRAAQKDLJT-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 1
- -1 acryl Chemical group 0.000 claims 1
- 230000003028 elevating Effects 0.000 claims 1
- 239000001307 helium Substances 0.000 claims 1
- 229910052734 helium Inorganic materials 0.000 claims 1
- SWQJXJOGLNCZEY-UHFFFAOYSA-N helium(0) Chemical compound [He] SWQJXJOGLNCZEY-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 1
- 230000001678 irradiating Effects 0.000 claims 1
- 238000000034 method Methods 0.000 claims 1
- 238000000016 photochemical curing Methods 0.000 claims 1
- 229910052904 quartz Inorganic materials 0.000 claims 1
- 239000010453 quartz Substances 0.000 claims 1
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N silicon dioxide Inorganic materials O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 1
Description
本発明は、少なくとも重合性化合物（Ａ）と光重合開始剤（Ｂ）とを有するインプリント用光硬化性組成物であって、
前記重合性化合物（Ａ）が多官能（メタ）アクリルモノマーを２０重量％以上含み、
前記光硬化性組成物の光硬化物のガラス転移温度が９０℃以上であり、前記重合性化合物（Ａ）が単官能（メタ）アクリルモノマーと多官能（メタ）アクリルモノマーの混合物であることを特徴とするインプリント用光硬化性組成物を提供する。
前記重合性化合物（Ａ）が多官能（メタ）アクリルモノマーを２０重量％以上含み、
前記光硬化性組成物の光硬化物のガラス転移温度が９０℃以上であり、前記重合性化合物（Ａ）が単官能（メタ）アクリルモノマーと多官能（メタ）アクリルモノマーの混合物であることを特徴とするインプリント用光硬化性組成物を提供する。
Claims (20)
- 少なくとも重合性化合物（Ａ）と光重合開始剤（Ｂ）とを有するインプリント用光硬化性組成物であって、
前記重合性化合物（Ａ）が多官能（メタ）アクリルモノマーを２０重量％以上含み、
前記光硬化性組成物の光硬化物のガラス転移温度が９０℃以上であり、前記重合性化合物（Ａ）が単官能（メタ）アクリルモノマーと多官能（メタ）アクリルモノマーの混合物であることを特徴とするインプリント用光硬化性組成物。 - 前記重合性化合物（Ａ）が前記多官能（メタ）アクリルモノマーを２５重量％以上含む請求項１に記載のインプリント用光硬化性組成物。
- 前記重合性化合物（Ａ）が少なくとも多官能（メタ）アクリルモノマーを４０重量％以上含み、前記光硬化性組成物の光硬化物のガラス転移温度が２００℃以上であることを特徴とする請求項１または２に記載のインプリント用光硬化性組成物。
- 前記インプリント用光硬化性組成物の前記ガラス転移温度が９０℃以上であることが、前記重合性化合物（Ａ）１００重量部と光重合開始剤（Ｂ）としてＬｕｃｉｒｉｎ ＴＰＯ ３重量部からなる光硬化性組成物を光硬化させた膜の損失正接ｔａｎδを昇温しながら測定し、ｔａｎδが極大となる温度が９０℃以上であることにより特定される請求項１〜３のいずれか一項に記載のインプリント用光硬化性組成物。
- 前記重合性化合物（Ａ）のオオニシパラメータが、３．２以下である請求項１〜４のいずれか一項に記載のインプリント用光硬化性組成物。
- 粘度が５ｍＰａ・ｓ以上１２ｍＰａ・ｓ以下であることを特徴とする請求項１〜５のいずれか一項に記載のインプリント用光硬化性組成物。
- 前記重合性化合物（Ａ）に含まれる多官能アクリルモノマーがｍ−キシリレンジアクリレート、フェニルエチレングリコールジアクリレート、２−フェニル−１，３−プロパンジオールジアクリレートのいずれかであることを特徴とする請求項１〜６のいずれか一項に記載のインプリント用光硬化性組成物。
- 基板上に、請求項１〜７のいずれか一項に記載のインプリント用光硬化性組成物を配置する工程［１］と、
前記硬化性組成物とパターン形状を転写するための原型パターンを有するモールドとを接触させる工程［２］と、
前記基板とモールドとの位置合わせを行う工程［３］と、
前記硬化性組成物に光を照射して光硬化膜とする工程［４］と、
前記硬化膜と前記モールドとを引き離す工程［５］と、
を有することを特徴とするパターン形状を有する膜の製造方法。 - 前記工程［１］〜［５］を前記基板上の異なる領域に複数回行うことを特徴とする請求項８に記載のパターン形状を有する膜の製造方法。
- 前記モールドの原型パターンの表面が石英であることを特徴とする請求項８または９に記載のパターン形状を有する膜の製造方法。
- 前記工程［２］が、凝縮性ガスを含む雰囲気下で行われることを特徴とする、請求項８〜１０のいずれか一項に記載のパターン形状を有する膜の製造方法。
- 前記工程［２］が、前記凝縮性ガスと非凝縮性ガスとの混合ガスの雰囲気下で行われることを特徴とする請求項１１に記載のパターン形状を有する膜の製造方法。
- 前記非凝縮性ガスが、ヘリウムであることを特徴とする請求項１２に記載のパターン形状を有する膜の製造方法。
- 前記凝縮性ガスが、１，１，１，３，３−ペンタフルオロプロパンであることを特徴とする請求項１１〜１３のいずれか一項に記載のパターン形状を有する膜の製造方法。
- 請求項８〜１４のいずれか一項に記載の膜の製造方法によりパターン形状を有する膜を得る工程を有することを特徴とする光学部品の製造方法。
- 請求項８〜１４のいずれか一項に記載の膜の製造方法によりパターン形状を有する膜を得る工程と、得られた膜のパターン形状をマスクとして基板にエッチング又はイオン注入を行う工程と、を有することを特徴とする光学部品の製造方法。
- 請求項８〜１４のいずれか一項に記載の膜の製造方法によりパターン形状を有する膜を得る工程と、得られた膜のパターン形状をマスクとして基板にエッチング又はイオン注入を行う工程と、を有することを特徴とする回路基板の製造方法。
- 請求項１７に記載の回路基板の製造方法により回路基板を得る工程と、前記回路基板に電子部品を形成する工程と、を有することを特徴とする電子部品の製造方法。
- 請求項１〜７のいずれか一項に記載のインプリント用光硬化性組成物を基板上で硬化させてなるドライエッチングプロセスに用いるためのドライエッチング用光硬化膜。
- 半導体基板と、該半導体基板上にパターニングされた請求項１９に記載の前記エッチング用光硬化膜と、を有するドライエッチング前処理済み半導体基板。
Priority Applications (8)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| KR1020197037480A KR102246568B1 (ko) | 2014-12-19 | 2015-12-15 | 임프린트용 광경화성 조성물, 이를 사용한 막의 제조 방법, 이를 사용한 광학 부품의 제조 방법, 이를 사용한 회로 기판의 제조 방법, 및 이를 사용한 전자 부품의 제조 방법 |
| US15/537,320 US11003073B2 (en) | 2014-12-19 | 2015-12-15 | Photocurable composition for imprint, method for producing film using the same, method for producing optical component using the same, method for producing circuit board using the same, and method for producing electronic component using the same |
| PCT/JP2015/006244 WO2016098345A1 (en) | 2014-12-19 | 2015-12-15 | Photocurable composition for imprint, method for producing film using the same, method for producing optical component using the same, method for producing circuit board using the same, and method for producing electronic component using the same |
| CN201580069521.5A CN107112208B (zh) | 2014-12-19 | 2015-12-15 | 光固化性组合物及其应用 |
| KR1020177019229A KR101988782B1 (ko) | 2014-12-19 | 2015-12-15 | 임프린트용 광경화성 조성물, 이를 사용한 막의 제조 방법, 이를 사용한 광학 부품의 제조 방법, 이를 사용한 회로 기판의 제조 방법, 및 이를 사용한 전자 부품의 제조 방법 |
| KR1020197016193A KR102059314B1 (ko) | 2014-12-19 | 2015-12-15 | 임프린트용 광경화성 조성물, 이를 사용한 막의 제조 방법, 이를 사용한 광학 부품의 제조 방법, 이를 사용한 회로 기판의 제조 방법, 및 이를 사용한 전자 부품의 제조 방법 |
| TW104142771A TWI596431B (zh) | 2014-12-19 | 2015-12-18 | 用於壓印之可光固化組成物、使用該組成物製造膜之方法、使用該組成物製造光學組件之方法、使用該組成物製造電路板之方法、及使用該組成物製造電子組件之方法 |
| US17/220,759 US20210223690A1 (en) | 2014-12-19 | 2021-04-01 | Photocurable composition for imprint, method for producing film using the same, method for producing optical component using the same, method for producing circuit board using the same, and method for producing electronic component using the same |
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2014257798 | 2014-12-19 | ||
| JP2014257798 | 2014-12-19 |
Related Child Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2018076976A Division JP2018125559A (ja) | 2014-12-19 | 2018-04-12 | インプリント用光硬化性組成物、これを用いた膜の製造方法、光学部品の製造方法、回路基板の製造方法、電子部品の製造方法 |
Publications (3)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2016117885A JP2016117885A (ja) | 2016-06-30 |
| JP2016117885A5 true JP2016117885A5 (ja) | 2017-08-17 |
| JP6324363B2 JP6324363B2 (ja) | 2018-05-16 |
Family
ID=56242897
Family Applications (3)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2015232535A Active JP6324363B2 (ja) | 2014-12-19 | 2015-11-28 | インプリント用光硬化性組成物、これを用いた膜の製造方法、光学部品の製造方法、回路基板の製造方法、電子部品の製造方法 |
| JP2018076976A Pending JP2018125559A (ja) | 2014-12-19 | 2018-04-12 | インプリント用光硬化性組成物、これを用いた膜の製造方法、光学部品の製造方法、回路基板の製造方法、電子部品の製造方法 |
| JP2019226322A Active JP6907293B2 (ja) | 2014-12-19 | 2019-12-16 | インプリント用光硬化性組成物、これを用いた膜の製造方法、光学部品の製造方法、回路基板の製造方法、電子部品の製造方法 |
Family Applications After (2)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2018076976A Pending JP2018125559A (ja) | 2014-12-19 | 2018-04-12 | インプリント用光硬化性組成物、これを用いた膜の製造方法、光学部品の製造方法、回路基板の製造方法、電子部品の製造方法 |
| JP2019226322A Active JP6907293B2 (ja) | 2014-12-19 | 2019-12-16 | インプリント用光硬化性組成物、これを用いた膜の製造方法、光学部品の製造方法、回路基板の製造方法、電子部品の製造方法 |
Country Status (5)
| Country | Link |
|---|---|
| US (2) | US11003073B2 (ja) |
| JP (3) | JP6324363B2 (ja) |
| KR (3) | KR102246568B1 (ja) |
| CN (1) | CN107112208B (ja) |
| TW (1) | TWI596431B (ja) |
Families Citing this family (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2018154843A1 (ja) * | 2017-02-24 | 2018-08-30 | シャープ株式会社 | 加飾フィルム |
| WO2018225707A1 (ja) * | 2017-06-09 | 2018-12-13 | 三井化学株式会社 | 微細凹凸パターン付き基板の製造方法、樹脂組成物および積層体 |
| JP6550434B2 (ja) * | 2017-09-29 | 2019-07-24 | シャープ株式会社 | 防汚性フィルムの製造方法 |
| CN111796385A (zh) * | 2019-04-08 | 2020-10-20 | 三营超精密光电(晋城)有限公司 | 光学镜头、应用该光学镜头的镜头模组及电子装置 |
| US20200339828A1 (en) * | 2019-04-26 | 2020-10-29 | Canon Kabushiki Kaisha | Photocurable composition |
| JP2023125842A (ja) * | 2022-02-28 | 2023-09-07 | キヤノン株式会社 | パターン形成方法、及び物品製造方法 |
Family Cites Families (47)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US4323636A (en) | 1971-04-01 | 1982-04-06 | E. I. Du Pont De Nemours And Company | Photosensitive block copolymer composition and elements |
| CA1099435A (en) | 1971-04-01 | 1981-04-14 | Gwendyline Y. Y. T. Chen | Photosensitive block copolymer composition and elements |
| US4423135A (en) | 1981-01-28 | 1983-12-27 | E. I. Du Pont De Nemours & Co. | Preparation of photosensitive block copolymer elements |
| US4414278A (en) | 1982-04-22 | 1983-11-08 | E. I. Du Pont De Nemours And Company | Crosslinked triacrylate polymer beads |
| JP2002200623A (ja) * | 2000-10-26 | 2002-07-16 | Dainippon Ink & Chem Inc | 樹脂複合体の製造法 |
| CN1977221A (zh) * | 2004-05-31 | 2007-06-06 | 富士胶片株式会社 | 图案形成方法及滤色片的制造方法以及滤色片及液晶显示装置 |
| KR20070062965A (ko) * | 2004-06-15 | 2007-06-18 | 후지필름 가부시키가이샤 | 감광성 조성물, 및 패턴형성방법 및 영구패턴 |
| US20110182805A1 (en) | 2005-06-17 | 2011-07-28 | Desimone Joseph M | Nanoparticle fabrication methods, systems, and materials |
| JP4770354B2 (ja) | 2005-09-20 | 2011-09-14 | 日立化成工業株式会社 | 光硬化性樹脂組成物及びこれを用いたパターン形成方法 |
| US7670530B2 (en) * | 2006-01-20 | 2010-03-02 | Molecular Imprints, Inc. | Patterning substrates employing multiple chucks |
| JP4929722B2 (ja) | 2006-01-12 | 2012-05-09 | 日立化成工業株式会社 | 光硬化型ナノプリント用レジスト材及びパターン形成法 |
| JP5306903B2 (ja) | 2008-07-02 | 2013-10-02 | 富士フイルム株式会社 | インプリント用硬化性組成物、これを用いた硬化物およびその製造方法、並びに、液晶表示装置用部材 |
| JP2010037541A (ja) * | 2008-07-10 | 2010-02-18 | Fujifilm Corp | インプリント用硬化性組成物、パターン形成方法およびパターン |
| JP2010106062A (ja) * | 2008-10-28 | 2010-05-13 | Fujifilm Corp | ナノインプリント用組成物、パターンおよびその形成方法 |
| WO2010064534A1 (ja) | 2008-12-01 | 2010-06-10 | 昭和電工株式会社 | 造形方法 |
| JP2010132762A (ja) * | 2008-12-04 | 2010-06-17 | Nippon Paint Co Ltd | 光硬化性樹脂組成物および凹凸フィルムの製造方法 |
| JP5665329B2 (ja) * | 2009-03-09 | 2015-02-04 | 富士フイルム株式会社 | インプリント用硬化性組成物、パターン形成方法およびパターン |
| JP2011082347A (ja) * | 2009-10-07 | 2011-04-21 | Fujifilm Corp | インプリント用硬化性組成物、硬化物の製造方法および硬化物 |
| JP5511415B2 (ja) | 2010-02-02 | 2014-06-04 | 富士フイルム株式会社 | インプリント用硬化性組成物、パターン形成方法およびパターン |
| US20110300367A1 (en) | 2010-06-07 | 2011-12-08 | Ching-Kee Chien | Optical Fiber With Photoacid Coating |
| JP2012072269A (ja) | 2010-09-28 | 2012-04-12 | Fujifilm Corp | 微細構造体 |
| JP2012227190A (ja) * | 2011-04-15 | 2012-11-15 | Nippon Shokubai Co Ltd | ナノインプリント用硬化性樹脂組成物 |
| JP5829177B2 (ja) * | 2011-07-12 | 2015-12-09 | 富士フイルム株式会社 | インプリント用硬化性組成物、パターン形成方法およびパターン |
| JP5710553B2 (ja) * | 2011-08-25 | 2015-04-30 | 富士フイルム株式会社 | インプリント用硬化性組成物、パターン形成方法およびパターン |
| JP2013065813A (ja) | 2011-08-29 | 2013-04-11 | Fujifilm Corp | インプリントシステムおよびインプリントシステムのメンテナンス方法 |
| JP5806903B2 (ja) * | 2011-09-30 | 2015-11-10 | 富士フイルム株式会社 | ナノインプリント方法およびそれに用いられるレジスト組成物 |
| JP5767615B2 (ja) * | 2011-10-07 | 2015-08-19 | 富士フイルム株式会社 | インプリント用下層膜組成物およびこれを用いたパターン形成方法 |
| JP6108765B2 (ja) | 2011-12-19 | 2017-04-05 | キヤノン株式会社 | 光硬化性組成物およびパターン形成方法 |
| JP5838826B2 (ja) | 2012-01-23 | 2016-01-06 | 大日本印刷株式会社 | パターン構造体の製造方法とナノインプリントリソグラフィ方法およびインプリント装置 |
| JP2013170227A (ja) * | 2012-02-21 | 2013-09-02 | Fujifilm Corp | 光重合性組成物 |
| JP5846974B2 (ja) * | 2012-03-13 | 2016-01-20 | 富士フイルム株式会社 | 光インプリント用硬化性組成物、パターン形成方法およびパターン |
| JP5930832B2 (ja) | 2012-04-27 | 2016-06-08 | キヤノン株式会社 | 光硬化物の製造方法 |
| JP2014074165A (ja) * | 2012-09-12 | 2014-04-24 | Sanyo Chem Ind Ltd | 感光性組成物 |
| JP6379458B2 (ja) * | 2012-09-13 | 2018-08-29 | 日立化成株式会社 | パターンを有する樹脂層を製造する方法、及びそれに用いられる樹脂組成物 |
| JP6278645B2 (ja) | 2012-09-24 | 2018-02-14 | キヤノン株式会社 | 光硬化性組成物及びこれを用いた膜の製造方法 |
| TWI589994B (zh) * | 2012-10-09 | 2017-07-01 | 佳能股份有限公司 | 光可固化的組成物及製造膜的方法 |
| CN102911052B (zh) | 2012-10-13 | 2015-03-25 | 江苏和成显示科技股份有限公司 | 聚合性星形化合物及其聚合产物和在液晶装置中的应用 |
| JP6058371B2 (ja) * | 2012-12-07 | 2017-01-11 | 日本合成化学工業株式会社 | ディスプレイ用プラスチックシートの製造方法 |
| CN103113900B (zh) | 2013-02-01 | 2015-02-04 | 江苏和成显示科技股份有限公司 | 一种聚合物稳定配向型液晶组合物及其应用 |
| KR101811116B1 (ko) * | 2013-05-09 | 2017-12-20 | 캐논 가부시끼가이샤 | 화합물, 광경화성 조성물, 및 광경화성 조성물을 사용하여 패턴 형상을 갖는 막, 광학 부품, 회로 기판, 전자 부품을 제조하는 방법, 및 경화물 |
| JP6080813B2 (ja) | 2013-08-30 | 2017-02-15 | キヤノン株式会社 | 光インプリント用組成物、これを用いた、膜の製造方法、光学部品の製造方法、回路基板の製造方法、電子部品の製造方法 |
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-
2015
- 2015-11-28 JP JP2015232535A patent/JP6324363B2/ja active Active
- 2015-12-15 KR KR1020197037480A patent/KR102246568B1/ko active IP Right Grant
- 2015-12-15 KR KR1020177019229A patent/KR101988782B1/ko active IP Right Grant
- 2015-12-15 CN CN201580069521.5A patent/CN107112208B/zh active Active
- 2015-12-15 US US15/537,320 patent/US11003073B2/en active Active
- 2015-12-15 KR KR1020197016193A patent/KR102059314B1/ko active IP Right Grant
- 2015-12-18 TW TW104142771A patent/TWI596431B/zh active
-
2018
- 2018-04-12 JP JP2018076976A patent/JP2018125559A/ja active Pending
-
2019
- 2019-12-16 JP JP2019226322A patent/JP6907293B2/ja active Active
-
2021
- 2021-04-01 US US17/220,759 patent/US20210223690A1/en active Pending
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