JP2016029484A - パターン形成方法、及びパターン形成装置 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】可撓性を有する長尺のシート基板を長尺方向に搬送し、シート基板の被処理面に電子デバイス用のパターンを形成する。シート基板の長尺方向に距離Lだけ離れた2ヶ所の位置の各々を案内部材によって支持しつつ、シート基板の2ヶ所の位置の間が長尺方向と直交する短尺方向に所定の度合いで収縮するように、シート基板の距離Lの部分に長尺方向の張力を付与する段階と、2ヶ所の位置の間で、シート基板の被処理面の裏側の面の一部分を、摩擦が殆ど無い状態、又は接触領域が充分に小さい状態で、基板支持部材によって平面状又は曲面状に支持する段階と、所定の度合いで収縮した状態で基板支持部材によって支持されるシート基板の一部分に対応して被処理面に設定される領域内で電子デバイス用のパターンを形成する段階と、を含む。
【選択図】図2
Description
本願は、2011年11月4日に出願された日本国特願2011−242788号に基づき優先権を主張し、その内容をここに援用する。
図1は、本実施形態に係る基板処理装置100の構成を示す模式図である。
図1に示すように、基板処理装置100は、帯状の基板(例えば、帯状のフィルム部材)Sを供給する基板供給部2と、基板Sの表面(被処理面)Saに対して処理を行う基板処理部(パターン形成装置)3と、基板Sを回収する基板回収部4と、これらの各部を制御する制御部CONTと、を有している。基板処理部3は、基板供給部2から基板Sが送り出されてから、基板回収部4によって基板Sが回収されるまでの間に、基板Sの表面に各種処理を実行する。
この基板処理装置100は、基板S上に例えば有機EL素子、液晶表示素子等の表示素子(電子デバイス)を形成する場合に用いることができる。
なお、基板供給部2は、ロール状に巻かれた基板Sを送り出す機構に限定されず、帯状の基板Sをその長さ方向に順次送り出す機構(例えばニップ式の駆動ローラ等)を含むものであればよい。
図2及び図3に示すように、基板処理部3は、第1ローラー11(回転ローラー)、ニップローラー11a(回転ローラー)、第2ローラー12(回転ローラー)、ニップローラー12a(回転ローラー)、筐体13及び加工処理装置10としての露光装置EXを有している。
第2ローラー12は、筐体13に対して基板Sの搬送方向の下流側(+X軸側)においてY軸に平行に配置され、Y軸と平行な回転軸を中心としてモータ等によって回転可能に設けられている。基板Sは、第2ローラー12とニップローラー12aとによって挟持され、+X軸方向に向かって矢印Dxのように搬送されるように支持される。
なお、筐体13の+Z軸側には、投影露光方式の場合には投影光学系PLが配置され、プロキシミティ露光方式の場合には、マスクステージ部MSTが配置される。
(1)2つのローラー(11、12)から基板Sの中央に向けて、X軸方向に30mmピッチ毎にY軸方向収縮量を求め、その変化分が0.3μm以下〔収縮変化率がほぼゼロ〕。
(2)変化分が0.3μm以下になっている範囲全体のうち、収縮した基板Sの幅TD1の絶対値の変化幅が1.5μm以内。
しかしながら、厚みtが極端に薄かったり、表面に何らかの薄膜を積層したりしている場合は、線Sim2よりも左下に結果が出現することもあり得るが、境界線BSの右上に出現することはない。
Sv=k・Mv・(1+A)、或いは、Sv・(1−A)=k・Mv…(1)
但し、kは、近接露光方式なら1、投影露光方式なら投影系の倍率である。
例えば、上述の図2、図3の構成では、アライメントカメラ18は投影領域EAの−X軸方向の位置に一組しか設けられていなかった。しかし、図9に示すように、投影領域EAの−X軸方向の位置に配置した一組のアライメントカメラ18a,18d、投影領域EAとほぼ同じX軸方向位置に配置した一組のアライメントカメラ18b,18e、そして投影領域EAの後方の位置(+X軸方向の位置、又は、基板Sの搬送方向に関して投影領域EAの下流位置)に配置した一組のアライメントカメラ18c,18f、の計6個のアライメントカメラ(顕微鏡撮像システム)を設けても良い。
図10、図11は、プロキシミティ方式による走査露光装置の構成を示し、マスクステージMSTは、固定子LMaと可動子LMbを有するリニアモータ機構LMによって精密に駆動される。
また、本構成では、投影領域EAのX軸方向の幅を充分に小さくすることになるので、図4、図5〜図8で説明した安定領域Wxの幅を狭くでき、第1ローラー11と第2ローラー12の間隔(距離L)も短くできることから、装置全体を小型にできる。
本実施形態において、基板ステージ機構14は、気体層形成部として、気体供給装置、気体供給路、及び複数の供給口等を含む。
Xpd<L<(Xpd+2Np)…(2)
Claims (6)
- 可撓性を有する長尺のシート基板を長尺方向に搬送し、前記シート基板の被処理面に電子デバイス用のパターンを形成するパターン形成方法であって、
前記シート基板の長尺方向に距離Lだけ離れた2ヶ所の位置の各々を案内部材によって支持しつつ、前記シート基板の前記2ヶ所の位置の間が前記長尺方向と直交する短尺方向に所定の度合いで収縮するように、前記シート基板の前記距離Lの部分に前記長尺方向の張力を付与する段階と、
前記2ヶ所の位置の間で、前記シート基板の前記被処理面の裏側の面の一部分を、摩擦が殆ど無い状態、又は接触領域が充分に小さい状態で、基板支持部材によって平面状又は曲面状に支持する段階と、
前記所定の度合いで収縮した状態で前記基板支持部材によって支持される前記シート基板の一部分に対応して前記被処理面に設定される領域内で前記電子デバイス用のパターンを形成する段階と、
を含むパターン形成方法。 - 前記案内部材は、前記シート基板の前記被処理面、又は裏側の面と接触して回転可能なローラー、或いは前記シート基板を挟持するニップローラーを含む、
請求項1に記載のパターン形成方法。 - 前記パターンを形成する段階は、マスクに形成された前記パターンを投影方式、又はプロキシミティ方式で露光する露光装置、DMDを使ったマスクレス露光装置、レーザスポットを走査してパターン描画を行うプリンタ、或いはインクジェットプリンタのいずれかによって実施される、
請求項2に記載のパターン形成方法。 - 前記パターンを形成する段階は、前記パターンを投影方式、又はプロキシミティ方式で露光する露光装置、DMDを使ったマスクレス露光装置、レーザスポットを走査してパターン描画を行うプリンタのいずれかによって実施され、
前記領域を前記シート基板の長尺方向の幅が狭いスリット状の露光領域に設定し、前記シート基板の前記2ヶ所の位置の間で前記スリット状の露光領域を前記シート基板の短尺方向の収縮の変化率が大きい部分に設定すること、
を含む請求項2に記載のパターン形成方法。 - 可撓性を有する長尺のシート基板を長尺方向に搬送し、前記シート基板の被処理面に電子デバイス用のパターンを形成するパターン形成装置であって、
前記シート基板の長尺方向に距離Lだけ離れた2ヶ所の位置の各々を案内部材によって支持しつつ、前記シート基板の前記2ヶ所の位置の間が前記長尺方向と直交する短尺方向に所定の度合いで収縮するように、前記シート基板の前記距離Lの部分に前記長尺方向の張力を付与する張力付与機構と、
前記2ヶ所の位置の間で、前記シート基板の前記被処理面の裏側の面の一部分を、摩擦が殆ど無い状態、又は接触領域が充分に小さい状態で、平面状又は曲面状に支持する基板支持部材と、
前記所定の度合いで収縮した状態で前記基板支持部材によって支持される前記シート基板の一部分に対応して前記被処理面に設定される領域内で前記電子デバイス用のパターンを形成するパターン形成部と、
を備えるパターン形成装置。 - 前記パターン形成部は、マスクに形成された前記パターンを投影方式、又はプロキシミティ方式で露光する露光装置、DMDを使ったマスクレス露光装置、レーザスポットを走査してパターン描画を行うプリンタ、或いはインクジェットプリンタのいずれかによって構成される、
請求項5に記載のパターン形成装置。
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