JP6824713B2 - インプリント方法、インプリント装置、型、および物品の製造方法 - Google Patents
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Description
インプリント装置を用いて形成した硬化物のパターンは、各種物品の少なくとも一部に恒久的に、或いは各種物品を製造する際に一時的に、用いられる。物品とは、電気回路素子、光学素子、MEMS、記録素子、センサ、或いは、型等である。電気回路素子としては、DRAM、SRAM、フラッシュメモリ、MRAMのような、揮発性或いは不揮発性の半導体メモリや、LSI、CCD、イメージセンサ、FPGAのような半導体素子等が挙げられる。型としては、インプリント用のモールド等が挙げられる。
Claims (11)
- 基板上の第1領域にインプリント材を硬化させた組成物を形成した後で、前記第1領域の隣にある第2領域にインプリント材を硬化させた組成物を形成するインプリント方法であって、
エネルギーを与えることにより撥液性が増加する膜を前記基板上に形成する工程と、
前記膜の、前記第1領域と前記第2領域の間の領域に対応する部分に前記エネルギーを与え、前記第1領域にインプリント材を供給する工程と、
前記第1領域に供給された前記インプリント材に型を接触させた状態で前記インプリント材を硬化し、硬化したインプリント材から前記型を離すことにより前記インプリント材を硬化させた組成物を形成する工程と、を有する
ことを特徴とするインプリント方法。 - 前記膜は光を照射することにより撥液性が増加する膜であって、
前記インプリント材を供給する工程において、前記膜の、前記第1領域と前記第2領域の間の領域に対応する部分に前記光を照射することを特徴とする請求項1に記載のインプリント方法。 - 前記第1領域に供給された前記インプリント材に光を照射して硬化させるときに、前記第2領域と、前記第2領域の隣にあり前記第2領域にインプリント材を硬化させた組成物を形成した後でインプリント材を硬化させた組成物を形成する第3領域との間の領域に対応する部分に前記光を照射することを特徴とする請求項2に記載のインプリント方法。
- 前記第1領域、前記第2領域、又は前記第3領域は、前記基板の外周付近にあり一部が欠けている領域であることを特徴とする請求項3に記載のインプリント方法。
- 光を遮る遮光部と光を透過させる透過部とを有するマスクに光を照射し、前記遮光部で前記光を遮り、前記第1領域と前記第2領域の間の領域に対応する部分に、前記透過部を透過した光を照射することを特徴とする請求項2乃至請求項4のいずれか1項に記載のインプリント方法。
- 光を変調する空間光変調部を用いて、前記第1領域と前記第2領域の間の領域に対応する部分に、前記空間光変調部により変調された光を照射することを特徴とする請求項2乃至請求項5のいずれか1項に記載のインプリント方法。
- 基板上の第1領域のインプリント材に型を接触させた状態で前記インプリント材を硬化し、硬化したインプリント材から前記型を離すことにより前記インプリント材を硬化させた組成物を形成するインプリント方法であって、
エネルギーを与えることにより撥液性が増加する膜を前記基板上に形成する工程と、前記膜の、前記第1領域を囲む領域に対応する部分に前記エネルギーを与え、前記第1領域に前記インプリント材を供給する工程と、を有する
ことを特徴とするインプリント方法。 - 基板上の第1領域にインプリント材を硬化させた組成物を形成した後で、前記第1領域の隣にある第2領域にインプリント材を硬化させた組成物を形成するインプリント装置であって、
前記基板に前記インプリント材を供給する供給部と、
前記基板に形成された膜に照射されることにより前記膜の撥液性を増加させる光を前記基板に照射する光照射部と、を有し、
前記光照射部を用いて前記膜の、前記第1領域と前記第2領域の間の領域に対応する部分に前記光が照射された前記基板上の前記第1領域にインプリント材を供給し、前記第1領域に供給された前記インプリント材に型を接触させた状態で前記インプリント材を硬化し、硬化したインプリント材から前記型を離すことにより前記インプリント材を硬化させた組成物を形成する
ことを特徴とするインプリント装置。 - 光を照射することにより撥液性が増加する膜が形成された基板上の第1領域にインプリント材を硬化させた組成物を形成した後で、前記第1領域の隣にある第2領域にインプリント材を硬化させた組成物を形成するインプリント装置に用いられる型であって、
前記光を遮光する遮光部と前記光を透過させる透過部とを有し、
前記遮光部は前記第2領域と、前記第1領域と前記第2領域の間の領域の外側の領域とに対応する形状を有し、かつ、前記透過部は前記第1領域と前記第2領域の間の領域に対応する形状を有することを特徴とする型。 - 前記光は紫外線であることを特徴とする、請求項9に記載の型。
- エネルギーを与えることにより撥液性が増加する膜を基板上に形成する工程と、
前記膜の、前記基板上の第1領域と前記第1領域の隣にある前記基板上の第2領域との間の領域に対応する部分に前記エネルギーを与え、前記第1領域にインプリント材を供給する工程と、
前記第1領域に供給された前記インプリント材に型を接触させた状態で前記インプリント材を硬化し、硬化したインプリント材から前記型を離すことにより前記インプリント材を硬化させた組成物を形成する工程と、
前記第1領域に前記インプリント材を硬化させた組成物を形成した後で前記第2領域にインプリント材を硬化させた組成物を形成する工程と、
前記第1領域及び前記第2領域に前記インプリント材を硬化させた組成物が形成された前記基板を処理する工程と、を有し、
前記処理された前記基板を用いて物品を製造する
ことを特徴とする物品の製造方法。
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