JP6395352B2 - インプリント装置およびインプリント方法、それを用いた物品の製造方法 - Google Patents
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Description
まず、本発明の第1実施形態に係るインプリント装置について説明する。図1は、本実施形態に係るインプリント装置1の構成を示す概略図である。インプリント装置1は、物品としての半導体デバイスなどのデバイスの製造に使用され、ウエハ上(基板上)に塗布された未硬化樹脂とモールド(型)とを接触させて成形し、ウエハ上に樹脂のパターンを形成する装置である。なお、ここでは、光硬化法を採用したインプリント装置とする。また、以下の図においては、ウエハ上の樹脂に対して紫外線を照射する照明系の光軸に平行にZ軸を取り、Z軸に垂直な平面内に互いに直交するX軸およびY軸を取っている。インプリント装置1は、まず、光照射部2と、モールド保持機構3と、ウエハステージ4と、塗布部5と、制御部6とを備える。
D(sinα)≦2r (1)
L(tanβ)≦2r (2)
次に、本発明の第2実施形態に係るインプリント装置について説明する。本実施形態のインプリント装置の特徴は、凹凸パターン30が、異なるパターン密度を有する複数の部分領域からなるときに、ウエハ10上のショットに塗布する樹脂9の液滴32の配置を第1実施形態の場合から変更する点にある。図14は、モールド7のパターン部7aに形成された本実施形態における複数の部分領域に存在する凹凸パターン30の形状と、この凹凸パターン30に対して、ウエハ10上のショットに塗布する樹脂9の液滴32の配置とを示す概略平面図である。図14(a)および図14(b)に示すように、パターン部7aには、一例として2つの凹凸パターン30、すなわち、第1凹凸パターン30f1と第2凹凸パターン30f2とが存在する。第1凹凸パターン30f1のパターンサイズは、第2凹凸パターン30f2のパターンサイズよりも粗く、それぞれの主軸方向31は、共にY軸方向である。
物品としてのデバイス(半導体集積回路素子、液晶表示素子等)の製造方法は、上述したインプリント装置を用いて基板(ウエハ、ガラスプレート、フィルム状基板)にパターンを形成する工程を含む。さらに、該製造方法は、パターンを形成された基板をエッチングする工程を含み得る。なお、パターンドメディア(記録媒体)や光学素子などの他の物品を製造する場合には、該製造方法は、エッチングの代わりにパターンを形成された基板を加工する他の処理を含み得る。本実施形態の物品の製造方法は、従来の方法に比べて、物品の性能・品質・生産性・生産コストの少なくとも1つにおいて有利である。
5 塗布部
6 制御部
7 モールド
9 樹脂
10 ウエハ
30 凹凸パターン
31 主軸方向
32 液滴
33 配列方向
Claims (10)
- 基板上の複数の箇所に分散して樹脂を塗布し、前記樹脂と型とを接触させ、前記型に形成された凹凸パターンを前記樹脂に転写するインプリント装置であって、
複数の樹脂が並ぶ配列方向が前記凹凸パターンに応じた主軸方向に対して傾くように、前記樹脂の塗布位置を決定する制御部と、
前記決定された塗布位置に基づいて前記樹脂を塗布する塗布部と、
を備えることを特徴とするインプリント装置。 - 前記塗布部は、前記配列方向に並ぶ複数の吐出口と、前記複数の吐出口を一体的に回転させる回転機構と、を含むことを特徴とする請求項1に記載のインプリント装置。
- 前記制御部は、前記複数の樹脂が多角形格子状に配置されるように、前記塗布位置を決定することを特徴とする請求項1または2に記載のインプリント装置。
- 前記制御部は、前記型のパターンデータを取得し、該パターンデータに基づいて前記主軸方向を決定することを特徴とする請求項1ないし3のいずれか1項に記載のインプリント装置。
- 前記制御部は、前記主軸方向と前記配列方向とが鋭角をなすように、前記塗布位置を決定することを特徴とする請求項1ないし4のいずれか1項に記載のインプリント装置。
- 前記制御部は、任意の前記樹脂に対して、任意の角度を持って前記配列方向を傾け、前記主軸方向に沿って前記任意の樹脂の径の幅を有する帯が存在すると仮定し、前記任意の樹脂が存在する前記配列方向のn列(nは整数)と、該n列の隣のn+1列とに存在し、前記帯と重なる樹脂をそれぞれ第1樹脂と第2樹脂と決定したとき、
前記樹脂の半径をr、前記樹脂の塗布間隔をD、前記任意の樹脂と前記第2樹脂との前記主軸方向の間隔をL、前記主軸方向と前記配列方向とのなす角をα、および前記任意の樹脂と前記第2樹脂とのなす角をβとすると、
D(sinα)≦2r
L(tanβ)≦2r
の条件を満たすように、前記なす角αを決定することを特徴とする請求項1ないし5のいずれか1項に記載のインプリント装置。 - 前記制御部は、前記凹凸パターンが転写される領域に対して複数の部分領域を設定し、
前記複数の部分領域の各々に対して主軸方向を設定し、前記部分領域ごとに前記主軸方向に基づく塗布位置を決定することを特徴とする請求項1ないし6のいずれか1項に記載のインプリント装置。 - 前記主軸方向は、前記凹凸パターンに樹脂を充填させるときに前記樹脂が最も充填されやすい方向であることを特徴とする請求項1ないし7のいずれか1項に記載のインプリント装置。
- 基板上に樹脂を塗布し、前記樹脂と型とを接触させ、前記型に形成された凹凸パターンを前記樹脂に転写するインプリント方法であって、
前記凹凸パターンが転写される前記基板上の領域に、塗布された複数の前記樹脂が並ぶ配列方向が前記凹凸パターンに応じた主軸方向に対して傾くように前記樹脂を複数の箇所に分散して塗布する工程を備えることを特徴とするインプリント方法。 - 請求項1ないし8のいずれか1項に記載のインプリント装置を用いて基板上に樹脂のパターンを形成する工程と、
前記工程で前記パターンが形成された基板を加工する工程と、
加工された基板から物品を製造する工程と
を含むことを特徴とする物品の製造方法。
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