JP4908369B2 - インプリント方法及びインプリントシステム - Google Patents
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Description
20 記憶部
21 設計データ格納部
22 揮発量補正分格納部
23 塗布量分布格納部
30 塗布部
Claims (5)
- テンプレートの凹凸パターンの位置及び深さを含むテンプレート情報及び基板上に一様に形成される残膜の膜厚を含む残膜厚設定値情報を格納する設計データ格納部と、
インプリント材の揮発分を補填するインプリント材の塗布位置及び塗布量を示す揮発補填分塗布量分布を前記テンプレートのパターン密度に応じて複数格納する揮発補填分格納部と、
前記テンプレート情報に基づき前記凹凸パターン内への充填分に相当するインプリント材の塗布位置及び塗布量を示すパターン充填分塗布量分布を算出し、前記残膜厚設定値情報に基づき残膜分に相当するインプリント材の塗布位置及び塗布量を示す残膜厚分塗布量分布を算出し、前記テンプレート情報からテンプレートのパターン密度を算出し、このパターン密度に対応する揮発補填分塗布量分布を前記揮発補填分格納部から取り出し、この取り出した揮発補填分塗布量分布と、前記パターン充填分塗布量分布と、前記残膜厚分塗布量分布と、を足し合わせてインプリント材塗布量分布を算出する演算部と、
前記インプリント材塗布量分布に基づいて基板上にインプリント材を塗布する塗布部と、
を備えるインプリントシステム。 - 前記演算部は前記パターン密度を前記テンプレート内の任意の領域毎に算出し、前記領域毎に対応する揮発補填分塗布量分布を前記揮発補填分格納部から取り出すことを特徴とする請求項1に記載のインプリントシステム。
- テンプレートの凹凸パターンの位置及び深さを含むテンプレート情報を格納する第1の設計データ格納部と、
インプリント材の揮発分を補填するインプリント材の塗布位置及び塗布量を示す揮発補填分塗布量分布を前記テンプレートのパターン密度に応じて複数格納する揮発補填分格納部と、
前記テンプレート情報からテンプレートのパターン密度を算出し、このパターン密度に対応する揮発補填分塗布量分布を前記揮発補填分格納部から取り出し、この取り出した揮発補填分塗布量分布が凹凸パターンへの充填分に相当するインプリント材の塗布位置及び塗布量を示すパターン充填分塗布量分布となるダミーテンプレートパターンを算出し、このダミーテンプレートパターンと前記テンプレートの凹凸パターンとを合成して合成パターンを作成する第1の演算部と、
前記合成パターンを含む合成パターン情報及び基板上に一様に形成される残膜の膜厚を含む残膜厚設定値情報を格納する第2の設計データ格納部と、
前記合成パターン情報に基づいて前記合成パターンの凹凸パターン内への充填分に相当するインプリント材の塗布位置及び塗布量を示す合成パターン充填分塗布量分布を算出し、前記残膜厚設定値情報に基づき残膜分に相当するインプリント材の塗布位置及び塗布量を示す残膜厚分塗布量分布を算出し、前記合成パターン充填分塗布量分布と前記残膜厚分塗布量分布とを足し合わせてインプリント材塗布量分布を算出する第2の演算部と、
前記インプリント材塗布量分布に基づいて基板上にインプリント材を塗布する塗布部と、
を備えるインプリントシステム。 - テンプレートの凹凸パターンの位置及び深さを含むテンプレート情報に基づいて前記凹凸パターン内への充填分に相当するインプリント材の塗布位置及び塗布量を示すパターン充填分塗布量分布を算出し、
基板上に一様に形成される残膜の膜厚を含む残膜厚設定値情報に基づいて残膜分に相当するインプリント材の塗布位置及び塗布量を示す残膜厚分塗布量分布を算出し、
前記テンプレート情報に基づいて前記テンプレートのパターン密度を算出し、
前記算出したパターン密度に応じたインプリント材の揮発分を補填するインプリント材の塗布位置及び塗布量を示す揮発補填分塗布量分布と、前記パターン充填分塗布量分布と、前記残膜厚分塗布量分布とを足し合わせてインプリント材塗布量分布を算出し、
前記インプリント材塗布量分布に基づいて基板上にインプリント材を塗布するインプリント方法。 - 前記テンプレートのパターン密度を前記テンプレート内の任意の領域毎に算出し、前記領域毎に前記パターン密度に応じた揮発補填分塗布量分布と、前記パターン充填分塗布量分布と、前記残膜厚分塗布量分布とを足し合わせてインプリント材塗布量分布を算出することを特徴とする請求項4に記載のインプリント方法。
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