JP5992377B2 - モールド製造方法、モールド製造装置及びパターン形成方法 - Google Patents

モールド製造方法、モールド製造装置及びパターン形成方法 Download PDF

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Description

本発明の実施形態は、モールド製造方法、モールド製造装置及びパターン形成方法に関する。
微細なパターンを形成する方法として、形成するパターンの形状に対応した凹凸パターンが設けられた原版(モールド)を用いるインプリント法がある。インプリント法では、基板上に例えば光硬化性の有機材料(感光性樹脂)を塗布し、この有機材料の層にモールドを接触させる。そして、この状態で有機材料に光(例えば、紫外線光)を照射して有機材料を硬化させた後、モールドを有機材料から引き離す。これにより、有機材料の層にモールドの凹凸パターンの形状が転写される。インプリント法では、寸法均一性に優れたパターンが安価に形成される。モールドを用いたパターンの形成方法では、下地の段差の影響を抑制することが重要である。
特開2011−159764号公報
本発明の実施形態は、下地の段差の影響を抑制して的確にパターンを形成することができるモールド製造方法、モールド製造装置及びパターン形成方法を提供する。
実施形態に係るモールド製造方法は、段差が設けられた領域を有する下地において、前記領域における前記段差の分布を得る工程と、前記下地の上に塗布した感光性樹脂に、凸パターンを含む凹凸パターンを有する第1モールドを接触させて前記感光性樹脂を硬化させた場合に、前記段差の分布を有する前記領域と前記凸パターンとの間に残る前記感光性樹脂の膜厚の分布を得る工程と、前記感光性樹脂の前記膜厚の分布と、予め設定された基準の膜厚の分布との差を抑制する補正データを生成する工程と、前記補正データを用いて前記第1モールドとは異なる第2モールドを形成する工程と、備える。
図1は、第1の実施形態に係るモールド製造方法を例示するフローチャートである。 図2(a)〜図2(d)は、インプリント法によるパターン形成方法を例示する模式的断面図である。 図3(a)〜図3(d)は、参考例に係るインプリント法を例示する模式的断面図である。 図4(a)〜図4(e)は、具体例について例示する模式図である。 図5(a)〜図5(f)は、モールドを例示する模式的断面図である。 図6(a)〜図6(c)は、第2モールドによるパターン形成の例を示す模式的断面図である。 図7は、第2の実施形態に係るモールド製造装置を例示するブロック図である。 図8は、第3の実施形態に係るパターン形成方法を例示するフローチャートである。 図9(a)及び図9(b)は、モールドの撓みの調整について例示する模式的断面図である。 図10は、第4の実施形態に係るパターン形成装置を例示する模式図である。 図11は、コンピュータのハードウェア構成を例示する図である。
以下、本発明の実施形態を図に基づき説明する。以下の説明では、同一の部材には同一の符号を付し、一度説明した部材については適宜その説明を省略する。
(第1の実施形態)
図1は、第1の実施形態に係るモールド製造方法を例示するフローチャートである。
本実施形態において製造されるモールドは、インプリント法で使用される原版である。モールドは、形成するパターンの形状に対応した凹凸パターンを有する。
図1に表したように、本実施形態に係るモールド製造方法は、第1分布の取得(ステップS101)と、第2分布の取得(ステップS102)と、補正データの生成(ステップS103)と、第2モールドの形成(ステップS104)と、を備える。
先ず、第1分布の取得(ステップS101)では、基板上の層に含まれる段差の分布を示す第1分布を得る。基板上の層とは、インプリント法によってパターンが形成される下地になる層である。本実施形態では、基板上の層を「下地」と言うことにする。下地には、例えば複数層の下地パターンが形成されている。この下地パターンの形状や疎密などによって、下地の段差(高低差)の分布が発生する。第1分布の取得(ステップS101)では、この下地の段差の分布である第1分布を得る。なお、本実施形態において、基板上の層(下地)には、基板の表面を含む層が含まれる。また、本実施形態において、下地には、インプリント法によってパターンが形成される膜(例えば、絶縁膜、金属膜(導電膜)、半導体膜)が含まれる。
次に、第2分布の取得(ステップS102)では、基板と、モールドの凹凸パターンの凸パターンとの間に残る感光性樹脂の膜厚の分布である第2分布を得る。インプリント法によってパターンを形成する場合、基板の下地の上に感光性樹脂を塗布し、この感光性樹脂にモールドを接触させる。そして、この状態で感光性樹脂に光を照射して硬化させる。
ここで、モールドを感光性樹脂に接触させる際、基板の下地と、モールドの凹凸パターンの凸パターンと、の間に僅かな隙間が設けられる。感光性樹脂は、下地とモールドとの間において、凹パターン内及び凸パターンと下地との隙間に入り込む。感光性樹脂を硬化させた後、モールドを感光性樹脂から引き離すと、凹パターン内及び凸パターンと下地との隙間に入り込んでいた感光性樹脂が基板上に残される。第2分布は、凸パターンと下地との隙間に残された感光性樹脂の膜厚の分布である。第2分布は、下地の段差の分布である第1分布や、モールドに加わる応力などの条件によって決定される。
第2分布の取得(ステップS102)では、この凸パターンと下地との隙間に残された感光性樹脂の膜厚の分布を得る。第2分布の取得(ステップS102)では、インプリント法で用いられる基準のモールドを第1モールドとする。第1モールドは、設計データとしてモールドでも、実体としてのモールドでもよい。そして、この第1モールドを感光性樹脂に接触させた場合の第2分布を得る。
次に、補正データの生成(ステップS103)では、第2分布において示される感光性樹脂の膜厚と、予め設定された基準の膜厚との差を抑制する補正データを生成する。予め設定された基準の膜厚は、例えば一定の膜厚である。すなわち、インプリント法においてパターンを形成する際、モールドの凸パターンと下地との隙間に残される感光性樹脂の膜厚は、一定であることが望ましい。基準の膜厚は、この一定の膜厚に設定される。
補正データの生成(ステップS103)では、先ず、第2分布において示される感光性樹脂の膜厚の分布と基準の膜厚との差分を求める。そして、この差分を抑制(例えば、相殺)するような補正データを生成する。
次に、第2モールドの生成(ステップS104)では、補正データを用いて第1モールドとは異なる第2モールドを形成する。すなわち、第2モールドの生成(ステップS104)では、補正データに基づき、基準のモールドである第1モールドの形状等を補正して第2モールドを生成する。なお、本実施形態において、第2モールドは、設計データとしてのモールドでも、実体としてのモールドでもよい。設計データとしての第2モールドを生成する場合、モールド製造方法は、モールド設計方法でもある。
第2モールドを用いたインプリント法によりパターンを形成すると、凸パターンと下地との隙間に残る感光性樹脂の膜厚と、基準の膜厚との差が、第1モールドを用いる場合に比べて抑制される。すなわち、第2モールドは、第2分布で表される感光性樹脂の膜厚のばらつきを補償する補正が施されたモールドである。したがって、第2モールドを用いてインプリント法によりパターンを形成することで、凸パターンと下地との間の隙間に残る感光性樹脂の膜厚のばらつきが抑制される。
ここで、インプリント法によるパターン形成方法の手順を説明する。
図2(a)〜図2(d)は、インプリント法によるパターン形成方法を例示する模式的断面図である。
先ず、図2(a)に表したように、基板250上の下地260の上に、感光性樹脂70を塗布する。感光性樹脂70には、例えばレジストが用いられる。感光性樹脂70は、例えばノズルNからインクジェット法によって基板250上に塗布される。感光性樹脂70の液滴の大きさは、例えば数μm程度である。感光性樹脂70の液滴の間隔は、例えば10μm以上1000μm以下である。なお、感光性樹脂70は、スピンコート等によって下地260上に一様な厚さで塗布されてもよい。
次に、図2(b)に表したように、モールド100を用意する。モールド100は、基台10と、基台10の一方面側に設けられたパターン部Pとを有する。パターン部Pには、凹パターンP1及び凸パターンP2が設けられる。そして、モールド100のパターン部Pを、感光性樹脂70に接触させる。感光性樹脂70は、毛細管現象により凹パターンP1の内部に侵入する。これにより、凹パターンP1内に感光性樹脂70が充填される。また、感光性樹脂70は、凸パターンP2と下地260との隙間にも侵入する。
次に、モールド100のパターン部Pを感光性樹脂70に接触させた状態で、モールド100の基台10側から光Cを照射する。光Cは、例えば、紫外線光である。光Cは、基台10及びパターン部Pを透過して、感光性樹脂70に照射される。感光性樹脂70は、光Cの照射によって硬化する。
次に、図2(c)に表したように、モールド100を、感光性樹脂70から引き離す。これにより、下地260の上にはモールド100のパターン部Pの凹凸形状が転写された転写パターン70aが形成される。また、モールド100の凸パターンP2と下地260との間に侵入した感光性樹脂70は、硬化後に残膜70bとして残る。
次に、この転写パターン70aをマスクとして下地260をエッチングする。これにより、図2(d)に表したように、転写パターン70aの形状に対応したパターン71が基板250上に形成される。
図3(a)〜図3(d)は、参考例に係るインプリント法を例示する模式的断面図である。
参考例に係るインプリント法は、段差を含む下地の上にインプリント法によってパターンを形成する例である。
先ず、図3(a)に表したように、基板250の下地260の上に感光性樹脂70を塗布する。下地260には段差が含まれる。例えば、下地260の第1領域R1及び第2領域R2には、下地260の表面260aよりも後退した段差が含まれる。例えば、第1領域R1の面積は、第2領域R2の面積よりも広い。このような段差を含む下地260の上に感光性樹脂70を塗布すると、段差のある領域の位置や面積などによって感光性樹脂70の膜厚に相違が発生する。
例えば、第1領域R1においては、第1領域R1の中央部分における感光性樹脂70の膜厚が、第1領域R1の端部(縁部)における感光性樹脂70の膜厚よりも薄くなる。すなわち、第1領域R1では、中央部から端部にかけて感光性樹脂70の膜厚が厚くなる。また、比較的面積の狭い第2領域R2においては、全体に感光性樹脂70が埋め込まれる。これにより、第2領域R2における感光性樹脂70の膜厚は、下地260の表面260aにおける感光性樹脂70の膜厚よりも厚くなる。
次に、このような感光性樹脂70にモールド100のパターン部Pを接触させて、感光性樹脂70を硬化させ、モールド100を感光性樹脂70から引き離す。これにより、図3(b)に表したように、下地260の上に感光性樹脂70による転写パターン70aが形成される。下地260の上に形成された転写パターン70aの凹部分における感光性樹脂70の残膜70bの厚さには、図3(a)に表した感光性樹脂70の膜厚の分布が反映される。
次に、図3(c)に表したように、転写パターン70aをマスクとしてエッチングを行う。このエッチングでは、転写パターン70aが徐々にエッチングされ、やがて下地260がエッチングされる。さらにエッチングが進むと、図3(d)に表したように、基板250上にパターン71が形成される。この際、残膜70bの厚さが厚い部分についてはエッチングが遅くなる。この部分では、パターン71が形成されない。
図3(d)に表した例では、第1領域R1の端部及び第2領域R2において残膜70bの厚さが厚いため、この部分において掘り込み不足が発生する。したがって、的確にパターン71が形成されない不良箇所が生じる。
本実施形態によって製造されたモールドを用いることで、残膜70bの厚さのばらつきが抑制される。したがって、段差を含む下地260の上にインプリント法によりパターンを形成する場合、本実施形態によって製造されたモールドを用いることで、基板250上に的確にパターン71が形成される。つまり、パターン71が形成されない不良箇所の発生が低減される。また、パターン71の寸法精度が向上し、デバイスの性能向上、歩留まりの向上及びコスト低減が達成される。
次に、本実施形態の具体例について説明する。
図4(a)〜図4(e)は、具体例について例示する模式図である。
図4(a)〜図4(e)には、矩形のチップに相当する領域CPが模式的に表される。
先ず、第1分布を得る工程(図1のステップS101)において、図4(a)に表したような下地パターンの設計データD1を取得する。設計データD1には、下地パターンのチップ領域CP内におけるレイアウトのデータが含まれる。
次に、第1分布を得る工程(図1のステップS101)において、図4(b)に表したような段差マップM1を求める。段差マップM1は、領域CP内における段差量の分布を表す。領域CP内における段差量は、図4(a)に表した設計データD1(例えば、レイアウトのデータ)に基づき求められる。
次に、第2分布を得る工程(図1のステップS102)において、図4(c)に表したような第1モールドの撓みの予測を行う。図4(c)には、領域CPにおける第1モールドの撓み量の分布D2が表される。インプリント法によってパターンを形成する際、第1モールドには所定の応力が加わる。この応力に基づき、第1モールドの撓み量の分布が求められる。
次に、第2分布を得る工程(図1のステップS102)において、図4(d)に表したような段差予測マップM21を求める。段差予測マップM21は、領域CP内における感光性樹脂70の残膜70bの膜厚の予測値の分布である。段差予測マップM2は、第2分布の一例である。
領域CP内における残膜70bの厚さは、図4(b)に表した段差マップM1と、図4(c)に表した撓み量の分布D2とから予測される。図4(e)には、別な段差予測マップM22が表される。例えば、1つの段差マップM1に対して撓み量の分布D2とは異なる撓み量の分布を適用すると、別な段差予測マップM22が得られる。
次に、補正データの生成する工程(図1のステップS103)において、図4(d)及び図4(e)に表した段差予測マップM21及びM22のいずれかから、予測される段差を抑制するような補正データを生成する。そして、第2モールドを生成する工程(図1のステップS104)では、補正データを用いて第1モールドとは異なる第2モールドを形成する。第2モールドは、第2分布(例えば、段差予測マップM21及びM22)で表される感光性樹脂の膜厚のばらつきを補償する補正が施されたモールドになる。
なお、上記説明した第1分布を得る工程(図1のステップS101)では、予め、基板上に形成された下地、またはこの下地と同等な下地(基準層)の段差を測定した結果に基づき、段差マップM1を予測するようにしてもよい。段差の測定には、例えばAFM(Atomic Force Microscope)が用いられる。
また、予め求められたテーブルデータを参照して段差マップM1を求めてもよい。テーブルデータは、基準層における基板上の位置と、基準層に含まれる段差の測定結果と、の関係を示すデータである。
また、上記説明した第2分布を得る工程(図1のステップS102)では、実際に第1モールドを感光性樹脂に接触させて形成された感光性樹脂の膜厚の分布(第2分布の他の一例)を測定して求めてもよい。
また、上記説明した第2分布を得る工程(図1のステップS102)では、第1モールドの設計データや第1モールドに加わる応力などの条件からシミュレーションによって段差予測マップM2を求めてもよい。
また、上記説明した第2分布を得る工程(図1のステップS102)では、予め、第1モールドに加わる応力を測定した結果に基づき、下地と凸パターンとの隙間を予測して段差予測マップM2を求めてもよい。
次に、モールドの例について説明する。
図5(a)〜図5(f)は、モールドを例示する模式的断面図である。
図5(a)〜図5(e)には、第2モールドを生成する工程(図1のステップS104)において生成される第2モールド100A〜100Eの例が表される。図5(f)には、参考として第1モールド101の例が表される。
図5(a)〜図5(e)に表した第2モールド100A〜100Eは、補正データによって図5(f)に表した第1モールド101の形状を補正した形状を有する。
図5(a)に表した第2モールド100Aでは、パターン部Pにおける凸パターンP2の高さに補正が加えられる。すなわち、第2モールド100Aは、凸パターンP2の高さによって残膜70bの厚さが調整される。第2モールド100Aにおける凸パターンP2の高さは、段差予測マップM21及びM22のいずれかにおいて段差量が大きい部分ほど高くなっている。
図5(b)に表した第2モールド100Bでは、基台10の一部に、基台10の剛性を低下させる剛性調整部11が設けられる。剛性調整部11は、例えば基台10に設けられた凹部を有する。凹部が設けられた部分の基台10の厚さは、凹部が設けられていない部分の基台10の厚さよりも薄くなる。これにより、基台10の剛性は、剛性調整部11において低下する。インプリント法において第2モールド100Bに応力が加わると、剛性調整部11において多く撓むことになる。剛性調整部11を設ける位置は、段差予測マップM21及びM22のいずれかにおける段差量の分布に基づき決定される。例えば、段差量が大きい部分に対応した基台10の位置に剛性調整部11が設けられる。
図5(c)に表した第2モールド100Cでは、基台10の一部に、基台10の剛性を低下させるV溝12が設けられる。基台10のV溝12が設けられた部分の剛性は、V溝12が設けられてない部分の剛性に比べて低下する。V溝12の位置、深さ及び個数によって剛性が設定される。V溝12の位置、深さ及び個数は、段差予測マップM21及びM22のいずれかにおける段差量の分布に基づき決定される。例えば、段差量が大きい部分に対応した基台10の位置にV溝12が設けられる。
図5(d)に表した第2モールド100Dでは、パターン部Pにおける凹パターンP1の深さに補正が加えられる。すなわち、第2モールド100Dは、凹パターンP1の深さによって残膜70bの厚さが調整される。第2モールド100Dにおける凹パターンP1の深さは、段差予測マップM21及びM22のいずれかにおいて段差量が大きい部分ほど深くなっている。
図5(e)に表した第2モールド100Eでは、基台10の厚さに補正が加えられる。基台10の厚さによって凹パターンP1の深さが調整される。第2モールド100Eは、基台10の厚さによって残膜70bの厚さが調整される。第2モールド100Eにおける基台10の厚さは、段差予測マップM21及びM22のいずれかにおいて段差量が大きい部分ほど厚くなっている。
なお、図5(a)〜図5(e)に表したような第2モールド100A〜100Eのそれぞれの特徴は、適宜組み合わされていてもよい。
また、補正データによって第1モールドとは異なる第2モールドを形成する例として、第1モールドの組成とは異なる組成により第2モールドを形成してもよい。例えば、第2モールドの組成として、第1モールドよりも高い可撓性を有する組成を用いてもよい。これにより、残膜70bの厚さの厚い部分に対応した第2モールドの部分を、他の部分よりも多く撓ませる調整が容易になる。
図6(a)〜図6(c)は、第2モールドによるパターン形成の例を示す模式的断面図である。
図6(a)には、図5(a)に表した第2モールド100Aを感光性樹脂70に接触させた状態が表される。図6(b)には、図5(e)に表した第2モールド100Eを感光性樹脂70に接触させた状態が表される。図6(c)には、形成された転写パターン70aが表される。
図6(a)に表したように、第2モールド100Aを感光性樹脂70に接触させると、第2モールド100Aの凸パターンP2と下地260との隙間が均一化される。
図6(b)に表したように、第2モールド100Eを感光性樹脂70に接触させた場合も同様に、第2モールド100Eの凸パターンP2と下地260との隙間が均一化される。
第2モールド100A及び100Eを感光性樹脂70から引き離すと、図6(c)に表したような転写パターン70aが形成される。凸パターンP2と下地260との隙間に設けられる残膜70bの厚さは、第1モールド101を用いた場合に比べて均一化される。そして、この転写パターン70aをマスクとしてエッチングを行うと、残膜70bの部分がエッチングされる時間のばらつきが抑制される。したがって、確実にパターン71が形成されることになる。
(第2の実施形態)
次に、第2の実施形態について説明する。
図7は、第2の実施形態に係るモールド製造装置を例示するブロック図である。
図7に表したように、本実施形態に係るモールド製造装置200は、第1取得部210と、第2取得部220と、データ生成部230と、を備える。
第1取得部210は、基板上の下地に含まれる段差の分布を示す第1分布を得る。第2取得部220は、基板とモールドの凸パターンとの間に残る感光性樹脂の膜厚の分布を示す第2分布を得る。データ生成部230は、第1モールドとは異なる第2モールドを形成するためのデータを生成する。
モールド製造装置200は、例えばコンピュータを含む。第1取得部210、第2取得部220及びデータ生成部230は、ネットワークを介して互いに接続されていてもよい。この場合、第1取得部210、第2取得部220及びデータ生成部230は、同じ場所にあるコンピュータに設けられていても、異なる場所にある複数のコンピュータに分散して設けられていてもよい。
第1取得部210は、図1のステップS101に表した第1分布を得る処理を行う。例えば、下地パターンの設計データ(例えば、レイアウトデータ)を取得し、段差マップM1を求める処理を行う。例えば、下地の積層レイアウトデータからレイヤ毎の下地段差構造の分布をシミュレーションによって求め、基板表面に沿ったXY座標軸上にマッピングして、段差マップM1を得る。第1取得部210は、シミュレーション等の計算によって段差マップM1を求めてもよいし、外部から段差マップM1を取得してもよい。
第2取得部220は、図1のステップS102に表した第2分布を得る処理を行う。例えば、第1取得部210で求めた段差マップM1と、第1モールドの撓み量の分布D2とから、段差予測マップM2を求める処理を行う。第2取得部220は、シミュレーション等の計算によって段差予測マップM2を求めてもよいし、外部から段差予測マップM2を取得してもよい。第2取得部200は、取得した段差予測マップM2のデータ(段差予測データ)を、例えばデータベースDB2に格納する。
データ生成部230は、図1のステップS103に表した補正データを生成する処理を行う。例えば、第2取得部220で得た段差予測マップM2から、予測される段差を抑制するような補正データを生成する。補正データは、第2モールドの形態(例えば、図5(a)〜図5(e)に表したように第2モールド100A〜100Eの形態)によって相違する。
補正データは、描画装置300へ送られる。描画装置300は、ガラス基板等の母材に電子ビームを照射して母材に凹部を形成する装置である。描画装置300は、データベースDB1に格納された描画データ及びデータ生成部230から送られた補正データに基づき電子ビームの照射位置、照射量を調整する。これにより、例えば、図5(a)〜図5(e)に表した第2モールド100A〜100Eが形成される。
本実施形態に係るモールド製造装置200は、モールド設計装置でもある。なお、第1取得部210、第2取得部220及びデータ生成部230の少なくともいずれかは、描画装置300の一部として組み込まれていてもよい。描画装置300を含むことで、モールド製造装置200は、実体としての第2モールドを製造する装置になる。
(第3の実施形態)
次に、第3の実施形態について説明する。
図8は、第3の実施形態に係るパターン形成方法を例示するフローチャートである。
図8に表したように、本実施形態に係るパターン形成方法は、第1分布の取得(ステップS201)と、第2分布の取得(ステップS202)と、感光性樹脂の塗布(ステップS203)と、補正データの生成(ステップS204)と、撓みの調整(ステップS205)と、モールドと感光性樹脂との接触(ステップS206)と、感光性樹脂の硬化(ステップS207)と、モールドの引き離し(ステップS208)と、を備える。
先ず、第1分布の取得(ステップS201)では、基板上の下地に含まれる段差の分布を示す第1分布を得る。第1分布の取得(ステップS201)は、図1に表した第1分布の取得(ステップS101)と同じである。
次に、第2分布の取得(ステップS202)では、基板と、モールドの凹凸パターンの凸パターンとの間に残る感光性樹脂の膜厚の分布である第2分布を得る。第2分布の取得(ステップS202)は、図1に表した第2分布の取得(ステップS102)と同じである。
次に、感光性樹脂の塗布(ステップS203)では、図2(a)に表したように、基板250の上に、感光性樹脂70を塗布する処理を行う。
次に、補正データの生成(ステップS204)では、第2分布において示される感光性樹脂の膜厚と、予め設定された基準の膜厚との差を抑制する補正データを生成する。補正データの生成(ステップS204)は、図1に表した補正データの生成(ステップS103)と同じである。
次に、撓みの調整(ステップS205)では、ステップS204で生成された補正データを用いてモールドの撓みを調整する処理を行う。例えば、補正データにおいて、感光性樹脂の膜厚と、基準の膜厚との差が大きい部分では、その部分に対応したモールドの撓み量を増加させる。
次に、モールドと感光性樹脂との接触(ステップS206)では、撓みが調整されたモールドと、感光性樹脂とを接触させる。撓みが調整されたモールドを感光性樹脂と接触させると、モールドの凸パターンと下地との隙間が均一化される。
次に、感光性樹脂の硬化(ステップS207)では、撓みが調整されたモールドと感光性樹脂とを接触させた状態で、感光性樹脂に光(例えば、紫外線光)を照射する。感光性樹脂は、光の照射によって硬化する。
次に、モールドの引き離し(ステップS208)では、モールドを、感光性樹脂から引き離す。これにより、基板上にはモールドのパターン部の凹凸形状が転写された転写パターンが形成される。また、モールドの凸パターンと下地との間に侵入した感光性樹脂は、硬化後に残膜として残る。
その後、この転写パターンをマスクとしてエッチングを行う。これにより、基板上にパターンが形成される。
本実施形態に係るパターン形成方法では、補正データに基づきモールドの撓みを調整して感光性樹脂と接触させるため、凸パターンと下地との隙間に残る感光性樹脂の膜厚と、基準の膜厚との差が、モールドの撓みを調整しない場合に比べて抑制される。
図9(a)及び図9(b)は、モールドの撓みの調整について例示する模式的断面図である。
図9(a)及び図9(b)に表した例では、モールド102に加える圧力によって撓みの調整が行われる。
図9(a)に表した例では、モールド102に加える圧力に、モールド102の位置に応じた強弱を付けている。図9(a)では、矢印の大きさが圧力の高さを表している。例えば、補正データにおいて、感光性樹脂の膜厚と、基準の膜厚との差が大きい部分では、その部分に対応したモールドの位置の圧力を、他の位置に比べて高くする。圧力が高い部分ではモールド102の撓み量が大きくなる。
図9(b)に表した例では、モールド102に圧力を加える時間を調整している。図9(b)では、矢印の示す部分において、他の部分に比べて長い時間圧力を加える。例えば、補正データにおいて、感光性樹脂の膜厚と、基準の膜厚との差が大きい部分では、その部分に対応したモールドの位置に、他の位置に比べて長い時間圧力を加える。長い時間圧力が加えられた部分では、モールド102の撓み量が大きくなる。
このように、モールド102の撓みを調整することで、凸パターンと下地との隙間に残る感光性樹脂の膜厚と、基準の膜厚との差が、モールドの撓みを調整しない場合に比べて抑制される。したがって、パターンの不良が低減する。
(第4の実施形態)
次に、第4の実施形態について説明する。
図10は、第4の実施形態に係るパターン形成装置を例示する模式図である。
図10に表したパターン形成装置400は、第3の実施形態に係るパターン形成方法を実施するための装置である。
図10に表したように、パターン形成装置400は、原版ステージ2と、試料ステージ5と、補正機構9と、部分加圧部17と、光源18と、制御演算部21と、を備える。パターン形成装置400は、さらに、アライメントセンサ7と、アライメントステージ8と、を備える。実施形態に係るパターン形成装置400は、モールド102の凹凸パターンを基板250上の感光性樹脂に転写するインプリント装置である。
試料ステージ5の上にはチャック4が設けられる。チャック4は、基板250を保持する。チャック4は、基板250を例えば真空吸着によって保持する。基板250は、例えば半導体基板である。
試料ステージ5は、ステージ定盤13の上に移動可能に設けられる。試料ステージ5は、ステージ定盤13の上面13aに沿った2軸に沿ってそれぞれ移動可能に設けられる。ここで、ステージ定盤13の上面13aに沿った2軸を、X軸及びY軸とする。試料ステージ5は、X軸及びY軸と直交するZ軸にも移動可能に設けられる。試料ステージ5には、X軸、Y軸及びZ軸のそれぞれを中心として回転可能に設けられていることが望ましい。
試料ステージ5には基準マーク台6が設けられる。基準マーク台6の上には装置の基準位置となる基準マーク(不図示)が設置される。基準マークは、アライメントセンサ7の校正及びモールド102の位置決め(姿勢制御・調整)に利用される。基準マークは、試料ステージ5上の原点である。試料ステージ5の上に載置される基板250のX,Y座標は、基準マーク台6を原点とした座標になる。
原版ステージ2は、モールド102を固定する。原版ステージ2は、モールド102の周縁部分を例えば真空吸着によって保持する。モールド102は、石英や蛍石など紫外線光を透過する材料で形成される。原版ステージ2はモールド102を装置基準に位置決めするように動作する。原版ステージ2は、ベース部16に取り付けられる。
ベース部16には、補正機構9(補正手段)及び加圧部15(押し付け手段)が取り付けられる。補正機構9は、モールド102の位置(姿勢)を微調整する調整機構を有する。補正機構9は、モールド102の位置(姿勢)を微調整することにより、モールド102と基板250との相対的な位置を補正する。補正機構9は、例えば制御演算部21から指示を受けてモールド102の位置を微調整する。
加圧部15は、モールド102の側面に応力を与えてモールド102の歪みを矯正する。加圧部15は、モールド102の4つの側面から中心に向けてモールド102を加圧する。加圧部15は、例えば制御演算部21から指示を受けてモールド102を所定の応力で加圧する。
部分加圧部17は、モールド102の所定の位置に対して部分的に圧力を加える機構を有する。部分加圧部17は、例えば、モールド102の基台10側の表面の特定の位置に空気圧を加える機構や、特定の位置にプッシュロッド(図示せず)等を接触させて部分的に圧力を加える機構などを有する。部分加圧部17によってモールド102に部分的に圧力が加えられることで、モールド102の特定箇所の撓みが調整される。
ベース部16は、アライメントステージ8に取り付けられる。アライメントステージ8は、モールド102と基板250との位置合わせを行うため、ベース部16をX軸方向及びY軸方向に移動させる。アライメントステージ8は、ベース部16をXY平面に沿って回転させる機能も備える。XY平面に沿った回転の方向をθ方向とする。
アライメントセンサ7は、モールド102に設けられたアライメントマークと、基板250に設けられたアライメントマークとを検出する。モールド102には、図示しない第1のアライメントマーク(原版アライメントマーク)が設けられる。基板250の下地パターンには、図示しない第2のアライメントマーク(下地アライメントマーク)が形成されている。下地アライメントマークおよび原版アライメントマークは、モールド102と基板250との相対的な位置ずれを計測するために使用される。
アライメントセンサ7は、基準マーク台6上の基準マークに対するモールド102の位置ずれ、及びモールド102に対する基板250の位置ずれを検出する。アライメントセンサ7で検出したアライメントマークの位置(例えば、X,Y座標)は、制御演算部21に送られる。なお、図10では、アライメントセンサ7は左右の2つのみ図示されているが、4つ以上あることが好ましい。
制御演算部21は、上記基準マークに対するモールド102の位置ずれを演算する。上記基準マークに対するモールド102の位置ずれは、上記基準マーク及びモールド102を同時に検出可能な位置へ、試料ステージ5を図示しない移動機構により移動させた状態で検出される。位置ずれ量は、上記基準マークおよび原版アライメントマークへ向けて図示しないアライメント用光源により光を照射し、アライメントセンサ7に戻ってきた光の重心位置等から位置ずれを計測することにより取得される。
制御演算部21は、試料ステージ5をX軸方向、Y軸方向、Z軸方向及びθ方向に制御する信号を生成する。制御演算部21は、モールド102と試料ステージ5との相対的な位置を制御する信号を生成する。例えば、試料ステージ5は、制御演算部21から送られた信号によってステージ定盤13上の位置が制御される。
制御演算部21は、アライメントセンサ7から送られたアライメントマークの位置情報に基づき、モールド102と基板250とのアライメントを行うための演算を行う。アライメントステージ8は、制御演算部21から送られた信号によってモールド102と基板250とのアライメント調整を行う。
制御演算部21は、補正機構9を制御する信号を生成してもよい。制御演算部21は、原版1の倍率補正を行うための応力を加圧部15に発生させるため、所定の演算によってこの応力を発生させるための信号を加圧部15に与えてもよい。
制御演算部21は、光源18を制御してもよい。インプリント法によるパターンの形成では、基板250の上に感光性樹脂を塗布した後、モールド102を感光性樹脂に接触させた状態で光源18から感光性樹脂に光を照射する。制御演算部21は、この光の照射タイミングや照射量を制御してもよい。
光源18は、例えば紫外線光を放出する。光源18は、例えばモールド102の直上に設置される。なお、光源18の位置はモールド102の直上に限られない。光源18がモールド102の直上以外の位置に配置されている場合には、ミラー等の光学部材を用いて光路を設定し、光源18から放出した光をモールド102の直上からモールド102に向けて照射するように構成すればよい。
パターン形成装置110は、塗布装置14を含む。塗布装置14は基板250上に感光性樹脂を塗布する。塗布装置14はノズルを有し、このノズルから感光性樹脂を基板250の上に滴下する。
パターン形成装置400は、インプリント法によって基板250上の感光性樹脂にモールド102の凹凸パターンの形状を転写したパターンを形成する。すなわち、基板250上に感光性樹脂を塗布した状態で、部分加圧部17によってモールド102の撓みを調整し、この状態でモールド102と基板250とのZ軸方向の距離を縮めてモールド102を感光性樹脂に接触させる。そして、この状態で光源18から光を照射して感光性樹脂を硬化させる。感光性樹脂の硬化後、モールド102を感光性樹脂から引き離す。これにより、モールド102の凹凸パターンの形状が感光性樹脂に転写されたパターンが基板250上に形成される。
パターン形成装置400においてインプリント法によるパターン形成を行う際、第3の実施形態に係るパターン形成方法で示したモールド102の撓みの調整を、部分加圧部17によって実現する。これにより、モールド102の凸パターンと下地260との隙間に残る感光性樹脂の膜厚と、基準の膜厚との差が、モールド102の撓みを調整しない場合に比べて抑制される。したがって、本実施形態に係るパターン形成装置400を用いることで、的確なパターンが形成される。
(第5の実施形態)
次に、第5の実施形態について説明する。
第5の実施形態は、モールド製造プログラムである。図7に表したモールド製造装置200の第1取得部210、第2取得部220及びデータ生成部230は、コンピュータによって実行されるプログラム(モールド製造プログラム)として実現可能である。
図11は、コンピュータのハードウェア構成を例示する図である。
コンピュータ500は、中央演算部501、入力部502、出力部503、記憶部504を含む。入力部502は、記録媒体Mに記録された情報を読み取る機能を含む。モールド製造プログラムは、第1取得部210で行われる第1分布を得る処理(図1のステップS101)、第2取得部220で行われる第2分布を得る処理(図1のステップS102)及びデータ生成部230で行われる補正データを生成する処理(図1のステップS103)を、コンピュータ500の中央演算部501で実行される。
(第6の実施形態)
モールド製造プログラムは、コンピュータ読取可能な記録媒体に記録されていてもよい。記録媒体Mは、第1分布を得る処理(図1のステップS101)、第2分布を得る処理(図1のステップS102)及び補正データを生成する処理(図1のステップS103)をコンピュータ500に読み取り可能な形式によって記憶している。記録媒体Mは、ネットワークに接続されたサーバ等の記憶装置であってもよい。また、モールド製造プログラムは、ネットワークを介して配信されてもよい。
以上説明したように、実施形態に係るモールド製造方法、モールド製造装置及びパターン形成方法によれば、下地の段差の影響を抑制して正確にパターンを形成することができる。
なお、上記に本実施形態及び具体例を説明したが、本発明はこれらの例に限定されるものではない。例えば、前述の各実施形態及び具体例に対して、当業者が適宜、構成要素の追加、削除、設計変更を行ったものや、各実施形態及び具体例の特徴を適宜組み合わせたものも、本発明の要旨を備えている限り、本発明の範囲に含有される。
本発明のいくつかの実施形態を説明したが、これらの実施形態は、例として提示したものであり、発明の範囲を限定することは意図していない。これら新規な実施形態は、その他の様々な形態で実施されることが可能であり、発明の要旨を逸脱しない範囲で、種々の省略、置き換え、変更を行うことができる。これら実施形態やその変形は、発明の範囲や要旨に含まれるとともに、特許請求の範囲に記載された発明とその均等の範囲に含まれる。
10…基台、11…剛性調整部、12…V溝、70a…転写パターン、70b…パターン、70b…残膜、100,100A,100B,100C,100D,100E…第2モールド、101…第1モールド、102…モールド、210…第1取得部、220…第2取得部、230…データ生成部、250…基板、260…下地、260a…表面、300…描画装置、400…パターン形成装置、500…コンピュータ、M1…段差マップ、M2…段差予測マップ、P…パターン部、P1…凹パターン、P2…凸パターン、R1…第1領域、R2…第2領域

Claims (7)

  1. 段差が設けられた領域を有する下地において、前記領域における前記段差の分布を得る工程と、
    前記下地の上に塗布した感光性樹脂に、凸パターンを含む凹凸パターンを有する第1モールドを接触させて前記感光性樹脂を硬化させた場合に、前記段差の分布を有する前記領域と前記凸パターンとの間に残る前記感光性樹脂の膜厚の分布を得る工程であって、予め、前記第1モールドに加わる応力を測定した結果に基づき、前記領域と前記凸パターンとの隙間を求めることを含む工程と、
    前記隙間に形成される記感光性樹脂の前記膜厚の分布と、予め設定された基準の膜厚の分布との差を抑制する補正データを生成する工程と、
    前記補正データを用いて前記第1モールドの前記凹凸パターンが調整された第2モールドを形成する工程と、
    を備えたモールド製造方法。
  2. 段差が設けられた領域を有する下地において、前記領域における前記段差の分布を得る工程と、
    前記下地の上に塗布した感光性樹脂に、凸パターンを含む凹凸パターンを有する第1モールドを接触させて前記感光性樹脂を硬化させた場合に、前記段差の分布を有する前記領域と前記凸パターンとの間に残る前記感光性樹脂の膜厚の分布を得る工程と、
    記感光性樹脂の前記膜厚の分布と、予め設定された基準の膜厚の分布との差を抑制する補正データを生成する工程と、
    前記補正データを用いて前記第1モールドとは異なる第2モールドを形成する工程と、
    を備えたモールド製造方法。
  3. 前記膜厚の分布を得る工程は、予め、前記第1モールドに加わる応力を測定した結果に基づき、前記領域と前記凸パターンとの隙間を求めることを含む請求項2記載のモールド製造方法。
  4. 前記第2モールドを形成する工程は、前記第1モールドの前記凹凸パターンを調整することを含む請求項2または3に記載のモールド製造方法。
  5. 前記第2モールドを形成する工程は、前記第1モールドの組成とは異なる組成により前記第2モールドを形成することを含む請求項2〜4のいずれか1つに記載のモールド製造方法。
  6. 段差が設けられた領域を有する下地において、前記領域における前記段差の分布を得る第1取得部と、
    前記下地の上に塗布した感光性樹脂に、凸パターンを含む凹凸パターンを有する第1モールドを接触させて前記感光性樹脂を硬化させた場合に、前記段差の分布を有する前記領域と前記凸パターンとの間に残る前記感光性樹脂の膜厚の分布を得る第2取得部と、
    記感光性樹脂の前記膜厚の分布と、予め設定された基準の膜厚の分布との差を抑制するように、前記第1モールドとは異なる第2モールドを形成するためのデータを生成するデータ生成部と、
    を備えたモールド製造装置。
  7. 段差が設けられた領域を有する下地において、前記領域における前記段差の分布を得る工程と、
    下地の上に第1感光性樹脂を塗布するとともに凸パターンを含む凹凸パターンを有する第1モールドを前記第1感光性樹脂に接触させて前記第1感光性樹脂を硬化させた場合に、前記段差の分布を有する前記領域記凸パターンとの間に残る前記第1感光性樹脂の膜厚の分布を得る工程と
    前記下地の上に第2感光性樹脂を塗布する工程と、
    第1感光性樹脂の前記膜厚の分布と、予め設定された基準の膜厚の分布の差を抑制する補正データを生成する工程と、
    前記補正データを用いて前記第1モールドの撓みを調整する工程と、
    前記撓みが調整された第2モールドと、前記第2感光性樹脂とを接触させた状態で、前記第2感光性樹脂を硬化させる工程と、
    前記第2モールドを前記第2感光性樹脂から引き離す工程と、
    を備えたパターン形成方法。
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