JP2021182594A - インプリント方法、インプリント装置及び物品の製造方法 - Google Patents
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- 238000000034 method Methods 0.000 title claims abstract description 61
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims description 8
- 239000000463 material Substances 0.000 claims abstract description 235
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims abstract description 190
- 230000001678 irradiating effect Effects 0.000 claims abstract description 34
- 239000007788 liquid Substances 0.000 claims abstract description 19
- 238000012545 processing Methods 0.000 claims description 32
- 238000009826 distribution Methods 0.000 claims description 27
- 230000008569 process Effects 0.000 claims description 26
- 239000005871 repellent Substances 0.000 abstract description 13
- 230000002940 repellent Effects 0.000 abstract description 3
- 239000002313 adhesive film Substances 0.000 description 48
- 238000001723 curing Methods 0.000 description 9
- 230000007547 defect Effects 0.000 description 9
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 description 8
- 230000008859 change Effects 0.000 description 7
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 description 6
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 6
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 5
- 238000001514 detection method Methods 0.000 description 4
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 4
- 230000007246 mechanism Effects 0.000 description 4
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 4
- -1 oxetane compound Chemical class 0.000 description 4
- 238000000016 photochemical curing Methods 0.000 description 4
- 230000009467 reduction Effects 0.000 description 4
- 239000004094 surface-active agent Substances 0.000 description 4
- 230000007423 decrease Effects 0.000 description 3
- 238000005530 etching Methods 0.000 description 3
- 230000006870 function Effects 0.000 description 3
- 125000002887 hydroxy group Chemical group [H]O* 0.000 description 3
- NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-M Acrylate Chemical compound [O-]C(=O)C=C NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical compound [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 2
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 2
- 239000000470 constituent Substances 0.000 description 2
- 239000003431 cross linking reagent Substances 0.000 description 2
- 125000001033 ether group Chemical group 0.000 description 2
- 238000001459 lithography Methods 0.000 description 2
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 2
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 2
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 2
- 239000003505 polymerization initiator Substances 0.000 description 2
- 229920000193 polymethacrylate Polymers 0.000 description 2
- 229920006395 saturated elastomer Polymers 0.000 description 2
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000010703 silicon Substances 0.000 description 2
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 2
- 238000003860 storage Methods 0.000 description 2
- 238000012719 thermal polymerization Methods 0.000 description 2
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000003903 2-propenyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])=C([H])[H] 0.000 description 1
- 239000004925 Acrylic resin Substances 0.000 description 1
- 229920000178 Acrylic resin Polymers 0.000 description 1
- 239000004593 Epoxy Substances 0.000 description 1
- YCKRFDGAMUMZLT-UHFFFAOYSA-N Fluorine atom Chemical compound [F] YCKRFDGAMUMZLT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000003647 acryloyl group Chemical group O=C([*])C([H])=C([H])[H] 0.000 description 1
- 230000001476 alcoholic effect Effects 0.000 description 1
- 239000003963 antioxidant agent Substances 0.000 description 1
- 239000012298 atmosphere Substances 0.000 description 1
- 125000003178 carboxy group Chemical group [H]OC(*)=O 0.000 description 1
- 239000000919 ceramic Substances 0.000 description 1
- 150000002148 esters Chemical group 0.000 description 1
- 125000001495 ethyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 238000002474 experimental method Methods 0.000 description 1
- 229910052731 fluorine Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011737 fluorine Substances 0.000 description 1
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 1
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 1
- 239000000852 hydrogen donor Substances 0.000 description 1
- 230000010365 information processing Effects 0.000 description 1
- 239000003999 initiator Substances 0.000 description 1
- 238000002347 injection Methods 0.000 description 1
- 239000007924 injection Substances 0.000 description 1
- 238000009413 insulation Methods 0.000 description 1
- 239000012212 insulator Substances 0.000 description 1
- 239000011229 interlayer Substances 0.000 description 1
- 238000005468 ion implantation Methods 0.000 description 1
- 125000000468 ketone group Chemical group 0.000 description 1
- 239000010410 layer Substances 0.000 description 1
- 239000004973 liquid crystal related substance Substances 0.000 description 1
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 1
- OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N methanol Natural products OC OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000002496 methyl group Chemical group [H]C([H])([H])* 0.000 description 1
- 239000006082 mold release agent Substances 0.000 description 1
- 239000002736 nonionic surfactant Substances 0.000 description 1
- 150000001451 organic peroxides Chemical class 0.000 description 1
- 239000003960 organic solvent Substances 0.000 description 1
- ISWSIDIOOBJBQZ-UHFFFAOYSA-N phenol group Chemical group C1(=CC=CC=C1)O ISWSIDIOOBJBQZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 description 1
- 239000010453 quartz Substances 0.000 description 1
- 239000011347 resin Substances 0.000 description 1
- 229920005989 resin Polymers 0.000 description 1
- 238000005070 sampling Methods 0.000 description 1
- 238000012546 transfer Methods 0.000 description 1
- 125000000391 vinyl group Chemical group [H]C([*])=C([H])[H] 0.000 description 1
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Abstract
Description
図2を参照して、本発明の第1実施形態におけるインプリント方法について説明する。S01(第1工程)では、基板上のインプリント処理の対象とする1つのショット領域(対象ショット領域)にインプリント材14の液滴を配置する前に、基板上(基板10の全体)に密着膜を形成(塗布)する。密着膜は、塗布装置などの外部装置によって基板上に形成してもよいし、インプリント装置1に塗布装置を設けてインプリント装置内で基板上に形成してもよい。
図10を参照して、本発明の第2実施形態におけるインプリント方法について説明する。第1実施形態では、基板上のショット領域にインプリント処理を行う前に、かかるショット領域に形成された密着膜102に対して、照射部20から光35を照射している(即ち、基板10の1つのショット領域ごとにS02及びS03を行う)。本実施形態では、基板上の各ショット領域にインプリント処理を行う前に、基板上に形成された密着膜102に対して、照射部20から光35を照射する(即ち、基板上の複数のショット領域の全てに対して一括して光35を照射する)。
第1実施形態及び第2実施形態では、インプリント装置1において、基板上に形成された密着膜102に対して光35を照射して撥液化処理を行っているが、これに限定されるものではない。本実施形態では、インプリント装置1の外部において、密着膜102の撥液化処理を行う場合について説明する。
インプリント装置1を用いて形成した硬化物のパターンは、各種物品の少なくとも一部に恒久的に、或いは、各種物品を製造する際に一時的に、用いられる。物品とは、電気回路素子、光学素子、MEMS、記録素子、センサ、或いは、型などである。電気回路素子としては、DRAM、SRAM、フラッシュメモリ、MRAMなどの揮発性又は不揮発性の半導体メモリや、LSI、CCD、イメージセンサ、FPGAなどの半導体素子などが挙げられる。型としては、インプリント用のモールドなどが挙げられる。
Claims (14)
- 型を用いて基板上にインプリント材のパターンを形成するインプリント方法であって、
前記基板と前記インプリント材とを密着させる機能を有し、第1光の照射により前記インプリント材に対する撥液性が増加する膜を前記基板上に形成する第1工程と、
前記第1工程の後、前記膜に前記インプリント材を硬化させる第2光が照射されることで生じる、前記基板上の複数の位置のそれぞれに配置される前記インプリント材の液滴のサイズの差が低減するように、前記第1光を前記基板上に形成された前記膜に照射する第2工程と、
前記第2工程の後、前記膜の上に前記インプリント材の液滴を配置し、当該インプリント材の液滴と前記型とを接触させた状態で前記第2光を照射することで前記パターンを形成する第3工程と、
を有することを特徴とするインプリント方法。 - 前記第2工程では、前記基板上の複数の位置のそれぞれに配置される前記インプリント材の液滴のサイズの差が許容範囲に収まるように、前記第1光を前記膜に照射することを特徴とする請求項1に記載のインプリント方法。
- 前記第2工程では、前記基板上の複数の位置のそれぞれに配置される前記インプリント材の液滴のサイズが同一となるように、前記第1光を前記膜に照射することを特徴とする請求項2に記載のインプリント方法。
- 前記第2工程では、前記基板内で強度分布を有する前記第1光を前記膜に照射することを特徴とする請求項1乃至3のうちいずれか1項に記載のインプリント方法。
- 前記基板は、複数のショット領域を含み、
前記第2工程では、前記複数のショット領域間で、前記インプリント材の液滴のサイズの差が前記許容範囲に収まるように、前記第1光を前記膜に照射することを特徴とする請求項2に記載のインプリント方法。 - 前記基板は、複数のショット領域を含み、
前記第2工程では、前記複数のショット領域のそれぞれにおいて、前記インプリント材の液滴のサイズの差が前記許容範囲に収まるように、前記第1光を前記膜に照射することを特徴とする請求項2に記載のインプリント方法。 - 前記基板は、複数のショット領域を含み、
前記基板の1つのショット領域ごとに前記第2工程及び前記第3工程を行うことを特徴とする請求項1乃至6のうちいずれか1項に記載のインプリント方法。 - 前記基板は、複数のショット領域を含み、
前記複数のショット領域に対して前記第2工程を一括して行うことを特徴とする請求項1乃至6のうちいずれか1項に記載のインプリント方法。 - 前記第1光と前記第2光とは、異なる光源から射出された光であることを特徴とする請求項1乃至8のうちいずれか1項に記載のインプリント方法。
- 前記第1光と前記第2光とは、互いに異なる波長を有することを特徴とする請求項9に記載のインプリント方法。
- 前記第1光と前記第2光とは、同一の光源から射出された光であることを特徴とする請求項1乃至8のうちいずれか1項に記載のインプリント方法。
- 型を用いて基板上にインプリント材のパターンを形成するインプリント装置であって、
前記基板と前記インプリント材とを密着させる機能を有し、第1光の照射により前記インプリント材に対する撥液性が増加する膜が形成された前記基板上に前記インプリント材の液滴を配置するディスペンサと、
前記ディスペンサが前記基板上に前記インプリント材の液滴を配置する前に、前記膜に前記インプリント材を硬化させる第2光が照射されることで生じる、前記基板上の複数の位置のそれぞれに配置される前記インプリント材の液滴のサイズの差が低減するように、前記第1光を前記膜に照射する照射部と、
を有することを特徴とするインプリント装置。 - 前記照射部が前記第1光を前記膜に照射した後、前記ディスペンサにより前記膜の上に前記インプリント材の液滴を配置し、当該インプリント材の液滴と前記型とを接触させた状態で第2光を照射することで前記パターンを形成する処理を行う処理部を更に有することを特徴とする請求項12に記載のインプリント装置。
- 請求項12又は13に記載のインプリント装置を用いてパターンを基板に形成する工程と、
前記工程で前記パターンが形成された前記基板を処理する工程と、
処理された前記基板から物品を製造する工程と、
を有することを特徴とする物品の製造方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2020087609A JP7466375B2 (ja) | 2020-05-19 | 2020-05-19 | インプリント方法、インプリント装置及び物品の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2020087609A JP7466375B2 (ja) | 2020-05-19 | 2020-05-19 | インプリント方法、インプリント装置及び物品の製造方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2021182594A true JP2021182594A (ja) | 2021-11-25 |
JP7466375B2 JP7466375B2 (ja) | 2024-04-12 |
Family
ID=78606762
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2020087609A Active JP7466375B2 (ja) | 2020-05-19 | 2020-05-19 | インプリント方法、インプリント装置及び物品の製造方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP7466375B2 (ja) |
Family Cites Families (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
GB0809062D0 (en) | 2008-05-19 | 2008-06-25 | Zbd Displays Ltd | Method for patterning a surface using selective adhesion |
US10754244B2 (en) | 2016-03-31 | 2020-08-25 | Canon Kabushiki Kaisha | Pattern forming method as well as production methods for processed substrate, optical component, circuit board, electronic component and imprint mold |
JP6824713B2 (ja) | 2016-11-30 | 2021-02-03 | キヤノン株式会社 | インプリント方法、インプリント装置、型、および物品の製造方法 |
US10663869B2 (en) | 2017-12-11 | 2020-05-26 | Canon Kabushiki Kaisha | Imprint system and imprinting process with spatially non-uniform illumination |
US11249397B2 (en) | 2019-11-22 | 2022-02-15 | Canon Kabushiki Kaisha | Method of forming a cured layer by controlling drop spreading |
-
2020
- 2020-05-19 JP JP2020087609A patent/JP7466375B2/ja active Active
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Publication number | Publication date |
---|---|
JP7466375B2 (ja) | 2024-04-12 |
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