TW201942684A - 曝光裝置 - Google Patents

Abstract

[課題]本發明提供曝光裝置。構成能夠抑制長基板的曲折前行的基板輸送系統。
[解決手段]在捲筒對捲筒輸送系統能夠與曝光載台（15）一起沿著基板輸送方向M移動的曝光裝置（10’）中，張力輥（36）設置於曝光載台（15）的下游側。並且，在捲筒對捲筒輸送系統的移動中，張力輥（36）相對於其他的輥而進行位置變動並施加張力，以抑制長基板W1、W2的撓曲。

Description

曝光裝置

本發明涉及通過捲筒對捲筒輸送系統（Roll to Roll carrier，RtoR輸送系統）來輸送撓性印刷基板等長基板（工件）的曝光裝置。

在具備捲筒對捲筒輸送系統的曝光裝置中，在曝光載台的上游側配置有供給卷軸（開卷捲筒），在下游側配置有收卷卷軸（收卷捲筒），在將印刷電路板等長基板捲繞在供給卷軸、收卷卷軸上之後，在從上游側向下游側輸送的同時進行曝光。

具體而言，在使吸附支承長基板的背面的曝光載台沿著長基板輸送方向移動的同時，通過設置於長基板的上方的曝光頭而投影與投影區域（曝光物件區域）的位置對應的圖案光。當曝光載台移動到曝光完成位置時，曝光載台下降而返回到最初的曝光位置。通過反復進行相同的曝光動作，從而在整個長基板上形成圖案（例如，參照專利文獻1、2）。
[先前技術文獻]
[專利文獻]

專利文獻1：日本特許公開第2015-222370號公報
專利文獻2：日本特許公開第2009-276522號公報

以往的捲筒對捲筒輸送系統固定在曝光裝置的基座（殼體）上。因此，在曝光開始之前，長基板從供給卷軸間歇性地引出而向下游側送出。另外，在曝光結束之後，隨著曝光載台復位到上游側，有時會發生長基板向上游側反卷的情況。因這樣的基板的移動，導致在長基板曲折前行，還產生曝光位置偏離、長基板的翹曲、褶皺、擦痕等損傷。特別是，在使複數個長基板並行移動而同時曝光的情況下，難以調整曲折前行。

因此，需要構成能夠抑制長基板的曲折前行的基板輸送系統。

本發明的曝光裝置包括：曝光載台，其支承至少一個長基板，並能夠沿著基板輸送線而進行往返移動；至少一個卷軸對，其隔著曝光載台而對置配置，並輸送長基板；複數個輥，它們設置在卷軸對之間，並與長基板相接，卷軸對以及複數個輥能夠與曝光載台一起沿著基板輸送線而進行往返移動，複數個輥包括張力輥，在沿著基板輸送線而進行的往返移動中，該張力輥能夠相對於其他輥進行位置變動。

曝光裝置可具備：載台移動機構，其使曝光載台沿著基板輸送線而進行往返移動；以及輸送部移動機構，其使卷軸對與曝光載台一起沿著基板輸送線而進行往返移動。

張力輥可配置於曝光載台的下游側。另外，張力輥可構成為偏心的輥。進而，對於張力輥，可限制其向上方的移動、例如沿著鉛直方向的移動。

可具備供給側驅動機構，該供給側驅動機構對卷軸對的供給卷軸向與長基板的送出方向相反的方向施加扭矩。另外，可具備收卷側驅動機構，該收卷側驅動機構根據長基板的被計測出的張力來控制施加於卷軸對的收卷卷軸的扭矩量。

例如，長基板可由並列的複數個長基板構成，張力輥可橫跨複數個長基板而配置。

複數個輥可具備張力測定輥，該張力測定輥配置於比張力輥靠下游側的位置，對長基板的張力進行計測。
[發明效果]

根據本發明，能夠構成可靠地抑制長基板的曲折前行的基板輸送系統。

下面，參照附圖，對本發明的實施方式進行說明。

圖1是本實施方式的曝光裝置的概略性結構圖。圖2是示意性地示出曝光裝置的一部分的立體圖。圖3是曝光裝置的概略性方塊圖。

曝光裝置10為具備在輸送捲繞成捲筒狀的長基板W的同時進行曝光動作的捲筒對捲筒輸送系統的曝光裝置，該曝光裝置10具備基板供給部16、基板收卷部30、曝光部40。在此，長基板W由長條片狀的基板進行捲繞而形成為捲筒狀，該長條片狀的基板是在長條薄膜上形成銅薄膜層之後塗覆（或者粘貼）光阻等感光材料而成的。如圖2所示，長基板W由寬度相同的兩條（一對）基板W1、W2構成。

曝光載台（工作臺）15吸附長基板W的背面而將其保持為平坦，並可在背面吸附位置與從背面遠離的規定的離開位置之間在Z方向上進行升降，通過未圖示的升降機構而升降。如後述，曝光載台15被載台移動機構50支承，可沿著X方向而移動。此外，下面用“X”來表示沿著長基板W的輸送方向（輸送線）M的方向，用“Y”來表示垂直於輸送方向M的方向（基板寬度方向），並且由“Z”來表示垂直於X、Y的方向（鉛直方向）。

曝光部40配置在從長基板W1、W2在Z方向上離開了規定距離的部位，借助未圖示的框架而固定於基座（底座）10B。如圖3所示，曝光部40由複數個曝光頭構成，在各個曝光頭上規定了沿著輸送方向M的曝光區域，複數個曝光頭分別具備半導體雷射器等光源41、照明光學系統42、呈矩陣狀排列有複數個微鏡的數位微鏡裝置（DMD，Digital Micro-mirror Device）43、成像光學系統44等。光源41通過光源控制部110而被驅動。

各個曝光頭的數位微鏡裝置根據從曝光控制部120傳送而來的與曝光區域位置對應的描繪資料（柵格資料）來定位微鏡的姿態，由此將圖案光投影到長基板W1、W2。根據長基板W1、W2相對於曝光部40的相對移動對微鏡的姿態進行切換，從而進行對長基板W1、W2的感光材料的曝光（多次曝光等），由此形成圖案。控制器100（參照圖3）控制曝光裝置10的全部曝光動作。此外，也可以通過遮罩的曝光部而構成。

基板供給部16具備：供給卷軸22A、22B，它們配置於曝光載台15的上游側；支承輥24；及驅動機構（未圖示），其使供給卷軸22A、22B分別進行軸旋轉。驅動機構例如由步進馬達等構成。通過基板供給部16而被懸臂支承的供給卷軸22A、22B分別以捲繞成捲筒狀的狀態保持並固定長基板W1、W2的未曝光部分，另外通過進行軸旋轉，能夠朝向下游側送出長基板W。此外，將在從曝光載台15觀察時的供給卷軸22A、22B側稱為“上游側”，將收卷卷軸32A、32B側稱為“下游側”。

基板收卷部30具備收卷卷軸32A、32B、支承輥34、以及驅動機構（未圖示），該驅動機構使配置於曝光載台15的下游側的收卷卷軸32A、32B分別進行軸旋轉。收卷卷軸32A、32B分別以捲繞成捲筒狀的狀態保持並固定長基板W1、W2的已曝光部分，另外通過軸旋轉對長基板W1、W2進行收卷。通過輸送控制部130（參照圖3）而對由基板供給部16、基板收卷部30進行的長基板W1、W2的收卷處理等進行控制。

分別配置於供給卷軸22A、22B與曝光載台15、和收卷卷軸32A、32B與曝光載台15之間的支承輥24、34係支承長基板W1、W2，該支承輥24、34在輸送長基板W1、W2時構成為進行軸旋轉的自由輥。支承輥24、34的高度被調整為使得長基板W1、W2在曝光面的高度或者比曝光面的高度稍低的位置上向下游側移動，並且支承輥24、34分別通過基板供給部16、基板收卷部30而被懸臂支承。在長基板W1、W2上的支承輥24、34的區間T（參照圖1）的架設部分被施加適當的張力，從而長基板W1、W2以未發生褶皺、延長的狀態被輸送。

供給卷軸22A、22B以及收卷卷軸32A、32B具備在基板安裝時供長基板W1、W2的捲筒狀捲繞部分固定的公知的驅動機構26A、26B以及36A、36B。另外，基板供給部16、基板收卷部30的各自的驅動機構使供給卷軸22A和收卷卷軸32A、供給卷軸22B和收卷卷軸32B分別同步旋轉，並間歇性地以規定長度輸送長基板W1、W2。

載台移動機構50具備裝備了對曝光載台15進行懸臂支承的升降機構（未圖示）的移動部件52、和設置在基座10B上的一對導軌54A、54B、以及致動器55。一對導軌54A、54B沿著X方向延伸，移動部件52可沿著導軌54A、54B而在X方向以及其相反方向上移動。致動器55例如由滾珠螺絲構成。

輸送部移動機構60具備板狀的移動部件62、設置在基座10B上的一對導軌64A、64B以及致動器65。基板供給部16和基板收卷部30搭載於移動部件62之上，一體地進行移動（聯動）。一對導軌64A、64B沿著X方向而延伸，移動部件62可沿著導軌64A、64B而在X方向以及其相反方向上移動。

設置在基座10B上的移動控制部70控制致動器55、65的驅動，以維持輸送系統（基板供給部16以及基板收卷部30）與曝光載台15的相對位置關係，即以將相對的距離間隔保持為固定的方式，對曝光載台15和基板供給部16、基板收卷部30的移動進行回饋控制。

通過內置於致動器55、65的伺服馬達的同步控制而保持曝光載台15和基板供給部16（基板收卷部30）的沿著輸送方向M的相對距離間隔。另外，為了監視該相對距離間隔，位置檢測用光電感測器90配置在基板供給部16的與曝光載台15對置的側面上（參照圖2）。位置檢測用光電感測器90內置有LED等光源，對曝光載台15的側面進行照射。曝光載台15的側面被形成為，在光的照射位置為基準位置時和除此之外的位置時會產生光量差。移動控制部70在曝光載台15和基板供給部16的移動中通過檢測光量而監視是否保持著適當的相對距離間隔。

在曝光載台15的支承輥24側設置有用於檢測長基板W1、W2的各自的端面位置的位置感測器80。位置感測器80例如由線感測器等透射型光電感測器構成。基板供給部16和基板收部30分別具備控制供給卷軸22A、22B和收卷卷軸32A、32B的軸向位置的機構（未圖示），根據所檢測到的端面位置而調整捲筒軸向位置，並修正曲折前行。

圖4是示出曝光開始時和曝光完成時的曝光載台以及輸送系統的位置的圖。

在曝光開始之前，曝光載台15吸附保持長基板W1、W2，供給卷軸22A、22B和收卷卷軸32A、32B由於沒有被驅動，因此被保持為靜止狀態。伴隨著曝光的開始，曝光載台15沿著X方向以規定速度移動。此時，基板供給部16以及基板收卷部30對應著曝光載台15的移動進行移動。

即，與曝光載台15同步地開始移動，並以保持基板供給部16以及基板收卷部30和曝光載台15的相對位置關係的方式，以與曝光載台15相同的速度在X方向上移動（並行）。因此，長基板W1、W2在曝光載台15的移動前以及曝光載台15的移動中不會被向下游側送出，相對於曝光載台15靜止。在曝光載台15的移動中，從曝光部40投影與各個曝光頭的曝光區域位置對應的圖案光。

當曝光載台15和基板供給部16以及基板收卷部30到達曝光完成位置時，曝光載台15解除對長基板W1、W2的吸附支承並下降。然後，供給卷軸22A、22B和收卷卷軸32A、32B同步旋轉，長基板W1、W2被收卷卷軸32A、32B收卷規定長度的量。

當向收卷卷軸32A、32B側的收卷結束時，曝光載台15和基板供給部16以及基板收卷部30同步移動，並返回到曝光開始位置。在此期間，供給卷軸22A、22B和收卷卷軸32A、32B由於沒有被驅動，因此成為靜止狀態。通過反復進行上述的曝光動作，從而在整個長基板W1、W2上形成圖案。

根據這樣的本實施方式，在具備對長基板W1、W2進行輸送的捲筒對捲筒輸送系統的曝光裝置10中，設置有用於保持設置於曝光載台15的上游側的供給卷軸22A、22B的基板供給部16，和用於保持設置於下游側的收卷卷軸32A、32B的基板收卷部30。在進行曝光動作時，曝光載台15通過載台移動機構50而在X方向上移動，同時基板供給部16以及基板收卷部30通過輸送部移動機構60而均在X方向上移動。

由於基板輸送系統（基板供給部16、基板收卷部30）與曝光載台15一起移動，因此長基板W1、W2在曝光載台15的移動開始前以及移動中不會被向下游側送出。因此，以往的輸送系統那樣的曝光中的曲折前行被抑制，不會產生因曲折行進引起的曝光位置偏離或者因基板的褶皺而引起的翹曲等。另外，通過構成這樣的基板輸送系統，無需設置張力調節輥等機構，能夠通過簡單的結構來構建基板輸送系統。

基板供給部16和基板收卷部30在曝光中只要單向地將長基板W向下游側送出即可，無需進行回卷。因此，能夠實現抑制了長基板W的曲折前行的圖案曝光。特別適用於難以調整曲折前行之輸送兩條長基板W1、W2的曝光裝置。

由於是基板輸送系統進行移動，因此可將基板輸送長度（供給卷軸22A、22B與收卷卷軸32A、32B之間的基板長度）構成為較短。通過使基板輸送長度較短，從而不容易產生長基板W1、W2的褶皺、拉伸等，可高精度地形成圖案。特別是，僅設置一個支承輥24、34就能夠構成送出長基板W1、W2的輸送系統。

另外，在完成曝光動作之後，由於是在曝光載台15不吸附支承長基板W1、W2的期間內將長基板W1、W2送出到下游側而收卷的，因此能夠順利進行收卷。此時，基板輸送長度較短，因此可在短時間內完成收卷。

在本實施方式中，曝光載台15和基板輸送系統（基板供給部16、基板收卷部30）被載台移動機構50和輸送部移動機構60分別進行驅動。關於長基板W1、W2，供給卷軸22A、22B的捲筒狀部分、收卷卷軸32A、32B的捲筒狀部分的卷徑在長基板W1、W2向基板收卷部30收卷的過程中逐漸變化，從而重量平衡不是一定的。

然而，通過設置與載台移動機構50不同的輸送部移動機構60，即便長基板W1、W2的重量平衡發生變化，也能夠防止對曝光載台15的移動控制產生影響。另外，能夠直接利用以往的載台移動機構來構建輸送系統。

另一方面，基板供給部16和基板收卷部30被固定支承於相同的移動部件62，並一體地進行移動。由於基板供給部16和基板收卷部30聯動，因此基板供給部16與基板收卷部30之間的相對位置關係不會發生變化，容易維持與曝光載台15之間的相對位置關係。另外，能夠將輸送部移動機構60統一為一個驅動系統。

另一方面，移動控制部70對控制致動器55、65進行驅動，以便在曝光載台15的移動中保持曝光載台15與基板供給部16以及基板收卷部30的相對位置關係。由此，抑制了供給卷軸22A、22B、收卷卷軸32A、32B靠近曝光載台15從而導致發生長基板W1、W2的延長、翹曲等情況，另外能夠防止曝光位置偏離。

此外，移動控制部70可以在距離間隔為閾值以上時，控制移動速度、加速度。或者，控制供給卷軸22A、22B以及/或者收卷卷軸32A、32B的軸旋轉，從而調整為對長基板W1、W2施加適當的張力。

不僅是兩條長基板W1、W2，還可將更複數個長基板並列地同時進行輸送，另外也可以採用輸送一個長基板的結構。關於基板供給部16和基板收卷部30，也可以不進行機械連結，使它們通過不同的移動機構進行移動。另外，可通過相同的移動機構使曝光載台15和基板供給部16、基板收卷部30移動。

在以上的實施方式中，是在曝光載台15的上游側設置基板供給部16，在下游側設置基板收卷部30，並以使長基板W1、W2向相同方向移動的方式驅動供給卷軸22A、22B和收卷卷軸32A、32B的，但也可使長基板W1和W2彼此向相反的方向移動。

即，在曝光載台15的兩側設置兩對卷軸，以使一對卷軸對向X方向捲繞的方式設置供給卷軸、收卷卷軸，使另一對卷軸對向-X方向收卷的方式設置供給卷軸、收卷卷軸。在該情況下，使將基板供給裝置和基板收卷裝置的功能組合在一起的一對輸送裝置相對於曝光載台而移動。這樣，當構成為使長基板W1和W2彼此向相反方向移動時，能夠抑制長基板在曝光載台的上游側和下游側的重量平衡的變化。

另外，在以上的實施方式中，是通過使曝光載台15進行移動來實現長基板W1、W2與曝光部40的相對移動並進行曝光的，但也可以將曝光載台15固定於基座10B，使曝光部40通過未圖示的移動裝置而在基板輸送方向上移動，由此進行相對移動。在該情況下，基板供給部16和基板收卷部30以維持與曝光載台15之間的相對位置關係的方式被固定於基座10B。

接下來，利用圖5、6，對第二實施方式進行說明。在第二實施方式中，捲筒對捲筒輸送系統配置在曝光載台的曝光面以下。另外，設置有在曝光載台、基板供給裝置、以及基板收卷裝置進行移動時向長基板施加張力的張力輥。此外，在第一實施方式中，捲筒對捲筒輸送系統配置在曝光載台的曝光面以下。

圖5是示出作為第二實施方式的曝光裝置的概略性立體圖。圖6是曝光裝置的概略性俯視圖。此外，第二實施方式的基板輸送方向與第一實施方式的輸送方向相反，基板供給裝置、基板收卷裝置的配置部位也與第一實施方式相反。對於相同的結構要件，使用與第一實施方式相同的符號。

與第一實施方式相同，曝光裝置10’具備基板供給部16、基板收卷部30，分別具備供給卷軸22A、22B、和收卷卷軸32A、32B。另一方面，通過設置於基板供給部16與基板收卷部30之間的輥支承裝置55來支承被構成為自由輥且配置於曝光載台15的兩端旁的支承輥24、34。

基板供給部16（16A、16B）、基板收卷部30（30A、30B）、輥支承裝置55能夠通過輸送部移動機構60而向輸送方向M（X方向）及其相反方向移動。另外，曝光載台15能夠通過載台移動機構50向輸送方向M及其相反方向移動，與第一實施方式相同地，基板供給部16、基板收卷部30、輥支承裝置55能夠與曝光載台15同步地移動。

在第二實施方式中，作為與長基板W1、W2相接的輥，不僅設置有支承輥24、34，而且還設置有張力輥36、張力測定輥37、張力測定輥39。張力輥36為自由輥，通過輥支承裝置55而被支承。

張力測定輥39通過輥支承裝置30C而被支承，由兩個自由輥39A、39B構成。長基板W2以夾在兩個自由輥39A、39B之間的狀態被捲繞。張力測定輥37為自由輥，通過輥支承裝置55而被支承。張力測定輥37、39通過負荷感測器等已知的張力測定方法來測定長基板W1、W2的張力。

如圖6所示，曝光部40設定於具備四個腳部46A～46D的台架45上。但是，圖5中未圖示台架45。台架45的腳部46A、46C（腳部46B、46D）的距離間隔被設定為能夠使長基板W1、W2以及捲筒對捲筒輸送系統穿過台架45的內部空間SJ。

另一方面，曝光光學系統的工作距離（WD）被設定為非常短的距離間隔（例如幾十毫米程度），因此台架45的高度不能被設定為遠遠超出曝光載台15的高度。因此，曝光載台15以靠近台架45的內面的方式通過。

在本實施方式中，構成捲筒對捲筒輸送系統的支承輥24、34、張力測定輥37、39、以及供給卷軸22A、22B、收卷卷軸32A、32B均配置在曝光載台15的曝光面EH以下（即以曝光面EH為基準的曝光部40的相反側）的空間。換言之，構成捲筒對捲筒輸送系統的部件不會實質性地超過曝光面EH（哪怕是一部分）。

這表示參與到長基板W1、W2的輸送中的RoR輸送系統的上表面是平坦的。因此，支承輥24、34、張力測定輥37、39能夠在不抵接到台架45的情況下向內部空間SJ移動。關於這一點基板供給部16、基板收卷部30、輥支承裝置55也是一樣的。

由於捲筒對捲筒輸送系統配置於曝光面EH的下方，因此供給卷軸22A、22B以對長基板W1、W2施加適當的張力的方式配置於台架45附近。收卷卷軸32A、32B也以使張力輥36、張力測定輥37、39位於中間的方式配置得盡可能靠近台架45。

另一方面，為了對長基板W1、W2分別施加適當的張力，使供給卷軸22A、22B和收卷卷軸32A、32B分別被獨立地被驅動。另一方面，輸送部移動機構60僅配置於長基板W1、W2的一側，供給卷軸22A、22B以及收卷卷軸32A、32B被懸臂支承。

因此，供給卷軸22A、22B和收卷卷軸32A、32B各自在基板輸送方向M上配置在不同的位置。另一方面，基於容易對長基板W1、W2施加相同的張力，此外還為了控制捲筒對捲筒輸送系統的垂直方向的高度等理由，配置設定成使供給卷軸22A、收卷卷軸32A的垂直方向的高度與供給卷軸22B、收卷卷軸32B的垂直方向的高度相等。

長基板W2比長基板W1距基板供給部16、基板收卷部30更遠，供給卷軸22B、收卷卷軸32B的長度比供給卷軸22A、收卷卷軸32A的長度長，捲筒狀的長基板W2被支承在從基板供給部16、基板收卷部30離開的位置。因此，長基板W2容易在供給卷軸22B、收卷卷軸32B之間曲折前行。

為了防止該情況，以使供給卷軸22B、收卷卷軸32B的卷軸間距離比供給卷軸22A、收卷卷軸32A的卷軸間距離短的方式構成捲筒對捲筒輸送系統。即，在更靠近基板供給部16、基板收卷部30的部位支承捲筒狀的長基板W1的供給卷軸22A、收卷卷軸32A與供給卷軸22B、收卷卷軸32B相比位於距曝光部40更遠的外側。

這樣，根據第二實施方式，在具備捲筒對捲筒輸送系統的曝光裝置10’中，構成捲筒對捲筒輸送系統的支承輥24、34、張力測定輥37、39、以及供給卷軸22A、22B、收卷卷軸32A、32B、基板供給部16、基板收卷部30、輥支承裝置55被配置在曝光載台15的曝光面EH以下的空間。

由此，能夠減小捲筒對捲筒輸送系統的沿著基板輸送方向M的裝置尺寸。即，設置空間配置於曝光面以下的捲筒對捲筒輸送系統中必然省略軋輥、張力調節輥，從而能夠使沿著基板輸送方向的裝置尺寸小型化。此外，本實施方式對於捲筒對捲筒輸送系統與曝光載台15不進行移動的以往的類型的捲筒對捲筒輸送系統也是有效的。

並且，在捲筒對捲筒輸送系統中，在輥組中與長基板W1、W2的表面相接的輥比以往的輸送系統少。由此，能夠抑制要形成圖案的基板表面被損傷。特別對於阻焊曝光有效。

並且，在第二實施方式中，通過設置有張力輥36的結構，在移動期間也能夠對長基板W1、W2施加適當的張力。下面，對張力輥36的作用以及供給卷軸22A、22B、收卷卷軸32A、32B的驅動進行說明。

張力輥36為對長基板W1、W2施加張力的輥，與長基板W1、W2的表面相接，並通過輥支承裝置55而支承為能夠相對於其他的輥進行位置變動的狀態。另外，張力輥36為偏心輥，以能夠進行擺動運動的方式被支承。

驅動供給卷軸22A、22B的驅動機構21A、21B分別設置於基板供給部16A、16B。驅動機構21A、21B具備單向離合器機構，以僅向基板輸送方向M的相反方向持續施加扭矩T的方式進行動作。扭矩T小於曝光載台15對長基板W1、W2的吸附力。例如，驅動機構21A、21B具備粉粒離合器，根據由張力測定輥37、39而測定的張力來控制粉粒離合器。

另一方面，設置於基板收卷部30A、30B的收卷卷軸32A、32B的驅動機構31A、31B由伺服馬達機構構成。此外，驅動機構31A、31B根據由張力測定輥37、39測定的張力來調整收卷時等的扭矩量。

如上述，輸送部移動機構60和載台移動機構50被各自構成，捲筒對捲筒輸送系統與曝光載台15同步地移動。因此，因移動時的控制問題等會產生同步偏差。即，曝光載台15比捲筒對捲筒輸送系統更快或更慢地移動。當發生同步偏差時，會導致長基板W1、W2的撓曲或者延長。為了防止該情況，使張力輥36進行位置變動以對長基板W1、W2施加張力。

張力輥36通過與未圖示的限制部件相接，鉛直方向上的移動被限制。在曝光載台15未吸附長基板W1、W2的狀態下，為了向與供給側相反的方向對供給卷軸22A、22B施加扭矩，與長基板W1、W2的表面相接的張力輥36向鉛直方向施力，維持與限制部件相接的狀態。長基板W1、W2成為在支承輥24、34之間施加了適當的張力的狀態。在曝光載台15吸附長基板W1、W2並移動的期間，同樣會維持施加張力的狀態。

另一方面，在因同步偏差而導致捲筒對捲筒輸送系統比曝光載台15延遲的情況下，即，在曝光載台15靠近捲筒對捲筒輸送系統的情況下，由於曝光載台15吸附著長基板W1、W2而移動，因此長基板W1、W2欲撓曲。此時，張力輥36發生擺動，從上限位置發生變動。其結果，長基板W1、W2不發生撓曲而被施加有適當的張力。

相反地，在因同步偏差而導致捲筒對捲筒輸送系統比曝光載台15提前移動的情況下，即，在曝光載台15從捲筒對捲筒輸送系統遠離的情況下，驅動機構21A、21B對供給卷軸22A、22B向與長基板的送出方向相反的方向施加扭矩T，因此長基板W1、W2在支承輥24和供給卷軸22A、22B之間不發生撓曲，會被維持適當的張力。

另一方面，通過設置張力輥36，會緩解張力輥36與張力測定輥39之間的長基板W1、W2的傾斜。因此，構成為通過將長基板W1、W2夾在輥39A、39B之間而形成角度從而能夠測定準確的張力。

這樣，根據第二實施方式，在捲筒對捲筒輸送系統可以與曝光載台15一起沿著基板輸送方向M移動的曝光裝置10’中，張力輥36設置於曝光載台15的下游側。並且，在捲筒對捲筒輸送系統的移動中，張力輥36相對於其他的輥發生位置變動而施加張力，以抑制長基板W1、W2的撓曲。

在多數情況下，與使曝光載台15移動相比，使捲筒對捲筒輸送系統移動更需要驅動力。因此，容易產生使曝光載台15靠近捲筒對捲筒輸送系統的同步偏差。因此，通過將張力輥36配置於曝光載台15的下游側，從而能夠有效地施加張力。

另外，驅動機構21A、21B僅在與基板輸送方向相反的方向上持續對供給卷軸22A、22B施加扭矩，從而即便未將張力輥設置在曝光載台15的上游側，也能夠在發生同步偏差時施加張力。

並且，張力輥36通過偏心輥的結構而擺動，進行等時性移動。由此，能夠容易地持續施加適當的張力。並且，該張力輥36以橫跨長基板W1、W2的方式配置，從而能夠對長基板W1、W2施加相同的張力。

此外，也可以不由偏心輥來構成張力輥36，可以使張力輥36沿著鉛直方向進行位置變動。另外，也可以在上游側設置張力輥，並且，對載台移動機構50和輸送部移動機構60被形成為一體的移動機構也適用。

接下來，利用圖7，對第三實施方式進行說明。在第三實施方式中，輸送部移動機構設置於支承曝光部的台架的外側。

圖7是第三實施方式的曝光裝置的概略性立體圖。

曝光裝置10”具備驅動供給卷軸22A、22B，並被對置配置的一對基板供給裝置120X、120Y、和驅動收卷卷軸32A、32B並被對置配置的一對基板收卷裝置130X、130Y。輸送部移動機構60由在曝光部40的台架45的外側沿基板輸送方向M並列的一對輸送部移動機構60X、60Y構成。

分別配置於一對輸送部移動機構60X、60Y的基板供給裝置120A1、120A2從兩側支承供給卷軸22A。另外，供給卷軸22A的軸部具備與基板供給裝置120A1、120A2的距離間隔對應的長度。供給卷軸22B也通過基板供給裝置120B1、120B2而從兩側被支承。

同樣地，分別配置於一對輸送部移動機構60X、60Y的基板收卷裝置130B1、130B2從兩側支承收卷卷軸32B，分別配置於輸送部移動機構60X、60Y的基板收卷裝置130A1、130A2從兩側支承收卷卷軸32A。輸送部移動機構60X可沿著導軌61X而向基板輸送方向M和與其相反的方向進行移動，輸送部移動機構60Y可沿著導軌61Y而向基板輸送方向M和與其相反的方向進行移動。

輸送部移動機構60X、60Y彼此同步地移動。由此，與第一、第二實施方式同樣地，捲筒對捲筒輸送系統能夠與曝光載台15一起向基板輸送方向M移動。但是，由於導軌61X、61Y配置於台架45的周圍，因此供給卷軸22B、收卷卷軸32B為了不與台架45接觸而被限制了移動範圍。在此，支承輥24、34安裝於曝光載台15。

通過採用輸送部移動機構60X、60Y不通過台架45的下方的結構，從而能夠抑制在輸送部移動機構60X、60Y進行動作時向曝光部40傳遞振動，對圖案曝光產生影響的情況。另外，能夠確保台架45的內部空間SJ的空間，由此也能夠輸送如3條、4條這樣的複數個長基板。

另一方面，基板供給裝置120A1、120A2能夠分別通過致動器180A1、180A2進行移動，基板供給裝置120B1、120B2能夠分別沿著致動器180B1、180B2進行移動。同樣地，基板收卷裝置130A1、130A2能夠分別沿著致動器190A1、190A2進行移動，基板供給裝置130B1、130B2能夠分別沿著致動器190B1、190B2進行移動。

供給側的致動器180A1、180A2、180B1、180B2、收卷側的致動器190A1、190A2、190B1、190B2均可使基板供給裝置120X、120Y以及基板收卷裝置130X、130Y沿著與基板輸送方向M正交的方向（以下，稱為基板輸送正交方向）N移動。另外，致動器均可由滾珠螺絲等構成。

基板供給裝置120X、120Y以及基板收卷裝置130X、130Y通過相同的動作而沿著基板輸送正交方向N移動。即，以啟動時刻、移動速度、停止時刻相同的方式進行移動。由此，捲筒對捲筒輸送系統整體上一體地沿著基板輸送正交方向N進行移動。

曝光載台15可通過載台移動機構50沿著基板輸送垂直方向N和其相反方向移動。並且，基板供給裝置120X、120Y以及基板收卷裝置130X、130Y可通過移動控制部70而與曝光載台15同步地移動。

由於捲筒對捲筒輸送系統與曝光載台15一起在基板輸送方向M以及基板輸送正交方向N上移動，因此對長基板W1、W2也能夠進行多路徑曝光。即，與對矩形形狀基板的曝光同樣地，在沿著基板輸送方向M而曝光某個掃描帶之後，使曝光載台15沿著基板輸送正交方向N移動，由此能夠曝光相鄰的掃描帶。

曝光時的照射區域（曝光區域）尺寸依賴於曝光部40的光學系統、曝光特性（光強度、感光量等），有時不能確保與所使用的長基板的寬度匹配的尺寸。在曝光區域不能覆蓋長基板的整個寬度的情況下，通過執行多路徑曝光而能夠在長基板W1、W2的整個寬度上形成圖案。

這樣，根據第三實施方式，在具備捲筒對捲筒輸送系統的曝光裝置10”中，輸送部移動機構60X、60Y配置在曝光部40的台架45的外側，一對基板供給裝置120X、120Y、一對基板收卷裝置130X、130Y不會穿過台架45的下方。另外，基板供給裝置120X、120Y和基板收卷裝置130X、130Y同步地在基板輸送正交方向N上移動，使捲筒對捲筒輸送系統與曝光載台15一起沿著基板輸送正交方向N移動。

即使在第二實施方式中，也能夠構成為將輸送部移動機構60設置在台架45的外側而使之移動。

接下來，利用圖8～10，對第四實施方式的曝光裝置進行說明。在第四實施方式中，曝光載台和輸送系統均沿著與輸送方向（M）正交的方向（Y）而移動。

圖8是從第四實施方式中的曝光裝置的上方觀察時的概略性俯視圖，圖9是從第四實施方式中的曝光裝置的側面觀察時的概略性俯視圖。圖10是第四實施方式中的曝光裝置的概略性方塊圖。

曝光裝置10’具備曝光部140、基板供給/收卷部150。在此，曝光部140由六個曝光頭140A～140F構成，並沿著輸送方向M而排列成鋸齒形。來自光源41的光被向各個曝光頭引導，從各個曝光頭向規定的曝光區域投影圖案光。

基板供給/收卷部150具備供給卷軸22、收卷卷軸32、支承輥24、34，與第一實施方式同樣地，對長基板W進行送出和收卷。基板供給/收卷部150以及曝光載台15一併設置於中間基座170。

載台/輸送部移動機構（第一移動機構）160是用於使曝光載台以及基板供給/收卷部150在與輸送方向M交叉的方向上移動的機構。第一移動機構160具備在與輸送方向M正交的方向上延伸的導軌62A、62B和未圖示的致動器（例如，線性馬達）。中間基座170能夠通過設置於基座10B的載台/輸送部移動機構160在與輸送方向M正交的方向Y上進行往返移動。

通過使中間基座170相對於曝光裝置10’的基座10B而移動，而使包括曝光載台15、供給卷軸22、收卷卷軸32在內的基板供給/輸送部20相對於曝光部40而進行相對移動。曝光部140在曝光載台15進行相對移動的期間內投影圖案光。

複數個對準照相機82配置在沿著曝光載台15的輸送方向M的端面附近，檢測長基板W的曝光位置。另外，照相機標度部84也沿著曝光載台15的輸送方向M而配置在端面附近，該照相機標度部84具備設置有照相機基準位置的測定標記的照相機標度、或是用於測定曝光頭的曝光位置的誤差而修正描繪資料的感測器單元等。

在開始曝光之後，中間基座170相對於曝光部140進行相對移動，當結束曝光時，中間基座170返回到原來的位置。並且，當將長基板W輸送規定長度時，開始進行曝光動作。通過反復進行該動作，在長基板W上形成圖案。

這樣，根據本實施方式，在具備曝光部140、基板供給/收卷部150的曝光裝置10’中，基板供給/收卷部150和曝光載台15一體地沿著與基板輸送方向M正交的方向進行往返移動。曝光部140根據曝光載台15的相對移動對長基板W進行曝光。

這樣，通過使曝光部140沿著與基板輸送方向M正交的方向掃描，從而能夠使曝光裝置10’小型化。另外，由於曝光部140沒有被設置於曝光載台15的上方，因此能夠自由設定曝光部140的結構。另外，由於不將對準照相機82設置於長基板W的上方，因此能夠縮短曝光載台15的輸送方向上的長度。並且，無需將照相機標度部84配置於長基板W的上方，無需設置用於避讓長基板W的U字型路徑，在長基板W上不會被施加應力。

在第四實施方式中，是通過使曝光載台15和基板供給/輸送部150進行移動來實現長基板W和曝光部140的相對移動並進行了曝光，但也可以將曝光載台15固定於基座10B，使曝光部40通過未圖示的移動裝置而在與輸送方向M正交的方向上移動。另外，也可以如第一實施方式那樣，由兩條基板來構成長基板W。在該情況下，曝光部40對兩條基板同時進行曝光。

接下來，利用圖11～13，對第五實施方式進行說明。在第五實施方式中，輸送系統沿著基板輸送方向而移動，並且曝光部沿著與基板輸送方向正交的方向移動。

圖11是第五實施方式中的曝光裝置的方塊圖。曝光裝置10”是對兩個長基板W1、W2進行曝光的曝光裝置，具備曝光部240和基板供給/收卷部220。在此，曝光部240由4個曝光頭240A～240D構成，並沿著輸送方向M而被交錯排列。

基板供給/收卷部220具備供給卷軸22、收卷卷軸32、支承輥24、34，與第一實施方式同樣地，對長基板W1、W2進行送出和收卷。基板供給/收卷部220和曝光載台15一併設置在中間基座270。

曝光部移動機構（第二移動機構）250使曝光部240沿著與輸送方向M正交的方向移動。

圖12、圖13是表示第五實施方式中的曝光裝置的曝光動作的圖。

當在曝光部240靜止的狀態下、中間基座270沿著輸送方向M而移動時，曝光部240進行掃描，由此在長基板W1的區域EA1形成圖案（參照（A）、（B））。之後，在中間基座270靜止的狀態下曝光部40沿著與輸送方向M正交的方向移動，並在長基板W2的上方停止（參照（C））。

中間基座270本次沿著與輸送方向M相反的方向而移動。在此期間，曝光部240在曝光區域E2形成圖案（參照（D））。當曝光部40再次向長基板W1的上方移動時，中間基座270沿著輸送方向M而移動。在此期間，曝光部340在曝光區域EA3形成圖案（參照（E）、（F））。

接著，曝光部240向長基板W2移動，中間基座20向與輸送方向M相反的方向移動。在此期間，曝光部240在曝光區域EA4形成圖案（參照（G）、（H））。通過持續地、反復進行這樣的曝光部240和中間基座270的交替移動，從而在長基板W1、W2雙方上依序形成圖案。

這樣，根據第五實施方式，通過使曝光部240和曝光載台15在X、Y方向上移動，從而即便是曝光區域比較小的曝光部40的結構，也能夠對長基板W1、W2雙方進行曝光。

此外，也可以採用如下方式：曝光載台15和基板供給/收卷部220在與基板輸送方向M正交的方向上移動，曝光部240沿著基板輸送方向M而移動。另外，也可以是，基板供給/收卷部220在基板輸送方向M以及與之正交的方向上移動，也可以相反地使曝光部240在基板輸送方向M以及與之正交的方向上移動。

10‧‧‧曝光裝置

15‧‧‧曝光載台

20‧‧‧基板供給裝置（基板供給部）

22A、22B‧‧‧供給卷軸

26A、26B‧‧‧驅動機構（供給側驅動機構）

30‧‧‧基板收卷裝置（基板收卷部）

32A、32B‧‧‧收卷卷軸

36‧‧‧張力輥

36A、36B‧‧‧驅動機構（收卷側驅動機構）

37‧‧‧張力測定輥

39‧‧‧張力測定輥

40、140、240‧‧‧曝光部

45‧‧‧台架

50‧‧‧載台移動機構

60‧‧‧輸送部移動機構

70‧‧‧移動控制部

120X、120Y‧‧‧基板供給裝置

130X、130Y‧‧‧基板收卷裝置

180A1、180A2‧‧‧致動器

180B1、180B2‧‧‧致動器

190A1、190A2‧‧‧致動器

190B1、190B2‧‧‧致動器

W1、W2‧‧‧長基板

20、150‧‧‧基板供給/輸送部

150、220‧‧‧基板供給/收卷部

160‧‧‧載台/輸送部移動機構(第一移動機構)

250‧‧‧曝光部移動機構(第二移動機構)

圖1是本實施方式的曝光裝置的概略性結構圖。

圖2是示意性地示出曝光裝置的一部分的立體圖。

圖3是曝光裝置的概略性方塊圖。

圖4是示出曝光開始時和曝光完成時的曝光載台和輸送系統的位置的圖。

圖5是第二實施方式的曝光裝置的概略性立體圖。

圖6是第二實施方式的曝光裝置的概略性俯視圖。

圖7是第三實施方式的曝光裝置的概略性立體圖。

圖8是從上方觀察第四實施方式的曝光裝置時的概略性俯視圖。

圖9是從側面觀察第四實施方式的曝光裝置時的概略性俯視圖。

圖10是第四實施方式的曝光裝置的概略性方塊圖。

圖11是第五實施方式的曝光裝置的概略性方塊圖。

圖12是示出第五實施方式的曝光裝置的曝光動作的圖。

圖13是示出第五實施方式的曝光裝置的曝光動作的圖。

Claims (18)

1. 一種曝光裝置，其特徵在於，包括： 曝光載台，其支承至少一個長基板，並能夠沿著基板輸送線而進行往返移動； 至少一個卷軸對，隔著所述曝光載台而對置配置，並輸送所述長基板；以及 複數個輥，設置在所述卷軸對之間，並與所述長基板相接， 所述卷軸對以及所述複數個輥能夠與所述曝光載台一起沿著基板輸送線而進行往返移動， 所述複數個輥包括張力輥，在沿著基板輸送線進行的往返移動中，該張力輥能夠相對於其他輥進行位置變動。
2. 如申請專利範圍第1項所述的曝光裝置，更包括： 載台移動機構，使所述曝光載台沿著基板輸送線而進行往返移動； 輸送部移動機構，使所述卷軸對與所述曝光載台一起沿著基板輸送線而進行往返移動。
3. 如申請專利範圍第2項所述的曝光裝置，其中， 所述張力輥配置於所述曝光載台的下游側。
4. 如申請專利範圍第3項所述的曝光裝置，其中， 所述張力輥是偏心的張力輥。
5. 如申請專利範圍第4項所述的曝光裝置，其中， 所述張力輥向上方的移動被限制。
6. 如申請專利範圍第5項所述的曝光裝置，更包括： 供給側驅動機構，對所述卷軸對的供給卷軸向與所述長基板的送出方向相反的方向施加扭矩。
7. 如申請專利範圍第6項所述的曝光裝置，更包括： 收卷側驅動機構，根據所述長基板的被計測到的張力對施加於所述卷軸對的收卷卷軸的扭矩量進行控制。
8. 如申請專利範圍第7項所述的曝光裝置，更包括： 所述複數個輥包括張力測定輥，該張力測定輥配置在比所述張力輥靠下游側的位置，並對所述長基板的張力進行計測。
9. 如申請專利範圍第1至8項中的任一項所述的曝光裝置，其中， 所述長基板由並列的複數個長基板構成， 所述張力輥橫跨所述複數個長基板。
10. 如申請專利範圍第1項所述的曝光裝置，更包括： 相對移動部，在曝光動作時使所述曝光載台和所述卷軸對相對於曝光部而沿著與基板輸送方向正交的方向進行相對移動。
11. 如申請專利範圍第10項所述的曝光裝置，其中， 所述相對移動部包括第一移動機構，該第一移動機構使所述卷軸對和所述曝光載台相對於裝置基座而沿著與基板輸送方向正交的方向進行移動。
12. 如申請專利範圍第10項所述的曝光裝置，更包括： 第二移動機構，使所述曝光部相對於裝置基座而沿著與基板輸送方向正交的方向進行移動。
13. 如申請專利範圍第10至12項中的任一項所述的曝光裝置，更包括： 複數個對準用照相機，檢測所述長基板的位置，並沿著所述基板輸送方向而並列地配置。
14. 如申請專利範圍第13項所述的曝光裝置，更包括： 照相機標度部，設置在所述曝光載台的沿著基板輸送方向的側面附近，用於獲得所述對準用照相機的位置資訊。
15. 如申請專利範圍第2項所述的曝光裝置，其中， 所述輸送部移動機構設置在支承曝光部的台架的外側。
16. 如申請專利範圍第15項所述的曝光裝置，其中， 所述輸送部移動機構使基板供給部和基板收卷部沿著基板輸送線和基板輸送正交線而移動。
17. 如申請專利範圍第16項所述的曝光裝置，其中， 所述載台移動機構使所述曝光載台沿著基板輸送線和基板輸送正交線而移動。
18. 如申請專利範圍第15至17項中的任一項所述的曝光裝置，其中， 所述長基板由並列的複數個長基板構成。