CN110320765B - 曝光装置 - Google Patents

Abstract

本发明提供曝光装置。构成能够抑制长基板的曲折前行的基板输送系统。在RtoR输送系统能够与曝光载台(15)一起沿着基板输送方向M移动的曝光装置(10’)中，张力辊(36)设置于曝光载台(15)的下游侧。并且，在RtoR输送系统的移动中，张力辊(36)相对于其他的辊而进行位置变动并施加张力，以抑制长基板W1、W2的挠曲。

Description

曝光装置

技术领域

本发明涉及通过卷筒对卷筒输送系统(Roll to Roll carrier,以下称为RtoR输送系统)来输送挠性印刷基板等长基板(工件)的曝光装置。

背景技术

在具备RtoR输送系统的曝光装置中，在曝光载台的上游侧配置有供给卷轴(卷绕卷筒)，在下游侧配置有收卷卷轴(收卷卷筒)，在将印刷电路板等长基板卷绕在供给卷轴、收卷卷轴上之后，在从上游侧向下游侧输送的同时进行曝光。

具体而言，在使吸附支承长基板的背面的曝光载台沿着长基板输送方向移动的同时，通过设置于长基板的上方的曝光头而投影与投影区域(曝光对象区域)的位置对应的图案光。当曝光载台移动到曝光完成位置时，曝光载台下降而返回到最初的曝光位置。通过反复进行相同的曝光动作，从而在整个长基板上形成图案(例如，参照专利文献1、2)。

以往的RtoR输送系统固定在曝光装置的基座(壳体)上。因此，在曝光开始之前，长基板从供给卷轴间歇性地引出而向下游侧送出。另外，在曝光结束之后，随着曝光载台复位到上游侧，有时会发生长基板向上游侧反卷的情况。因这样的基板的移动，导致在长基板曲折前行，还产生曝光位置偏离、长基板的翘曲、褶皱、擦痕等损伤。特别是，在使多个长基板并行移动而同时曝光的情况下，难以调整曲折前行。

因此，需要研发能够抑制长基板的曲折前行的基板输送系统。

专利文献1：日本特开2015-222370号公报

专利文献2：日本特开2009-276522号公报

发明内容

本发明的曝光装置包括：曝光载台，其支承至少一个长基板，并能够沿着基板输送线而进行往返移动；至少一个卷轴对，其隔着曝光载台而对置配置，并输送长基板；多个辊，它们设置在卷轴对之间，并与长基板相接，卷轴对以及多个辊能够与曝光载台一起沿着基板输送线而进行往返移动，多个辊包括张力辊，在沿着基板输送线而进行的往返移动中，该张力辊能够相对于其他辊进行位置变动。

曝光装置可具备：载台移动机构，其使曝光载台沿着基板输送线而进行往返移动；以及输送部移动机构，其使卷轴对与曝光载台一起沿着基板输送线而进行往返移动。

张力辊可配置于曝光载台的下游侧。另外，张力辊可构成为偏心的辊。进而，对于张力辊，可限制其向上方的移动、例如沿着铅直方向的移动。

可具备供给侧驱动机构，该供给侧驱动机构对卷轴对的供给卷轴向与长基板的送出方向相反的方向施加扭矩。另外，可具备收卷侧驱动机构，该收卷侧驱动机构根据长基板的被计测出的张力来控制施加于卷轴对的收卷卷轴的扭矩量。

例如，长基板可由并列的多个长基板构成，张力辊可横跨多个长基板而配置。

多个辊可具备张力测定辊，该张力测定辊配置于比张力辊靠下游侧的位置，对长基板的张力进行计测。

发明效果

根据本发明，能够构成可靠地抑制长基板的曲折前行的基板输送系统。

附图说明

图1是本实施方式的曝光装置的概略性结构图。

图2是示意性地示出曝光装置的一部分的立体图。

图3是曝光装置的概略性框图。

图4是示出曝光开始时和曝光完成时的曝光载台和输送系统的位置的图。

图5是第二实施方式的曝光装置的概略性立体图。

图6是第二实施方式的曝光装置的概略性俯视图。

图7是第三实施方式的曝光装置的概略性立体图。

图8是从上方观察第四实施方式的曝光装置时的概略性俯视图。

图9是从侧面观察第四实施方式的曝光装置时的概略性俯视图。

图10是第四实施方式的曝光装置的概略性框图。

图11是第五实施方式的曝光装置的概略性框图。

图12是示出第五实施方式的曝光装置的曝光动作的图。

图13是示出第五实施方式的曝光装置的曝光动作的图。

标号说明

10：曝光装置；

15：曝光载台；

20：基板供给装置(基板供给部)；

22A、22B：供给卷轴；

26A、26B：驱动机构(供给侧驱动机构)；

30：基板收卷装置(基板收卷部)；

32A、32B：收卷卷轴；

36张力辊；

36A、36B：驱动机构(收卷侧驱动机构)；

37：张力测定辊；

39：张力测定辊；

40、140、240：曝光部；

45：台架；

50：载台移动机构；

60：输送部移动机构；

70：移动控制部；

120X、120Y：基板供给装置；

130X、130Y：基板收卷装置；

180A1、180A2：致动器；

180B1、180B2：致动器；

190A1、190A2：致动器；

190B1、190B2：致动器；

W1、W2：长基板；

20、150：基板供给/输送部；

150、220：基板供给/收卷部；

160：第一移动机构；

250：第二移动机构。

具体实施方式

下面，参照附图，对本发明的实施方式进行说明。

图1是本实施方式的曝光装置的概略性结构图。图2是示意性地示出曝光装置的一部分的立体图。图3是曝光装置的概略性框图。

曝光装置10为具备在输送卷绕成卷筒状的长基板W的同时进行曝光动作的RtoR输送系统的曝光装置，该曝光装置10具备基板供给装置16、基板收卷装置30、曝光部40。在此，长基板W由长条片状的基板进行卷绕而形成为卷筒状，该长条片状的基板是在长条薄膜上形成铜薄膜层之后涂覆(或者粘贴)光致抗蚀剂等感光材料而成的。如图2所示，长基板W由宽度相同的2条(一对)基板W1、W2构成。

曝光载台(工作台)15吸附长基板W的背面而将其保持为平坦，并可在背面吸附位置与从背面远离的规定的离开位置之间在Z方向上进行升降，通过未图示的升降机构而升降。如后述，曝光载台15被载台移动机构50支承，可沿着X方向而移动。此外，下面用“X”来表示沿着长基板W的输送方向(输送线)M的方向，用“Y”来表示垂直于输送方向M的方向(基板宽度方向)，并且由“Z”来表示垂直于X、Y的方向(铅直方向)。

曝光部40配置在从长基板W1、W2在Z方向上离开了规定距离的部位，借助未图示的框架而固定于基座(底座)10B。如图3所示，曝光部40由多个曝光头构成，在各个曝光头上规定了沿着输送方向M的曝光区域，多个曝光头分别具备半导体激光器等光源41、照明光学系统42、呈矩阵状排列有多个微镜的DMD(Digital Micro-mirror Device：数字微镜装置)43、成像光学系统44等。光源41通过光源控制部110而被驱动。

各个曝光头的DMD根据从曝光控制部120传送而来的与曝光区域位置对应的描绘数据(栅格数据)来定位微镜的姿态，由此将图案光投影到长基板W1、W2。根据长基板W1、W2相对于曝光部40的相对移动对微镜的姿态进行切换，从而进行对长基板W1、W2的感光材料的曝光(多次曝光等)，由此形成图案。控制器100(参照图3)控制曝光装置10的全部曝光动作。此外，也可以通过掩膜的曝光部而构成。

基板供给装置16具备：供给卷轴22A、22B，它们配置于曝光载台15的上游侧；支承辊24；及驱动机构(未图示)，其使供给卷轴22A、22B分别进行轴旋转。驱动机构例如由步进马达等构成。通过基板供给装置16而被悬臂支承的供给卷轴22A、22B分别以卷绕成卷筒状的状态保持并固定长基板W1、W2的未曝光部分，另外通过进行轴旋转，能够朝向下游侧送出长基板W。此外，将在从曝光载台15观察时的供给卷轴22A、22B侧称为“上游侧”，将收卷卷轴32A、32B侧称为“下游侧”。

基板收卷装置30具备驱动机构(未图示)，该驱动机构使配置于曝光载台15的下游侧的收卷卷轴32A、32B、支承辊34、收卷卷轴32A、32B分别进行轴旋转。收卷卷轴32A、32B分别以卷绕成卷筒状的状态保持并固定长基板W1、W2的已曝光部分，另外通过轴旋转对长基板W1、W2进行收卷。通过输送控制部130(参照图3)而对由基板供给装置16、基板收卷装置30进行的长基板W1、W2的收卷处理等进行控制。

分别配置于供给卷轴22A、22B与曝光载台15、和收卷卷轴32A、32B与曝光载台15之间的支承辊24、34支承长基板W1、W2，该支承辊24、34在输送长基板W1、W2时构成为进行轴旋转的自由辊。支承辊24、34的高度被调整为使得长基板W1、W2在曝光面的高度或者比曝光面的高度稍低的位置上向下游侧移动，并且支承辊24、34分别通过基板供给装置16、基板收卷装置30而被悬臂支承。在长基板W1、W2上的支承辊24、34的区间T(参照图1)的架设部分被施加适当的张力，从而长基板W1、W2以未发生褶皱、延长的状态被输送。

供给卷轴22A、22B以及收卷卷轴32A、32B具备在基板安装时供长基板W1、W2的卷筒状卷绕部分固定的公知的驱动机构26A、26B以及36A、36B。另外，基板供给装置16、基板收卷装置30的各自的驱动机构使供给卷轴22A和收卷卷轴32A、供给卷轴22B和收卷卷轴32B分别同步旋转，并间歇性地以规定长度输送长基板W1、W2。

载台移动机构50具备装备了对曝光载台15进行悬臂支承的升降机构(未图示)的移动部件52、和设置在基座10B上的一对导轨54A、54B、以及致动器55。一对导轨54A、54B沿着X方向延伸，移动部件52可沿着导轨54A、54B而在X方向以及其相反方向上移动。致动器55例如由滚珠丝杠构成。

输送部移动机构60具备板状的移动部件62、设置在基座10B上的一对导轨64A、64B以及致动器65。基板供给装置16和基板收卷装置30搭载于移动部件62之上，一体地进行移动(联动)。一对导轨64A、64B沿着X方向而延伸，移动部件62可沿着导轨64A、64B而在X方向以及其相反方向上移动。

设置在基座10B上的移动控制部70控制致动器55、65的驱动，对曝光载台15和基板供给装置16、基板收卷装置30的移动进行反馈控制，以维持输送系统(基板供给装置16以及基板收卷装置30)与曝光载台15的相对位置关系，即将相对的距离间隔保持为固定。

通过内置于致动器55、65的伺服马达的同步控制而保持曝光载台15和基板供给装置16(基板收卷装置30)的沿着输送方向M的相对距离间隔。另外，为了监视该相对距离间隔，位置检测用光电传感器90配置在基板供给装置16的与曝光载台15对置的侧面上(参照图2)。位置检测用光电传感器90内置有LED等光源，对曝光载台15的侧面进行照射。曝光载台15的侧面被形成为，在光的照射位置为基准位置时和除此之外的位置时会产生光量差。移动控制部70在曝光载台15和基板供给装置16的移动中通过检测光量而监视是否保持着适当的相对距离间隔。

在曝光载台15的支承辊24侧设置有用于检测长基板W1、W2的各自的端面位置的位置传感器80。位置传感器80例如由线传感器等透射型光电传感器构成。基板供给装置16和基板收卷装置30分别具备控制供给卷轴22A、22B和收卷卷轴32A、32B的轴向位置的机构(未图示)，根据所检测到的端面位置而调整卷筒轴向位置，并修正曲折前行。

图4是示出曝光开始时和曝光完成时的曝光载台以及输送系统的位置的图。

在曝光开始之前，曝光载台15吸附保持长基板W1、W2，供给卷轴22A、22B和收卷卷轴32A、32B由于没有被驱动，因此被保持为静止状态。伴随着曝光的开始，曝光载台15沿着X方向以规定速度移动。此时，基板供给装置16以及基板收卷装置30对应着曝光载台15的移动进行移动。

即，与曝光载台15同步地开始移动，并以保持基板供给装置16以及基板收卷装置30和曝光载台15的相对位置关系的方式，以与曝光载台15相同的速度在X方向上移动(并行)。因此，长基板W1、W2在曝光载台15的移动前以及曝光载台15的移动中不会被向下游侧送出，相对于曝光载台15静止。在曝光载台15的移动中，从曝光部40投影与各个曝光头的曝光区域位置对应的图案光。

当曝光载台15和基板供给装置16以及基板收卷装置30到达曝光完成位置时，曝光载台15解除对长基板W1、W2的吸附支承并下降。然后，供给卷轴22A、22B和收卷卷轴32A、32B同步旋转，长基板W1、W2被收卷卷轴32A、32B收卷规定长度的量。

当向收卷卷轴32A、32B侧的收卷结束时，曝光载台15和基板供给装置16以及基板收卷装置30同步移动，并返回到曝光开始位置。在此期间，供给卷轴22A、22B和收卷卷轴32A、32B由于没有被驱动，因此成为静止状态。通过反复进行上述的曝光动作，从而在整个长基板W1、W2上形成图案。

根据这样的本实施方式，在具备对长基板W1、W2进行输送的RtoR输送系统的曝光装置10中，设置有用于保持设置于曝光载台15的上游侧的供给卷轴22A、22B的基板供给装置16和用于保持设置于下游侧的收卷卷轴32A、32B的基板收卷装置30。在进行曝光动作时，曝光载台15通过载台移动机构50而在X方向上移动，同时基板供给装置16以及基板收卷装置30通过输送部移动机构60而均在X方向上移动。

由于基板输送系统(基板供给装置16、基板收卷装置30)与曝光载台15一起移动，因此长基板W1、W2在曝光载台15的移动开始前以及移动中不会被向下游侧送出。因此，以往的输送系统那样的曝光中的曲折前行被抑制，不会产生因曲折行进引起的曝光位置偏离或者因基板的褶皱而引起的翘曲等。另外，通过构成这样的基板输送系统，无需设置张力调节辊等机构，能够通过简单的结构来构建基板输送系统。

基板供给装置16和基板收卷装置30在曝光中只要单向地将长基板W向下游侧送出即可，无需进行回卷。因此，能够实现抑制了长基板W的曲折前行的图案曝光。特别适用于难以调整曲折前行的对2条长基板W1、W2进行输送的曝光装置。

由于是基板输送系统进行移动，因此可将基板输送长度(供给卷轴22A、22B与收卷卷轴32A、32B之间的基板长度)构成为较短。通过使基板输送长度较短，从而不容易产生长基板W1、W2的褶皱、拉伸等，可高精度地形成图案。特别是，仅设置一个支承辊24、34就能够构成送出长基板W1、W2的输送系统。

另外，在完成曝光动作之后，是在曝光载台15不吸附支承长基板W1、W2的期间内将长基板W1、W2送出到下游侧而收卷的，因此能够顺利进行收卷。此时，基板输送长度较短，因此可在短时间内完成收卷。

在本实施方式中，曝光载台15和基板输送系统(基板供给装置16、基板收卷装置30)被载台移动机构50和输送部移动机构60分别进行驱动。关于长基板W1、W2，供给卷轴22A、22B的卷筒状部分、收卷卷轴32A、32B的卷筒状部分的巻径在长基板W1、W2向基板收卷装置30收卷的过程中逐渐变化，从而重量平衡不是一定的。

然而，通过设置与载台移动机构50不同的输送部移动机构60，即便长基板W1、W2的重量平衡发生变化，也能够防止对曝光载台15的移动控制产生影响。另外，能够直接利用以往的载台移动机构来构建输送系统。

另一方面，基板供给装置16和基板收卷装置30被固定支承于相同的移动部件62，并一体地进行移动。由于基板供给装置16和基板收卷装置30联动，因此基板供给装置16与基板收卷装置30之间的相对位置关系不会发生变化，容易维持与曝光载台15之间的相对位置关系。另外，能够将输送部移动机构60统一为1个驱动系统。

另一方面，移动控制部70对控制致动器55、65进行驱动，以便在曝光载台15的移动中保持曝光载台15与基板供给装置16以及基板收卷装置30的相对位置关系。由此，抑制了供给卷轴22A、22B、收卷卷轴32A、32B靠近曝光载台15从而导致发生长基板W1、W2的延长、翘曲等情况，另外能够防止曝光位置偏离。

此外，移动控制部70可以在距离间隔为阈值以上时，控制移动速度、加速度。或者，控制供给卷轴22A、22B以及/或者收卷卷轴32A、32B的轴旋转，从而调整为对长基板W1、W2施加适当的张力。

不仅是2条长基板W1、W2，还可将更多个长基板并列地同时进行输送，另外也可以采用输送一个长基板的结构。关于基板供给装置16和基板收卷装置30，也可以不进行机械连结，使它们通过不同的移动机构进行移动。另外，可通过相同的移动机构使曝光载台15和基板供给装置16、基板收卷装置30移动。

在以上的实施方式中，是在曝光载台15的上游侧设置基板供给装置16，在下游侧设置基板收卷装置30，并以使长基板W1、W2向相同方向移动的方式驱动供给卷轴22A、22B和收卷卷轴32A、32B的，但也可使长基板W1和W2彼此向相反的方向移动。

即，在曝光载台15的两侧设置2对卷轴，以使一对卷轴对向X方向卷绕的方式设置供给卷轴、收卷卷轴，使另一对卷轴对向-X方向收卷的方式设置供给卷轴、收卷卷轴。在该情况下，使将基板供给装置和基板收卷装置的功能组合在一起的一对输送装置相对于曝光载台而移动。这样，当构成为使长基板W1和W2彼此向相反方向移动时，能够抑制长基板在曝光载台的上游侧和下游侧的重量平衡的变化。

另外，在以上的实施方式中，是通过使曝光载台15进行移动来实现长基板W1、W2与曝光部40的相对移动并进行曝光的，但也可以将曝光载台15固定于基座10B，使曝光部40通过未图示的移动装置而在基板输送方向上移动，由此进行相对移动。在该情况下，基板供给装置16和基板收卷装置30以维持与曝光载台15之间的相对位置关系的方式被固定于基座10B。

接下来，利用图5、6，对第二实施方式进行说明。在第二实施方式中，RtoR输送系统配置在曝光载台的曝光面以下。另外，设置有在曝光载台、基板供给装置、以及基板收卷装置进行移动时向长基板施加张力的张力辊。此外，在第一实施方式中，RtoR输送系统配置在曝光载台的曝光面以下。

图5是示出作为第二实施方式的曝光装置的概略性立体图。图6是曝光装置的概略性俯视图。此外，第二实施方式的基板输送方向与第一实施方式的输送方向相反，基板供给装置、基板收卷装置的配置部位也与第一实施方式相反。对于相同的结构要件，使用与第一实施方式相同的符号。

与第一实施方式相同，曝光装置10’具备基板供给装置16、基板收卷装置30，分别具备供给卷轴22A、22B、和收卷卷轴32A、32B。另一方面，通过设置于基板供给装置16与基板收卷装置30之间的辊支承装置55来支承被构成为自由辊且配置于曝光载台15的两端旁的支承辊24、34。

基板供给装置16(16A、16B)、基板收卷装置30(30A、30B)、辊支承装置55能够通过输送部移动机构60而向输送方向M(X方向)及其相反方向移动。另外，曝光载台15能够通过载台移动机构50向输送方向M及其相反方向移动，与第一实施方式相同地，基板供给装置16、基板收卷装置30、辊支承装置55能够与曝光载台15同步地移动。

在第二实施方式中，作为与长基板W1、W2相接的辊，不仅设置有支承辊24、34，而且还设置有张力辊36、张力测定辊37、张力测定辊39。张力辊36为自由辊，通过辊支承装置55而被支承。

张力测定辊39通过辊支承装置30C而被支承，由两个自由辊39A、39B构成。长基板W2以夹在两个自由辊39A、39B之间的状态被卷绕。张力测定辊37为自由辊，通过辊支承装置55而被支承。张力测定辊37、39通过负荷传感器等已知的张力测定方法来测定长基板W1、W2的张力。

如图6所示，曝光部40设定于具备4个脚部46A～46D的台架45上。但是，图5中未图示台架45。台架45的脚部46A、46C(脚部46B、46D)的距离间隔被设定为能够使长基板W1、W2以及RtoR输送系统穿过台架45的内部空间SJ。

另一方面，曝光光学系统的工作距离(WD)被设定为非常短的距离间隔(例如几十毫米程度)，因此台架45的高度不能被设定为大大超出曝光载台15的高度。因此，曝光载台15以靠近台架45的内面的方式通过。

在本实施方式中，构成RtoR输送系统的支承辊24、34、张力测定辊37、39、以及供给卷轴22A、22B、收卷卷轴32A、32B均配置在曝光载台15的曝光面EH以下(即以曝光面EH为基准的曝光部40的相反侧)的空间。换言之，构成RtoR输送系统的部件不会实质性地超过曝光面EH(哪怕是一部分)。

这表示参与到长基板W1、W2的输送中的RoR输送系统的上表面是平坦的。因此，支承辊24、34、张力测定辊37、39能够在不抵接到台架45的情况下向内部空间SJ移动。关于这一点基板供给装置16、基板收卷装置30、辊支承装置55也是一样的。

由于RtoR输送系统配置于曝光面EH的下方，因此供给卷轴22A、22B以对长基板W1、W2施加适当的张力的方式配置于台架45附近。收卷卷轴32A、32B也以使张力辊36、张力测定辊37、39位于中间的方式配置得尽可能靠近台架45。

另一方面，为了对长基板W1、W2分别施加适当的张力，使供给卷轴22A、22B和收卷卷轴32A、32B分别被独立地被驱动。另一方面，输送部移动机构60仅配置于长基板W1、W2的一侧，供给卷轴22A、22B以及收卷卷轴32A、32B被悬臂支承。

因此，供给卷轴22A、22B和收卷卷轴32A、32B各自在基板输送方向M上配置在不同的位置。另一方面，出于容易对长基板W1、W2施加相同的张力，此外还为了控制RtoR输送系统的垂直方向的高度等理由，配置设定成使供给卷轴22A、收卷卷轴32A的垂直方向的高度与供给卷轴22B、收卷卷轴32B的垂直方向的高度相等。

长基板W2比长基板W1距基板供给装置16、基板收卷装置30更远，供给卷轴22B、收卷卷轴32B的长度比供给卷轴22A、收卷卷轴32A的长度长，卷筒状的长基板W2被支承在从基板供给装置16、基板收卷装置30离开的位置。因此，长基板W2容易在供给卷轴22B、收卷卷轴32B之间曲折前行。

为了防止该情况，以使供给卷轴22B、收卷卷轴32B的卷轴间距离比供给卷轴22A、收卷卷轴32A的卷轴间距离短的方式构成RtoR输送系统。即，在更靠近基板供给装置16、基板收卷装置30的部位支承卷筒状的长基板W1的供给卷轴22A、收卷卷轴32A与供给卷轴22B、收卷卷轴32B相比位于距曝光部40更远的外侧。

这样，根据第二实施方式，在具备RtoR输送系统的曝光装置10’中，构成RtoR输送系统的支承辊24、34、张力测定辊37、39、以及供给卷轴22A、22B、收卷卷轴32A、32B、基板供给装置16、基板收卷装置30、辊支承装置55被配置在曝光载台15的曝光面EH以下的空间。

由此，能够减小RtoR输送系统的沿着基板输送方向M的装置尺寸。即，设置空间配置于曝光面以下的RtoR输送系统中必然省略轧辊、张力调节辊，从而能够使沿着基板输送方向的装置尺寸紧凑化。此外，本实施方式对于RtoR输送系统与曝光载台15不进行移动的以往的类型的RtoR输送系统也是有效的。

并且，在RtoR输送系统中，在辊组中与长基板W1、W2的表面相接的辊比以往的输送系统少。由此，能够抑制要形成图案的基板表面被损伤。特别对于阻焊曝光有效。

并且，在第二实施方式中，通过设置有张力辊36的结构，在移动期间也能够对长基板W1、W2施加适当的张力。下面，对张力辊36的作用以及供给卷轴22A、22B、收卷卷轴32A、32B的驱动进行说明。

张力辊36为对长基板W1、W2施加张力的辊，与长基板W1、W2的表面相接，并通过辊支承装置55而支承为能够相对于其他的辊进行位置变动的状态。另外，张力辊36为偏心辊，以能够进行摆动运动的方式被支承。

驱动供给卷轴22A、22B的驱动机构21A、21B分别设置于基板供给装置16A、16B。驱动机构21A、21B具备单向离合器机构，以仅向基板输送方向M的相反方向持续施加扭矩T的方式进行动作。扭矩T小于曝光载台15对长基板W1、W2的吸附力。例如，驱动机构21A、21B具备磁粉离合器，根据由张力测定辊37、39而测定的张力来控制磁粉离合器。

另一方面，设置于基板收卷装置30A、30B的收卷卷轴32A、32B的驱动机构31A、31B由伺服马达机构构成。此外，驱动机构31A、31B根据由张力测定辊37、39测定的张力来调整收卷时等的扭矩量。

如上述，输送部移动机构60和载台移动机构50被各自构成，RtoR输送系统与曝光载台15同步地移动。因此，因移动时的控制问题等会产生同步偏差。即，曝光载台15比RtoR输送系统更快或更慢地移动。当发生同步偏差时，会导致长基板W1、W2的挠曲或者延长。为了防止该情况，使张力辊36进行位置变动以对长基板W1、W2施加张力。

张力辊36通过与未图示的限制部件相接，铅直方向上的移动被限制。在曝光载台15未吸附长基板W1、W2的状态下，为了向与供给侧相反的方向对供给卷轴22A、22B施加扭矩，与长基板W1、W2的表面相接的张力辊36向铅直方向施力，维持与限制部件相接的状态。长基板W1、W2成为在支承辊24、34之间施加了适当的张力的状态。在曝光载台15吸附长基板W1、W2并移动的期间，同样会维持施加张力的状态。

另一方面，在因同步偏差而导致RtoR输送系统比曝光载台15延迟的情况下，即，在曝光载台15靠近RtoR输送系统的情况下，由于曝光载台15吸附着长基板W1、W2而移动，因此长基板W1、W2欲挠曲。此时，张力辊36发生摆动，从上限位置发生变动。其结果，长基板W1、W2不发生挠曲而被施加有适当的张力。

相反地，在因同步偏差而导致RtoR输送系统比曝光载台15提前移动的情况下，即，在曝光载台15从RtoR输送系统远离的情况下，驱动机构21A、21B对供给卷轴22A、22B向与长基板的送出方向相反的方向施加扭矩T，因此长基板W1、W2在支承辊24和供给卷轴22A、22B之间不发生挠曲，会被维持适当的张力。

另一方面，通过设置张力辊36，会缓解张力辊36与张力测定辊39之间的长基板W1、W2的倾斜。因此，构成为通过将长基板W1、W2夹在辊39A、39B之间而形成角度从而能够测定准确的张力。

这样，根据第二实施方式，在RtoR输送系统可以与曝光载台15一起沿着基板输送方向M移动的曝光装置10’中，张力辊36设置于曝光载台15的下游侧。并且，在RtoR输送系统的移动中，张力辊36相对于其他的辊发生位置变动而施加张力，以抑制长基板W1、W2的挠曲。

在多数情况下，与使曝光载台15移动相比，使RtoR输送系统移动更需要驱动力。因此，容易产生使曝光载台15靠近RtoR输送系统的同步偏差。因此，通过将张力辊36配置于曝光载台15的下游侧，从而能够有效地施加张力。

另外，驱动机构21A、21B仅在与基板输送方向相反的方向上持续对供给卷轴22A、22B施加扭矩，从而即便未将张力辊设置在曝光载台15的上游侧，也能够在发生同步偏差时施加张力。

并且，张力辊36通过偏心辊的结构而摆动，进行等时性移动。由此，能够容易地持续施加适当的张力。并且，该张力辊36以横跨长基板W1、W2的方式配置，从而能够对长基板W1、W2施加相同的张力。

此外，也可以不由偏心辊来构成张力辊36，可以使张力辊36沿着铅直方向进行位置变动。另外，也可以在上游侧设置张力辊，并且对载台移动机构50和输送部移动机构60被形成为一体的移动机构也适用。

接下来，利用图7，对第三实施方式进行说明。在第三实施方式中，输送部移动机构设置于支承曝光部的台架的外侧。

图7是第三实施方式的曝光装置的概略性立体图。

曝光装置10”具有驱动供给卷轴22A、22B，并被对置配置的一对基板供给装置120X、120Y、和驱动收卷卷轴32A、32B并被对置配置的一对基板收卷装置130X、130Y。输送部移动机构60由在曝光部40的台架45的外侧沿基板输送方向M并列的一对输送部移动机构60X、60Y构成。

分别配置于一对输送部移动机构60X、60Y的基板供给装置120A1、120A2从两侧支承供给卷轴22A。另外，供给卷轴22A的轴部具备与基板供给装置120A1、120A2的距离间隔对应的长度。供给卷轴22B也通过基板供给装置120B1、120B2而从两侧被支承。

同样地，分别配置于一对输送部移动机构60X、60Y的基板收卷装置130B1、130B2从两侧支承收卷卷轴32B，分别配置于输送部移动机构60X、60Y的基板收卷装置130A1、130A2从两侧支承收卷卷轴32A。输送部移动机构60X可沿着导轨61X而向基板输送方向M和与其相反的方向进行移动，输送部移动机构60Y可沿着导轨61Y而向基板输送方向M和与其相反的方向进行移动。

输送部移动机构60X、60Y彼此同步地移动。由此，与第一、第二实施方式同样地，RtoR输送系统能够与曝光载台15一起向基板输送方向M移动。但是，由于导轨61X、61Y配置于台架45的周围，因此供给卷轴22B、收卷卷轴32B为了不与台架45接触而被限制了移动范围。在此，支承辊24、34安装于曝光载台15。

通过采用输送部移动机构60X、60Y不通过台架45的下方的结构，从而能够抑制在输送部移动机构60X、60Y进行动作时向曝光部40传递振动，对图案曝光产生影响的情况。另外，能够确保台架45的内部空间SJ的空间，由此也能够输送如3条、4条这样的多个长基板。

另一方面，基板供给装置120A1、120A2能够分别通过致动器180A1、180A2进行移动，基板供给装置120B1、120B2能够分别沿着致动器180B1、180B2进行移动。同样地，基板收卷装置130A1、130A2能够分别沿着致动器190A1、190A2进行移动，基板供给装置130B1、130B2能够分别沿着致动器190B1、190B2进行移动。

供给侧的致动器180A1、180A2、180B1、180B2、收卷侧的致动器190A1、190A2、190B1、190B2均可使基板供给装置120X、120Y以及基板收卷装置130X、130Y沿着与基板输送方向M正交的方向(以下，称为基板输送正交方向)N移动。另外，致动器均可由滚珠丝杠等构成。

基板供给装置120X、120Y以及基板收卷装置130X、130Y通过相同的动作而沿着基板输送正交方向N移动。即，以启动时刻、移动速度、停止时刻相同的方式进行移动。由此，RtoR输送系统整体上一体地沿着基板输送正交方向N进行移动。

曝光载台15可通过载台移动机构50沿着基板输送垂直方向N和其相反方向移动。并且，基板供给装置120X、120Y以及基板收卷装置130X、130Y可通过移动控制部70而与曝光载台15同步地移动。

由于RtoR输送系统与曝光载台15一起在基板输送方向M以及基板输送正交方向N上移动，因此对长基板W1、W2也能够进行多路径曝光。即，与对矩形形状基板的曝光同样地，在沿着基板输送方向M而曝光某个扫描带之后，使曝光载台15沿着基板输送正交方向N移动，由此能够曝光相邻的扫描带。

曝光时的照射区域(曝光区域)尺寸依赖于曝光部40的光学系统、曝光特性(光强度、感光量等)，有时不能确保与所使用的长基板的宽度匹配的尺寸。在曝光区域不能覆盖长基板的整个宽度的情况下，通过执行多路径曝光而能够在长基板W1、W2的整个宽度上形成图案。

这样，根据第三实施方式，在具备RtoR输送系统的曝光装置10”中，输送部移动机构60X、60Y配置在曝光部40的台架45的外侧，一对基板供给装置120X、120Y、一对基板收卷装置130X、130Y不会穿过台架45的下方。另外，基板供给装置120X、120Y和基板收卷装置130X、130Y同步地在基板输送正交方向N上移动，使RtoR输送系统与曝光载台15一起沿着基板输送正交方向N移动。

在第二实施方式中，能够构成为将输送部移动机构60设置在台架45的外侧而使之移动。

接下来，利用图8～10，对第四实施方式的曝光装置进行说明。在第四实施方式中，曝光载台和输送系统均沿着与输送方向(M)正交的方向(Y)而移动。

图8是从第四实施方式中的曝光装置的上方观察时的概略性俯视图，图9是从第四实施方式中的曝光装置的侧面观察时的概略性俯视图。图10是第四实施方式中的曝光装置的概略性框图。

曝光装置10’具备曝光部140、基板供给/收卷部150。在此，曝光部140由6个曝光头140A～140F构成，并沿着输送方向M而排列成锯齿形。来自光源41的光被向各个曝光头引导，从各个曝光头向规定的曝光区域投影图案光。

基板供给/收卷部150具备供给卷轴22、收卷卷轴32、支承辊24、34，与第一实施方式同样地，对长基板W进行送出和收卷。基板供给/收卷部150以及曝光载台15一并设置于中间基座170。

载置台/输送部移动机构(第一移动机构)160是用于使曝光载台以及基板供给/收卷部150在与输送方向M交叉的方向上移动的机构。第一移动机构160具备在与输送方向M正交的方向上延伸的导轨62A、62B和未图示的致动器(例如，直线马达)。中间基座170能够通过设置于基座10B的载置台/输送部移动机构160在与输送方向M正交的方向Y上进行往返移动。

通过使中间基座170相对于曝光装置10’的基座10B而移动，而使包括曝光载台15、供给卷轴22、收卷卷轴32在内的基板供给/输送部20相对于曝光部40而进行相对移动。曝光部140在曝光载台15进行相对移动的期间内投影图案光。

多个对准照相机82配置在沿着曝光载台15的输送方向M的端面附近，检测长基板W的曝光位置。另外，照相机标度部84也沿着曝光载台15的输送方向M而配置在端面附近，该照相机标度部84具备设置有照相机基准位置的测定标记的照相机标度、和用于测定曝光头的曝光位置的误差而修正描绘数据的传感器单元等。

在开始曝光之后，中间基座170相对于曝光部140进行相对移动，当结束曝光时，中间基座170返回到原来的位置。并且，当将长基板W输送规定长度时，开始进行曝光动作。通过反复进行该动作，在长基板W上形成图案。

这样，根据本实施方式，在具备曝光部140、基板供给/收卷部150的曝光装置10’中，基板供给/收卷部150和曝光载台15一体地沿着与基板输送方向M正交的方向进行往返移动。曝光部140根据曝光载台15的相对移动对长基板W进行曝光。

这样，通过使曝光部140沿着与基板输送方向M正交的方向扫描，从而能够使曝光装置10’紧凑化。另外，由于曝光部140没有被设置于曝光载台15的上方，因此能够自由设定曝光部140的结构。另外，由于不将对准照相机82设置于长基板W的上方，因此能够缩短曝光载台15的输送方向上的长度。并且，无需将照相机标度部84配置于长基板W的上方，无需设置用于避让长基板W的U字型路径，在长基板W上不会被施加应力。

在第四实施方式中，是通过使曝光载台15和基板供给/输送部150进行移动来实现长基板W和曝光部140的相对移动并进行了曝光，但也可以将曝光载台15固定于基座10B，使曝光部40通过未图示的移动装置而在与输送方向M正交的方向上移动。另外，也可以如第一实施方式那样，由2条基板来构成长基板W。在该情况下，曝光部40对2条基板同时进行曝光。

接下来，利用图11～13，对第五实施方式进行说明。在第五实施方式中，输送系统沿着基板输送方向而移动，并且曝光部沿着与基板输送方向正交的方向移动。

图11是第五实施方式中的曝光装置的框图。曝光装置10”是对两个长基板W1、W2进行曝光的曝光装置，具备曝光部240和基板供给/收卷部220。在此，曝光部240由4个曝光头240A～240D构成，并沿着输送方向M而排列成锯齿形。

基板供给/收卷部220具备供给卷轴22、收卷卷轴32、支承辊24、34，与第一实施方式同样地，对长基板W1、W2进行送出和收卷。基板供给/收卷部220和曝光载台15一并设置在中间基座270。

曝光部移动机构(第二移动机构)250使曝光部240沿着与输送方向M正交的方向移动。

图12、图13是表示第五实施方式中的曝光装置的曝光动作的图。

当在曝光部240静止的状态下、中间基座270沿着输送方向M而移动时，曝光部240进行扫描，由此在长基板W1的区域EA1形成图案(参照(A)、(B))。之后，在中间基座270静止的状态下曝光部40沿着与输送方向M正交的方向移动，并在长基板W2的上方停止(参照(C))。

中间基座270本次沿着与输送方向M相反的方向而移动。在此期间，曝光部240在曝光区域E2形成图案(参照(D))。当曝光部40再次向长基板W1的上方移动时，中间基座270沿着输送方向M而移动。在此期间，曝光部340在曝光区域EA3形成图案(参照(E)、(F))。

接着，曝光部240向长基板W2移动，中间基座20向与输送方向M相反的方向移动。在此期间，曝光部240在曝光区域EA4形成图案(参照(G)、(H))。通过持续地、反复进行这样的曝光部240和中间基座270的交替移动，从而在长基板W1、W2双方上依次形成图案。

这样，根据第五实施方式，通过使曝光部240和曝光载台15在X、Y方向上移动，从而即便是曝光区域比较小的曝光部40的结构，也能够对长基板W1、W2双方进行曝光。

此外，也可以采用如下方式：曝光载台15和基板供给/收卷部220在与基板输送方向M正交的方向上移动，曝光部240沿着基板输送方向M而移动。另外，也可以是，基板供给/收卷部220在基板输送方向M以及与之正交的方向上移动，也可以相反地使曝光部240在基板输送方向M以及与之正交的方向上移动。

Claims (17)

1.一种曝光装置，其特征在于，具有：

曝光载台，其支承至少一个长基板，并能够沿着基板输送线而进行往返移动；

至少一个卷轴对，它们隔着所述曝光载台而对置配置，并输送所述长基板；

多个辊，它们设置在所述卷轴对之间，并与所述长基板相接；

载台移动机构，其使所述曝光载台沿着所述基板输送线往返移动；以及

输送部移动机构，该输送部移动机构是与所述载台移动机构不同的移动机构，使所述卷轴对以及支承所述多个辊的辊支承装置与所述曝光载台同步地沿着所述基板输送线进行往返移动，

所述卷轴对以及所述多个辊能够以使所述卷轴对以及所述辊支承装置与所述曝光载台之间的相对距离间隔固定的方式与所述曝光载台一起沿着所述基板输送线而进行往返移动，

所述多个辊包括张力辊，在沿着所述基板输送线进行的往返移动中，该张力辊能够相对于其他辊进行位置变动，由此，能够防止因同步偏差导致所述输送部移动机构比所述载台移动机构延迟的情况下的所述长基板的挠曲。

2.根据权利要求1所述的曝光装置，其特征在于，

所述张力辊配置于所述曝光载台的下游侧。

3.根据权利要求2所述的曝光装置，其特征在于，

所述张力辊是偏心的张力辊。

4.根据权利要求3所述的曝光装置，其特征在于，

所述张力辊向上方的移动被限制。

5.根据权利要求4所述的曝光装置，其特征在于，具有：

供给侧驱动机构，其对所述卷轴对的供给卷轴向与所述长基板的送出方向相反的方向施加扭矩。

6.根据权利要求5所述的曝光装置，其特征在于，具有：

收卷侧驱动机构，其根据所述长基板的被计测到的张力对施加于所述卷轴对的收卷卷轴的扭矩量进行控制。

7.根据权利要求6所述的曝光装置，其特征在于，

所述多个辊包括张力测定辊，该张力测定辊配置在比所述张力辊靠下游侧的位置，并对所述长基板的张力进行计测。

8.根据权利要求1至7中的任一项所述的曝光装置，其特征在于，

所述长基板由并列的多个长基板构成，

所述张力辊横跨所述多个长基板。

9.根据权利要求1所述的曝光装置，其特征在于，还具有：

相对移动部，其在曝光动作时使所述曝光载台和所述卷轴对相对于曝光部而沿着与基板输送方向正交的方向进行相对移动。

10.根据权利要求9所述的曝光装置，其特征在于，

所述相对移动部具有第一移动机构，该第一移动机构使所述卷轴对和所述曝光载台相对于装置基座而沿着与基板输送方向正交的方向进行移动。

11.根据权利要求9所述的曝光装置，其特征在于，还具有：

第二移动机构，其使所述曝光部相对于装置基座而沿着与基板输送方向正交的方向进行移动。

12.根据权利要求9至11中的任一项所述的曝光装置，其特征在于，还具有：

多个对准用照相机，其检测所述长基板的位置，并沿着所述基板输送方向而并列地配置。

13.根据权利要求12所述的曝光装置，其特征在于，其还包括：

照相机标度部，其设置在所述曝光载台的沿着基板输送方向的侧面附近，用于获得所述对准用照相机的位置信息。

14.根据权利要求1所述的曝光装置，其特征在于，

所述输送部移动机构设置在支承曝光部的台架的外侧。

15.根据权利要求14所述的曝光装置，其特征在于，

所述输送部移动机构使基板供给部和基板收卷部沿着基板输送线和基板输送正交线而移动。

16.根据权利要求15所述的曝光装置，其特征在于，

所述载台移动机构使所述曝光载台沿着基板输送线和基板输送正交线而移动。

17.根据权利要求14至16中的任一项所述的曝光装置，其特征在于，

所述长基板由并列的多个长基板构成。

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