JP2015189020A - 熱転写受像シートおよびその製造方法 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】基材2の一方の面に、断熱層3、下引き層4、染料受容層5を順次積層形成した熱転写受像シート1である。断熱層3は、空隙を含むポリオレフィンフィルムである。下引き層4は、層形成後にポリオレフィンエマルジョンとTg40℃以下である塩ビ共重合体エマルジョンとの合計を50質量%以上含む。染料受容層5は、Tg60℃以上である塩ビ共重合体エマルジョンを含み、Tg60℃以上である塩ビ共重合体エマルジョンの最低造膜温度を造膜助剤により10℃以下とした塗布液を、塗布および乾燥して形成されたことを特徴とする。
【選択図】図1
Description
これまで染料受容層、下引き層、断熱層に関して、様々なバインダや添加剤、樹脂フィルム等を用いる報告がされているが、昨今の高速印画プリンタにおいて印画を行うと、高温・高湿下にてコゲ、基材密着性、画質が良好である熱転写受像シートは見出されていない状況である。
基材として厚さ140μmの上質紙を使用し、一方の面に溶融押し出し法により厚さ30μmのポリエチレン樹脂層を形成した。また、発泡ポリプロピレンフィルムの片面にスキン層を設けた、厚さ40μmの断熱層を用意した。
ポリオレフィンエマルジョン 25.3部
(アローベースSB−1010、ユニチカ(株)製、固形分25%)
塩ビ共重合体エマルジョン 14.7部
(ビニブラン278、日信化学工業(株)製、Tg33℃、固形分43%)
トリプロピレングリコールモノメチルエーテル 4.0部
純水 56.0部
<染料受容層塗布液−1>
塩ビ共重合体エマルジョン 40.0部
(ビニブラン603、日信化学工業(株)製、Tg63℃、固形分50%)
トリプロピレングリコールモノメチルエーテル 4.0部
純水 55.0部
シリコーンエマルジョン 1.0部
(BY 22−736 EX、東レ・ダウコーニング(株)製)
造膜温度 7℃
実施例1で作製した熱転写受像シートにおいて、下引き層を下記組成の下引き層塗布液−2にした以外は、実施例1と同様にして、実施例2の熱転写受像シートを得た。
<下引き層塗布液−2>
ポリオレフィンエマルジョン 14.6部
(アローベースSB−1010、ユニチカ(株)製、固形分25%)
塩ビ共重合体エマルジョン 25.4部
(ビニブラン278、日信化学工業(株)製、Tg33℃、固形分43%)
トリプロピレングリコールモノメチルエーテル 4.0部
純水 56.0部
実施例1で作製した熱転写受像シートにおいて、下引き層を下記組成の下引き層塗布液−3にした以外は、実施例1と同様にして、実施例3の熱転写受像シートを得た。
<下引き層塗布液−3>
ポリオレフィンエマルジョン 33.5部
(アローベースSB−1010、ユニチカ(株)製、固形分25%)
塩ビ共重合体エマルジョン 6.5部
(ビニブラン278、日信化学工業(株)製、Tg33℃、固形分43%)
トリプロピレングリコールモノメチルエーテル 4.0部
純水 56.0部
実施例1で作製した熱転写受像シートにおいて、染料受容層を下記組成の染料受容層塗布液−2にした以外は、実施例1と同様にして、実施例4の熱転写受像シートを得た。
<染料受容層塗布液−2>
塩ビ共重合体エマルジョン 40.0部
(ビニブラン701、日信化学工業(株)製、Tg73℃、固形分30%)
トリプロピレングリコールモノメチルエーテル 4.0部
純水 55.4部
シリコーンエマルジョン 0.6部
(BY 22−736 EX、東レ・ダウコーニング(株)製)
造膜温度 0℃
実施例1で作製した熱転写受像シートにおいて、下引き層を下記組成の下引き層塗布液−4にした以外は、実施例1と同様にして、実施例5の熱転写受像シートを得た。
<下引き層塗布液−4>
ポリオレフィンエマルジョン 21.8部
(アローベースSB−1010、ユニチカ(株)製、固形分25%)
塩ビ共重合体エマルジョン 18.2部
(ビニブラン711、日信化学工業(株)製、Tg30℃、固形分30%)
トリプロピレングリコールモノメチルエーテル 4.0部
純水 56.0部
実施例1で作製した熱転写受像シートにおいて、下引き層を下記組成の下引き層塗布液−5にした以外は、実施例1と同様にして、比較例1の熱転写受像シートを得た。
<下引き層塗布液−5>
ポリオレフィンエマルジョン 40.0部
(アローベースSB−1010、ユニチカ(株)製、固形分25%)
トリプロピレングリコールモノメチルエーテル 4.0部
純水 56.0部
実施例1で作製した熱転写受像シートにおいて、下引き層を下記組成の下引き層塗布液−6にした以外は、実施例1と同様にして、比較例2の熱転写受像シートを得た。
<下引き層塗布液−6>
塩ビ共重合体エマルジョン 40.0部
(ビニブラン278、日信化学工業(株)製、Tg33℃、固形分43%)
トリプロピレングリコールモノメチルエーテル 4.0部
純水 56.0部
実施例1で作製した熱転写受像シートにおいて、下引き層を下記組成の下引き層塗布液−7にした以外は、実施例1と同様にして、比較例3の熱転写受像シートを得た。
<下引き層塗布液−7>
ポリオレフィンエマルジョン 26.7部
(アローベースSB−1010、ユニチカ(株)製、固形分25%)
塩ビ共重合体エマルジョン 13.3部
(ビニブラン603、日信化学工業(株)製、Tg63℃、固形分50%)
トリプロピレングリコールモノメチルエーテル 4.0部
純水 56.0部
実施例1で作製した熱転写受像シートにおいて、染料受容層を下記組成の染料受容層塗布液−3にした以外は、実施例1と同様にして、比較例4の熱転写受像シートを得た。
<染料受容層塗布液−3>
塩ビ共重合体エマルジョン 40.0部
(ビニブラン278、日信化学工業(株)製、Tg33℃、固形分43%)
トリプロピレングリコールモノメチルエーテル 4.0部
純水 55.1部
シリコーンエマルジョン 0.9部
(BY 22−736 EX、東レ・ダウコーニング(株)製)
造膜温度 0℃
実施例1で作製した熱転写受像シートにおいて、染料受容層を下記組成の染料受容層塗布液−4にした以外は、実施例1と同様にして、比較例5の熱転写受像シートを得た。
<染料受容層塗布液−4>
塩ビ共重合体エマルジョン 40.0部
(ビニブラン603、日信化学工業(株)製、Tg63℃、固形分50%)
純水 59.0部
シリコーンエマルジョン 1.0部
(BY 22−736 EX、東レ・ダウコーニング(株)製)
造膜温度 58℃
基材として、4.5μmの片面易接着処理付きポリエチレンテレフタレートフィルムを使用し、その非易接着処理面に下記組成の耐熱滑性層塗布液を、乾燥後の塗布量が1.0g/m2となるように塗布、乾燥し、耐熱滑性層付き基材を得た。次に、耐熱滑性層付き基材の易接着処理面に、下記組成のプライマー層および熱転写層塗布液を、乾燥後の塗布量が1.0g/m2となるように塗布、乾燥して熱転写層を形成し、熱転写記録媒体を得た。
シリコーン系アクリルグラフトポリマー 50.0部
(東亜合成(株)US−350)
メチルエチルケトン 50.0部
<プライマー層塗布液>
ポリビニルアルコール 2.5部
イソプロピルアルコール 30.0部
純水 67.5部
<熱転写層塗布液>
C.I.ソルベントブルー36 2.5部
C.I.ソルベントブルー63 2.5部
ポリビニルアセタール樹脂 5.0部
トルエン 45.0部
メチルエチルケトン 45.0部
実施例1〜5、比較例1〜5の熱転写受像シートおよび熱転写記録媒体を使用し、印画速度が2.0msec/line、解像度が300×300DPIの評価用サーマルプリンタにてベタ画像を印画し、最高反射濃度を測定した。なお、最高反射濃度は、X−rite528にて測定した値である。
また、熱転写受像紙シート、熱転写記録媒体、および評価用サーマルプリンタを45℃80%RH環境下に2時間保存した後、ベタ画像を印画し、コゲおよび密着性の評価を行った。評価結果を表1に示す。
コゲの評価は、以下の基準にて行った。△以上が実用上問題ないレベルである。
◎:熱転写媒体の抜け殻にもマット化の傾向が認められない。
○:マット化が認められない
△:マット化がごく僅かに認められる
×:マット化が認められる
密着性の評価は、印画物をセロハンテープ剥離し、以下の基準にて行った。△以上が実用上問題ないレベルである。
○:界面剥離が発生していない
△:断熱層と下引き層との間あるいは下引き層と染料受像層との間でごく僅かに剥離が認められる
×:断熱層と下引き層との間あるいは下引き層と染料受像層との間で剥離が認められる
実施例4、5にて下地層あるいは受像層に乳化剤を含有しない塩ビ共重合体エマルジョンを使用した場合、リボン抜け殻にもマット化の傾向が認められなかった。
また、下引き層にTg40℃より大きい塩ビ共重合体エマルジョンを使用した場合、コゲの悪化が、染料受容層がTg60℃より小さい塩ビ共重合体エマルジョンを含んだ場合、最高反射濃度の低下が、それぞれ確認された。
2:基材
3:断熱層
4:下引き層
5:染料受容層
Claims (5)
- 基材の一方の面に、断熱層、下引き層、染料受容層を順次積層形成した熱転写受像シートにおいて、
前記断熱層が、空隙を含むポリオレフィンフィルムであり、
前記下引き層が、層形成後にポリオレフィンエマルジョンとガラス転移温度(Tg)が40℃以下である塩ビ共重合体エマルジョンとの合計を50質量%以上含み、
前記染料受容層が、ガラス転移温度がTg60℃以上である塩ビ共重合体エマルジョンを含みかつ前記Tg60℃以上である塩ビ共重合体エマルジョンの最低造膜温度を造膜助剤により10℃以下とした塗布液を、塗布および乾燥して形成されたことを特徴とする、熱転写受像シート。 - 前記下引き層の前記ポリオレフィンエマルジョンに対する前記Tg40℃以下である塩ビ共重合体エマルジョンの比率が、固形分比で1/3以上3以下の範囲であることを特徴とする、請求項1に記載の熱転写受像シート。
- 前記下引き層の前記Tg40℃以下である塩ビ共重合体エマルジョンが乳化剤を含まないことを特徴とする、請求項1または2に記載の熱転写受像シート。
- 前記染料受容層の前記Tg60℃以上である塩ビ共重合体エマルジョンが乳化剤を含まないことを特徴とする、請求項1〜3のいずれかに記載の熱転写受像シート。
- 基材の一方の面に、断熱層、下引き層、染料受容層が形成された熱転写受像シートの製造方法であって、
前記基材の一方の面に、空隙を含むポリオレフィンフィルムの前記断熱層を形成し、
前記断熱層の上面に、層形成後にポリオレフィンエマルジョンとガラス転移温度がTg40℃以下である塩ビ共重合体エマルジョンとの合計を50質量%以上含むための塗布液を、塗布および乾燥して前記下引き層を形成し、
前記下引き層の上面に、ガラス転移温度がTg60℃以上である塩ビ共重合体エマルジョンを含んだ塗布液を、当該Tg60℃以上である塩ビ共重合体エマルジョンの最低造膜温度を造膜助剤により10℃以下として、塗布および乾燥して前記染料受容層を形成した、熱転写受像シートの製造方法。
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