JP2015172177A - 接着性ポリオルガノシロキサン組成物および光半導体装置 - Google Patents

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Abstract

【課題】ポリフタル酸アミド樹脂(PPA)の様な耐熱性プラスチック等に対する接着性が良好な接着性ポリオルガノシロキサン組成物の提供。【解決手段】(A)アリール基を有する3官能型シロキサン単位を含むアルケニル基含有ポリオルガノシロキサン100質量部と、(B)ポリオルガノハイドロジェンシロキサンを、(A)成分中のアルケニル基1個当たり水素原子が0.5〜2.5個となる量と、(C)白金系触媒と、(D)(a)エポキシ基を有するシロキサン単位と(b)アルケニル基を有する2官能型シロキサン単位とを含有し、Mwが1000〜15000である接着性付与剤0.05〜10質量部を含有する接着性ポリオルガノシロキサン組成物。【選択図】なし

Description

本発明は、接着性ポリオルガノシロキサン組成物および光半導体装置に係り、特に、ポリフタル酸アミド樹脂(以下、PPAと記す。)のような耐熱性プラスチック等に対する接着性が良好な接着性ポリオルガノシロキサン組成物、およびこの組成物の硬化物を封止材等として有する光半導体装置に関する。
シリコーンゴム、シリコーンゲルのようなシリコーン(ポリオルガノシロキサン)組成物は、耐候性、耐熱性、硬度、伸び等の諸特性に優れた硬化物を形成することから、種々の用途に使用されている。
例えば、発光ダイオード(LED:Light Emitting Diode)などの発光素子を備えたLED装置において、発光素子を封止する材料や、発光素子からの光路に配置されるレンズを形成する材料として、耐熱性および耐紫外線特性等に優れたポリオルガノシロキサン組成物が使用されている。特に、ヒドロシリル化により硬化する付加反応型ポリオルガノシロキサン組成物は、加熱により短時間で硬化し、かつ硬化時に副生物を発生しないため、LED装置の封止材等として広く用いられている。
しかしながら、従来からの付加反応型ポリオルガノシロキサン組成物は、それ自体の接着性が低く、特に、LED装置のフレームや電極として使用されている銀(Ag)、金(Au)等の貴金属や、リフレクターや支持基材として使用されているPPA等の耐熱性プラスチックに対する接着性が不十分であった。そのため、付加反応型ポリオルガノシロキサン組成物に、γ−グリシドキシプロピルメチルジメトキシシランやγ−グリシドキシプロピルトリメトキシシランのようなエポキシ基を有するシラン化合物を添加し、接着性を向上させることが行われている(例えば、特許文献1参照。)。
しかし、前記シラン化合物は、低分子量で揮発しやすいため、ポリオルガノシロキサン組成物を成形し硬化させて封止層等を形成する工程で、加熱により揮散しやすい。また、封止層の形成後も、発光素子からの発熱や温度サイクル印加の際の加熱により、前記シラン化合物は揮発して封止層から失われやすい。そのため、封止層の接着性が低下し、PPA等の基材と封止層との間に剥離が生じるという問題があった。
また、シランカップリング剤、ヒドロシリル基および/またはアルコキシシリル基と(メタ)アクリロキシ基、エポキシ基のような有機官能性基を有するシロキサンを接着性付与成分として含有するLED用のポリオルガノシロキサン組成物も提案されている(例えば、特許文献2参照。)。しかしながら、この組成物も、PPA等に対する長期的な接着性の点で十分ではなかった。
特開2010−248384号公報 特開2009−269968号公報
本発明は、このような問題を解決するためになされたもので、PPAのような耐熱性プラスチック等に対する良好な接着性を有し、かつ発光素子からの発熱や温度サイクルの際の加熱等により前記接着性が低下することがなく、光半導体装置の封止材等として好適する接着性ポリオルガノシロキサン組成物を提供することを目的とする。
本発明の接着性ポリオルガノシロキサン組成物は、(A)ケイ素原子に結合したアルケニル基を有し、かつアリール基を有する3官能型シロキサン単位を含むポリオルガノシロキサン100質量部と、(B)ケイ素原子に結合した水素原子を有するポリオルガノハイドロジェンシロキサンを、前記(A)成分中のアルケニル基1個当たり、本成分中の前記水素原子の量が0.1〜4.0個となる量と、(C)白金系触媒を触媒量と、(D)(a)式:RSiO3/2(式中、Rはエポキシ基を有する1価の有機基を示す。)で表される3官能型シロキサン単位と、式:RSiO2/2(式中、Rは上記と同様である。Rはアルキル基またはアルコキシ基を示す。)で表される2官能型シロキサン単位と、式:R SiO1/2(式中、RおよびRはいずれも上記と同様である。)で表される1官能型シロキサン単位とからなる群から選ばれる少なくとも1種の、エポキシ基を有するシロキサン単位と、(b)式:R SiO2/2(式中、Rはアルケニル基、アルキル基およびアリール基から選ばれる1価の炭化水素基を示し、少なくとも1つはアルケニル基である。)で表される、アルケニル基を有する2官能型シロキサン単位を含有し、重量平均分子量が1000〜15000であるポリオルガノシロキサンからなる接着性付与剤0.05〜10質量部をそれぞれ含有してなることを特徴とする。
本発明の光半導体装置は、本発明の接着性ポリオルガノシロキサン組成物を硬化してなる硬化物を有することを特徴とする。
なお、以下の記載においては、「ケイ素原子に結合したアルケニル基」を単に「アルケニル基」と示すことがある。また、「ケイ素原子に結合した水素原子」を単に「水素原子」と示すことがある。
本発明の接着性ポリオルガノシロキサン組成物によれば、PPA等の耐熱性プラスチックに対して良好な接着性を有し、かつその良好な接着性は、発熱や温度サイクルの印加等に起因する温度上昇によって低下することがない。したがって、このポリオルガノシロキサン組成物の硬化物により封止層が形成されたLED装置のような光半導体装置は、封止層とプラスチック基材との接着性が良好であり、それらの界面で剥離が生じにくく、信頼性が高い。
本発明の実施例1〜6および比較例1,2で得られたポリオルガノシロキサン組成物のパッケージ試験(1)において、接着性を調べるための昇温温度のプロファイルを示すグラフである。
以下、本発明の実施の形態について説明する。
[接着性付与剤]
(D)成分の接着性付与剤は、(a)エポキシ基を有するシロキサン単位と(b)アルケニル基を有する2官能型シロキサン単位を含有し、重量平均分子量(以下、Mwと示す。)が1000〜15000であるポリオルガノシロキサンからなる接着性付与剤である。
ここで、(a)エポキシ基を有するシロキサン単位は、式(1):RSiO3/2で表される3官能型シロキサン単位と、式(2):RSiO2/2で表される2官能型シロキサン単位と、式(3):R SiO1/2で表される1官能型シロキサン単位とからなる群から選ばれる少なくとも1種である。なお、これらの式において、Rはエポキシ基を有する1価の有機基を示し、Rはアルキル基またはアルコキシ基を示す。
(b)アルケニル基を有する2官能型シロキサン単位は、式(4):R SiO2/2で表される単位である。なお、式(4)において、Rはアルケニル基、アルキル基およびアリール基から選ばれる1価の炭化水素基を示し、2つのRのうちの少なくとも1つはアルケニル基である。
(a)エポキシ基を有するシロキサン単位と(b)アルケニル基を有する2官能型シロキサン単位とを含有し、前記した範囲のMwを有するポリオルガノシロキサンは、分子中にアルケニル基を有するポリオルガノシロキサンをベースポリマーとし、かつ分子中に水素原子を有するポリオルガノハイドロジェンシロキサンを含む付加反応型ポリオルガノシロキサン組成物に配合した場合、ベースポリマーとの相溶性が良く均一に混合されるうえに、組成物の硬化の際に、2官能型シロキサン単位の有するアルケニル基が前記組成物に含まれるポリオルガノハイドロジェンシロキサンの水素原子と反応し、この反応を介してベースポリマーに結合される。そのため、このポリオルガノシロキサンは、組成物の加熱硬化の際や硬化後の発熱や温度サイクルの際の加熱等により、揮散して失われることがなく、金、銀等の貴金属やPPA等のプラスチックに対して、エポキシ基に由来する高い接着性を示す。
以下、接着性付与剤であるポリオルガノシロキサンを構成するシロキサン単位について、さらに説明する。
<(a)エポキシ基を有するシロキサン単位>
(a)エポキシ基を有するシロキサン単位は、式(1):RSiO3/2で表される3官能型シロキサン単位(以下、T1ep単位と示す。)と、式(2):RSiO2/2で表される2官能型シロキサン単位(以下、D1ep単位と示す。)と、式(3):R SiO1/2で表される1官能型シロキサン単位(以下、M1ep単位と示す。)とからなる群から選ばれる少なくとも1種のシロキサン単位である。
式(1)〜(3)において、Rはエポキシ基を有する1価の有機基を示す。エポキシ基を有する1価の有機基としては、エポキシアルキル基、グリシドキシアルキル基等が挙げられる。接着性付与剤であるポリオルガノシロキサンの合成のし易さの点から、Rはグリシドキシアルキル基であることが好ましく、特にγ−グリシドキシプロピル基が好ましい。
また、式(1)〜(3)において、Rはアルキル基またはアルコキシ基を示す。アルキル基としては、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基、イソブチル基、tert−ブチル基、ヘキシル基、シクロヘキシル基、オクチル基等を挙げることができ、メチル基がより好ましい。アルコキシ基としては、メトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基、イソプロポキシ基、ブトキシ基、イソブトキシ基、tert−ブトキシ基等を挙げることができ、メトキシ基がより好ましい。
(a)エポキシ基を有するシロキサン単位は、前記T1ep単位、D1ep単位、M1ep単位のうちの少なくとも1種であればよいが、得られる接着性付与剤(ポリオルガノシロキサン)が揮発しにくいように、少なくともT1ep単位を含有することが好ましい。
<(b)アルケニル基を有する2官能型シロキサン単位>
(b)アルケニル基を有する2官能型シロキサン単位は、式(4):R SiO2/2で表される単位である。なお、式(4)において、Rはアルケニル基、アルキル基およびアリール基から選ばれる1価の炭化水素基を示し、2つのRのうちの少なくとも1つはアルケニル基である。アルケニル基としては、ビニル基、アリル基、ブテニル基、ペンテニル基、ヘキセニル基等を挙げることができ、ビニル基がより好ましい。アルキル基としては、前記式(1)〜(3)のRにおいて例示したものと同じアルキル基を挙げることができる。アリール基としては、フェニル基、トリル基等を挙げることができる。Rのアルケニル基以外の基は、アルキル基であることが好ましく、特にメチル基が好ましい。以下、前記式(4)で表されるアルケニル基を有する2官能型シロキサン単位を、D1vi単位と示す。
<その他のシロキサン単位>
接着性付与剤であるポリオルガノシロキサンは、前記(a)T1ep単位、D1ep単位、M1ep単位から選ばれる少なくとも1種の単位と、前記(b)D1vi単位の他に、式(5):RSiO3/2で表される3官能型シロキサン単位、および/または式(6):R SiO2/2で表される2官能型シロキサン単位をさらに含有することができる。
式(5)および式(6)において、Rはアルキル基またはアリール基を示す。アルキル基およびアリール基としては、前記と同様のものを例示することができる。Rはアルキル基であることが好ましく、特にメチル基が好ましい。以下、前記式(5)で表される3官能型シロキサン単位をT1単位と示し、前記式(6)で表される2官能型シロキサン単位をD1単位と示す。
接着性付与剤であるポリオルガノシロキサンにおいて、各シロキサン単位の構成比、すなわち(a)T1ep単位、D1ep単位、M1ep単位から選ばれる少なくとも1種(以下、T1ep単位等と示す。)と、(b)D1vi単位と、その他の単位(T1単位および/またはD1単位)とのモル比は、特に限定されないが、ポリオルガノシロキサン組成物に接着性を付与する観点から、(a)T1ep単位等の割合を全単位の5〜50モル%とすることが好ましい。また、付加反応型ポリオルガノシロキサン組成物に対する前記反応性の観点から、(b)D1vi単位の割合を全単位の1〜40モル%とすることが好ましい。
<調製方法>
接着性付与剤は、例えば、以下に示す方法で調製することができる。
すなわち、式:RSi(ORで表される3官能性シランと、式:RSi(ORで表される2官能性シランと、式:R Si(OR)で表される1官能性シランとから選ばれる少なくとも1種のエポキシ基を有するシラン化合物と、式:R Si(OR)で表されるアルケニル基を有するシラン化合物、および必要に応じて、式:RSi(ORで表される3官能性シランおよび/または式:R Si(ORで表される2官能性シランを、反応容器に仕込み、液を塩基性にして加温し、部分加水分解し次いで縮合反応させる。
前記式において、Rはエポキシ基を有する1価の有機基、Rはアルキル基、Rはアルケニル基、アルキル基およびアリール基から選ばれる1価の炭化水素基、Rはアルキル基またはアリール基を示す。これらの基としては、前記したものと同様の基を例示することができる。好ましい基も前記と同様である。
次いで、得られた反応混合物からアルコールを留去した後、液を中和する。その後、反応混合物から低分子量成分を除去し、脱溶媒と濃縮を行うことで、接着性付与剤であるポリオルガノシロキサンを得ることができる。
こうして得られるポリオルガノシロキサンのMwは1000〜15000の範囲とする。ポリオルガノシロキサンのMwが1000未満の場合には、この接着性付与剤を配合したポリオルガノシロキサン組成物を硬化させる際の加熱工程で、あるいは硬化後の発熱や温度サイクルの際の加熱等により、揮発しやすく、接着性の低下が生じる。また、Mwが15000を超える場合には、組成物への均一な配合が難しく、接着性を向上させる効果が現出しにくい。
[接着性ポリオルガノシロキサン組成物]
本発明の実施形態の接着性ポリオルガノシロキサン組成物は、(A)アルケニル基を有するポリオルガノシロキサン100質量部と、(B)水素原子を有するポリオルガノハイドロジェンシロキサンを、前記(A)成分中のアルケニル基1個当たり、本成分中の前記水素原子の量が0.1〜4.0個となる量と、(C)白金系触媒を触媒量と、(D)前記した接着性付与剤0.05〜10質量部をそれぞれ含有することを特徴とする。
以下、各成分について説明する。
<(A)成分>
(A)成分であるアルケニル基を有するポリオルガノシロキサンは、接着性ポリオルガノシロキサン組成物のベースポリマーである。1分子中にアルケニル基を2個以上有するポリオルガノシロキサンを使用することが好ましい。
(A)成分の分子構造としては、例えば、直鎖状、環状などが挙げられる。直鎖状、環状などの構造は分岐を有していてもよいが、主鎖が基本的にジオルガノシロキサン単位の繰り返しからなり、分子鎖両末端がトリオルガノシロキシ基で封鎖された直鎖状のものが好ましい。
(A)成分中のケイ素原子に結合したアルケニル基としては、ビニル基、アリル基、ブテニル基、ペンテニル基、ヘキセニル基、ヘプテニル基などの、炭素原子数が2〜8個、より好ましくは2〜4個のものが挙げられる。特にビニル基が好ましい。(A)成分であるアルケニル基を有するポリオルガノシロキサンが直鎖状である場合、アルケニル基は、分子鎖末端と中間のいずれか一方でのみケイ素原子に結合していてもよいが、分子鎖末端と中間の両方でケイ素原子に結合していてもよい。
(A)成分中のアルケニル基以外のケイ素原子に結合する有機基としては、例えばアルキル基、特にメチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、シクロヘキシル基、ヘプチル基等の炭素原子数1〜10のアルキル基;アリール基、特にフェニル基、トリル基、キシリル基、ナフチル基等の炭素原子数6〜14のアリール基;ベンジル基、フェネチル基等のアラルキル基;クロロメチル基、3−クロロプロピル基、3,3,3−トリフルオロプロピル基等のハロゲン化アルキル基のような、非置換またはハロゲン置換の1価の炭化水素基が挙げられる。特に、メチル基あるいはフェニル基が好ましい。
後述するポリオルガノシロキサンAAを除く(A)成分の粘度(25℃)は、100〜100,000mPa・sが好ましく、特に500〜10,000mPa・sの範囲が好ましい。(A)成分の粘度(25℃)がこの範囲内にある場合には、得られる組成物の作業性が良好であるうえに、この組成物から得られる硬化物の物理的特性が良好である。
(A)成分の具体例としては、分子鎖両末端トリメチルシロキシ基封鎖ジメチルシロキサン・メチルビニルシロキサン共重合体、分子鎖両末端トリメチルシロキシ基封鎖メチルビニルポリシロキサン、分子鎖両末端トリメチルシロキシ基封鎖ジメチルシロキサン・メチルビニルシロキサン・メチルフェニルシロキサン共重合体、分子鎖両末端ジメチルビニルシロキシ基封鎖ジメチルポリシロキサン、分子鎖両末端ジメチルビニルシロキシ基封鎖メチルビニルポリシロキサン、分子鎖両末端ジメチルビニルシロキシ基封鎖ジメチルシロキサン・メチルビニルシロキサン共重合体、分子鎖両末端ジメチルビニルシロキシ基封鎖ジメチルシロキサン・メチルビニルシロキサン・メチルフェニルシロキサン共重合体、分子鎖両末端トリビニルシロキシ基封鎖ジメチルポリシロキサンが挙げられる。
また、以下に示すシロキサン単位を有する共重合体を例示することもできる。
すなわち、
式:R SiO1/2(Rはアルケニル基以外の非置換または置換の1価の炭化水素基である。以下同じ。)で表されるシロキサン単位と、式:R SiO1/2(Rはアルケニル基である。以下同じ。)で表されるシロキサン単位と、式:R SiO2/2で表されるシロキサン単位と、式:SiO4/2で表されるシロキサン単位とからなる共重合体、
式:R SiO1/2で表されるシロキサン単位と、式:R SiO1/2で表されるシロキサン単位と、式:SiO4/2で表されるシロキサン単位とからなる共重合体、
式:R SiO1/2で表されるシロキサン単位と、式:R SiO2/2で表されるシロキサン単位と、式:SiO4/2で表されるシロキサン単位とからなる共重合体、
式:RSiO2/2で表されるシロキサン単位と、式:RSiO3/2で表されるシロキサン単位または式:RSiO3/2で表されるシロキサン単位とからなる共重合体等が挙げられる。
上記式中のRとしては、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、ヘプチル基等のアルキル基;フェニル基、トリル基、キシリル基、ナフチル基等のアリール基;ベンジル基、フェネチル基等のアラルキル基;クロロメチル基、3−クロロプロピル基、3,3,3−トリフルオロプロピル基等のハロゲン化アルキル基が挙げられる。また、上記式中のRとしては、例えばビニル基、アリル基、ブテニル基、ペンテニル基、ヘキセニル基、へプテニル基が挙げられる。
これらの重合体または共重合体は、1種を単独であるいは2種以上を組み合わせて使用することができる。
さらに、(A)成分として、アリール基を有する3官能型シロキサン単位を含むアルケニル基含有ポリオルガノシロキサン(以下、ポリオルガノシロキサンAAという。)を用いることもできる。このポリオルガノシロキサンにおいて、1分子中のアルケニル基の数は、特に限定されないが、2個以上が好ましい。以下、ポリオルガノシロキサンAAについて説明する。
<ポリオルガノシロキサンAA>
ポリオルガノシロキサンAAにおいて、ケイ素原子に結合したアルケニル基としては、ビニル基、アリル基、ブテニル基、ペンテニル基、ヘキセニル基、ヘプテニル基のような炭素原子数が2〜8個、より好ましくは2〜4個のものが挙げられる。特にビニル基が好ましい。このようなアルケニル基は、分子鎖末端と中間のいずれか一方のケイ素原子に結合していてもよいし、分子鎖末端と中間の両方のケイ素原子に結合していてもよい。
3官能型シロキサン単位に含有されるアリール基としては、フェニル基、トリル基、キシリル基、ナフチル基のような炭素原子数が6〜14個のものが挙げられる。特にフェニル基が好ましい。
ポリオルガノシロキサンAAは、前記アルケニル基およびアリール基以外に、ケイ素原子に結合する有機基を有する。アルケニル基およびアリール基以外の有機基としては、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、シクロヘキシル基、ヘプチル基のような、炭素原子数1〜10のアルキル基;クロロメチル基、3−クロロプロピル基、3,3,3−トリフルオロプロピル基のようなハロゲン化アルキル基が挙げられる。メチル基が好ましい。
ポリオルガノシロキサンAAにおいて、全構成単位に対してアリール基を有する3官能型シロキサン単位が占める割合は特に限定されないが、硬化前の組成物の取り扱い作業性および硬化物の機械的強度の観点から、20〜60モル%の割合が好ましく、30〜55モル%の割合がより好ましい。特に、ポリオルガノシロキサンAAとして、式:CSiO3/2で表される3官能型シロキサン単位(以下、TPh単位と示す。)を20〜60モル%の割合で含むポリオルガノシロキサンを有することが好ましい。全構成単位に対するTPh単位の含有割合は、30〜55モル%がより好ましい。
また、ポリオルガノシロキサンAAは、アリール基を有する3官能型シロキサン単位以外に、2官能型シロキサン単位を含有することが好ましい。また、2官能型シロキサン単位の一部は、前記アルケニル基(例えば、ビニル基)を含有することが好ましい。
そして、ポリオルガノシロキサンAAとして、式:CH(CH=CH)SiO2/2で表される2官能型シロキサン単位(以下、DVi単位と示す。)を、全構成単位に対して10モル%以下の割合で含有するポリオルガノシロキサンと、DVi単位を10モル%を超えた割合で含有するポリオルガノシロキサンの、少なくとも2種のポリオルガノシロキサンを使用することが好ましい。ポリオルガノシロキサンAAがこのような2種のポリオルガノシロキサンを有することで、硬化物の硬度や弾性率の調整が容易になるなどの効果がある。
ポリオルガノシロキサンAAの粘度(25℃)は、50,000〜6,000,000mPa・sが好ましく、200,000〜3,000,000mPa・sがより好ましい。ポリオルガノシロキサンAAの粘度(25℃)がこの範囲内にある場合には、得られる組成物の作業性が良好であるうえに、この組成物から得られる硬化物の物理的特性が良好である。
<(B)成分>
(B)成分であるポリオルガノハイドロジェンシロキサンは、前記(A)成分と反応し架橋成分として作用する。(B)成分の分子構造に特に限定はなく、例えば直鎖状、環状、分岐状、三次元網目状(樹脂状)などの各種のポリオルガノハイドロジェンシロキサンを使用することができる。
(A)成分としてポリオルガノシロキサンAAを使用する場合は、(B)成分のポリオルガノハイドロジェンシロキサンは、1分子中に2個以上好ましくは3個以上の、ケイ素原子に結合した水素原子すなわちヒドロシリル基(Si−H基)を有することが好ましい。(B)成分であるポリオルガノハイドロジェンシロキサンが直鎖状である場合、これらのSi−H基は分子鎖末端および中間部のいずれか一方のみに位置していても、その両方に位置していてもよい。硬化前の組成物の粘度を低くし、かつ硬化物の硬さを適度に調整できる点で、Si−H基を分子鎖の両末端に有するポリオルガノハイドロジェンシロキサンの使用が好ましい。また、(B)成分の1分子中のケイ素原子の数(重合度)は、2〜1,000が好ましく、より好ましくは3〜100である。
(A)成分としてポリオルガノシロキサンAAを使用する場合、(B)成分であるポリオルガノハイドロジェンシロキサンの1分子中の水素原子数は、1個以上が好ましく、より好ましくは2個以上である。そして、(B)成分の1分子中のケイ素原子の数(重合度)は、2〜30が好ましく、より好ましくは3〜15である。
(A)成分としてポリオルガノシロキサンAAを使用する場合も、それ以外のアルケニル基含有ポリオルガノシロキサンを使用する場合も、(B)成分としては、平均組成式:R SiO(4−p−q)/2(式中、Rは、アルケニル基を除く、炭素原子数が1〜14より好ましくは1〜10の非置換または置換の1価の炭化水素基である。pおよびqは、0.7≦p≦2.1、0.001≦q≦1.0であり、かつ0.8≦p+q≦3.0より好ましくは1.0≦p+q≦2.5を満足する正数である。)で示されるポリオルガノハイドロジェンシロキサンを用いることが好ましい。
上記Rとしては、例えばメチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基、イソブチル基、t−ブチル基、ペンチル基、ネオペンチル基、ヘキシル基、シクロヘキシル基、オクチル基、ノニル基、デシル基等のアルキル基;フェニル基、トリル基、キシリル基、ナフチル基等のアリール基;ベンジル基、フエニルエチル基、フェニルプロピル基等のアラルキル基;これらの炭化水素基中の水素原子の一部または全部をハロゲン原子で置換した基、例えばクロロメチル基、3−クロロプロピル基、ブロモエチル基、3,3,3−トリフルオロプロピル基等が挙げられる。Rは、アルキル基またはアリール基であることが好ましく、より好ましくはメチル基またはフェニル基である。
(B)成分の具体例としては、分子鎖両末端トリメチルシロキシ基封鎖メチルハイドロジェンポリシロキサン、分子鎖両末端トリメチルシロキシ基封鎖ジメチルシロキサン・メチルハイドロジェンシロキサン共重合体、分子鎖両末端トリメチルシロキシ基封鎖ジメチルシロキサン・メチルハイドロジェンシロキサン・メチルフェニルシロキサン共重合体、分子鎖両末端ジメチルハイドロジェンシロキシ基封鎖ジメチルポリシロキサン、分子鎖両末端ジメチルハイドロジェンシロキシ基封鎖ジメチルシロキサン・メチルハイドロジェンシロキサン共重合体、分子鎖両末端ジメチルハイドロジェンシロキシ基封鎖ジメチルシロキサン・メチルフェニルシロキサン共重合体、分子鎖両末端ジメチルハイドロジェンシロキシ基封鎖メチルフェニルポリシロキサン、分子鎖両末端ジメチルハイドロジェンシロキシ基封鎖ジフェニルポリシロキサン等が挙げられる。
また、(B)成分として、以下に示すシロキサン単位を有する共重合体を例示することもできる。
すなわち、
式:R SiO1/2(Rは前記の通り。)で表されるシロキサン単位と、式:R HSiO1/2で表されるシロキサン単位と、式:SiO4/2で表されるシロキサン単位とからなる共重合体、
式:R HSiO1/2で表されるシロキサン単位と、式:SiO4/2で表されるシロキサン単位とからなる共重合体、
式:RHSiO2/2で表されるシロキサン単位と、式:RSiO3/2で表されるシロキサン単位または式:HSiO3/2で表されるシロキサン単位とからなる共重合体等が挙げられる。
これらの重合体または共重合体は、1種を単独であるいは2種以上を組み合わせて使用することができる。
特に、(A)成分としてポリオルガノシロキサンAAを使用する場合は、(A)成分との相溶性の観点から、(B)成分として、TPh単位またはDPh2単位を有するポリオルガノハイドロジェンシロキサンを含むことが好ましい。なお、DPh2単位は、式:(CSiO2/2で表される2官能型シロキサン単位である。
(B)成分であるポリオルガノハイドロジェンシロキサンの配合量は、上記(A)成分の硬化有効量であり、(A)成分としてポリオルガノシロキサンAA以外のアルケニル基含有ポリオルガノシロキサンを使用する場合は、(B)成分の有するSi−H基が(A)成分中のアルケニル基(例えばビニル基)の1個当たり0.1〜4.0個、より好ましくは1.0〜3.0個となるように配合される。0.1個未満では硬化反応が進行せず、硬化物を得ることが困難になるおそれがあり、4.0個を超えると、未反応のSi−H基が硬化物中に多量に残存するため、硬化物の物性が経時的に変化するおそれがある。
また、(A)成分としてポリオルガノシロキサンAAを使用する場合、(B)成分の配合量は、(B)成分の有するSi−H基が(A)成分中のアルケニル基(例えば、ビニル基)の1個当たり0.5〜2.5個、より好ましくは0.7〜2.0個となる量である。0.5個未満では硬化反応が進行せず、硬化物を得ることが困難になるおそれがあり、2.5個を超えると、未反応のSi−H基が硬化物中に多量に残存するため、硬化物の物性が経時的に変化するおそれがある。
<(C)成分>
(C)成分である白金系触媒は、(A)成分中のアルケニル基と(B)成分中のSi−H基との付加反応(ヒドロシリル化反応)を促進する触媒である。(C)成分としては、例えば、塩化白金酸、塩化白金酸のアルコール溶液、オレフィン類やビニル基含有シロキサンまたはアセチレン化合物を配位子として有する白金錯体等を使用することができる。
(C)成分の配合量は、ヒドロシリル化反応の触媒として有効な量であれば特に限定されないが、(A)成分と(B)成分の合計量に対して、白金元素に換算して0.1〜1,000ppm、より好ましくは1〜500ppm、さらに好ましくは1〜20ppmとする。配合量がこの範囲にある場合には、付加反応が促進されるため、十分な硬化が得られ、かつ経済的に有利である。
<(D)成分>
(D)成分は、本発明の実施形態のポリオルガノシロキサン組成物に接着性を付与する成分である。(D)成分としては、前記した接着性付与剤、すなわち(a)T1ep単位、D1ep単位、M1ep単位から選ばれる少なくとも1種のシロキサン単位と、(b)D1vi単位とを含有し、Mwが1000〜15000のポリオルガノシロキサンが使用される。
(D)成分の配合量は、前記(A)成分100質量部に対して0.05〜10質量部とする。(D)成分の配合量が多すぎても接着性の向上に寄与しないおそれがある。(D)成分のより好ましい配合量は、0.1〜5質量部である。
本発明の実施形態の組成物には、上述した(A)成分、(B)成分、(C)成分、(D)成分以外に、必要に応じて公知の添加剤を配合することができる。例えば、ヒュームドシリカなどの補強性充填剤、炭酸カルシウム、ケイ酸カルシウム、二酸化チタン、酸化第二鉄、カーボンブラック、酸化亜鉛、波長調整剤などの非補強性充填剤を、本発明の目的を損なわない範囲で適宜配合することができる。LED装置の封止材として用いる場合、ヒュームドシリカ、波長調整剤などの配合が好ましい。
また、(A)成分としてポリオルガノシロキサンAAを使用する場合、(E)アルコキシ基を有するイソシアヌレート化合物を配合することができる。(E)アルコキシ基を有するイソシアヌレート化合物としては、例えば、[化1]〜[化4]で表されるような、1個以上のアルコキシシリル基を有するイソシアヌル酸誘導体を例示することができる。これらのイソシアヌル酸誘導体は、1種を単独で使用しても、あるいは2種以上を混合して使用してもよい。
Figure 2015172177
Figure 2015172177
Figure 2015172177
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これらのイソシアヌル酸誘導体は、1,3,5−トリアリルイソシアヌレートとアルキルジアルコキシシランとを白金触媒の存在下にヒドロシリル化反応させることで製造することができる。
(E)成分の配合量は、(A)成分100質量部に対して0.05〜5質量部が好ましく、0.1〜3質量部がより好ましい。(E)成分を配合することで、硬化物のPPA等との接着性をさらに向上させることができる。
実施形態の接着性ポリオルガノシロキサン組成物は、上述した各成分を均一に混合することによって調製されるが、反応抑制剤の添加により任意に硬化性を調整することができる。硬化反応の抑制剤としては、3−メチル−1−ブチン−3−オール、2−フェニル−3−ブチン−2−オールのようなアセチレンアルコール、およびマレイン酸ジアリルのようなマレイン酸誘導体が挙げられる。このような反応抑制剤を使用することで、1液として用いることができる。
また、硬化が進行しないように2液に分けて保存し、使用時に2液を混合して硬化を行うこともできる。2液混合タイプでは、脱水素反応の危険性の点から、(B)成分であるポリオルガノハイドロジェンシロキサンと(C)成分である白金系触媒を同一の包袋とすることは避ける必要がある。
こうして得られた実施形態の接着性ポリオルガノシロキサン組成物の粘度は、25℃において回転粘度計で測定した値として、100〜50,000mPa・sの範囲が好ましく、特に300〜10,000mPa・sの範囲が好ましい。
実施形態の組成物は、必要に応じて加熱することにより硬化する。なお、硬化条件は特に制限されるものではないが、通常40〜200℃、好ましくは60〜170℃で1分〜10時間、好ましくは30分〜6時間程度で硬化する。
硬化物は十分なゴム硬度を有し、Ag、Au等の貴金属やPPA等の耐熱プラスチックに対して良好な接着性を有する。また、その接着性は発光素子からの発熱や温度サイクルの際の加熱等により低下することがない。したがって、例えば、LED装置における発光素子の封止材料や機能性レンズの材料として好適している。このようなポリオルガノシロキサン組成物の硬化物により封止層が形成されたLED装置は、封止層とPPA等の基材との接着性が良好で界面での剥離が生じにくいので、信頼性に優れている。
以下、実施例を挙げて本発明を具体的に説明するが、本発明はこれらの実施例に限定されない。
以下の記載において、M単位、Mvi単位、M単位、D単位、DVi単位、D単位、DPh2単位、T単位、TPh単位およびQ単位は、それぞれ以下の式で表されるシロキサン単位を表す。また、メチル基をMe、フェニル基をPhは、ビニル基をViと示すこともある。
M単位…………(CHSiO1/2
vi単位…………(CH(CH=CH)SiO1/2
単位…………(CHHSiO1/2
D単位…………(CHSiO2/2
Vi単位…………(CH)(CH=CH)SiO2/2
単位…………(CH)HSiO2/2
Ph2単位…………(CSiO2/2
T単位…………CHSiO3/2
Ph単位…………CSiO3/2
Q単位…………SiO4/2
また、粘度は、特に断らない限り25℃における値である。
[接着性付与剤の調製]
まず、以下に示すようにして、接着性付与剤(D1)〜(D6)をそれぞれ調製した。
(合成例1)
2リットルの反応容器に、γ−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン185.9g(0.788モル)と、ジメチルジメトキシシラン347.1g(2.888モル)と、メチルトリメトキシシラン178.5g(1.313モル)と、メチルビニルジメトキシシラン34.7g(0.263モル)、およびトルエン105gを仕込んだ後、6Nの水酸化ナトリウム(NaOH)水溶液1.02gとイオン交換水(この段階で加えるイオン交換水を、イオン交換水(1)と示す。)53gを投入して撹拌を行った。
液温が30℃になるまで反応容器内の混合物を加温したところ、出発物質として仕込んだ前記4種類のシラン化合物(γ−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、ジメチルジメトキシシラン、メチルトリメトキシシランおよびメチルビニルジメトキシシラン)のメトキシ基の部分加水分解反応が開始し、発熱が始まった。加温を停止しても発熱が続き、反応混合物は透明になるとともに50℃まで昇温した。撹拌を継続して温度が低下し始めたところで、イオン交換水(この段階で加えるイオン交換水を、イオン交換水(2)と示す。)60gを加え、さらに前記部分加水分解反応を継続させた。イオン交換水(2)の添加後、反応混合物は直ぐに透明均一になるとともに発熱が始まり、60℃まで昇温した。その後、オイルバスを用いて反応容器内を還流温度(66℃)に加熱した。そして、加熱還流状態を1時間継続した後、室温に冷却した。
次いで、得られた反応混合物にトルエン500gを加え、再び還流温度まで加熱して反応生成物であるメタノールをトルエンとともに留去した。メタノールの留去が完了してトルエンの沸点温度での還流状態になったら、冷却して室温に戻した。
こうして得られた反応混合物に氷酢酸0.72gを加えて1時間撹拌し、先に加えた水酸化ナトリウムを中和した。その後、再びオイルバスを用いて還流温度に加熱しながら、反応容器内に窒素を流し、80℃/25mmHgの減圧下で脱溶媒を行い、留去物が出なくなるまで濃縮を行った。次いで、反応容器内の液を冷却した後、セライト(米国World Minerals Inc.社製、商品名)を用いてろ過を行い、接着性付与剤(D1)を得た。
(合成例2〜3)
合成例1と同量の、γ−グリシドキシプロピルトリメトキシシランとジメチルジメトキシシランとメチルトリメトキシシランとメチルビニルジメトキシシランおよびトルエンをそれぞれ反応容器に仕込んだ。そして、表1に示す質量のイオン交換水(1)およびイオン交換水(2)を加えて部分加水分解および縮合反応の程度を変えた以外は合成例1と同様の操作を行い、接着性付与剤(D2)〜(D3)をそれぞれ得た。
(合成例4)
γ−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン212.5g(0.900モル)と、ジメチルジメトキシシラン577.0g(4.800モル)と、メチルビニルジメトキシシラン39.7g(0.300モル)およびトルエン105gをそれぞれ反応容器に仕込み、合成例1と同様の操作を行い、接着性付与剤(D4)を得た。なお、この合成例4においても、合成例2〜3と同様に、表1に示す質量のイオン交換水(1)およびイオン交換水(2)を加えることで、部分加水分解および縮合反応の程度を合成例1とは変えた。
(合成例5)
合成例1と同量の、γ−グリシドキシプロピルトリメトキシシランとジメチルジメトキシシランとメチルトリメトキシシランとメチルビニルジメトキシシランおよびトルエンをそれぞれ反応容器に仕込んだ。そして、表1に示す質量のイオン交換水(1)およびイオン交換水(2)を加えて部分加水分解および縮合反応の程度を変えた以外は合成例1と同様の操作を行い、接着性付与剤(D5)を得た。
(合成例6)
2リットルの反応容器に、γ−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン124.0g(0.525モル)と、メチルトリメトキシシラン119.0g(0.875モル)と、ジフェニルジメトキシシラン256.6g(1.050モル)と、ジメチルジメトキシシラン105.2g(0.875モル)と、メチルビニルジメトキシシラン23.1g(0.175モル)、およびトルエン105gをそれぞれ仕込んだ。そして、合成例1と同様の操作を行い、接着性付与剤(D6)を得た。
次に、合成例1〜6でそれぞれ得られた接着性付与剤(D1)〜(D6)の共重合組成比を、重クロロホルムを溶媒とし、H−NMR(BURKER社製、装置名;ARX−400)を用いて測定した。
測定の結果、接着性付与剤(D1)〜(D3)ならびに(D5)は、
式:RSiO3/2
(式中、Rは、以下の化学式で表されるγ−グリシドキシプロピル基である。)
Figure 2015172177
で表される3官能型シロキサン単位(以下、Tep単位と示す。)と、T単位と、D単位と、Dvi単位、およびメトキシ基(以下、OMeと示す。)をそれぞれ有し、各単位およびメトキシ基のモル存在比(t1:t2:d1:d2:e)は、それぞれ表1に示す通りであることがわかった。
また、接着性付与剤(D4)は、前記T単位を含有せず、Tep単位とD単位とDvi単位、およびメトキシ基(OMe)を有しており、各単位およびメトキシ基のモル存在比(t1:d1:d2:e)におけるt1、d1、d2およびeは、それぞれ表1に示す通りであった。
さらに、接着性付与剤(D6)は、Tep単位と、T単位と、D単位と、Dvi単位と、DPh単位、およびメトキシ基(OMe)をそれぞれ有し、各単位およびメトキシ基のモル存在比(t1:t2:d1:d2:d3:e)は、表1に示す通り、15:25:25:5:30:15であった。
またさらに、得られた接着性付与剤(D1)〜(D6)の重量平均分子量(Mw)、数平均分子量(Mn)、分散度(Mw/Mn)、不揮発分(質量%)、粘度(mPa・s)、エポキシ当量(g/eq)、エポキシ基含有量(mmol/g)、収量および収率をそれぞれ測定した。これらの測定値を、出発物質の使用量とともに表1に示す。
MwおよびMnは、THF(テトラヒドロフラン)を溶媒とするゲル浸透クロマトグラフィー(GPC)装置(東ソー株式会社製、装置名;HLC−8220 GPC)を用いて測定し、ポリスチレン換算した値である。分散度は、分子量分布を表す数値であり、重量平均分子量(Mw)/数平均分子量(Mn)で求められる。分散度が1に近づくほど、分子量分布が狭いことを意味する。また、不揮発分(質量%)は、150℃×1時間の加熱条件で測定した値であり、粘度は25℃における測定値である。さらに、収率は以下の計算式により算出した。
収率(%)=収量(g)/理論加水分解物質量(g)×100
ただし、理論加水分解物質量(g)は、出発物質である各シランの加水分解物質量(モル数×加水分解物分子量)を合計したものである。
Figure 2015172177
実施例1
(A1)分子鎖両末端がジメチルビニルシロキシ基で封鎖された直鎖状のジメチルポリシロキサン(粘度3000mPa・s)70.54質量部(以下、単に部と示す。)と、
(A2)分子鎖両末端がジメチルビニルシロキシ基で封鎖された直鎖状のジメチルポリシロキサン(粘度3000mPa・s)と、平均単位式:Mviで表される分岐状のメチルポリシロキサン(Mn=2760、Mw/Mn=1.27)との6:4(不揮発分)混合物22.95部と、
(B1)単位式:M で表される、分子鎖両末端および中間部にケイ素に結合した水素原子を有するメチルハイドロジェンポリシロキサン5.00部((A)成分中のビニル基に対する(B)成分中のSiH基のモル(当量)比(H/Vi)=1.65)、(C)テトラメチルテトラビニルシクロテトラシロキサンを配位子として有する白金錯体溶液(Pt分1.8質量%)0.015部、反応抑制剤である2−フェニル−3−ブチン−2−オールの、分子鎖両末端がジメチルビニルシロキシ基で封鎖された直鎖状のジメチルポリシロキサン(粘度3000mPa・s)溶液(1質量%)1.5部、および合成例1で得られた接着性付与剤(D1)3.03部をそれぞれ混合し、ポリオルガノシロキサン組成物を調製した。
実施例2〜6、比較例1〜2
実施例1で使用した(A1)と(A2)、(A3)分子鎖両末端がジメチルビニルシロキシ基で封鎖された直鎖状のジメチルポリシロキサン(粘度10、000mPa・s)、(A4)分子鎖両末端がジメチルビニルシロキシ基で封鎖された直鎖状のジメチルポリシロキサン(粘度10、000mPa・s)と、平均単位式:Mviで表される分岐状のメチルポリシロキサン(Mn=2760、Mw/Mn=1.27)との4:6(不揮発分)混合物、実施例1で使用した(B1)、(B2)単位式:MD 1228Mで表される、分子鎖中間部にケイ素に結合した水素原子を有するメチルハイドロジェンポリシロキサン、実施例1と同じ(C)テトラメチルテトラビニルシクロテトラシロキサンを配位子として有する白金錯体溶液(Pt分1.8質量%)、および反応抑制剤を、表2に示す割合でそれぞれ配合した。さらに、接着性付与剤として、合成例2〜5で得られた接着性付与剤(D-2)〜(D-5)またはγ−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン(エポキシ基含有量4.51mmol/g)を、表2に示す割合でそれぞれ配合し、ポリオルガノシロキサン組成物を調製した。
こうして実施例1〜6および比較例1〜2で得られたポリオルガノシロキサン組成物の粘度を、25℃で回転粘度計を用いて測定した。また、以下に示すようにして、得られたポリオルガノシロキサン組成物の熱重量分析(TGA)を行った。さらに、ポリオルガノシロキサン組成物に対してパッケージ試験(1)を行い、昇温下での接着性を調べた。結果を表2下欄に示す。
[TGA測定]
ポリオルガノシロキサン組成物の試料を150℃で1時間放置し、重量減少率をTGA装置(セイコーインスツルメンツ社製、装置名;TG/DTA6200)により測定した。
[パッケージ試験(1)]
ポリオルガノシロキサン組成物の試料を、5050型LEDパッケージ(佐用精機株式会社製)のPPA製リフレクター内に充填した後、80℃で1時間加熱した後150℃で5時間加熱して硬化させた。次いで、85℃、85%RHの雰囲気で168時間エージングを行った後、図1に示すプロファイルで加熱して昇温させた。すなわち、40℃から4.7℃/秒の速度で約30秒間昇温させ、180℃で1分間保持した後、さらに4.5℃/秒の速度で20秒間昇温させ、270℃で10秒間保持した。そして、PPA製リフレクターから組成物が剥離する温度を求めた。
Figure 2015172177
表1および表2から、以下のことがわかる。
すなわち、(a)エポキシ基を有するシロキサン単位であるTep単位と、(b)アルケニル基を有する2官能型シロキサン単位であるDvi単位をそれぞれ含有し、1000〜15000の範囲のMwを有する接着性付与剤(D1)〜(D4)を、付加反応型ポリオルガノシロキサン組成物に配合して得られた実施例1〜6のポリオルガノシロキサン組成物は、接着性付与剤としてγ−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、またはMwが1000以下の接着性付与剤(D-5)が配合された比較例1〜2のポリオルガノシロキサン組成物に比べて、TGAによる重量減少率が大幅に少なくなっており、加熱による接着性付与剤の揮発がほとんど生じていないことがわかる。
そして、比較例1〜2のポリオルガノシロキサン組成物からなる封止層が、硬化後の昇温工程でPPAからなる基材(リフレクター)との界面で剥離を生じているのに対して、実施例1〜6のポリオルガノシロキサン組成物からなる封止層では剥離が見られず、PPAに対する良好な接着性を維持していることがわかる。
次に、アリール基を有する3官能型シロキサン単位を含むアルケニル基含有ポリオルガノシロキサンをベースポリマーとする別の実施例について記載する。
[中間生成物AA(メトキシ基を有するシリコーンレジン)の合成]
(Aa1)ジメチルジクロロシラン129g(1モル)、(Aa2)ジフェニルジクロロシラン253g(1モル)、(Aa3)フェニルトリクロロシラン212g(1モル)の混合物に、水38gとメタノール237gからなるメタノール水溶液を滴下し、共加水分解を行った。滴下終了後、60〜70℃の還流温度で30分間加熱し、共加水分解反応を完了させた。その後、反応混合物を冷却し、メタノール254gを加えて15分間撹拌した後、30分間静置して分液を行った。塩酸とメタノールの混合溶液が上層に、反応生成物が下層に分離した。
次いで、下層の反応生成物にメタノール254gを加えて加熱蒸留して、反応生成物中の塩酸分をメタノールと共に留去した。こうして、平均単位式:(MeSiO2/230(MeSiO1/2OMe)(PhSiO2/230(PhSiO1/2OMe)(PhSiO3/227{PhSiO1/2(OMe)(PhSiO2/2OMe)で表されるメトキシ基を有するシリコーンレジンAAを得た。
シリコーンレジンAAを表す平均単位式において、(aa1)単位:(MeSiO2/230(MeSiO1/2OMe)は、出発物質(Aa1)から生成し、(aa2)単位:(PhSiO2/230(PhSiO1/2OMe)は、出発物質(Aa2)から生成し、(aa3)単位:(PhSiO3/227{PhSiO1/2(OMe)(PhSiO2/2OMe)は、出発物質(Aa3)から生成したものである。各単位のモル比は、(aa1):(aa2):(aa3)=34:33:33≒1:1:1となっている。
[中間生成物BB(メトキシ基を有するシリコーンレジン)の合成]
(Aa1)ジメチルジクロロシラン129g(1モル)、(Aa2)ジフェニルジクロロシラン253g(1モル)、(Aa3)フェニルトリクロロシラン635g(3モル)の混合物に、水53gとメタノール330gからなるメタノール水溶液を滴下し、共加水分解を行った。滴下終了後、60〜70℃の還流温度で30分間加熱し、共加水分解反応を完了させた。その後、反応混合物を冷却し、メタノール254gを加えて15分間撹拌した後、30分間静置して分液を行った。塩酸とメタノールの混合溶液が上層に、反応生成物が下層に分離した。
次いで、下層の反応生成物にメタノール435gを加えて加熱蒸留して、反応生成物中の塩酸分をメタノールと共に留去した。こうして、平均単位式:(MeSiO2/217(MeSiO1/2OMe)(PhSiO2/216(PhSiO1/2OMe)(PhSiO3/254{PhSiO1/2(OMe)(PhSiO2/2OMe)で表されるメトキシ基を有するシリコーンレジンBBを得た。
シリコーンレジンBBを表す平均単位式において、(aa1)単位:(MeSiO2/217(MeSiO1/2OMe)は、出発物質(Aa1)から生成し、(aa2)単位:(PhSiO2/216(PhSiO1/2OMe)は、出発物質(Aa2)から生成し、(aa3)単位:(PhSiO3/254{PhSiO1/2(OMe)(PhSiO2/2OMe)は、出発物質(Aa3)から生成したものである。各単位のモル比は、(aa1):(aa2):(aa3)=20:20:60=1:1:3となっている。
[中間生成物CC(末端および側鎖にビニル基を有するポリメチルシロキサン)の合成]
5リットルの反応容器に、オクタメチルシクロテトラシロキサン339.0g(1.14モル)と、ジビニルテトラメチルジシロキサン1.6g(0.0086モル)、およびテトラメチルテトラビニルシクロテトラシロキサン57.7g(0.17モル)を仕込み、総質量(400g)の50ppmに相当する水酸化カリウム0.02gを添加して撹拌した。そして、撹拌しながら130℃に加熱し、6時間開環重合を行った。
開環重合が終了した後十分に冷却してから、トリメチルシリルクロライド1gを加えて十分に撹拌し、水酸化カリウムを失活させた。こうして中間生成物CCを得た。次いで、キシレンを加え、中間生成物CCの樹脂分濃度を60%以下に希釈した後、希釈液に、水20gにNaCl5gを溶かした溶液(以下、水/NaCl溶液と示す。)を加えて加熱し、脱酸を行った。中間生成物CCのキシレン溶液と水/NaCl溶液との混合溶液が60℃以上になったら、撹拌を停止して分液した。上層の中間生成物CCのキシレン溶液を分取した後、分取された溶液に水/メタノール/NaClの20g/20g/5g溶液を添加して加熱し洗浄を行った。この操作では、中間生成物CCのキシレン溶液に含まれるD単位の数が20以下の揮発性低分子シロキサンが、抽出されて除去された。
中間生成物CCのキシレン溶液と水/メタノール/NaCl溶液との混合溶液が60℃以上になったら、撹拌を停止し分液を行い、上層の中間生成物CCのキシレン溶液を分取した。分取された中間生成物CCのキシレン溶液には、少量のメタノールと水がD単位数が20以下の揮発性低分子シロキサンとともに含まれているので、さらに水/NaClの20g/5g溶液を加えて、加熱洗浄を行った。そして、混合溶液が60℃以上になったら、撹拌を停止して分液を行った。上層の中間生成物CCのキシレン溶液を分取した後、分取された溶液を加熱還流して脱水を行った。次いで、冷却した後、ろ過し、減圧加熱により脱溶媒を行った。こうして、中間生成物CCである、末端および側鎖にビニル基を有するポリメチルシロキサンを得た。
こうして得られた中間生成物CCにおいて、仕込み量から算出した各単位のモル数は、D単位が4.58((339.0/296)×4)、Mvi単位が0.017((1.6/186)×2)、DVi単位が0.671((57.7/344)×4)であり、モル比は、D単位:Mvi単位:DVi単位=539:2:79となる。
したがって、得られた中間生成物CCは、平均単位式:Mvi539Vi 79viで表される、末端および側鎖にビニル基を有するポリメチルシロキサンであることがわかる。
合成例7[シリコーンレジンA-1の合成]
(第1の工程)
中間生成物AA(メトキシ基を有するシリコーンレジン)200gにキシレン200gを加えて希釈し、これに50質量%(50%と示す。以下同様である。)の水酸化セシウム水溶液0.6gと水50gを加え、加熱して加水分解を行った。赤外吸収スペクトル測定において、波数2830cm−1のメトキシ基に由来する特性吸収が消失するまで反応を継続した。
こうして、平均単位式:(MeSiO2/234(PhSiO2/233(PhSiO3/233で示される、メトキシ基を有しないシリコーンレジン重合物の水酸化セリウム含有キシレン溶液を得た。
(第2の工程)
第1の工程で得られた反応生成物の樹脂分85gに、中間生成物CCである両末端および側鎖にビニル基を有するポリメチルシロキサン(Vi量1.73mmol/g)10gと環状ポリメチルビニルシロキサン(MeViSiO2/2(Vi量11.6mmol/g)5gを加え、キシレン還流温度で5時間反応させてグラフト重合と平衡化を行った。冷却後、トリメチルクロロシラン0.3gを加えて中和した後、キシレン溶液を水で洗浄し分液操作により水層を除く操作(水洗操作)を行った。水洗操作を繰り返し、水層が中性になった後、キシレン層に残存する水をキシレンと共沸することにより除いた。こうして脱水の完了したキシレン層をろ過した後、キシレンを減圧留去することにより、シリコーンレジンA-1を得た。
このシリコーンレジンA-1は、仕込み量ベースに換算して、平均単位式:(MeSiO2/234(PhSiO2/233(PhSiO3/233で表されるオルガノシロキサンGと、式:Mvi539Vi 79viで表される両末端および側鎖にビニル基を有するポリメチルシロキサンHと、式:(MeViSiO2/2で表されるオルガノシロキサンIとを、G:H:I=85:10:5の質量比(%)で反応させて得られたものである。
第2の工程では、両末端および側鎖にビニル基を有するポリメチルシロキサンと環状メチルビニルシロキサンが割裂し、第1の工程で得られた反応生成物にグラフト重合することで、シリコーンレジンA-1が得られている。
得られたシリコーンレジンA-1の共重合組成比を、重クロロホルムを溶媒とし、H−NMR(BRUKER社製、装置名;ARX−400)を用いて測定した。測定の結果、シリコーンレジンA-1は、平均組成式:TPh 25.42Ph2 25.4240.07Vi 9.04Vi 0.05で表されることがわかった。
得られたシリコーンレジンA-1の粘度は140Pa・s、150℃で1時間加熱することにより測定した不揮発分は99.1質量%(以下、単に%と示す。加熱減量率1.0%を意味する。)、Mwは2240、分散度(Mw/Mn)は2.018であった。なお、このシリコーンレジンA-1の1分子中のビニル基の数は、Mwの値から平均1.7個となる。
合成例8[シリコーンレジンA-2の合成]
(第1の工程)
中間生成物AA(メトキシ基を有するシリコーンレジン)300gにキシレン300gを加えて希釈し、これに50%水酸化セシウム水溶液0.7gと水200gを加え、加熱して加水分解を行った。赤外吸収スペクトル測定において、波数2830cm−1のメトキシ基に由来する特性吸収が消失するまで反応を継続した。
(第2の工程)
第1の工程で得られた反応生成物の樹脂分85gに、中間生成物CCである両末端および側鎖にビニル基を有するポリメチルシロキサン(Vi量1.73mmol/g)5gと環状ポリメチルビニルシロキサン(MeViSiO2/2(Vi量11.6mmol/g)10gを加え、キシレン還流温度で5時間反応させてグラフト重合と平衡化を行った。冷却後、トリメチルクロロシラン0.5gを加えて中和した後、キシレン溶液を水で洗浄し分液操作により水層を除く操作(水洗操作)を行った。水洗操作を繰り返し、水層が中性になった後、キシレン層に残存する水をキシレンと共沸することにより除いた。こうして脱水の完了したキシレン層をろ過した後、キシレンを減圧留去することにより、シリコーンレジンA-2を得た。
このシリコーンレジンA-2は、仕込み量ベースに換算して、平均単位式:(MeSiO2/234(PhSiO2/233(PhSiO3/233で表されるオルガノシロキサンGと、式:Mvi539Vi 79viで表される両末端および側鎖にビニル基を有するポリメチルシロキサンHと、式:(MeViSiO2/2で表されるオルガノシロキサンIとを、G:H:I=85:5:10の質量比(%)で反応させて得られたものである。
第2の工程では、両末端および側鎖にビニル基を有する中間生成物BBであるポリメチルシロキサンと環状メチルビニルシロキサンが割裂し、第1の工程で得られた反応生成物にグラフト重合することで、シリコーンレジンA-2が得られている。
得られたシリコーンレジンA-2の共重合組成比を合成例7と同様に測定した結果、シリコーンレジンA-2は、平均組成式:TPh 25.67Ph2 25.6733.45Vi 15.18Vi 0.03で表されることがわかった。
得られたシリコーンレジンA-2の粘度は259Pa・s、150℃で1時間加熱することにより測定した不揮発分は99.6%、Mwは2970、分散度(Mw/Mn)は2.244であった。なお、このシリコーンレジンA-2の1分子中のビニル基の数は、Mwから平均3.7個となる。
合成例9[シリコーンレジンA-3の合成]
(第1の工程)
中間生成物BB200gにキシレン200gを加えて希釈し、これに50%水酸化セシウム水溶液0.6gと水50gを加え、加熱して加水分解を行った。赤外吸収スペクトル測定において、波数2830cm−1のメトキシ基に由来する特性吸収が消失するまで反応を継続した。
こうして、平均単位式:(MeSiO2/220(PhSiO2/220(PhSiO3/260で表されるメトキシ基を有しないシリコーンレジン重合物の水酸化セリウム含有キシレン溶液を得た。
(第2の工程)
第1の工程で得られた反応生成物の樹脂分85gに、中間生成物CCである両末端および側鎖にビニル基を有するポリメチルシロキサン(Vi量1.73mmol/g)5gと環状ポリメチルビニルシロキサン(MeViSiO2/2(Vi量11.6mmol/g)10gを加え、キシレン還流温度で5時間反応させてグラフト重合と平衡化を行った。冷却後、トリメチルクロロシラン0.3gを加えて中和した後、キシレン溶液を水で洗浄し分液操作により水層を除く操作(水洗操作)を行った。水洗操作を繰り返し、水層が中性になった後、キシレン層に残存する水をキシレンと共沸することにより除いた。こうして脱水の完了したキシレン層をろ過した後、キシレンを減圧留去することにより、シリコーンレジンA-3を得た。
このシリコーンレジンA-3は、仕込み量ベースに換算して、平均単位式:(MeSiO2/220(PhSiO2/220(PhSiO3/260で表されるオルガノシロキサンGと、式:Mvi539Vi 79viで表される両末端および側鎖にビニル基を有するポリメチルシロキサンHと、式:(MeViSiO2/2で表されるオルガノシロキサンIとを、G:H:I=85:5:10の質量比(%)で反応させて得られたものである。
第2の工程では、両末端および側鎖にビニル基を有するポリメチルシロキサンと環状メチルビニルシロキサンが割裂し、第1の工程で得られた反応生成物にグラフト重合することで、シリコーンレジンA-3が得られている。
得られたシリコーンレジンA-3の共重合組成比を合成例7と同様に測定した結果、シリコーンレジンA-3は、平均組成式:TPh 46.77Ph2 15.5922.54Vi 15.07Vi 0.03で表されることがわかった。
得られたシリコーンレジンA-3は常温で固体であり、150℃で1時間加熱することにより測定した不揮発分は99.8%、Mwは2458、分散度(Mw/Mn)は1.940であった。なお、このシリコーンレジンA-3の1分子中のビニル基の数は、Mwから平均3.1個となる。
合成例10[シリコーンレジンA-4の合成]
(第1の工程)
中間生成物BB200gにキシレン200gを加えて希釈し、これに濃度50%水酸化セシウム水溶液0.6gと水50gを加え、加熱して加水分解を行った。赤外吸収スペクトル測定において、波数2830cm−1のメトキシ基に由来する特性吸収が消失するまで反応を継続した。
こうして、平均単位式:(MeSiO2/220(PhSiO2/220(PhSiO3/260で示されるメトキシ基を有しないシリコーンレジン重合物の水酸化セリウム含有キシレン溶液を得た。
(第2の工程)
第1の工程で得られた反応生成物の樹脂分76.5gに、中間生成物CCである両末端および側鎖にビニル基を有するポリメチルシロキサン(Vi量1.73mmol/g)14.5gと環状ポリメチルビニルシロキサン(MeViSiO2/2(Vi量11.6mmol/g)9gを加え、キシレン還流温度で5時間反応させてグラフト重合と平衡化を行った。冷却後、トリメチルクロロシラン0.3gを加えて中和した後、キシレン溶液を水で洗浄し分液操作により水層を除く操作(水洗操作)を行った。水洗操作を繰り返し、水層が中性になった後、キシレン層に残存する水をキシレンと共沸することにより除いた。こうして脱水の完了したキシレン層をろ過した後、キシレンを減圧留去することにより、シリコーンレジンA-4を得た。
このシリコーンレジンA-4は、仕込み量ベースに換算して、平均単位式:(MeSiO2/220(PhSiO2/220(PhSiO3/260で表されるオルガノシロキサンGと、式:Mvi539Vi 79viで表される両末端および側鎖にビニル基を有するポリメチルシロキサンHと、式:(MeViSiO2/2で表されるオルガノシロキサンIとを、G:H:I=76.5:14.5:9の質量比(%)で反応させて得られたものである。
第2の工程では、中間生成物CCである両末端および側鎖にビニル基を有するポリメチルシロキサンと環状メチルビニルシロキサンが割裂し、第1の工程で得られた反応生成物にグラフト重合することで、シリコーンレジンA-4が得られている。
得られたシリコーンレジンA-4の共重合組成比を合成例7と同様に測定した結果、シリコーンレジンA-4は、平均組成式:TPh 39.71Ph2 13.2432.27Vi 14.71Vi 0.07で表されることがわかった。
得られたシリコーンレジンA-4の粘度は30Pa・sであり、150℃で1時間加熱することにより測定した不揮発分は99.0%、Mwは2143、分散度(Mw/Mn)は1.710であった。なお、このシリコーンレジンA-4の1分子中のビニル基の数は、Mwから平均2.8個となる。
合成例11[シリコーンレジンA-5の合成]
(第1の工程)
中間生成物BB200gにキシレン200gを加えて希釈し、これに50%水酸化セシウム水溶液0.6gと水50gを加え、加熱して加水分解を行った。赤外吸収スペクトル測定において、波数2830cm−1のメトキシ基に由来する特性吸収が消失するまで反応を継続した。
こうして、平均単位式:(MeSiO2/220(PhSiO2/220(PhSiO3/260で示されるメトキシ基を有しないシリコーンレジン重合物の水酸化セリウム含有キシレン溶液を得た。
(第2の工程)
第1の工程で得られた反応生成物の樹脂分85gに、中間生成物CCである両末端および側鎖にビニル基を有するポリメチルシロキサン(Vi量1.73mmol/g)10gと環状ポリメチルビニルシロキサン(MeViSiO2/2(Vi量11.6mmol/g)5gを加え、キシレン還流温度で5時間反応させてグラフト重合と平衡化を行った。冷却後、トリメチルクロロシラン0.3gを加えて中和した後、キシレン溶液を水で洗浄し分液操作により水層を除く操作(水洗操作)を行った。水洗操作を繰り返し、水層が中性になった後、キシレン層に残存する水をキシレンと共沸することにより除いた。こうして脱水の完了したキシレン層をろ過した後、キシレンを減圧留去することにより、シリコーンレジンA-5を得た。
このシリコーンレジンA-5は、仕込み量ベースに換算して、平均単位式:(MeSiO2/220(PhSiO2/220(PhSiO3/260で表されるオルガノシロキサンGと、式:Mvi539Vi 79viで表される両末端および側鎖にビニル基を有するポリメチルシロキサンHと、式:(MeViSiO2/2で表されるオルガノシロキサンIとを、G:H:I=85:10:5の質量比(%)で反応させて得られたものである。
第2の工程では、両末端および側鎖にビニル基を有するポリメチルシロキサンと環状メチルビニルシロキサンが割裂し、第1の工程で得られた反応生成物にグラフト重合することで、シリコーンレジンA-5が得られている。
得られたシリコーンレジンA-5の共重合組成比を合成例7と同様に測定した結果、シリコーンレジンA-5は、平均組成式:TPh 46.32Ph2 15.4429.21Vi 8.97Vi 0.05で表されることがわかった。
得られたシリコーンレジンA-5の粘度は291Pa・sであり、150℃で1時間加熱することにより測定した不揮発分は99.7%、Mwは2151、分散度(Mw/Mn)は1.717であった。なお、このシリコーンレジンA-5の1分子中のビニル基の数は、Mwから平均1.6個となる。
合成例12[ポリオルガノハイドロジェンシロキサンB3の合成]
反応容器に、テトラメチルジシロキサン402g(3モル)と、濃塩酸100gと、イオン交換水240g、およびエタノール200gを仕込み、撹拌しながら15℃以下に冷却した。冷却が完了したら、フェニルトリメトキシシラン793g(4モル)を250g/時間の速度で滴下した。加水分解の開始とともに発熱が始まるので、反応混合物の温度が15℃を超えないように、冷却を継続した。
フェニルトリメトキシシランの滴下終了後、4時間加水分解を継続し、次いでキシレン918gを添加して希釈した。希釈後1時間撹拌し、その後静置し分液を行った。上層がポリオルガノハイドロジェンシロキサンのキシレン溶液である。分取したこのキシレン溶液にイオン交換水200gを加えて加熱し水洗を行った後、静置し再び分液を行った。
上層にメタノール100gとイオン交換水100gを加えて再度加熱水洗を行った後、静置、分液を行った。次いで、上層の液を加熱還流することにより、残存するイオン交換水やメタノールを除去した後、ろ過し、減圧下で溶媒および濃縮を行った。最後に、窒素を導入しながら150℃に加熱し、真空ポンプを使用して減圧度を1〜50mmHgの範囲に調整しながら溶剤および揮発性留分を除去して、785gのポリオルガノハイドロジェンシロキサンB2を得た。
仕込み成分の量と有効水素量およびガスクロマトグラフィーの測定結果から、得られたポリオルガノハイドロジェンシロキサンB3は、式:M Ph で表される分岐構造を有するポリフェニルハイドロジェンシロキサンであることがわかった。
得られたポリオルガノハイドロジェンシロキサンB3のMwは918であり、理論上の水素含有量0.654%に対して実測の水素含有量は0.668%であった。
合成例13[(E)アルコキシ基含有イソシアヌレートの合成]
触媒量のPt触媒の存在下で、1,3,5−トリアリルイソシアヌレート(日本化成社製、商品名;TAIC)64gとメチルジメトキシシラン34gとを2時間ヒドロシリル化反応させた。こうして、[化6]で表されるメチルジメトキシシリル基1個とビニル基2個を有するイソシアヌル酸誘導体と、[化7]で表されるメチルジメトキシシリル基2個とビニル基1個を有するイソシアヌル酸誘導体との混合物を得た。
Figure 2015172177
Figure 2015172177
実施例7
合成例7で得られたシリコーンレジンA-1(平均組成式:TPh 25.42Ph2 25.4240.07Vi 9.04Vi 0.05で表されるポリオルガノシロキサン)50部と、合成例8で得られたシリコーンレジンA-2(平均組成式:TPh 25.67Ph2 25.6733.45Vi 15.18Vi 0.03で表されるポリオルガノシロキサン)50部との混合物に、合成例12で得られた単位式:M Ph で表されるポリオルガノハイドロジェンシロキサンB3を19.1部((A)成分中のビニル基に対する(B)成分中のSiH基のモル(当量)比(H/Vi)=1.28)、(C)テトラメチルテトラビニルシクロテトラシロキサンを配位子として有する白金錯体溶液(Pt分1.8%)0.02部、および、合成例1で得られた単位式:Tep 152555vi (OMe)15で表される接着性付与剤D1の1.1部をそれぞれ添加し混練して、ポリオルガノシロキサン組成物を得た。
実施例8〜25
表3および表4に示す各成分を同表に示す割合で配合し、実施例7と同様にしてポリオルガノシロキサン組成物を調製した。
なお、表3および表4において、H/Vi比は、(A)成分と(B)成分における、ケイ素原子に結合した水素原子とケイ素原子に結合したビニル基とのモル比を示す。
また、各成分は以下の通りである。
シリコーンレジンA-3…………合成例9で得られた平均組成式:TPh 46.77Ph2 15.5922.54Vi 15.07Vi 0.03で表されるポリオルガノシロキサン
シリコーンレジンA-4…………合成例10で得られた平均組成式:TPh 39.71Ph2 13.2432.27Vi 14.71Vi 0.07で表されるポリオルガノシロキサン
シリコーンレジンA-5…………合成例11で得られた平均組成式:TPh 46.32Ph2 15.4429.21Vi 8.97Vi 0.05で表されるポリオルガノシロキサン
ポリオルガノハイドロジェンシロキサンB4…………単位式:MPh2で表されるジフェニルハイドロジェンシロキサン
接着性付与剤D6…………合成例6で得られた単位式:Tep 1525Ph 3025vi (OMe)15で表される接着性付与剤
比較例3〜5
表5に示す各成分を同表に示す割合で配合し、実施例7と同様にしてポリオルガノシロキサン組成物を得た。
なお、表5において、Si基含有接着付与剤は、
Figure 2015172177
で表されるSiH基含有シロキサンオリゴマーと、γ−メタクリロキシプロピルトリメトキシシランとの1:2付加反応生成物である。また、γ−グリシドキシプロピルトリメトキシシランとしては、TSL8350(モメンティブ社の商品名)を使用した。そして、表5におけるH/Vi比は、(A)成分と(B)成分における、ケイ素原子に結合した水素原子とケイ素原子に結合したビニル基とのモル比を示す。
こうして実施例7〜25および比較例3〜5で得られたポリオルガノシロキサン組成物の粘度および屈折率を、以下に示すようにして測定した。また、実施例7〜25および比較例3〜5で得られたポリオルガノシロキサン組成物を150℃で3時間加熱して硬化させた後、硬化物の物性(硬さ、引張り強さ、伸びおよび透過率)を、JISK6253「未硬化および硬化シリコーンゴムの試験方法」等に準じて測定した。さらに、以下に示すようにしてパッケージ試験(2)を行い、PPA樹脂からなる基材に対する接着性を調べた。これらの測定および試験の結果を、表3〜5の下欄に示す。
[粘度]
硬化前のポリオルガノシロキサン組成物の粘度を、23℃±2℃において回転粘度計を用いて測定した。
[屈折率]
硬化前のポリオルガノシロキサン組成物について、ナトリウムD線(波長589nm)の屈折率を多波長アッベ屈折計(アタゴ社製、装置名;DR−M2/1550)を用いて測定した。測定は25℃で行った。
[パッケージ試験(2)]
(PPAからの剥離の有無)
3528型LEDパッケージを150℃で2時間乾燥した後、PPA樹脂(株式会社クラレ社、商品名:Genestar)からなる基材内に、ポリオルガノシロキサン組成物の試料をシリンジを用いて充填した。そして、100℃で2時間次いで150℃で3時間加熱し、試料を硬化させた。室温で冷却後、硬化物のPPA樹脂からの剥離の有無を、マイクロスコープ(60〜80倍)を用いて調べた。そして、試料数(n)10個とし、剥離が見られる個数をカウントした。
さらに、実施例17〜25で得られたポリオルガノシロキサン組成物については、前記パッケージ試験(2)を行った後、以下に示す試験を行い、MSL3リフロー後の剥離を調べた。
(MSL3リフロー後の剥離)
前記PPAからの剥離試験に用いた試料充填硬化済みのLEDパッケージを用いて、IPC/JEDEC J−STD−020D.1に準じたMSL3試験を行った。この試験では、試料充填硬化済みのLEDパッケージを125℃で24時間乾燥させた後、Level3の条件下、60℃/60%RHのチャンバー内に40時間放置して吸湿させた。吸湿後室温で15分間放置し、最高260℃のリフローオーブン(1サイクル約5分)に投入した。5分間の室温冷却後、再びリフローオーブンに投入し、これを計3回繰り返した。次いで、室温に冷却し、硬化物のPPA樹脂からの剥離の有無をマイクロスコープ(60〜80倍)を用いて調べた。そして、10個のうちで剥離が見られる試料の個数をカウントした。
Figure 2015172177
Figure 2015172177
Figure 2015172177
表3〜5から、以下のことがわかる。すなわち、フェニル基を有する3官能型シロキサン単位(TPh単位)を含み、ビニル基を有するポリオルガノシロキサンをベースポリマーとする付加反応型ポリオルガノシロキサン組成物に対して、エポキシ基を有するシロキサン単位であるTep単位とビニル基を有する2官能型シロキサン単位であるDvi単位をそれぞれ含有し、1000〜15000の範囲のMwを有する接着性付与剤D1またはD6を配合して得られた実施例7〜25のポリオルガノシロキサン組成物は、接着性付与剤が配合されていない比較例3のポリオルガノシロキサン組成物、接着性付与剤としてγ−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン等が配合された比較例4〜5のポリオルガノシロキサン組成物に比べて、PPAに対する接着性に優れている。すなわち、比較例3〜5のポリオルガノシロキサン組成物の硬化物からなる封止層が、PPAからなる基材との界面で剥離を生じているのに対して、実施例7〜25のポリオルガノシロキサン組成物の硬化物からなる封止層では剥離が見られず、PPAに対する優れた接着性を示している。
特に、実施例17〜25のポリオルガノシロキサン組成物では、(A)成分としてTPh単位の含有率の高いシリコーンレジンA-3〜A-5が使用されているので、MSL3リフロー後の剥離試験に対しても高い信頼性を示している。
接着性付与剤が配合された接着性ポリオルガノシロキサン組成物によれば、PPA等の耐熱性プラスチックに対して良好な接着性を発揮し、かつその接着性が発光素子からの発熱や温度サイクルの際の加熱等により低下することがない。したがって、本発明の接着性ポリオルガノシロキサン組成物は、LED装置のような半導体装置の封止材料等として信頼性が高く有用である。

Claims (12)

  1. (A)ケイ素原子に結合したアルケニル基を有し、かつアリール基を有する3官能型シロキサン単位を含むポリオルガノシロキサン100質量部と、
    (B)ケイ素原子に結合した水素原子を有するポリオルガノハイドロジェンシロキサンを、前記(A)成分中のアルケニル基1個当たり、本成分中の前記水素原子の量が0.1〜4.0個となる量と、
    (C)白金系触媒を触媒量と、
    (D)(a)式:RSiO3/2(式中、Rはエポキシ基を有する1価の有機基を示す。)で表される3官能型シロキサン単位と、式:RSiO2/2(式中、Rは上記と同様である。Rはアルキル基またはアルコキシ基を示す。)で表される2官能型シロキサン単位と、式:R SiO1/2(式中、RおよびRはいずれも上記と同様である。)で表される1官能型シロキサン単位とからなる群から選ばれる少なくとも1種の、エポキシ基を有するシロキサン単位と、
    (b)式:R SiO2/2(式中、Rはアルケニル基、アルキル基およびアリール基から選ばれる1価の炭化水素基を示し、少なくとも1つはアルケニル基である。)で表される、アルケニル基を有する2官能型シロキサン単位を含有し、重量平均分子量が1000〜15000であるポリオルガノシロキサンからなる接着性付与剤0.05〜10質量部
    をそれぞれ含有してなることを特徴とする接着性ポリオルガノシロキサン組成物。
  2. 前記(D)接着性付与剤において、前記(a)エポキシ基を有するシロキサン単位は、ケイ素原子に結合したグリシドキシアルキル基を有することを特徴とする請求項1記載の接着性ポリオルガノシロキサン組成物。
  3. 前記(D)接着性付与剤は、前記(a)エポキシ基を有するシロキサン単位として、前記式:RSiO3/2で表される3官能型シロキサン単位を有することを特徴とする請求項1または2記載の接着性ポリオルガノシロキサン組成物。
  4. 前記(D)接着性付与剤は、式:RSiO3/2(式中、Rはアルキル基またはアリール基を示す。)で表される3官能型シロキサン単位、および/または式:R SiO2/2(式中、Rは上記と同様である。)で表される2官能型シロキサン単位をさらに含有することを特徴とする請求項1〜3のいずれか1項記載の接着性ポリオルガノシロキサン組成物。
  5. 前記(A)成分は、式:CSiO3/2で表される3官能型シロキサン単位を、構成単位全体に対して20〜60モル%の割合で含有するポリオルガノシロキサンを含むことを特徴とする請求項1〜4のいずれか1項記載の接着性ポリオルガノシロキサン組成物。
  6. 前記(A)成分は、式:CH(CH=CH)SiO2/2で表される2官能型シロキサン単位を、構成単位全体に対して10モル%以下の割合で含有するポリオルガノシロキサンと、前記式:CH(CH=CH)SiO2/2で表される2官能型シロキサン単位を、構成単位全体に対して10モル%を超えた割合で含有するポリオルガノシロキサンの、少なくとも2種のポリオルガノシロキサンを含むことを特徴とする請求項1〜5のいずれか1項記載の接着性ポリオルガノシロキサン組成物。
  7. 前記(A)成分は、式:CSiO3/2で表される3官能型シロキサン単位を、構成単位全体に対して30〜55モル%の割合で含有するポリオルガノシロキサンを含むことを特徴とする請求項6記載の接着性ポリオルガノシロキサン組成物。
  8. 前記(B)成分は、式:CSiO3/2で表される3官能型シロキサン単位を有する分岐状ポリオルガノハイドロジェンシロキサンを含むことを特徴とする請求項1〜7のいずれか1項記載の接着性ポリオルガノシロキサン組成物。
  9. 前記(B)成分は、分子鎖両末端のケイ素原子にそれぞれ結合した水素原子を有するポリオルガノハイドロジェンシロキサンを含むことを特徴とする請求項1〜8のいずれか1項記載の接着性ポリオルガノシロキサン組成物。
  10. さらに、(E)アルコキシ基を有するイソシアヌレート化合物0.05〜5質量部を含有することを特徴とする請求項1〜9のいずれか1項記載の接着性ポリオルガノシロキサン組成物。
  11. 請求項1〜10のいずれか1項記載の接着性ポリオルガノシロキサン組成物を硬化してなる硬化物を有することを特徴とする光半導体装置。
  12. 前記硬化物は、蛍光体を含有することを特徴とする請求項11記載の光半導体装置。
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Cited By (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2017095540A (ja) * 2015-11-18 2017-06-01 株式会社カネカ Led装置用封止剤
JP2019156966A (ja) * 2018-03-13 2019-09-19 信越化学工業株式会社 付加硬化型シリコーン組成物、シリコーン硬化物、及び半導体装置
JP2020189908A (ja) * 2019-05-21 2020-11-26 信越化学工業株式会社 ダイボンディング用シリコーン組成物、その硬化物、及び光半導体装置
JP2021080348A (ja) * 2019-11-18 2021-05-27 株式会社カネカ 硬化性組成物及び該組成物を封止剤として用いた半導体装置。
WO2021246386A1 (ja) * 2020-06-01 2021-12-09 モメンティブ・パフォーマンス・マテリアルズ・ジャパン合同会社 硬化性ポリオルガノシロキサン組成物及び電子部品

Families Citing this family (13)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP6287907B2 (ja) * 2015-03-13 2018-03-07 信越化学工業株式会社 積層体の製造方法及び該方法に用いる硬化性シリコーンゲル組成物
JP6633846B2 (ja) * 2015-06-29 2020-01-22 アイカ工業株式会社 付加反応硬化型樹脂組成物及び光半導体装置
CN105199398B (zh) * 2015-10-27 2019-04-05 湖南博翔新材料有限公司 一种有机硅复合材料及其制备方法
JP6575429B2 (ja) * 2016-05-02 2019-09-18 横浜ゴム株式会社 密着付与剤及び硬化性樹脂組成物
JP6519531B2 (ja) * 2016-06-03 2019-05-29 信越化学工業株式会社 付加硬化性シリコーン樹脂組成物及び光半導体装置用ダイアタッチ材
CN106751907B (zh) * 2016-12-28 2020-06-19 广州市白云化工实业有限公司 一种加成型硅橡胶及其制备方法
JP6575699B2 (ja) * 2017-07-11 2019-09-18 三菱瓦斯化学株式会社 プリント配線板用樹脂組成物、プリプレグ、樹脂シート、積層板、金属箔張積層板、プリント配線板、及び多層プリント配線板
US10727379B2 (en) 2018-02-16 2020-07-28 Osram Opto Semiconductors Gmbh Methods for producing a conversion element and an optoelectronic component
JP7218604B2 (ja) * 2018-02-26 2023-02-07 三菱ケミカル株式会社 エポキシ基含有ポリオルガノシロキサンを含む硬化性樹脂組成物及びその硬化物
US11776837B2 (en) * 2018-11-28 2023-10-03 Nissan Chemical Corporation Adhesive agent composition, layered product and production method for layered product, and method for reducing thickness of semiconductor forming substrate
JP2021031612A (ja) * 2019-08-27 2021-03-01 信越化学工業株式会社 ポリフェニレンエーテル樹脂組成物および混合物
CN111404063B (zh) * 2020-04-27 2021-01-22 浙江港通科技有限公司 一种配电柜
CN114163645B (zh) * 2021-12-09 2023-01-13 万华化学集团股份有限公司 一种锚固剂及其制备方法和应用

Citations (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS6470559A (en) * 1987-08-15 1989-03-16 Dow Corning Sa Hardenable organopolysiloxane composition
JPS6485224A (en) * 1987-09-25 1989-03-30 Toray Silicone Co Adhesion accelerator
JP2007327019A (ja) * 2006-05-11 2007-12-20 Dow Corning Toray Co Ltd 接着促進剤、硬化性オルガノポリシロキサン組成物、および半導体装置
JP2010001335A (ja) * 2008-06-18 2010-01-07 Dow Corning Toray Co Ltd 硬化性オルガノポリシロキサン組成物及び半導体装置
JP2011208120A (ja) * 2010-03-09 2011-10-20 Momentive Performance Materials Inc 自己接着性ポリオルガノシロキサン組成物
JP2012052045A (ja) * 2010-09-02 2012-03-15 Shin-Etsu Chemical Co Ltd 低ガス透過性シリコーン樹脂組成物及び光半導体装置

Family Cites Families (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP3691587B2 (ja) * 1996-05-21 2005-09-07 東レ・ダウコーニング株式会社 硬化性オルガノポリシロキサン組成物および半導体装置
JP5392805B2 (ja) * 2005-06-28 2014-01-22 東レ・ダウコーニング株式会社 硬化性オルガノポリシロキサン樹脂組成物および光学部材
JP2009269968A (ja) 2008-05-02 2009-11-19 Shin Etsu Chem Co Ltd シリコーン接着剤
JP2010248384A (ja) 2009-04-16 2010-11-04 Kaneka Corp シリコーン系組成物
JP5601481B2 (ja) * 2012-09-06 2014-10-08 国立大学法人 新潟大学 高透明シリコーン組成物並びに該組成物で封止した発光半導体装置
US9909007B2 (en) * 2013-08-29 2018-03-06 Dow Corning Corporation Curable silicone composition, cured product thereof, and optical semiconductor device
TWI624510B (zh) * 2014-02-04 2018-05-21 日商道康寧東麗股份有限公司 硬化性聚矽氧組合物、其硬化物及光半導體裝置

Patent Citations (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS6470559A (en) * 1987-08-15 1989-03-16 Dow Corning Sa Hardenable organopolysiloxane composition
JPS6485224A (en) * 1987-09-25 1989-03-30 Toray Silicone Co Adhesion accelerator
JP2007327019A (ja) * 2006-05-11 2007-12-20 Dow Corning Toray Co Ltd 接着促進剤、硬化性オルガノポリシロキサン組成物、および半導体装置
JP2010001335A (ja) * 2008-06-18 2010-01-07 Dow Corning Toray Co Ltd 硬化性オルガノポリシロキサン組成物及び半導体装置
JP2011208120A (ja) * 2010-03-09 2011-10-20 Momentive Performance Materials Inc 自己接着性ポリオルガノシロキサン組成物
JP2012052045A (ja) * 2010-09-02 2012-03-15 Shin-Etsu Chemical Co Ltd 低ガス透過性シリコーン樹脂組成物及び光半導体装置

Cited By (9)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2017095540A (ja) * 2015-11-18 2017-06-01 株式会社カネカ Led装置用封止剤
JP2019156966A (ja) * 2018-03-13 2019-09-19 信越化学工業株式会社 付加硬化型シリコーン組成物、シリコーン硬化物、及び半導体装置
JP2020189908A (ja) * 2019-05-21 2020-11-26 信越化学工業株式会社 ダイボンディング用シリコーン組成物、その硬化物、及び光半導体装置
JP7041094B2 (ja) 2019-05-21 2022-03-23 信越化学工業株式会社 ダイボンディング用シリコーン組成物、その硬化物、及び光半導体装置
JP7041094B6 (ja) 2019-05-21 2023-12-18 信越化学工業株式会社 ダイボンディング用シリコーン組成物、その硬化物、及び光半導体装置
JP2021080348A (ja) * 2019-11-18 2021-05-27 株式会社カネカ 硬化性組成物及び該組成物を封止剤として用いた半導体装置。
JP7360910B2 (ja) 2019-11-18 2023-10-13 株式会社カネカ 硬化性組成物及び該組成物を封止剤として用いた半導体装置。
WO2021246386A1 (ja) * 2020-06-01 2021-12-09 モメンティブ・パフォーマンス・マテリアルズ・ジャパン合同会社 硬化性ポリオルガノシロキサン組成物及び電子部品
JP7043155B1 (ja) * 2020-06-01 2022-03-29 モメンティブ・パフォーマンス・マテリアルズ・ジャパン合同会社 硬化性ポリオルガノシロキサン組成物及び電子部品

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