JP2015070070A5 - - Google Patents
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Description
本技術の撮像素子およびその製造方法ならびに電子機器では、半導体基板の受光面側に形成される固定電荷膜を、受光面に設けられた第2絶縁膜と、受光面から半導体基板に設けられた画素分離溝の壁面および底面にかけて設けられた第1絶縁膜との積層膜とする。このように固定電荷膜を形成領域の異なる2種類の絶縁膜によって構成することにより、半導体基板の表面(具体的には、画素分離溝の壁面および底面)の界面準位が改善される。
<1.実施の形態>
図1は、本開示の一実施の形態に係る撮像素子(撮像素子10)の断面構成を表したものである。撮像素子10は、例えばCCDイメージセンサまたはCMOSイメージセンサ等の撮像装置(撮像装置1)において1つの画素(例えば画素P)を構成するものである(図5参照)。この撮像素子10は裏面照射型であり、光電変換部22を有する受光部20の光入射面側に集光部40が、光入射面側とは反対側の面に配線層30が設けられた構成を有する。受光部20は、光入射面(受光面S1)側に画素P間に溝(画素分離溝21A)を有する半導体基板21、半導体基板21の光入射面側の全面に設けられた固定電荷膜23および保護膜24から構成されている。本実施の形態の撮像素子10は、この固定電荷膜23が、それぞれ形成領域の異なる2種類の絶縁膜(第1絶縁膜23Aおよび第2絶縁膜23B)によって形成されており、部分的に積層構造を有するものである。
図1は、本開示の一実施の形態に係る撮像素子(撮像素子10)の断面構成を表したものである。撮像素子10は、例えばCCDイメージセンサまたはCMOSイメージセンサ等の撮像装置(撮像装置1)において1つの画素(例えば画素P)を構成するものである(図5参照)。この撮像素子10は裏面照射型であり、光電変換部22を有する受光部20の光入射面側に集光部40が、光入射面側とは反対側の面に配線層30が設けられた構成を有する。受光部20は、光入射面(受光面S1)側に画素P間に溝(画素分離溝21A)を有する半導体基板21、半導体基板21の光入射面側の全面に設けられた固定電荷膜23および保護膜24から構成されている。本実施の形態の撮像素子10は、この固定電荷膜23が、それぞれ形成領域の異なる2種類の絶縁膜(第1絶縁膜23Aおよび第2絶縁膜23B)によって形成されており、部分的に積層構造を有するものである。
固定電荷膜23は、負の電荷を有するものであり、第1絶縁膜23Aと第2絶縁膜23Bとが部分的に積層された構成を有する(例えば、図2C参照)。具体的には、第1絶縁膜23Aは、半導体基板21の裏面全面、即ち、半導体基板21の受光面S1および画素分離溝21Aの壁面から底面にかけて連続して設けられている。なお、第1絶縁膜23Aは多層(ここでは2層(23A1,23A2))からなる。第2絶縁膜23Bは、半導体基板21の画素分離溝21Aの内壁(壁面および底面)を除く領域(受光面S1)上に設けられている。なお、第2絶縁膜23Bは、受光面S1から画素分離溝21Aの壁面の一部にかけて連続して形成されている。
固定電荷膜23上には保護膜24が設けられており、画素分離溝21A内にこの保護膜24を埋設することで受光部20の裏面が平坦化されている。保護膜24は、例えば窒化シリコン(Si2N3),酸化シリコン(SiO2)および酸窒化シリコン(SiON)等の単層膜あるいはこれらの積層膜により構成されている。
続いて、図2Cに示したように、例えばALD法またはMOCVD法を用いて、第2絶縁膜23Bおよび画素分離溝21Aの壁面および底面を覆う第1絶縁膜23A1上に第1絶縁膜23A2を形成する。ALD法およびMOCVD法における各条件は、上記と同様である。以上により、固定電荷膜23が形成される。
次に、保護膜24として、例えばSiO2膜を、例えばALD法もしくはCVD法を用いて受光面S1の固定電荷膜23上に形成すると共に、画素分離溝21Aに埋設する。続いて、保護膜24上に、例えばスパッタリング法あるいはCVD法を用いて例えばW膜を形成したのち、フォトリソグラフィ等によってパターニングして遮光膜42を形成する。次に、保護膜24および遮光膜42上に平坦化膜43を形成したのち、平坦化膜43上に、例えばベイヤー配列のカラーフィルタ44およびオンチップレンズ41を順に形成する。このようにして撮像素子10を得ることができる。
また、ALD法またはMOCVD法を用いた第1絶縁膜23A1,23A2は、半導体基板21の光入射面側の全面(受光面S1,画素分離溝21Aの壁面および底面)に形成され、PVD法を用いた第2絶縁膜23Bは、後述するシャドーイング効果によって受光面S1および受光面S1上から連続する画素分離溝21Aの壁面の一部に形成される。第2絶縁膜23Bにおけるシャドーイング効果は、画素分離溝21Aの深さ(h)に依存する。深さ(h)が深いほどシャドーイング効果は大きくなり、画素分離溝21Aの壁面への性膜が抑制される。壁面への成膜を抑制する深さ(h)は1μm以上であることが好ましく、1μm以下とする場合には、溝形状をオーバーハング型とすることが望ましい。
以上のように、本実施の形態では、光電変換部22を備えた半導体基板21の受光面側に形成する固定電荷膜23を、形成領域の異なる2種類の絶縁膜(第1絶縁膜23Aおよび第2絶縁膜23B)の積層膜として形成するようにした。具体的には、ALD法またはMOCVD法を用いて半導体基板21の光入射面側の全面(受光面S1,画素分離溝21Aの壁面および底面)に第1絶縁膜23Aを形成し、PVD法を用いて受光面S1に第2絶縁膜23Bを形成する。特に、第1絶縁膜23Aを形成したのち、第2絶縁膜23Bを形成するようにしたので、半導体基板21の表面に損傷を与えることなく、固定電荷膜を形成することが可能となる。即ち、半導体基板21の表面(受光面S1,画素分離溝21Aの壁面および底面)の界面準位が改善され、暗電流の発生が抑制された撮像装置を提供することが可能となる。
このように、本変形例では、遮光膜52を受光部20の画素分離溝21A内に埋設するようにしたので、光電変換部22における斜入射光による混色をより抑制することが可能となる。
行走査部131は、シフトレジスタやアドレスデコーダ等によって構成され、画素部1aの各画素Pを例えば行単位で駆動する画素駆動部である。行走査部131によって選択された画素行の各画素Pから出力される信号は、垂直信号線Lsigの各々を通じて水平選
択部123に供給される。水平選択部133は、例えば垂直信号線Lsigごとに設けられ
たアンプや水平選択スイッチ等により構成されている。
択部123に供給される。水平選択部133は、例えば垂直信号線Lsigごとに設けられ
たアンプや水平選択スイッチ等により構成されている。
列走査部134は、シフトレジスタやアドレスデコーダ等によって構成され、水平選択部133の各水平選択スイッチを走査しつつ順番に駆動するものである。この列走査部134による選択走査により、垂直信号線Lsigの各々を通じて伝送される各画素Pの信号
が順番に水平信号線135に出力され、当該水平信号線135を通じて半導体基板21の外部へ伝送される。
が順番に水平信号線135に出力され、当該水平信号線135を通じて半導体基板21の外部へ伝送される。
行走査部131、水平選択部133、列走査部134および水平信号線135からなる回路部分は、半導体基板21上に直に形成されていてもよいし、あるいは外部制御ICに配設されたものであってもよい。ケーブル等により接続された他の基板にこの回路部分を設けることも可能である。
システム制御部132は、半導体基板21の外部から与えられるクロックや動作モードを指令するデータ等を受け取ると共に、撮像装置1の内部情報を出力するものである。システム制御部132は、これに加え、例えば各種のタイミング信号を生成するタイミングジェネレータを有し、当該タイミングジェネレータで生成された各種のタイミング信号を基に行走査部131、水平選択部133および列走査部134等の周辺回路の駆動制御を行う。
Claims (11)
- 画素ごとに光電変換部を有する半導体基板と、
前記半導体基板に設けられた画素分離溝と、
前記半導体基板の受光面側に設けられた固定電荷膜とを備え、
前記固定電荷膜は、前記受光面から前記画素分離溝の壁面および底面にかけて連続して設けられた第1絶縁膜と、前記第1絶縁膜上の少なくとも前記受光面に部分的に設けられた第2絶縁膜と
を有する撮像素子。 - 前記第1絶縁膜および前記第2絶縁膜の膜数は互いに異なる、請求項1に記載の撮像素子。
- 前記第1絶縁膜の膜数は2層、前記第2絶縁膜の膜数は1層である、請求項1または2に記載の撮像素子。
- 前記固定電荷膜は、前記半導体基板側から前記第1絶縁膜、前記第2絶縁膜および前記第1絶縁膜の順に形成されている、請求項1乃至3のいずれか1つに記載の撮像素子。
- 前記固定電荷膜は、前記半導体基板側から前記第1絶縁膜、前記第1絶縁膜および前記第2絶縁膜の順に形成されている、請求項1乃至4のいずれか1つに記載の撮像素子。
- 前記第2絶縁膜は、前記受光面から前記画素分離溝の壁面の一部にかけて連続している、請求項1乃至5のいずれか1つに記載の撮像素子。
- 前記第1絶縁膜および前記第2絶縁膜は、それぞれ、酸化ハフニウム(HfO2),酸化ジルコニウム(ZrO 2 ),酸化アルミニウム(Al2O3),酸化チタン(TiO2)および酸化タンタル(Ta2O5)のいずれか1種によって形成されている、請求項1乃至6のうちいずれか1つに記載の撮像素子。
- 画素ごとに光電変換部を有すると共に、画素分離溝を有する半導体基板の受光面に固定電荷膜を成膜する工程を含み、前記固定電荷膜の製造工程は、
前記半導体基板の前記受光面から前記画素分離溝の壁面および底面にかけて連続した第1絶縁膜を形成する工程と、
前記第1絶縁膜上の少なくとも前記受光面に部分的に第2絶縁膜を形成する工程と
を含む撮像素子の製造方法。 - 前記第1絶縁膜を原子層蒸着法または有機金属化学気相成長法によって形成する、請求項8に記載の撮像素子の製造方法。
- 前記第2絶縁膜を物理的気相成長法によって形成する、請求項8または9に記載の撮像素子の製造方法。
- 撮像素子を含み、
前記撮像素子は、
画素ごとに光電変換部を有する半導体基板と、
前記半導体基板に設けられた画素分離溝と、
前記半導体基板の受光面側に設けられた固定電荷膜とを備え、
前記固定電荷膜は、前記受光面から前記画素分離溝の壁面および底面にかけて連続して設けられた第1絶縁膜と、前記第1絶縁膜上の少なくとも前記受光面に部分的に設けられた第2絶縁膜と
を有する電子機器。
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