JP2015041677A - 半導体装置およびその製造方法 - Google Patents
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Abstract
Description
(実施の形態1)
図1を参照して、本実施の形態の半導体装置は半導体ウェハSWに形成されており、半導体ウェハSWには、複数のイメージセンサ用のチップ領域IMCが形成されている。複数のチップ領域IMCの各々は矩形の平面形状を有し、行列状に配置されている。半導体ウェハSWがダイシングライン領域DLRにおいてダイシングされることにより、たとえば矩形の平面形状を有する個々のチップ領域IMCに切断される。
半導体層SLの主表面に沿う方向に関するフォトダイオードPDの側方(図4の左側)には、後述するように転送トランジスタTXのゲート絶縁膜GIおよびゲート電極TGが形成され、さらに低濃度拡散領域LDおよびn型拡散領域NDが形成されている。図4に明示されないが、低濃度拡散領域LDおよびn型拡散領域NDが形成される辺りには図3のフローティングディヒュージョンFDが形成されている。
上記のように第2の基板P2は、接合面JSと離れた位置に(接合面JSよりも表面側(下側)に)容量素子CDを有している。容量素子CDは、第1の電極EDs1と、誘電体層CIと、第2の電極EDm2とを有している。
一般にフォトダイオードPDに光電変換を起こさせるために照射する光は、層間絶縁膜IIのような絶縁膜(シリコン酸化膜)を高い割合で透過し、第1の遮光膜LSF1および第1の接続部JML1のような金属薄膜(アルミニウムなど)により高い割合で反射される。このため第1および第2の接続部JML1,JML2ならびに配線層MLaなどにおいて光は反射(遮光)されやすくなるが、1対の第1および第2の接続部JML1,JML2に挟まれた第1および第2の間隙部GP1,GP2などにおいて(金属薄膜が配置されないため)光が透過しやすくなる。
実施の形態1の半導体装置としての固体撮像素子においては、図4および図5に示すように、第2の遮光膜LSF2が第1の基板P1に配線層M3と同一の層として形成される。しかし図28を参照して、実施の形態2の半導体装置としての固体撮像素子においては、第2の遮光膜LSF2は第2の基板P2に配線層M4と同一の層として形成される。この点において本実施の形態は実施の形態1と異なっている。
図33を参照して、本実施の形態の第1例の半導体装置としての固体撮像素子においては、容量素子CDを構成する第1の電極EDp1および第2の電極EDp2が、いずれも導電性不純物を含む半導体層である多結晶シリコンにより形成されている。すなわち容量素子CDは、導電性不純物を含む多結晶シリコンとしての第1の電極EDp1と、第1の電極EDp1の上面の少なくとも一部を覆う誘電体層CIと、誘電体層CIの上面の少なくとも一部を覆う、導電性不純物を含む多結晶シリコンとしての第2の電極EDp2とを有している。なお容量素子CDは第2の基板P2を構成する支持基板SS上に、層間絶縁膜IIを介在して形成されている。第1の電極EDp1の側壁には側壁絶縁膜SWIが形成されている。
本実施の形態においても実施の形態1,2と同様に、第2の基板P2を形成する際に、先に容量素子CDが形成された後に配線層ML4などの(金属材料よりも比較的低温で形成される)層が形成される。このため容量素子CDの電極を形成する工程においては、配線層ML4などの金属材料を形成する工程よりも高温の処理を用いることが可能となる。このため第1および第2の電極がともに多結晶シリコンで形成された、高信頼性の容量素子CDを有する固体撮像素子を、2つの基板を接合することにより高集積化された固体撮像素子に、適用することができる。電極が多結晶シリコンで形成された容量素子CDは、たとえば金属層で形成された電極を有する容量素子CDよりも高性能とすることができる。
図42を参照して、本実施の形態の半導体装置としての固体撮像素子においては、図37の固体撮像素子の第2の電極EDp2の代わりに、たとえば窒化チタンからなる金属層としての第2の電極EDm2が形成されている。この点において図42は図37と異なっている。
図45を参照して、本実施の形態の第1例の半導体装置としての固体撮像素子においては、容量素子CDを構成する第1の電極EDm1および第2の電極EDm2が、いずれも金属層で形成されており、容量素子CDはいわゆるMIM型の積層構造を有している。すなわち容量素子CDは、金属層としての第1の電極EDm1と、第1の電極EDm1の上面の少なくとも一部を覆う誘電体層CIと、誘電体層CIの上面の少なくとも一部を覆う金属層としての第2の電極EDm2とを有している。
図52を参照して、本実施の形態の半導体装置としての固体撮像素子においては、第1の基板P1に形成される第2の遮光膜LSF2が、配線層ML3に加え、配線層ML1の一部としても形成されている。なお図示されないが、第2の遮光膜LSF2は、配線層ML1の一部としてのみ形成されてもよい。
本実施の形態のように、フォトダイオードPDに最も近い配線層ML1の一部として第2の遮光膜LSF2が形成されれば、第2の遮光膜LSF2からフォトダイオードPDまでの距離が遠い場合に比べて、第2の遮光膜LSF2において遮光作用により反射した光が再びフォトダイオードPDに入射される可能性が高くなる。このためフォトダイオードPDに入射される光の利用効率が高まり、フォトダイオードPDの光電変換の作用がより高まる。
図54を参照して、本実施の形態の半導体装置としての固体撮像素子においては、第2の遮光膜LSF2が、第1の基板P1の配線層ML1の一部として配置されているのに加え、第2の基板P2の配線層ML4の一部としても配置されている。つまり本実施の形態では第2の遮光膜LSF2が、第1の基板P1と第2の基板P2との双方に配置されている。
図55を参照して、一実施の形態の半導体装置としての固体撮像素子の概要は、光電変換が行なわれるフォトダイオードPDを有する第1の基板P1と、フォトダイオードPDの光電変換により発生する電荷を蓄える容量素子CDを有する第2の基板P2とを有している。第1の基板P1と第2の基板P2とは一体となるように接合面JSにおいて接合されており、フォトダイオードPDと容量素子CDとは接合面JSに垂直な方向に関して互いに対向するように配置されており、容量素子CDは接合面JSから離れた位置にあるように配置されている。第1の基板P1の、第2の基板P2との接合面JSには第1の接続部JML1が形成されており、第2の基板P2の、第1の基板P1との接合面JSには第2の接続部JML2が形成されている。フォトダイオードPDと平面的に重なる領域以外の、複数の第1の接続部JML1に挟まれた第1の間隙部GP1および、複数の第2の接続部JML2に挟まれた第2の間隙部GP2は、接合面JSに垂直な方向に関して第1の遮光膜LSF1と重なるように配置される。
Claims (20)
- 光電変換が行なわれる複数の受光素子を含む複数の画素の少なくとも一部を構成する第1の基板と、
前記受光素子が供給する電荷を蓄える容量素子を有する第2の基板とを備え、
前記第1の基板および前記第2の基板は一体となるように接合面において互いに接合され、
前記受光素子と前記容量素子とは前記接合面に垂直な方向に関して互いに対向するように配置され、
前記容量素子は前記第2の基板の前記接合面から離れた位置にあり、
前記第1の基板は、
前記受光素子に供給される光を遮光するように、前記受光素子に対して光が供給される側に配置される受光素子側遮光膜と、
前記第1の基板と前記第2の基板とを電気的に接続するように前記第1の基板の接合面に形成される複数の第1の接続部とを含み、
前記第2の基板は、
前記第1の接続部と電気的に接続するように前記第2の基板の接合面に形成される複数の第2の接続部を含み、
前記受光素子と平面視において重なる領域以外に存在する、複数の前記第1の接続部に挟まれた第1の間隙部および複数の前記第2の接続部に挟まれた第2の間隙部は、前記第1の基板および前記第2の基板が接合される前記接合面に垂直な方向に関して前記受光素子側遮光膜と重なるように配置される、半導体装置。 - 前記接合面に垂直な方向に関して前記受光素子と重なるように、前記受光素子より前記第2の基板側に進む光を遮光する容量素子側遮光膜を有し、
前記容量素子側遮光膜は前記接合面に垂直な方向に関して前記受光素子と前記容量素子との間にある、請求項1に記載の半導体装置。 - 前記容量素子側遮光膜は、前記接合面に垂直な方向に関して前記受光素子と完全に重なるように形成される、請求項2に記載の半導体装置。
- 複数の前記画素は平面視において格子状に配置されており、
複数の前記第1および第2の接続部は、平面視において互いに隣り合う1対の前記第1の接続部の前記第1の間隙部、および平面視において互いに隣り合う1対の前記第2の接続部の前記第2の間隙部の最短距離のベクトルの方向が、前記画素の整列する方向に対して斜め方向に延びるように配置される、請求項1に記載の半導体装置。 - 前記容量素子側遮光膜は、前記第1の基板に配置される、請求項2に記載の半導体装置。
- 前記第1の基板は、
第1の層間絶縁膜と、
前記第1の層間絶縁膜を介在するように複数積層される第1の配線層とを含み、
複数の前記第1の配線層のうち最も前記受光素子に近い前記第1の配線層の一部が前記容量素子側遮光膜として用いられる、請求項5に記載の半導体装置。 - 前記容量素子側遮光膜は、前記第2の基板に配置される、請求項2に記載の半導体装置。
- 前記容量素子は、
前記第2の基板を構成する支持基板内に導電性不純物が拡散された半導体領域としての第1の電極と、
前記第1の電極の上面の少なくとも一部を覆う誘電体層と、
前記誘電体層の上面の少なくとも一部を覆う金属層、または導電性不純物を含む半導体層としての第2の電極とを有する、請求項1に記載の半導体装置。 - 前記容量素子は、
導電性不純物を含む半導体層としての第1の電極と、
前記第1の電極の上面の少なくとも一部を覆う誘電体層と、
前記誘電体層の上面の少なくとも一部を覆う、導電性不純物を含む半導体層、または金属層としての第2の電極とを有する、請求項1に記載の半導体装置。 - 前記容量素子は、
金属層としての第1の電極と、
前記第1の電極の上面の少なくとも一部を覆う誘電体層と、
前記誘電体層の上面の少なくとも一部を覆う金属層としての第2の電極とを有する、請求項1に記載の半導体装置。 - 前記第2の基板は、
第2の層間絶縁膜と、
前記第2の層間絶縁膜を介在するように複数形成される第2の配線層とを含み、
複数積層される前記第2の配線層のうちの1つの前記第2の配線層としての第1の電極と、
前記第1の電極の上面の少なくとも一部を覆う前記第2の層間絶縁膜としての誘電体層と、
前記誘電体層の上面の少なくとも一部を覆う、前記1つの前記第2の配線層とは別の前記第2の配線層としての第2の電極とからなる部分が前記容量素子として用いられる、請求項1に記載の半導体装置。 - 光電変換が行なわれる複数の受光素子を含む複数の画素の少なくとも一部を構成する第1の基板と、
前記受光素子が供給する電荷を蓄える容量素子を有する第2の基板とを備え、
前記第1の基板および前記第2の基板は一体となるように接合面において互いに接合され、
前記受光素子と前記容量素子とは前記接合面に垂直な方向に関して互いに対向するように配置され、
前記容量素子は前記第2の基板の前記接合面から離れた位置にあり、
前記接合面に垂直な方向に関して前記受光素子と重なるように、前記受光素子より前記第2の基板側に進む光を遮光する容量素子側遮光膜を有し、
前記容量素子側遮光膜は前記接合面に垂直な方向に関して前記受光素子と前記容量素子との間にある、半導体装置。 - 前記容量素子側遮光膜は、前記接合面に垂直な方向に関して前記受光素子と完全に重なるように形成される、請求項12に記載の半導体装置。
- 前記第1の基板は、
前記第1の基板と前記第2の基板とを電気的に接続するように前記第1の基板の接合面に形成される複数の第1の接続部を含み、
前記第2の基板は、
前記第1の接続部と電気的に接続するように前記第2の基板の接合面に形成される複数の第2の接続部を含む、請求項12に記載の半導体装置。 - 複数の前記画素は平面視において格子状に配置されており、
複数の前記第1および第2の接続部は、平面視において互いに隣り合う1対の前記第1の接続部の第1の間隙部、および平面視において互いに隣り合う1対の前記第2の接続部の第2の間隙部の最短距離のベクトルの方向が、前記画素の整列する方向に対して斜め方向に延びるように配置される、請求項14に記載の半導体装置。 - 前記容量素子側遮光膜は、前記第1の基板に配置される、請求項12に記載の半導体装置。
- 前記容量素子側遮光膜は、前記第2の基板に配置される、請求項12に記載の半導体装置。
- 前記容量素子は、
前記第2の基板を構成する支持基板内に導電性不純物が拡散された半導体領域としての第1の電極と、
前記第1の電極の上面の少なくとも一部を覆う誘電体層と、
前記誘電体層の上面の少なくとも一部を覆う金属層、または導電性不純物を含む半導体層としての第2の電極とを有する、請求項12に記載の半導体装置。 - 前記容量素子は、
導電性不純物を含む半導体層としての第1の電極と、
前記第1の電極の上面の少なくとも一部を覆う誘電体層と、
前記誘電体層の上面の少なくとも一部を覆う、金属層、または導電性不純物を含む半導体層としての第2の電極とを有する、請求項12に記載の半導体装置。 - 光電変換が行なわれる複数の受光素子を含む複数の画素の少なくとも一部を構成する第1の基板を準備する工程と、
前記受光素子が供給する電荷を蓄える容量素子を有する第2の基板を準備する工程と、
前記第1の基板と前記第2の基板とを電気的に接続するように接合する工程とを備え、
前記第1の基板を準備する工程は、
前記受光素子を形成する工程と、
前記第1の基板と前記第2の基板との接合面に、第1の接続部を形成する工程とを含み、
前記第2の基板を準備する工程は、
支持基板に前記容量素子を形成する工程と、
前記第2の基板と前記第1の基板との接合面に、第2の接続部を形成する工程とを含み、
前記接合する工程においては、前記第1の基板に形成された前記第1の接続部と、前記第2の基板に形成された前記第2の接続部とが互いに接触するように、前記第1の基板の前記接合面と、前記第2の基板の前記接合面とを接合し、
前記第2の基板に形成される前記容量素子は前記第2の基板の前記接合面から離れた位置に形成される、半導体装置の製造方法。
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