JP2014011304A - 固体撮像装置 - Google Patents
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- 238000003384 imaging method Methods 0.000 title claims abstract description 38
- 239000010410 layer Substances 0.000 claims abstract description 266
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims abstract description 176
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 claims abstract description 166
- 239000011229 interlayer Substances 0.000 claims abstract description 35
- 238000002955 isolation Methods 0.000 claims abstract description 26
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 claims abstract description 20
- 229910000577 Silicon-germanium Inorganic materials 0.000 claims description 90
- 239000012535 impurity Substances 0.000 description 36
- 238000009792 diffusion process Methods 0.000 description 30
- 238000000034 method Methods 0.000 description 27
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 25
- 239000000463 material Substances 0.000 description 22
- 238000012546 transfer Methods 0.000 description 22
- 230000002093 peripheral effect Effects 0.000 description 14
- 230000005669 field effect Effects 0.000 description 13
- 230000008569 process Effects 0.000 description 13
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 12
- 125000006850 spacer group Chemical group 0.000 description 12
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 10
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 10
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 8
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 8
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 description 8
- 239000012790 adhesive layer Substances 0.000 description 7
- 239000000470 constituent Substances 0.000 description 7
- 238000005468 ion implantation Methods 0.000 description 7
- 238000000206 photolithography Methods 0.000 description 7
- 238000001020 plasma etching Methods 0.000 description 7
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 6
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical compound [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 238000010521 absorption reaction Methods 0.000 description 5
- 238000005229 chemical vapour deposition Methods 0.000 description 5
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 5
- 238000005530 etching Methods 0.000 description 5
- 230000006870 function Effects 0.000 description 5
- 239000010703 silicon Substances 0.000 description 5
- 229910004298 SiO 2 Inorganic materials 0.000 description 4
- 239000003086 colorant Substances 0.000 description 4
- 239000013078 crystal Substances 0.000 description 4
- 230000031700 light absorption Effects 0.000 description 4
- 238000012545 processing Methods 0.000 description 4
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 description 3
- 239000011159 matrix material Substances 0.000 description 3
- 150000004767 nitrides Chemical class 0.000 description 3
- 230000001681 protective effect Effects 0.000 description 3
- 239000011241 protective layer Substances 0.000 description 3
- 229910052814 silicon oxide Inorganic materials 0.000 description 3
- 238000013461 design Methods 0.000 description 2
- 239000002019 doping agent Substances 0.000 description 2
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 2
- 229910052732 germanium Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000012212 insulator Substances 0.000 description 2
- 238000002156 mixing Methods 0.000 description 2
- 229910021420 polycrystalline silicon Inorganic materials 0.000 description 2
- 229920005591 polysilicon Polymers 0.000 description 2
- 238000004544 sputter deposition Methods 0.000 description 2
- 239000002344 surface layer Substances 0.000 description 2
- 238000001039 wet etching Methods 0.000 description 2
- RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N Copper Chemical compound [Cu] RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052581 Si3N4 Inorganic materials 0.000 description 1
- LEVVHYCKPQWKOP-UHFFFAOYSA-N [Si].[Ge] Chemical compound [Si].[Ge] LEVVHYCKPQWKOP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000009825 accumulation Methods 0.000 description 1
- 230000004913 activation Effects 0.000 description 1
- 230000002411 adverse Effects 0.000 description 1
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 1
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000001055 blue pigment Substances 0.000 description 1
- 239000003990 capacitor Substances 0.000 description 1
- 230000008859 change Effects 0.000 description 1
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 1
- 239000013256 coordination polymer Substances 0.000 description 1
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010949 copper Substances 0.000 description 1
- 238000001514 detection method Methods 0.000 description 1
- 238000011161 development Methods 0.000 description 1
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 1
- GNPVGFCGXDBREM-UHFFFAOYSA-N germanium atom Chemical compound [Ge] GNPVGFCGXDBREM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000001056 green pigment Substances 0.000 description 1
- 238000009413 insulation Methods 0.000 description 1
- 150000002736 metal compounds Chemical class 0.000 description 1
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 1
- 239000005416 organic matter Substances 0.000 description 1
- 230000003647 oxidation Effects 0.000 description 1
- 238000007254 oxidation reaction Methods 0.000 description 1
- 239000001054 red pigment Substances 0.000 description 1
- 238000005070 sampling Methods 0.000 description 1
- 230000035945 sensitivity Effects 0.000 description 1
- HQVNEWCFYHHQES-UHFFFAOYSA-N silicon nitride Chemical compound N12[Si]34N5[Si]62N3[Si]51N64 HQVNEWCFYHHQES-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000000638 solvent extraction Methods 0.000 description 1
- 238000003860 storage Methods 0.000 description 1
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-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L27/00—Devices consisting of a plurality of semiconductor or other solid-state components formed in or on a common substrate
- H01L27/14—Devices consisting of a plurality of semiconductor or other solid-state components formed in or on a common substrate including semiconductor components sensitive to infrared radiation, light, electromagnetic radiation of shorter wavelength or corpuscular radiation and specially adapted either for the conversion of the energy of such radiation into electrical energy or for the control of electrical energy by such radiation
- H01L27/144—Devices controlled by radiation
- H01L27/146—Imager structures
- H01L27/14601—Structural or functional details thereof
- H01L27/1462—Coatings
- H01L27/14621—Colour filter arrangements
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- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L27/00—Devices consisting of a plurality of semiconductor or other solid-state components formed in or on a common substrate
- H01L27/14—Devices consisting of a plurality of semiconductor or other solid-state components formed in or on a common substrate including semiconductor components sensitive to infrared radiation, light, electromagnetic radiation of shorter wavelength or corpuscular radiation and specially adapted either for the conversion of the energy of such radiation into electrical energy or for the control of electrical energy by such radiation
- H01L27/144—Devices controlled by radiation
- H01L27/146—Imager structures
- H01L27/14601—Structural or functional details thereof
- H01L27/1462—Coatings
- H01L27/14623—Optical shielding
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- H—ELECTRICITY
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- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L27/00—Devices consisting of a plurality of semiconductor or other solid-state components formed in or on a common substrate
- H01L27/14—Devices consisting of a plurality of semiconductor or other solid-state components formed in or on a common substrate including semiconductor components sensitive to infrared radiation, light, electromagnetic radiation of shorter wavelength or corpuscular radiation and specially adapted either for the conversion of the energy of such radiation into electrical energy or for the control of electrical energy by such radiation
- H01L27/144—Devices controlled by radiation
- H01L27/146—Imager structures
- H01L27/14601—Structural or functional details thereof
- H01L27/14625—Optical elements or arrangements associated with the device
- H01L27/14627—Microlenses
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- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L27/00—Devices consisting of a plurality of semiconductor or other solid-state components formed in or on a common substrate
- H01L27/14—Devices consisting of a plurality of semiconductor or other solid-state components formed in or on a common substrate including semiconductor components sensitive to infrared radiation, light, electromagnetic radiation of shorter wavelength or corpuscular radiation and specially adapted either for the conversion of the energy of such radiation into electrical energy or for the control of electrical energy by such radiation
- H01L27/144—Devices controlled by radiation
- H01L27/146—Imager structures
- H01L27/14601—Structural or functional details thereof
- H01L27/1464—Back illuminated imager structures
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- H01L27/00—Devices consisting of a plurality of semiconductor or other solid-state components formed in or on a common substrate
- H01L27/14—Devices consisting of a plurality of semiconductor or other solid-state components formed in or on a common substrate including semiconductor components sensitive to infrared radiation, light, electromagnetic radiation of shorter wavelength or corpuscular radiation and specially adapted either for the conversion of the energy of such radiation into electrical energy or for the control of electrical energy by such radiation
- H01L27/144—Devices controlled by radiation
- H01L27/146—Imager structures
- H01L27/14683—Processes or apparatus peculiar to the manufacture or treatment of these devices or parts thereof
- H01L27/14687—Wafer level processing
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- H01L31/00—Semiconductor devices sensitive to infrared radiation, light, electromagnetic radiation of shorter wavelength or corpuscular radiation and specially adapted either for the conversion of the energy of such radiation into electrical energy or for the control of electrical energy by such radiation; Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment thereof or of parts thereof; Details thereof
- H01L31/02—Details
- H01L31/0232—Optical elements or arrangements associated with the device
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- H—ELECTRICITY
- H04—ELECTRIC COMMUNICATION TECHNIQUE
- H04N—PICTORIAL COMMUNICATION, e.g. TELEVISION
- H04N25/00—Circuitry of solid-state image sensors [SSIS]; Control thereof
- H04N25/10—Circuitry of solid-state image sensors [SSIS]; Control thereof for transforming different wavelengths into image signals
- H04N25/11—Arrangement of colour filter arrays [CFA]; Filter mosaics
- H04N25/13—Arrangement of colour filter arrays [CFA]; Filter mosaics characterised by the spectral characteristics of the filter elements
- H04N25/134—Arrangement of colour filter arrays [CFA]; Filter mosaics characterised by the spectral characteristics of the filter elements based on three different wavelength filter elements
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- H04N25/00—Circuitry of solid-state image sensors [SSIS]; Control thereof
- H04N25/70—SSIS architectures; Circuits associated therewith
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- H01L27/14—Devices consisting of a plurality of semiconductor or other solid-state components formed in or on a common substrate including semiconductor components sensitive to infrared radiation, light, electromagnetic radiation of shorter wavelength or corpuscular radiation and specially adapted either for the conversion of the energy of such radiation into electrical energy or for the control of electrical energy by such radiation
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- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
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- Engineering & Computer Science (AREA)
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- Condensed Matter Physics & Semiconductors (AREA)
- Electromagnetism (AREA)
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- Multimedia (AREA)
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Abstract
【解決手段】本実施形態の固体撮像装置は、半導体基板150の素子分離領域90に囲まれた単位セル領域UC内に設けられる光電変換素子1と、半導体基板150の表面側に設けられる配線80を含む層間絶縁膜92と、半導体基板150の表面に対向する裏面側に設けられるカラーフィルタ118と、裏面側においてカラーフィルタ118上に設けられるマイクロレンズ117と、光電変換素子1とカラーフィルタ118との間に設けられるインナーレンズ31と、半導体基板150の第2の面側に設けられ、インナーレンズ31に隣接する遮光層32と、を含む。
【選択図】図5
Description
以下、図面を参照しながら、本実施形態について詳細に説明する。以下の説明において、同一の機能及び構成を有する要素については、同一符号を付し、重複する説明は必要に応じて行う。
図1乃至図8を参照して、第1の実施形態に係る固体撮像装置及びその製造方法について説明する。
図1乃至図5を用いて、第1の実施形態に係る固体撮像装置の構造について、説明する。
本実施形態のイメージセンサ100のように、半導体基板150の裏面側からの光が画素1に照射される構造のイメージセンサは、裏面照射型イメージセンサとよばれる。
図4は、本実施形態の裏面照射型イメージセンサ100における画素アレイ120の平面レイアウトの一例を示している。図5は、本実施形態の裏面照射型イメージセンサ100の画素アレイ120の断面構造の一例を示している。
図5において、図示の簡単化のために、フォトダイオード1の構成要素として1つのN型不純物層10のみが図示されているが、フォトダイオード1の特性(例えば、感度及び光電変換効率)を向上させるために、半導体基板150の深さ方向において不純物濃度の異なる複数のN型及びP型不純物層が、フォトダイオード1の形成領域(フォトダイオード形成領域とよぶ)内に設けられてもよい。
トランスファゲート2のゲート電極21は、ゲート絶縁膜22を介して、半導体基板150上に設けられている。フォトダイオード1の構成要素としてのN型不純物層10及びフローティングディフュージョン6としてのN型不純物層60が、トランスファゲート132のソース及びドレインとしてそれぞれ機能する。そして、半導体基板150内において、2つのN型不純物層10,60間の半導体領域が、トランスファゲート2のチャネル領域となる。
例えば、各遮光層32の平面形状において、外周部の角は丸くなっている、又は、欠けている。
図6乃至図8を用いて、第1の実施形態の固体撮像装置(例えば、イメージセンサ)の製造方法について、説明する。
図6乃至図8は、本実施形態のイメージセンサの製造方法の各工程における画素アレイ120の断面工程図を示している。ここでは、図6乃至図8に加えて、図2及び図5も適宜用いて、本実施形態のイメージセンサの製造方法の各工程について、説明する。
尚、本実施形態のイメージセンサの製造方法において、後述の各構成要素の形成順序は、プロセスの整合性が確保されていれば、適宜変更されてもよい。
例えば、イオン注入によって、不純物半導体層からなる素子分離層90が、形成されたマスクに基づいて、半導体基板150内の所定の位置(例えば、画素アレイ120内)に形成される。
形成されたゲート絶縁膜22,72上に、ポリシリコン層が、CVD法により、堆積される。そして、フォトリソグラフィ及びRIE法によって、ポリシリコン層が加工され、所定のゲート長及び所定のゲート幅を有するゲート電極21,71,が、ゲート絶縁膜22,72を挟んで、半導体基板150の表面(第1の面)上に形成される。
また、アンプトランジスタのような、画素アレイ120内の各トランジスタのソース/ドレインとしての不純物層(図示せず)が、それぞれ形成される。
例えば、アルミニウムや銅などを主成分として含む導電層が、スパッタ法によって層間絶縁膜92上及びプラグCP1,81上に堆積される。堆積された導電層は、フォトリソグラフィ及びRIE法によって、プラグCP1,81に接続されるように、所定の形状に加工される。これによって、配線としての導電層80が、形成される。配線としての導電層80の形成と同時に、同じ材料からなる遮光膜及びダミー層が、層間絶縁膜92上に形成される。配線80は、ダマシン法を用いて形成されてもよい。
例えば、SiGeが、遮光層32Zを形成するために、用いられる。SiGe層32Zは、CVD法又は選択的エピタキシャル層を用いて、形成される。半導体基板150の裏面上に堆積されたシリコン層内に、ゲルマニウムがイオン注入されることによって、SiGe層32Zが形成されてもよい。尚、SiGe層32Zは、真性半導体層でもよいし、N型/P型の半導体層でもよい。SiGe層32Zは、不純物を含んでいてもよい。
半導体基板150の裏面上及びSiGe層32上に、レンズ材(例えば、SiO2)が堆積される。
半導体基板の主面に対して垂直方向において画素アレイ120と重なる位置に、所定の色素膜の配列パターンを有するカラーフィルタ118が、半導体基板150の裏面側の絶縁膜95上に形成される。カラーフィルタ118内の色素膜F1,F2,F3の配列パターンにおいて、互いに隣り合う色素膜F1,F2,F3の色は、異なっている。
カラーフィルタ118が形成される前に、インナーレンズ31上及び遮光層32を覆う絶縁膜95上に、半導体基板150の裏面側における配線、パッド又は金属の遮光層が形成されてもよい。例えば、金属膜が、スパッタ法によって絶縁膜95上に堆積される。堆積された金属膜が、フォトリソグラフィ法及びRIE法によって、所定の形状に加工される。加工された金属膜によって、半導体基板150の裏面側の配線、パッド及び金属の遮光層が、形成される。
図9を参照して、第2の実施形態の固体撮像装置(例えば、イメージセンサ)について、説明する。尚、本実施形態において、第1の実施形態で述べた構成と実質的に同じ構成に関する説明は、必要に応じて行う。
その結果として、フォトダイオード1に入射される光の量の増加によって、形成される画像の画質を向上できる。
図10及び図11を参照して、第3の実施形態の固体撮像装置(例えば、イメージセンサ)について、説明する。尚、本実施形態において、第1及び第2の実施形態で述べた構成と実質的に同じ構成に関する説明は、必要に応じて行う。
この結果として、SiGe層32Bに対する加工無しに、テーパー状の断面形状のSiGe層32Bが形成される。
尚、テーパー状のSiGe層32Bが形成された後、膜38は除去されてもよい。
図12乃至図14を参照して、実施形態の固体撮像装置の変形例について、説明する。
尚、本変形例において、第1乃至第3の実施形態で述べた構成と実質的に同じ構成に関する説明は、必要に応じて行う。また、図12及び図13において、半導体基板の表面側の層間絶縁膜、配線及び支持基板の図示は簡略化している。
図12に示されるように、インナーレンズ31と遮光層(例えば、SiGe層)32との境界に、インナーレンズ材及びSiGeとは異なる材料からなる層(以下、界面層とよぶ)が、設けられてもよい。
第2の実施形態において、図10に示されるように、遮光層としてのSiGe層の断面形状をテーパー状にすることによって、受光面側におけるフォトダイオード1の開口面積を大きくしている。
第1乃至第3の実施形態において、遮光層としてのSiGe層32が、単位セル領域内の一部の領域、より具体的には、トランスファゲートの形成領域及びフローティングディフュージョンの形成領域を覆っている例が示されている。
但し、図14に示されるように、遮光層としてのSiGe層32が、単位セルUC間の境界部に設けられていれば、SiGe層32が素子分離領域内に設けられ、インナーレンズ31が単位セル領域UC内に設けられてもよい。
これによって、半導体基板150の裏面側におけるフォトダイオード1の開口面積を大きくでき、マイクロレンズMLからフォトダイオード1に照射される光の量を増大できる。
図15を参照して、各実施形態の固体撮像装置の適用例について、説明する。
本実施形態のイメージセンサ100を含むカメラ900は、形成される画像の画質を改善できる。
Claims (5)
- 半導体基板において素子分離領域に囲まれた単位セル領域内に設けられる光電変換素子と、
前記半導体基板の第1の面側に設けられ、配線を含む層間絶縁膜と、
前記半導体基板の前記第1の面に対向する第2の面側に設けられるカラーフィルタと、
前記半導体基板の前記第2の面側において、前記カラーフィルタ上に設けられるマイクロレンズと、
前記半導体基板の第2の面に対して垂直方向において、前記光電変換素子と前記カラーフィルタとの間に設けられるインナーレンズと、
前記半導体基板の前記第2の面側に設けられ、前記半導体基板の第2の面に対して平行方向において前記インナーレンズに隣接する遮光層と、
を具備し、
前記遮光層は、SiGeを含む層であり、
前記遮光層の厚さは、前記インナーレンズの厚さより薄い、
ことを特徴とする固体撮像装置。 - 半導体基板内において素子分離領域に囲まれた単位セル領域内に設けられる光電変換素子と、
前記半導体基板の第1の面側に設けられ、配線を含む層間絶縁膜と、
前記半導体基板の前記第1の面に対向する第2の面側に設けられるカラーフィルタと、
前記半導体基板の前記第2の面側において、前記カラーフィルタ上に設けられるマイクロレンズと、
前記半導体基板の第2の面に対して垂直方向において、前記光電変換素子と前記カラーフィルタとの間に設けられるインナーレンズと、
前記半導体基板の前記第2の面側に設けられ、前記半導体基板の第2の面に対して平行方向において前記インナーレンズに隣接する遮光層と、
を具備することを特徴とする固体撮像装置。 - 前記遮光層は、SiGeを含む層であり、前記半導体基板は、Si基板である、
ことを特徴とする請求項2に記載の固体撮像装置。 - 前記遮光層の厚さは、前記インナーレンズの厚さより薄い、
ことを特徴とする請求項2又は3に記載の固体撮像装置。 - 前記カラーフィルタ側における前記遮光層の第1の寸法は、前記半導体基板側における前記遮光層の第2の寸法より小さく、
前記カラーフィルタ側における前記インナーレンズの第3の寸法は、前記半導体基板側における前記インナーレンズの第4の寸法より小さい、
ことを特徴とする請求項2乃至4のいずれか1項に記載の固体撮像装置。
Priority Applications (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2012146871A JP2014011304A (ja) | 2012-06-29 | 2012-06-29 | 固体撮像装置 |
CN201310061506.9A CN103515402A (zh) | 2012-06-29 | 2013-02-27 | 固体拍摄装置 |
US13/909,954 US8835981B2 (en) | 2012-06-29 | 2013-06-04 | Solid-state image sensor |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2012146871A JP2014011304A (ja) | 2012-06-29 | 2012-06-29 | 固体撮像装置 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2014011304A true JP2014011304A (ja) | 2014-01-20 |
Family
ID=49777780
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2012146871A Pending JP2014011304A (ja) | 2012-06-29 | 2012-06-29 | 固体撮像装置 |
Country Status (3)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US8835981B2 (ja) |
JP (1) | JP2014011304A (ja) |
CN (1) | CN103515402A (ja) |
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Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
RD04 | Notification of resignation of power of attorney |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7424 Effective date: 20131219 |
|
RD04 | Notification of resignation of power of attorney |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7424 Effective date: 20131226 |
|
RD04 | Notification of resignation of power of attorney |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7424 Effective date: 20140109 |
|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20140819 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20150326 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20150421 |
|
A02 | Decision of refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02 Effective date: 20150818 |