JP2014111734A - 感光性組成物、これを用いた灰色硬化膜、灰色画素及び固体撮像素子 - Google Patents

感光性組成物、これを用いた灰色硬化膜、灰色画素及び固体撮像素子 Download PDF

Info

Publication number
JP2014111734A
JP2014111734A JP2013226501A JP2013226501A JP2014111734A JP 2014111734 A JP2014111734 A JP 2014111734A JP 2013226501 A JP2013226501 A JP 2013226501A JP 2013226501 A JP2013226501 A JP 2013226501A JP 2014111734 A JP2014111734 A JP 2014111734A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
group
composition
preferable
carbon atoms
mass
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
JP2013226501A
Other languages
English (en)
Other versions
JP6071843B2 (ja
Inventor
Kazuyuki Takahashi
和敬 高橋
Takanori Taguchi
貴規 田口
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Fujifilm Corp
Original Assignee
Fujifilm Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Fujifilm Corp filed Critical Fujifilm Corp
Priority to JP2013226501A priority Critical patent/JP6071843B2/ja
Publication of JP2014111734A publication Critical patent/JP2014111734A/ja
Application granted granted Critical
Publication of JP6071843B2 publication Critical patent/JP6071843B2/ja
Active legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Classifications

    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C08ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08FMACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED BY REACTIONS ONLY INVOLVING CARBON-TO-CARBON UNSATURATED BONDS
    • C08F290/00Macromolecular compounds obtained by polymerising monomers on to polymers modified by introduction of aliphatic unsaturated end or side groups
    • C08F290/02Macromolecular compounds obtained by polymerising monomers on to polymers modified by introduction of aliphatic unsaturated end or side groups on to polymers modified by introduction of unsaturated end groups
    • C08F290/06Polymers provided for in subclass C08G
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C08ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08GMACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED OTHERWISE THAN BY REACTIONS ONLY INVOLVING UNSATURATED CARBON-TO-CARBON BONDS
    • C08G73/00Macromolecular compounds obtained by reactions forming a linkage containing nitrogen with or without oxygen or carbon in the main chain of the macromolecule, not provided for in groups C08G12/00 - C08G71/00
    • C08G73/02Polyamines
    • C08G73/0206Polyalkylene(poly)amines
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C09DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • C09DCOATING COMPOSITIONS, e.g. PAINTS, VARNISHES OR LACQUERS; FILLING PASTES; CHEMICAL PAINT OR INK REMOVERS; INKS; CORRECTING FLUIDS; WOODSTAINS; PASTES OR SOLIDS FOR COLOURING OR PRINTING; USE OF MATERIALS THEREFOR
    • C09D133/00Coating compositions based on homopolymers or copolymers of compounds having one or more unsaturated aliphatic radicals, each having only one carbon-to-carbon double bond, and at least one being terminated by only one carboxyl radical, or of salts, anhydrides, esters, amides, imides, or nitriles thereof; Coating compositions based on derivatives of such polymers
    • C09D133/04Homopolymers or copolymers of esters
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C09DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • C09DCOATING COMPOSITIONS, e.g. PAINTS, VARNISHES OR LACQUERS; FILLING PASTES; CHEMICAL PAINT OR INK REMOVERS; INKS; CORRECTING FLUIDS; WOODSTAINS; PASTES OR SOLIDS FOR COLOURING OR PRINTING; USE OF MATERIALS THEREFOR
    • C09D17/00Pigment pastes, e.g. for mixing in paints
    • C09D17/002Pigment pastes, e.g. for mixing in paints in organic medium
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C09DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • C09DCOATING COMPOSITIONS, e.g. PAINTS, VARNISHES OR LACQUERS; FILLING PASTES; CHEMICAL PAINT OR INK REMOVERS; INKS; CORRECTING FLUIDS; WOODSTAINS; PASTES OR SOLIDS FOR COLOURING OR PRINTING; USE OF MATERIALS THEREFOR
    • C09D17/00Pigment pastes, e.g. for mixing in paints
    • C09D17/004Pigment pastes, e.g. for mixing in paints containing an inorganic pigment
    • C09D17/007Metal oxide
    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/004Photosensitive materials
    • G03F7/0047Photosensitive materials characterised by additives for obtaining a metallic or ceramic pattern, e.g. by firing
    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/004Photosensitive materials
    • G03F7/027Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds
    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/004Photosensitive materials
    • G03F7/027Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds
    • G03F7/032Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds with binders
    • G03F7/033Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds with binders the binders being polymers obtained by reactions only involving carbon-to-carbon unsaturated bonds, e.g. vinyl polymers
    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/004Photosensitive materials
    • G03F7/09Photosensitive materials characterised by structural details, e.g. supports, auxiliary layers
    • G03F7/105Photosensitive materials characterised by structural details, e.g. supports, auxiliary layers having substances, e.g. indicators, for forming visible images
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C08ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08LCOMPOSITIONS OF MACROMOLECULAR COMPOUNDS
    • C08L79/00Compositions of macromolecular compounds obtained by reactions forming in the main chain of the macromolecule a linkage containing nitrogen with or without oxygen or carbon only, not provided for in groups C08L61/00 - C08L77/00
    • C08L79/02Polyamines

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • Wood Science & Technology (AREA)
  • Health & Medical Sciences (AREA)
  • Polymers & Plastics (AREA)
  • Medicinal Chemistry (AREA)
  • Spectroscopy & Molecular Physics (AREA)
  • Architecture (AREA)
  • Structural Engineering (AREA)
  • Ceramic Engineering (AREA)
  • Inorganic Chemistry (AREA)
  • Materials For Photolithography (AREA)
  • Compositions Of Macromolecular Compounds (AREA)
  • Optical Filters (AREA)
  • Polymerisation Methods In General (AREA)
  • Paints Or Removers (AREA)
  • Solid State Image Pick-Up Elements (AREA)

Abstract

【課題】好適な光透過性と屈折率とを有する灰色の硬化膜を作製することができる組成物を提供する。また、必要によりこれを画素形成用の感光性組成物とし、特にフォトリソグラフィー性に優れた組成物を提供する。さらに、当該感光性組成物を用いて形成した硬化膜、画素および固体撮像素子を提供する。
【解決手段】高屈折率粒子と、黒色顔料と、分散剤と、有機溶剤とを含む組成物。
【選択図】なし

Description

本発明は、感光性組成物、これを用いた灰色硬化膜及び灰色画素及び固体撮像素子に関する。
イメージセンサ(CCD,CMOS)の解像度の向上を目的として、その画素数の拡大とともに画素の微細化が進展している。その反面、開口部は小さくなり、感度低下の要因となっている。そこで、開口部の大きさが制限されていても感度を実現するよう、複数色の画素の1色を白(透明)にする技術が提案されている(例えば、特許文献1参照)。同時に、この白色画素の成形材料の研究も進められており、下記特許文献2〜4などの感光性組成物が提案されている。
さらに最近では、上記白色画素とともに、あるいはこれとは別により透過率の低い灰色画素を採用し、イメージセンサーのダイナミックレンジを拡大することなどが試みられている(特許文献5,6参照)。
特開2007−53153号公報 特開2010−49029号公報 特開2010−78729号公報 特開2011−127096号公報 特開2011−66637号公報 特開2012−74763号公報
前記の白色画素については、前述のとおりその成形材料の研究開発が進んでいる。しかしながら、最近提案され始めたさらに透過率の低い灰色画素については、デバイスの設計は進んでいても、その材料の検討は未着手の状況であった。
上記の点に鑑み、本発明は、好適な光透過性と屈折率とを有する灰色の硬化膜を作製することができる組成物の提供を目的とする。また、必要によりこれを画素形成用の感光性組成物とし、特にフォトリソグラフィー性に優れた組成物の提供を目的とする。さらに、当該感光性組成物を用いて形成した硬化膜、画素および固体撮像素子の提供を目的とする。
前記課題を解決するための手段は、以下の通りである。
〔1〕高屈折率粒子と、黒色顔料と、分散剤と、有機溶剤とを含む組成物。
〔2〕さらに、重合性化合物と、光重合開始剤と、有機溶剤とを含む〔1〕に記載の組成物。
〔3〕上記高屈折率粒子が二酸化チタンまたは酸化ジルコニウムの粒子である〔1〕または〔2〕に記載の組成物。
〔4〕前記組成物の全固形分中、前記高屈折粒子の含有量が5〜30質量%である〔1〕〜〔3〕のいずれか1つに記載の組成物。
〔5〕上記黒色顔料がチタンブラックである〔1〕〜〔4〕のいずれか1つに記載の組成物。
〔6〕前記組成物の全固形分中、前記黒色顔料の含有量が0.5〜20質量%である〔1〕〜〔5〕のいずれか1つに記載の組成物。
〔7〕上記分散剤がオリゴイミン系分散剤、アクリル系分散剤である〔1〕〜〔6〕のいずれか1つに記載の組成物。
〔8〕さらに赤色顔料を含む〔1〕〜〔7〕のいずれか1つに記載の組成物。
〔9〕さらに紫外線吸収剤を含む〔1〕〜〔8〕のいずれか1つに記載の組成物。
〔10〕上記分散剤の全固形分中の含有量が0.05〜10質量%である〔1〕〜〔9〕のいずれか1つに記載の組成物。
〔11〕上記分散剤が下記式(I−1)で表される繰り返し単位及び式(I−2)で表される繰り返し単位、又は、式(I−1)で表される繰り返し単位及び式(I−2a)で表される繰り返し単位を含む分散樹脂である〔1〕〜〔10〕のいずれか1つに記載の組成物。
及びRは、各々独立に、水素原子、ハロゲン原子又はアルキル基を表す。aは、各々独立に、1〜5の整数を表す。*は繰り返し単位間の連結部を表す。R及びRはRと同義の基である。Lは単結合、アルキレン基、アルケニレン基、アリーレン基、ヘテロアリーレン基、イミノ基、エーテル基、チオエーテル基、カルボニル基、またはこれらの組合せに係る連結基である。LはCRCRとNとともに環構造形成する構造部位である。XはpKa14以下の官能基を有する基を表す。Yは原子数40〜10,000の側鎖を表す。
〔12〕上記分散剤が下記式(1)〜(5)のいずれかの繰り返し単位を含む〔1〕〜〔10〕のいずれか1つに記載の組成物。
式中、X〜Xは水素原子、ハロゲン原子、又は1価の有機基を表す。Y〜Yは単結合もしくは2価の連結基を表す。Z〜Zは水素原子又は1価の有機基を表す。Rは、水素原子又は1価の有機基を表し、共重合体中に構造の異なるRが存在していてもよい。n、m、p、q、及びrは、それぞれ1〜500の整数を表す。jおよびkはそれぞれ独立に2〜8の整数である。
〔13〕固体撮像素子の画素形成用である〔1〕〜〔12〕のいずれか1つに記載の組成物。
〔14〕〔1〕〜〔13〕のいずれか1つに記載の組成物を硬化させてなる灰色硬化膜。
〔15〕上記硬化膜が灰色であり、その灰色が、波長400nm〜700nmの可視光領域において、その透過率の最大値と最小値の差が0.1〜30%以内になる着色として定義される〔14〕に記載の灰色硬化膜。
〔16〕〔14〕または〔15〕に記載の硬化膜からなる固体撮像素子の画素であって、上記高屈折率粒子と黒色顔料と分散剤とを含む固体撮像素子の灰色画素。
〔17〕〔16〕に記載の灰色画素を具備する固体撮像素子。
本明細書において、化学式中、特定の符号で表示された置換基や連結基等(以下、置換基等という)が複数あるとき、あるいは複数の置換基等を同時もしくは択一的に規定するときには、それぞれの置換基等は互いに同一でも異なっていてもよい。このことは、置換基等の数の規定についても同様である。置換基等の数が2以上のものとして規定されているとき、その2以上の置換基等は互いに異なっていても同じであってもよい。また、特に断らなくても、複数の置換基等が隣接するときにはそれらが互いに連結したり縮環したりして環を形成していてもよい。
本発明の組成物によれば、好適な光透過性と屈折率とを有する灰色の硬化膜を作製することができる。また、本発明の組成物は必要によりこれを画素形成用の感光性組成物とすることができ、当該感光性組成物は特にフォトリソグラフィー性に優れる。さらに本発明によれば、上記組成物を用いて、高品位の灰色硬化膜、これを利用した画素および固体撮像素子を提供することができる。
実施例で作製した灰色硬化膜の透過率(波長 400−700nm、温度 25℃)を示したグラフである。 実施例および比較例で作製した灰色硬化膜((a)試験101、(b)試験C01)の外観を示す顕微鏡鎖写真(20000倍)である。
本発明の組成物は、固体撮像素子の画素形成用感光性組成物とすることが好ましく、その成分として、特定の屈折率の高屈折率粒子と、黒色顔料と、分散剤と、重合性化合物と、光重合開始剤と、有機溶媒とを含むことが好ましい。以下、この成分組成の説明を中心に本発明の好ましい実施形態について説明する。
[高屈折率粒子]
高屈折率粒子は、その構成材料(物質)の屈折率が1.8以上であることが好ましく、1.9以上であることがより好ましく、2以上であることがさらに好ましい。上限としては、3以下であることが好ましく、2.9以下であることがより好ましく、2.8以下であることがさらに好ましい。高屈折粒子の屈折率を上記上限値以下とすることにより硬化膜の透過率を変動量で特定の範囲内に保ちつつ、屈折率増加することができ好ましい。一方、その下限値を上記の値以上にすることで、後記他の画素との干渉を抑制・防止することができ好ましい。なお、高屈折率粒子の屈折率の測定方法は、特に断らない限り、後記実施例で測定した値によるものとする。
高屈折率粒子の1次粒子の重量平均径は、150nm以下であることが好ましく、100nm以下であることが更に好ましく、80nm以下であることが特に好ましい。下限値は特にないが、1nm以上であることが実際的である。層中での高屈折率粒子の重量平均径は、200nm以下であることが好ましく、150nm以下であることがより好ましく、100nm以下であることが更に好ましく、80nm以下であることが特に好ましい。下限は特にないが、1nm以上が好ましく、5nm以上がより好ましく、10nm以上がさらに好ましい。このように一次粒子の粒径範囲を層中での粒径範囲と異なる範囲として規定したのは、層中で一次粒子が凝集することを考慮したものである。なお、高屈折率粒子の重量平均径については、特に断らない限り、後記実施例で採用した測定方法により測定した値に基づくものとする。
高屈折率粒子の例としては、Ti、Zr、Sn、Sb、Cu、Fe、Mn、Pb、Cd、As、Cr、Hg、Zn、Al、Mg、Si、P及びSから選択される少なくとも一種の元素を有する金属酸化物を含む粒子が挙げられる。具体的には二酸化チタン、酸化ジルコニウム、酸化錫、酸化インジウム、酸化亜鉛、ITO、シリカ、アルミナ、酸化マグネシウム、酸化バナジウム、酸化ニオブの粒子が挙げられる。中でも、酸化チタン、酸化ジルコニウムの粒子が特に好ましい。金属酸化物粒子は、これらの金属の酸化物を主成分とし、更に他の元素を含むことができる。主成分とは、粒子を構成する成分の中で最も含有量(質量%)が多い成分を意味する。他の元素の例としては、Ti、Zr、Sn、Sb、Cu、Fe、Mn、Pb、Cd、As、Cr、Hg、Zn、Al、Mg、Si、P及びS等が挙げられる。二酸化チタンを主成分とする無機微粒子の結晶構造は、ルチル、ルチル/アナターゼの混晶、アナターゼ、アモルファス構造が主成分であることが好ましく、特にルチル構造が主成分であることが好ましい。
高屈折率粒子は表面処理されていることが好ましい。表面処理は、無機化合物又は有機化合物を用いて実施することができる。表面処理に用いる無機化合物の例としては、アルミナ、シリカ、酸化ジルコニウム及び酸化鉄が挙げられる。中でもアルミナ及びシリカが好ましい。表面処理に用いる有機化合物の例としては、ポリオール、アルカノールアミン、ステアリン酸、シランカップリング剤及びチタネートカップリング剤が挙げられる。
本発明の好ましい実施形態として、二酸化チタンを主成分とする無機微粒子に、Co(コバルト)、Al(アルミニウム)及びZr(ジルコニウム)から選ばれる少なくとも1つの元素を含有するものが挙げられる。これにより、二酸化チタンが有する光触媒活性を抑えることができ、高屈折率層の耐候性を改良することができる。
高屈折率粒子は二種類以上の表面処理を組み合わせて処理されていても構わない。金属酸化物粒子の形状は、米粒状、球形状、立方体状、紡錘形状或いは不定形状であることが好ましい。二種類以上の金属酸化物粒子を高屈折率層及び中屈折率層に併用してもよい。
二酸化チタン粒子の市販物としては、例えば、石原産業(株)製TTOシリーズ(TTO−51(A)、TTO−51(C)など)、TTO−S、Vシリーズ(TTO−S−1、TTO−S−2、TTO−V−3など)、テイカ(株)製MTシリーズ(MT−01、MT−05など)などを挙げることができる。
二酸化ジルコニウム粒子の市販物としては、例えば、UEP、UEP−100(第一稀元素化学工業(株)製)、PCS(日本電工(株)製)、JS−01、JS−03、JS−04(日本電工(株)製)などを挙げることができる。
高屈折率粒子の組成物中の含有量は、全固形分中で、5質量%以上が好ましく、10質量%以上がより好ましく、15質量%以上がさらに好ましい。上限としては、50質量%以下が好ましく、40質量%以下がより好ましく、35質量%以下がさらに好ましく、30質量%以下が特に好ましい。
[黒色顔料]
黒色顔料としては、無機顔料であるカーボンブラックや以下に示す黒色金属含有無機顔料が挙げられる。黒色金属含有無機顔料としては、Co、Cr、Cu、Mn,Ru、Fe、Ni、Sn、Ti及びAgからなる群より選ばれた1種又は2種以上の金属元素を含む金属酸化物、金属窒素物が挙げられる。これらは1種のみを用いてもよく、また、2種以上の混合物として用いることもできる。また、黒色顔料に、さらに、他の色相の無機顔料を組み合わせて用いることで、所望の遮光性を有するように、調製してもよい。組みあわせて用いうる具体的な無機顔料の例として、例えば、亜鉛華、鉛白、リトポン、酸化チタン、酸化クロム、酸化鉄、沈降性硫酸バリウムおよびバライト粉、鉛丹、酸化鉄赤、黄鉛、亜鉛黄(亜鉛黄1種、亜鉛黄2種)、ウルトラマリン青、プロシア青(フェロシアン化鉄カリ)ジルコングレー、プラセオジムイエロー、クロムチタンイエロー、クロムグリーン、ピーコック、ビクトリアグリーン、紺青(プルシアンブルーとは無関係)、バナジウムジルコニウム青、クロム錫ピンク、陶試紅、サーモンピンク等が挙げられる。特に、紫外から赤外までの広い波長域での遮光性を発現する目的で、これら黒色顔料や他の色相を有する無機顔料を、単独のみならず、複数種の顔料を混合し、使用することが可能である。
また、遮光性と硬化性の観点から、黒色顔料としては、銀及び又は錫の金属顔料、チランブラックが好ましく、紫外から赤外までの広い波長域の遮光性を有するという観点からチタンブラックが特に好ましい。チタンブラックとは、チタン原子を有する黒色粒子である。好ましくは低次酸化チタンや酸窒化チタン等である。チタンブラック粒子は、分散性向上、凝集性抑制などの目的で必要に応じ、表面を修飾することが可能である。酸化ケイ素、酸化チタン、酸化ゲルマニウム、酸化アルミニウム、酸化マグネシウム、酸化ジルコニウムで被覆することが可能であり、また、特開2007−302836号公報に示されるような撥水性物質での処理も可能である。前記チタンブラックは、分散性、着色性等を調整する目的でCu、Fe、Mn、V、Ni等の複合酸化物、酸化コバルト、酸化鉄、カーボンブラック等の黒色顔料を1種あるいは2種以上の組み合わせで含有してもよく、この場合、顔料の50質量%以上をチタンブラック粒子が占めるものとする。チタンブラックの市販品の例としては、三菱マテリアル社製チタンブラック10S、12S、13R、13M、13M−C、13R、13R−N、赤穂化成(株)ティラック(Tilack)Dなどが挙げられる。
チタンブラックの製造方法としては、二酸化チタンと金属チタンの混合体を還元雰囲気で加熱し還元する方法(特開昭49−5432号公報)、四塩化チタンの高温加水分解で得られた超微細二酸化チタンを水素を含む還元雰囲気中で還元する方法(特開昭57−205322号公報)、二酸化チタンまたは水酸化チタンをアンモニア存在下で高温還元する方法(特開昭60−65069号公報、特開昭61−201610号公報)、二酸化チタンまたは水酸化チタンにバナジウム化合物を付着させ、アンモニア存在下で高温還元する方法(特開昭61−201610号公報)などがある。ただし、本発明がこれらに限定されるものではない。
黒色顔料の粒径は、平均一次粒子径が5nm以上であることが好ましく、分散性、遮光性、経時での沈降性の観点から平均一次粒子径が10nm以上であることが好ましい。同様の観点から、上限としては10μm以下であることが好ましく、1μm以下であることがより好ましく、100nm以下であることがさらに好ましい。黒色顔料の粒子径は特に断らない限り、後記実施例で測定した値によるものとする。
チタンブラックの比表面積は、とくに限定がないが、かかるチタンブラックを撥水化剤で表面処理した後の撥水性が所定の性能となるために、BET法にて測定した値が通常5〜150m/g程度、特に20〜100m/g程度であることが好ましい。
黒色顔料は1種のみを用いてもよく、複数のものの組み合わせでもよい。
組成物中の黒色顔料の含有量は、全固形分中で、0.5質量%以上であることが好ましく、1質量%以上であることがより好ましく、5質量%以上であることがさらに好ましく、10質量%以上であることが特に好ましい。上限としては、70質量%以下が好ましく、50質量%以下がより好ましく、30質量%以下がさらに好ましく、20質量%以下がさらに好ましい。
黒色顔料の配合比は前記高屈折率粒子100質量部に対して、1部以上であることが好ましく、2部以上であることがより好ましく、5部以上であることが特に好ましい。上限としては、100部以下であることが好ましく、70部以下であることがより好ましく、50部以下であることが特に好ましい。
チタンブラックの配合比は前記二酸化チタン100質量部に対して、1部以上であることが好ましく、2部以上であることがより好ましく、5部以上であることが特に好ましい。上限としては、100部以下であることが好ましく、70部以下であることがより好ましく、50部以下であることが特に好ましい。
[分散剤]
分散剤は組成物中で特に区別して定義されるものではないが、その機能的な側面を考慮し、高屈折率粒子の分散能が高いものと、黒色顔料の分散能が高いものとで、区別して以下に記載する。ただし、このような記載により本発明が限定して解釈されるものではない。
(高屈折率粒子分散用分散剤)
・特定分散樹脂A
本発明において下記式(A1)で表される分散樹脂を高屈折率粒子分散用分散剤として用いることが好ましい。
各置換基および連結基について順次説明するが、置換基Aは高屈折率粒子と相互作用し、前記式(A1)で表される分散剤はn個(1〜9個)の置換基Aを有することにより樹脂として高屈折率粒子と強固に相互作用することができる。また、ポリマー鎖Pは立体反発基として機能することができ、m個有することにより良好な立体反発力を発揮して高屈折率粒子を均一に分散することができる。さらに、前記式(A1)で表される分散剤は分子構造的に、従来のグラフトランダム構造の分散剤で生じ得た粒子間架橋による粒子の凝集などの弊害が生じることもないものと推定される。以下、前記式(A1)における各基について詳細に説明する。なお、式(A1)で表される分散剤は特開2007−277514(特願2006−269707)にも同様の分散剤が開示されており、これを参照して適宜本発明に適用することができる。
・A
前記Aは、酸基、ウレア基、ウレタン基、配位性酸素原子を有する基、塩基性窒素原子を有する基、複素環基、アルキルオキシカルボニル基、アルキルアミノカルボニル基、カルボン酸塩基、スルホンアミド基、アルコキシシリル基、エポキシ基、イソシアネート基及び水酸基よりなる群から選択される基を少なくとも1種有する1価の置換基を表す。なお、以下、この高屈折率粒子に対する吸着能を有する部位(上記官能基及び構造)を、適宜、「吸着部位」と総称して、説明する。
前記吸着部位は、1つのAの中に、少なくとも1種含まれていればよく、2種以上を含んでいてもよい。当該置換基は、前述の吸着部位と、1〜200個までの炭素原子、0個〜20個までの窒素原子、0個〜100個までの酸素原子、1個〜400個までの水素原子、及び0個〜40個までの硫黄原子から成り立つ連結基とが結合してなる1価の置換基であることが好ましい。なお、吸着部位自体が1価の置換基を構成しうる場合には、吸着部位そのものがAで表される1価の置換基であってもよい。
前記「酸基」として、例えば、カルボン酸基、スルホン酸基、モノ硫酸エステル基、リン酸基、モノリン酸エステル基、ホウ酸基が好ましい例として挙げられ、カルボン酸基、スルホン酸基、モノ硫酸エステル基、リン酸基、モノリン酸エステル基がより好ましく、カルボン酸基、スルホン酸基、リン酸基が更に好ましく、カルボン酸基が特に好ましい。
前記「ウレア基」として、例えば、−NR15CONR1617(ここで、R15、R16、及びR17は各々独立に、水素原子、炭素数1〜20までのアルキル基、炭素数6以上のアリール基、又は炭素数7以上のアラルキル基を表す。)が好ましい例として挙げられ、−NR15CONHR17(ここで、R15及びR17は各々独立に、水素原子あるいは、炭素数1〜10までのアルキル基、炭素数6以上のアリール基、炭素数7以上のアラルキル基を表す。)がより好ましく、−NHCONHR17(ここで、R17は水素原子あるいは、炭素数1〜10までのアルキル基、炭素数6以上のアリール基、炭素数7以上のアラルキル基を表す。)が特に好ましい。
前記「ウレタン基」として、例えば、−NHCOOR18、−NR19COOR20、−OCONHR21、−OCONR2223(ここで、R18、R19、R20、R21、R22及びR23は各々独立に、炭素数1〜20までのアルキル基、炭素数6以上のアリール基、炭素数7以上のアラルキル基を表す。)などが好ましい例として挙げられ、−NHCOOR18、−OCONHR21(ここで、R18、R21は各々独立に、炭素数1〜20までのアルキル基、炭素数6以上のアリール基、炭素数7以上のアラルキル基を表す。)などがより好ましく、−NHCOOR18、−OCONHR21(ここで、R18、R21は各々独立に、炭素数1〜10までのアルキル基、炭素数6以上のアリール基、炭素数7以上のアラルキル基を表す。)などが特に好ましい。
前記「配位性酸素原子を有する基」としては、例えば、アセチルアセトナト基、クラウンエーテルなどが挙げられる。
また、前記「塩基性窒素原子を有する基」として、例えば、アミノ基(−NH)、置換イミノ基(−NHR、−NR10、ここで、R、R、及びR10は各々独立に、炭素数1〜20までのアルキル基、炭素数6以上のアリール基、炭素数7以上のアラルキル基を表す。)、下記式(a1)で表されるグアニジル基、下記式(a2)で表されるアミジニル基などが好ましい例として挙げられる。
式(a1)中、R11及びR12は各々独立に、炭素数1〜20までのアルキル基、炭素数6以上のアリール基、炭素数7以上のアラルキル基を表す。
式(a2)中、R13及びR14は各々独立に、炭素数1〜20までのアルキル基、炭素数6以上のアリール基、炭素数7以上のアラルキル基を表す。
これらの中でも、アミノ基(−NH)、置換アミノ基(−NHR、−NR10、ここで、R、R、及びR10は各々独立に、炭素数1〜10までのアルキル基、フェニル基、ベンジル基を表す。)、前記式(a1)で表されるグアニジル基〔式(a1)中、R11及びR12は各々独立に、炭素数1〜10までのアルキル基、フェニル基、ベンジル基を表す。〕、前記式(a2)で表されるアミジニル基〔式(a2)中、R13及びR14は各々独立に、炭素数1〜10までのアルキル基、フェニル基、ベンジル基を表す。〕などがより好ましい。
特に、アミノ基(−NH)、置換イミノ基(−NHR、−NR10、ここで、R、R、及びR10は各々独立に、炭素数1〜5までのアルキル基、フェニル基、ベンジル基を表す。)、前記式(a1)で表されるグアニジル基〔式(a1)中、R11及びR12は各々独立に、炭素数1〜5までのアルキル基、フェニル基、ベンジル基を表す。〕、前記式(a2)で表されるアミジニル基〔式(a2)中、R13及びR14は各々独立に、炭素数1〜5までのアルキル基、フェニル基、ベンジル基を表す。〕などが好ましく用いられる。
前記「アルキルオキシカルボニル基」におけるアルキル基部分としては、炭素数1〜20までのアルキル基であることが好ましく、例えば、メチル基、エチル基等が挙げられる。
前記「アルキルアミノカルボニル基」におけるアルキル基部分としては、炭素数1〜20までのアルキル基であることが好ましく、例えば、メチル基、エチル基、プロピル基等が挙げられる。
前記「カルボン酸塩基」としては、カルボン酸のアンモニウム塩からなる基などが挙げられる。
前記「スルホンアミド基」としては、窒素原子に結合する水素原子がアルキル基(メチル基等)、アシル基(アセチル基、トリフルオロアセチル基など)等で置換されていてもよい。
前記「複素環構造」としては、例えば、チオフェン、フラン、キサンテン、ピロール、ピロリン、ピロリジン、ジオキソラン、ピラゾール、ピラゾリン、ピラゾリジン、イミダゾール、オキサゾール、チアゾール、オキサジアゾール、トリアゾール、チアジアゾール、ピラン、ピリジン、ピペリジン、ジオキサン、モルホリン、ピリダジン、ピリミジン、ピペラジン、トリアジン、トリチアン、イソインドリン、イソインドリノン、ベンズイミダゾロン、ベンゾチアゾール、コハクイミド、フタルイミド、ナフタルイミド等のイミド基、ヒダントイン、インドール、キノリン、カルバゾール、アクリジン、アクリドン、アントラキノンが好ましい例として挙げられる。
なお、前記「複素環構造」は、更に置換基を有していてもよく、該置換基としては、例えば、メチル基、エチル基等の炭素数1〜20までのアルキル基、フェニル基、ナフチル基等の炭素数6〜16までのアリール基、水酸基、アミノ基、カルボキシル基、スルホンアミド基、N−スルホニルアミド基、アセトキシ基等の炭素数1〜6までのアシルオキシ基、メトキシ基、エトキシ基等の炭素数1〜20までのアルコキシ基、塩素、臭素等のハロゲン原子、メトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基、シクロヘキシルオキシカルボニル基等の炭素数2〜7までのアルコキシカルボニル基、シアノ基、t−ブチルカーボネート等の炭酸エステル基等が挙げられる。
前記「アルコキシシリル基」としては、モノアルコキシシリル基、ジアルコキシシリル基、トリアルコキシシリル基のいずれでもよいが、トリアルコキシシリル基であることが好ましく、例えば、トリメトキシシリル基、トリエトキシシリル基などが挙げられる。
前記「エポキシ基」としては、置換又は無置換のオキシラン基(エチレンオキシド基)が挙げられる。
本明細書において、化合物の置換基や連結基の選択肢を始め、温度、厚さといった各技術事項は、そのリストがそれぞれ独立に記載されていても、相互に組み合わせることができる。
前記吸着部位と結合する連結基としては、単結合、又は、1〜100個までの炭素原子、0個〜10個までの窒素原子、0個〜50個までの酸素原子、1個〜200個までの水素原子、及び0個〜20個までの硫黄原子から成り立つ連結基が好ましく、この有機連結基は、無置換でも置換基を更に有していてもよい。
上記の中では、前記Aとして、酸基、ウレア基、ウレタン基、スルホンアミド基、イミド基及び配位性酸素原子を有する基よりなる群から選択される基を少なくとも1種有する1価の置換基であることが好ましい。
特に、高屈折率粒子との相互作用を良好にし、屈折率を向上し、かつ組成物の粘度を低減する観点から、Aは、pKa5〜14の官能基を少なくとも1種有する1価の置換基であることがより好ましい。
ここでいう「pKa」とは、後記で定義したものと同義である。
上記pKa5〜14の官能基としては、ウレア基、ウレタン基、スルホンアミド基、イミド基又は配位性酸素原子を有する基が挙げられる。
具体的には、例えば、ウレア基(pKa 12〜14程度)、ウレタン基(pKa 11〜13程度)、配位性酸素原子としての−COCHCO−(pKa 8〜10程度)、スルホンアミド基(pKa 9〜11程度)等が挙げられる。
前記Aは、下記式(A4)で表される1価の置換基として表されることが好ましい。
前記式(A4)中、Bは前記吸着部位(即ち、酸基、ウレア基、ウレタン基、配位性酸素原子を有する基、塩基性窒素原子を有する基、アルキルオキシカルボニル基、アルキルアミノカルボニル基、カルボン酸塩基、スルホンアミド基、複素環基、アルコキシシリル基、エポキシ基、イソシアネート基又は水酸基)を表し、R24は単結合又は(a+1)価の連結基を表す。aは、1〜10の整数を表し、式(A4)中にa個存在するBは同一であっても、異なっていてもよい。
前記Bで表される吸着部位としては、前述の式(A1)のAを構成する吸着部位と同様のものが挙げられ、好ましい例も同様である。
中でも、酸基、ウレア基、ウレタン基、スルホンアミド基、イミド基又は配位性酸素原子を有する基であることが好ましく、pKa5〜14の官能基であることがより好ましい観点から、ウレア基、ウレタン基、スルホンアミド基、イミド基又は配位性酸素原子を有する基であることがより好ましい。
24は、単結合又は(a+1)価の連結基を表し、aは1〜10を表す。好ましくは、aは1〜7であり、より好ましくは、aは1〜5であり、特に好ましくは、aは1〜3である。
(a+1)価の連結基としては、1〜100個までの炭素原子、0個〜10個までの窒素原子、0個〜50個までの酸素原子、1個〜200個までの水素原子、及び0個〜20個までの硫黄原子から成り立つ基が含まれ、無置換でも置換基を更に有していてもよい。以下、この連結基を連結基LAと定義する。
連結基LAとしては、単結合、又は、1〜50個までの炭素原子、0個〜8個までの窒素原子、0個〜25個までの酸素原子、1個〜100個までの水素原子、及び0個〜10個までの硫黄原子から成り立つ(a+1)価の連結基が好ましく、単結合、又は、1〜30個までの炭素原子、0個〜6個までの窒素原子、0個〜15個までの酸素原子、1個〜50個までの水素原子、及び0個〜7個までの硫黄原子から成り立つ(a+1)価の連結基がより好ましく、単結合、又は、1〜10個までの炭素原子、0個〜5個までの窒素原子、0個〜10個までの酸素原子、1個〜30個までの水素原子、及び0個〜5個までの硫黄原子から成り立つ(a+1)価の連結基が特に好ましい。
連結基LAとしては、上記のうち、(a+1)価の連結基が置換基を有する場合、該置換基としては、例えば、メチル基、エチル基等の炭素数1〜20までのアルキル基、フェニル基、ナフチル基等の炭素数6〜16までのアリール基、水酸基、アミノ基、カルボキシル基、スルホンアミド基、N−スルホニルアミド基、アセトキシ基等の炭素数1〜6までのアシルオキシ基、メトキシ基、エトキシ基等の炭素数1〜6までのアルコキシ基、塩素、臭素等のハロゲン原子、メトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基、シクロヘキシルオキシカルボニル基等の炭素数2〜7までのアルコキシカルボニル基、シアノ基、t−ブチルカーボネート等の炭酸エステル基等が挙げられる。
・R
は単結合あるいは2価の連結基を表す。n個のRは、同一であっても、異なっていてもよい。連結基としては、前記連結基LAの例が挙げられる(ただし、価数は2価である)。
・R
は、(m+n)価の連結基を表す。m+nは3〜10を満たす。前記Rで表される(m+n)価の連結基としては、1〜100個までの炭素原子、0個〜10個までの窒素原子、0個〜50個までの酸素原子、1個〜200個までの水素原子、及び0個〜20個までの硫黄原子から成り立つ基が挙げられる(連結基LBと呼ぶ)。なかでも、1〜60個までの炭素原子、0個〜10個までの窒素原子、0個〜50個までの酸素原子、1個〜100個までの水素原子、及び0個〜20個までの硫黄原子から成り立つ基が好ましい。上記の連結基は置換基を有していてもよく、当該置換基としては前記置換基LAが有してもよい置換基が挙げられる。前記Rで表される(m+n)価の連結基の具体的な例としては、特開2007−277514(特願2006−269707)の[0082][0083]欄に開示の具体例(1)〜(17)が挙げられる。
前記Rで表される(m+n)価の連結基の具体的な例を以下に示す。但し、本発明においては、これらに制限されるものではない。
・m
mは8以下の正の数を表す。mとしては、0.5〜5が好ましく、1〜4がより好ましく、1〜3が特に好ましい。
・n
nは1〜9を表す。nとしては、2〜8が好ましく、2〜7がより好ましく、3〜6が特に好ましい。
・P
はポリマー鎖を表し、公知のポリマーなどから目的等に応じて選択することができる。m個のPは、同一であっても、異なっていてもよい。ポリマーの中でも、ポリマー鎖を構成するには、ビニルモノマーの重合体もしくは共重合体、エステル系ポリマー、エーテル系ポリマー、ウレタン系ポリマー、アミド系ポリマー、エポキシ系ポリマー、シリコーン系ポリマー、及びこれらの変性物、又は共重合体〔例えば、ポリエーテル/ポリウレタン共重合体、ポリエーテル/ビニルモノマーの重合体の共重合体など(ランダム共重合体、ブロック共重合体、グラフト共重合体のいずれであってもよい。)を含む。〕からなる群より選択される少なくとも一種が好ましく、ビニルモノマーの重合体もしくは共重合体、エステル系ポリマー、エーテル系ポリマー、ウレタン系ポリマー、及びこれらの変性物又は共重合体からなる群より選択される少なくとも一種がより好ましく、ビニルモノマーの重合体もしくは共重合体が特に好ましい。
ポリマー鎖Pが少なくとも1種の繰り返し単位を含有することが好ましい。ポリマー鎖Pにおける、前記少なくとも1種の繰り返し単位の繰り返し数kが、立体反発力を発揮し分散性を向上する観点から、3以上であることが好ましく、5以上であることがより好ましい。また、分散剤の嵩張りを抑え、白色硬化膜中に高屈折率粒子を密に存在させる観点から、前記少なくとも1種の繰り返し単位の繰り返し単位数kは、50以下であることが好ましく、40以下であることがより好ましく、30以下であることが更に好ましい。なお、前記ポリマー鎖は有機溶媒に可溶であることが好ましい。有機溶媒との親和性が低いと、分散媒との親和性が弱まり、分散安定化に十分な吸着層を確保できなくなることがある。
前記式(A1)で表される分散剤の中でも、下記式(A2)で表される分散剤が好ましい。
は、前記Aと同義である。
、Rは各々独立に単結合あるいは2価の連結基を表す。n個のRは、同一であっても、異なっていてもよい。また、m個のRは、同一であっても、異なっていてもよい。R、Rで表される2価の連結基としては、前記式(A1)のRで表される2価の連結基として挙げられたものと同様のものが用いられ、好ましい態様も同様である。
は前記Rと同義の連結基である。
m、nは前記式(A1)と同じである。
は前記Pと同義である。
前記式(A2)で表される分散剤のうち、以下に示すR、R、R、P、m、及びnを全て満たすものが最も好ましい。
:前記具体例(1)、(2)、(10)、(11)、(16)、又は(17)
:単結合、又は、下記の構造単位若しくは該構造単位が組み合わさって構成される「1〜10個までの炭素原子、0個〜5個までの窒素原子、0個〜10個までの酸素原子、1個〜30個までの水素原子、及び0個〜5個までの硫黄原子」から成り立つ2価の連結基(置換基を有していてもよく、該置換基としては、例えば、メチル基、エチル基等の炭素数1〜20までのアルキル基、フェニル基、ナフチル基等の炭素数6〜16までのアリール基、水酸基、アミノ基、カルボキシル基、スルホンアミド基、N−スルホニルアミド基、アセトキシ基等の炭素数1〜6までのアシルオキシ基、メトキシ基、エトキシ基等の炭素数1〜6までのアルコキシ基、塩素、臭素等のハロゲン原子、メトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基、シクロヘキシルオキシカルボニル基等の炭素数2〜7までのアルコキシカルボニル基、シアノ基、t−ブチルカーボネート等の炭酸エステル基等が挙げられる。)
:単結合、エチレン基、プロピレン基、下記基(a)、又は下記基(b)
なお、下記基中、R12は水素原子又はメチル基を表し、lは1又は2を表す。
:ビニルモノマーの重合体もしくは共重合体、エステル系ポリマー、エーテル系ポリマー、ウレタン系ポリマー及びこれらの変性物
m:1〜3
n:3〜6
前記特定分散樹脂Aの酸価は特に制限はないが、分散性の観点から、酸価が400mgKOH/g以下であることが好ましく、300mgKOH/g以下であることがより好ましく、250mgKOH/g以下であることが特に好ましい。なお、酸価の下限値としては特に制限はないが、高屈折率粒子の分散安定性の観点から、5mgKOH/g以上であることが好ましく、10mgKOH/g以上であることがより好ましい。ここで、前記特定分散樹脂Aの酸価は、固形分酸価である。前記特定分散樹脂Aの酸価は、例えば、前記特定分散樹脂A中における酸基の平均含有量から算出することができる。
前記特定分散樹脂Aの分子量としては、重量平均分子量で、1000〜50000が好ましく、3000〜30000がより好ましく、3000〜20000が特に好ましい。重量平均分子量が前記範囲内であると、ポリマーの末端に導入された複数の前記吸着部位の効果が十分に発揮され、二酸化チタン粒子表面への吸着性に優れた性能を発揮し得る。分子量の測定方法は後記で定義するGPCによる条件に従う。
前記特定分散樹脂Aは、特に制限されないが、特開2007−277514号公報段落0114〜0140及び0266〜0348に記載の合成方法に準じて合成することができる。
・特定分散樹脂B
高屈折率粒子分散用分散剤として、主鎖及び側鎖の少なくとも一方に窒素原子を含むオリゴイミン系分散剤を用いることが好ましい。オリゴイミン系分散剤としては、pKa14以下の官能基を有する部分構造Xを有する繰り返し単位と、原子数40〜10,000の側鎖Yを含む側鎖とを有し、かつ主鎖及び側鎖の少なくとも一方に塩基性窒素原子を有する分散樹脂(以下、適宜「特定分散樹脂(B)」と称する。)が好ましい。ここで、塩基性窒素原子とは、塩基性を呈する窒素原子であれば特に制限はない。
特定樹脂(B)としては、前記部分構造X等と対をなす部分構造Wを有していてもよく、部分構造WはpK14以下の窒素原子を有する構造部であることが好ましく、pK10以下の窒素原子を有する構造を含有することがより好ましい。塩基強度pKとは、水温25℃でのpKをいい、塩基の強さを定量的に表すための指標のひとつであり、塩基性度定数と同義である。塩基強度pKと、後述の酸強度pKとは、pK=14−pKの関係にある。なお、部分構造Xと部分構造Wとが対になって塩構造を形成しているときには、それぞれが解離した構造を想定し、そこにプロトン(H)ないし水酸化物イオン(OH)がイオン結合した化合物として、そのpKaおよびpKbを評価する。部分構造Xについては、さらにその詳細を後記にて説明する。
部分構造Xについてその好ましい範囲の詳細は後述する部分構造Xと同義である。また、前記側鎖Yについても、同様に、その好ましい範囲の詳細は後述する側鎖Yと同義である。上記Wは、側鎖Yの連結部が解離しイオン結合性の部位となった構造であることが好ましい。
特定分散樹脂(B)の一例としては、下記式[B]で表される樹脂が挙げられる。
上記式中、x、y、及びzはそれぞれ繰り返し単位の重合モル比を示し、xは5〜50、yは5〜60、zは10〜90であることが好ましい。lはポリエステル鎖の連結数を示し、原子数40〜10,000の側鎖を形成し得る整数であり、lは、5〜100,000が好ましく、20〜20,000がより好ましく、40〜2,000であることがさらに好ましい。式中のxで共重合比が規定される繰り返し単位が部分構造Xであり、式中のzで共重合比が規定される繰り返し単位が部分構造Yである。
特定分散樹脂(B)は、(i)ポリ(低級アルキレンイミン)系繰り返し単位、ポリアリルアミン系繰り返し単位、ポリジアリルアミン系繰り返し単位、メタキシレンジアミン−エピクロルヒドリン重縮合物系繰り返し単位、及びポリビニルアミン系繰り返し単位から選択される少なくとも1種の、塩基性窒素原子を有する繰り返し単位であって、前記塩基性窒素原子に結合し、かつpKa14以下の官能基を有する部分構造Xを有する繰り返し単位(i)と、原子数40〜10,000の側鎖Yを含む側鎖(ii)とを有する分散樹脂(以下、適宜、「特定分散樹脂(B1)」と称する)であることが特に好ましい。
特定分散樹脂(B1)は、前記繰り返し単位(i)を有する。これにより、粒子表面へ分散樹脂の吸着力が向上し、且つ粒子間の相互作用が低減できる。ポリ(低級アルキレンイミン)は鎖状であっても網目状であってもよい。ここで、低級アルキレンイミンとは、炭素数1〜5のアルキレン鎖を含むアルキレンイミンを意味する。前記繰り返し単位(i)は、特定分散樹脂における主鎖部を形成することが好ましい。該主鎖部の数平均分子量、すなわち、特定分散樹脂(B1)から前記側鎖Y部分を含む側鎖を除いた部分の数平均分子量は、100〜10,000が好ましく、200〜5,000がさらに好ましく、300〜2,000が最も好ましい。主鎖部の数平均分子量は、GPC法によるポリスチレン換算値により測定することができる。
特定分散樹脂(B1)としては、下記式(I−1)で表される繰り返し単位及び式(I−2)で表される繰り返し単位、又は、式(I−1)で表される繰り返し単位及び式(I−2a)で表される繰り返し単位を含む分散樹脂であることが好ましい。
及びRは、各々独立に、水素原子、ハロゲン原子又はアルキル基(炭素数1〜6が好ましい)を表す。aは、各々独立に、1〜5の整数を表す。*は繰り返し単位間の連結部を表す。
及びRはRと同義の基である。
Lは単結合、アルキレン基(炭素数1〜6が好ましい)、アルケニレン基(炭素数2〜6が好ましい)、アリーレン基(炭素数6〜24が好ましい)、ヘテロアリーレン基(炭素数1〜6が好ましい)、イミノ基(炭素数0〜6が好ましい)、エーテル基、チオエーテル基、カルボニル基、またはこれらの組合せに係る連結基である。なかでも、単結合もしくは−CR−NR−(イミノ基がXもしくはYの方になる)であることが好ましい。ここで、Rは各々独立に、水素原子、ハロゲン原子、アルキル基(炭素数1〜6が好ましい)を表す。Rは水素原子または炭素数1〜6のアルキル基である。
はCRCRとNとともに環構造形成する構造部位であり、CRCRの炭素原子と合わせて炭素数3〜7の非芳香族複素環を形成する構造部位であることが好ましい。さらに好ましくはCRCRの炭素原子及びN(窒素原子)を合わせて5〜7員の非芳香族複素環を形成する構造部位であり、より好ましくは5員の非芳香族複素環を形成する構造部位であり、ピロリジンを形成する構造部位であることが特に好ましい。ただし、当該構造部位はさらにアルキル基等の置換基を有していてもよい。
XはpKa14以下の官能基を有する基を表す。
Yは原子数40〜10,000の側鎖を表す。
特定分散樹脂(B1)は、さらに式(I−3)、式(I−4)、または式(I−5)で表される繰り返し単位を共重合成分として有することが好ましい。特定分散樹脂(B1)が、このような繰り返し単位を含むことで、分散性能を更に向上させることができる。
、R、R、R、L、La、及びaは式(I−1)、(I−2)、(I−2a)における規定と同義である。
Yaはアニオン基を有する原子数40〜10,000の側鎖を表す。式(I−3)で表される繰り返し単位は、主鎖部に一級又は二級アミノ基を有する樹脂に、アミンと反応して塩を形成する基を有するオリゴマー又はポリマーを添加して反応させることで形成することが可能である。Yaは後記式(III−2)であることが好ましい。
式(I−1)〜式(I−5)において、R及びRは特に水素原子であることが好ましい。aは2であることが原料入手の観点から好ましい。
特定分散樹脂(B1)は、さらに一級又は三級のアミノ基を含有する低級アルキレンイミンを繰り返し単位として含んでいてもよい。なお、そのような低級アルキレンイミン繰り返し単位における窒素原子には、さらに、前記X、Y又はYaで示される基が結合していてもよい。このような主鎖構造に、Xで示される基が結合した繰り返し単位とYが結合した繰り返し単位の双方を含む樹脂もまた、特定分散樹脂(B1)に包含される。
式(I−1)で表される繰り返し単位は、保存安定性・現像性の観点から、特定分散樹脂(B1)に含まれる全繰り返し単位中、1〜80モル%含有することが好ましく、3〜50モル%含有することが最も好ましい。式(I−2)で表される繰り返し単位は、保存安定性の観点から、特定分散樹脂(B1)に含まれる全繰り返し単位中、10〜90モル%含有されることが好ましく、30〜70モル%含有されることが最も好ましい。分散安定性及び親疎水性のバランスの観点からは、繰り返し単位(I−1)及び繰り返し単位(I−2)の含有比〔(I−1):(I−2)〕は、モル比で10:1〜1:100の範囲であることが好ましく、1:1〜1:10の範囲であることがより好ましい。所望により併用される式(I−3)で表される繰り返し単位は、特定分散樹脂(B1)に含まれる全繰り返し単位中、効果の観点からは、0.5〜20モル%含有されることが好ましく、1〜10モル%含有されることが最も好ましい。なお、ポリマー鎖Yaがイオン的に結合していることは、赤外分光法や塩基滴定により確認できる。
なお、上記式(I−2)の共重合比に関する説明は、式(I−2a)、式(I−4)、式(I−5)で表される繰り返し単位についても同義であり、両者を含むときにはその総量を意味する。
・部分構造X
上記各式中の部分構造Xは、水温25℃でのpKaが14以下の官能基を有する。ここでいう「pKa」とは、化学便覧(II)(改訂4版、1993年、日本化学会編、丸善株式会社)に記載されている定義のものである。「pKa14以下の官能基」は、物性がこの条件を満たすものであれば、その構造などは特に限定されず、公知の官能基でpKaが上記範囲を満たすものが挙げられるが、特にpKaが12以下である官能基が好ましく、pKaが11以下である官能基が特に好ましい。下限値は特にないが、−5以上であることが実際的である。部分構造Xは炭素数1〜12が好ましく、1〜6がより好ましい。具体的には、例えば、カルボン酸基(pKa:3〜5程度)、スルホン酸基(pKa:−3〜−2程度)、−COCHCO−(pKa:8〜10程度)、−COCHCN(pKa:8〜11程度)、−CONHCO−、フェノール性水酸基、−RCHOH又は−(RCHOH(Rはペルフルオロアルキレン基もしくはペルフルオロアルキル基を表す。pKa:9〜11程度)、スルホンアミド基(pKa:9〜11程度)等を有する基が挙げられ、特にカルボン酸基(pKa:3〜5程度)、スルホン酸基(pKa:−3〜−2程度)、−COCHCO−(pKa:8〜10程度)を有する基が好ましい。
部分構造Xが有する官能基のpKaが14以下であることにより、高屈折粒子との相互作用を達成することができる。部分構造Xは、前記塩基性窒素原子を有する繰り返し単位における塩基性窒素原子に直接結合することが好ましい。部分構造Xは、共有結合のみならず、イオン結合して塩を形成する態様で連結していてもよい。部分構造Xとしては、特に、下記式(V−1)、式(V−2)又は式(V−3)で表される構造を有するものが好ましい。
Uは単結合又は2価の連結基を表す。
d及びeは、それぞれ独立して0又は1を表す。
Qはアシル基又はアルコキシカルボニル基を表す。
Uで表される2価の連結基としては、例えば、アルキレン(より具体的には、例えば、−CH−、−CHCH−、−CHCHMe−(Meはメチル基)、−(CH−、−CHCH(n−C1021)−等)、酸素を含有するアルキレン(より具体的には、例えば、−CHOCH−、−CHCHOCHCH−等)、アルケニレン基(炭素数2〜12が好ましく、2〜6がより好ましく、2〜3が特に好ましい)、アリーレン基(例えば、フェニレン、トリレン、ビフェニレン、ナフチレン、フラニレン、ピロリレン等)、アルキレンオキシ(例えば、エチレンオキシ、プロピレンオキシ、フェニレンオキシ等)、またはその組合せが挙げられるが、特に炭素数1〜30のアルキレン基又は炭素数6〜20のアリーレン基が好ましく、炭素数1〜20のアルキレン又は炭素数6〜15のアリーレン基が最も好ましい。
また、生産性の観点から、dは1が好ましく、また、eは0が好ましい。
Qはアシル基又はアルコキシカルボニル基を表す。Qにおけるアシル基としては、炭素数1〜30のアシル基(例えば、ホルミル、アセチル、n−プロパノイル、ベンゾイル等)が好ましく、特にアセチルが好ましい。Qにおけるアルコキシカルボニル基としては、Qは、特にアシル基が好ましく、アセチル基が製造のし易さ、原料(Xの前駆体X)の入手性の観点から好ましい。
部分構造Xは、塩基性窒素原子を有する繰り返し単位における該塩基性窒素原子と結合していることが好ましい。これにより、二酸化チタン粒子の分散性・分散安定性が飛躍的に向上する。部分構造Xは溶剤溶解性をも付与し、経時における樹脂の析出を抑え、これにより分散安定性に寄与すると考えられる。さらに、部分構造Xは、pKa14以下の官能基を含むものであるため、アルカリ可溶性基としても機能する。それにより、現像性が向上し、分散性・分散安定性・現像性の両立が可能になると考えられる。
部分構造XにおけるpKa14以下の官能基の含有量は特に制限がないが、特定分散樹脂(B1)1gに対し、0.01〜5mmolであることが好ましく、0.05〜1mmolであることが特に好ましい。また、酸価の観点からは、特定分散樹脂(B1)の酸価が5〜50mgKOH/g程度となる量、含まれることが、現像性の観点から好ましい。
・側鎖Y
Yとしては、特定分散樹脂(B1)の主鎖部と連結できるポリエステル、ポリアミド、ポリイミド、ポリ(メタ)アクリル酸エステル等の公知のポリマー鎖が挙げられる。Yにおける特定分散樹脂(B1)との結合部位は、側鎖Yの末端であることが好ましい。
Yは、ポリ(低級アルキレンイミン)系繰り返し単位、ポリアリルアミン系繰り返し単位、ポリジアリルアミン系繰り返し単位、メタキシレンジアミン−エピクロルヒドリン重縮合物系繰り返し単位、及びポリビニルアミン系繰り返し単位から選択される少なくとも1種の窒素原子を有する繰り返し単位の前記窒素原子と結合していることが好ましい。ポリ(低級アルキレンイミン)系繰り返し単位、ポリアリルアミン系繰り返し単位、ポリジアリルアミン系繰り返し単位、メタキシレンジアミン−エピクロルヒドリン重縮合物系繰り返し単位、及びポリビニルアミン系繰り返し単位から選択される少なくとも1種の塩基性窒素原子を有する繰り返し単位などの主鎖部とYとの結合様式は、共有結合、イオン結合、又は、共有結合及びイオン結合の混合である。Yと前記主鎖部の結合様式の比率は、共有結合:イオン結合=100:0〜0:100であるが、95:5〜5:95が好ましく、90:10〜10:90が特に好ましい。
Yは、前記塩基性窒素原子を有する繰り返し単位の前記窒素原子とアミド結合、又はカルボン酸塩としてイオン結合していることが好ましい。
前記側鎖Yの原子数としては、分散性・分散安定性・現像性の観点から、50〜5,000であることが好ましく、60〜3,000であることがより好ましい。
また、Yの数平均分子量はGPC法によるポリスチレン換算値により測定することができる。このとき、Yは樹脂に組み込む前の状態でその分子量を測定することが実際的である。Yの数平均分子量は、特に1,000〜50,000が好ましく、1,000〜30,000が分散性・分散安定性・現像性の観点から最も好ましい。Yの分子量は、Yの原料となる高分子化合物から特定することができ、その測定方法は後記GPCによる測定条件に準ずるものとする。
Yで示される側鎖構造は、主鎖連鎖に対し、樹脂1分子中に、2つ以上連結していることが好ましく、5つ以上連結していることが特に好ましい。
特に、Yは式(III−1)で表される構造を有するものが好ましい。
式(III−1)中、Zはポリエステル鎖を部分構造として有するポリマー又はオリゴマーであり、HO−CO−Zで表される遊離のカルボン酸を有するポリエステルからカルボキシル基を除いた残基を表す。特定分散樹脂(B1)が式(I−3)〜(I−5)で表される繰り返し単位を含有する場合、Yaが式(III−2)であることが好ましい。
式(III−2)中、Zは式(III−1)におけるZと同義である。上記部分構造Yは、片末端にカルボキシル基を有するポリエステルは、カルボン酸とラクトンの重縮合、ヒドロキシ基含有カルボン酸の重縮合、二価アルコールと二価カルボン酸(もしくは環状酸無水物)の重縮合などにより得ることができる。
Zは好ましくは、−(LnB−Zであることが好ましい。
は、水素原子又は1価の有機基を表す。Zが有機基であるとき、アルキル基(好ましくは炭素数1〜30)、アリール基、複素環基などが好ましい。Zはさらに置換基を有していてもよく、当該置換基としては、炭素数6〜24のアリール基、炭素数3〜24の複素環基が挙げられる。
は、アルキレン基(炭素数1〜6が好ましい)、アルケニレン基(炭素数2〜6が好ましい)、アリーレン基(炭素数6〜24が好ましい)、ヘテロアリーレン基(炭素数1〜6が好ましい)、イミノ基(炭素数0〜6が好ましい)、エーテル基、チオエーテル基、カルボニル基、またはこれらの組合せに係る連結基である。なかでも、アルキレン基(炭素数1〜6が好ましい)、エーテル基、カルボニル基、またはこれらの組合せに係る連結基であることが好ましい。アルキレン基は分岐でも直鎖であってもよい。アルキレン基は置換基を有していてもよく、好ましい置換基としては、アルキル基(好ましい炭素数1〜6)、アシル基(好ましい炭素数2〜6)、アルコキシ基(好ましい炭素数1〜6)、またはアルコキシカルボニル基(好ましい炭素数2〜8)である。Lはそこに連結するCOと合わせて(つまりCO−Lの形で)、−CO−R−O−という構造を取ることが好ましい。Rは置換基を有してもよいアルキレン基(炭素数1〜12が好ましく、1〜6がより好ましく、1〜3が特に好ましい)であることが特に好ましい。nBは5〜100,000の整数であり、5〜1000の整数であることが好ましく、5〜100の整数であることがより好ましい。nB個のLはそれぞれ異なる構造であってもよい。
特定分散樹脂(B)の具体的態様を、樹脂が有する繰り返し単位の具体的構造とその組合せにより以下に示すが、本発明はこれに限定されるものではない。下記式中、k、l、m、及びnはそれぞれ繰り返し単位の重合モル比を示し、kは1〜80、lは10〜90、mは0〜80、nは0〜70であり、且つk+l+m+n=100である。k、l、mで定義されるもの、k、lのみで定義されるものは、それぞれ、k+l+m=100、k+l=100を意味する。p及びqはポリエステル鎖の連結数を示し、それぞれ独立に5〜100,000を表す。Rは水素原子又はアルコキシカルボニル基を表す。
特定分散樹脂(B1)を合成するには、(1)一級又は二級アミノ基を有する樹脂と、部分構造Xの前駆体x、及びYの前駆体yとを反応させる方法、(2)部分構造Xに対応する構造を含有するモノマーとYを含有するマクロモノマーとの重合による方法などにより製造することが可能である。まず、一級又は二級アミノ基を主鎖に有する樹脂を合成し、その後、該樹脂に、Xの前駆体x及びYの前駆体yを反応させて、主鎖に存在する窒素原子に高分子反応により導入することで製造することが好ましい。当該製造方法の詳細は、特開2009−203462等を参照することができる。
前記特定分散樹脂Bの分子量としては、重量平均分子量で、3,000〜100,000であることが好ましく、5,000〜55,000重量平均分子量が前記範囲内であると、ポリマーの末端に導入された複数の前記吸着部位の効果が十分に発揮され、二酸化チタン粒子表面への吸着性に優れた性能を発揮し得る。なお、本明細書において、GPCは、特に断らない限り、HLC−8020GPC(東ソー(株)製)を用い、カラムをTSKgel SuperHZM−H、TSKgel SuperHZ4000、TSKgel SuperHZ200(東ソー社製)として測定した。キャリアは適宜選定すればよいが、溶解可能であるかぎり、テトラヒドロフランを用いることした。
本発明の感光性組成物において、高屈折率粒子用分散剤は、1種単独で、あるいは2種以上を組み合わせて用いることができる。
本発明の組成物の全固形分に対する高屈折率粒子用分散剤の含有量は、分散性、分散安定性の観点から、0.05質量%以上であることが好ましく、1質量%以上がより好ましく、5質量%以上がさらに好ましい。上限としては、50質量%以下が好ましく、40質量%以下がより好ましく、30質量%以下がさらに好ましく、10質量%以下が特に好ましい。高屈折率粒子との関係で言うと、高屈折率粒子100質量部に対して、高屈折率粒子用分散剤が10質量部以上であることが好ましく、15質量部以上であることがより好ましい。上限としては、40質量部以下であることが好ましく、30質量部以下であることがより好ましい。
(黒色顔料用分散剤)
黒色顔料用分散剤として用いうる市販品としては、具体的には、例えば、オルガノシロキサンポリマーKP341(信越化学工業(株)製)、(メタ)アクリル酸系(共)重合体ポリフローNo.75、No.90、No.95(共栄社化学工業(株)製)、W001(裕商(株)社製)等のカチオン系界面活性剤;ポリオキシエチレンラウリルエーテル、ポリオキシエチレンステアリルエーテル、ポリオキシエチレンオレイルエーテル、ポリオキシエチレンオクチルフェニルエーテル、ポリオキシエチレンノニルフェニルエーテル、ポリエチレングリコールジラウレート、ポリエチレングリコールジステアレート、ソルビタン脂肪酸エステル等のノニオン系界面活性剤;W004、W005、W017(裕商(株)社製)等のアニオン系界面活性剤;EFKA−46、EFKA−47、EFKA−47EA、EFKAポリマー100、EFKAポリマー400、EFKAポリマー401、EFKAポリマー450(いずれもチバ・スペシャルテイケミカル社製)、ディスパースエイド6、ディスパースエイド8、ディスパースエイド15、ディスパースエイド9100(いずれもサンノプコ社製)等の高分子分散剤;ソルスパース3000、5000、9000、12000、13240、13940、17000、24000、26000、28000、32000、36000などの各種ソルスパース分散剤(日本ルーブリゾール(株)社製);アデカプルロニックL31,F38,L42,L44,L61,L64,F68,L72,P95,F77,P84,F87、P94,L101,P103,F108、L121、P−123((株)ADEKA製)及びイオネットS−20(三洋化成(株)製)、Disperbyk 101,103,106,108,109,111,112,116,130,140,142,162,163,164,166,167,170,171,174,176,180,182,2000,2001,2050,2150(ビックケミー(株)社製)が挙げられる。また、川研ファインケミカル(株)製 ヒノアクトT−8000Eなどの両性分散剤も挙げられる。
その他、アクリル系共重合体など、分子末端もしくは側鎖に極性基を有するオリゴマーもしくはポリマーも分散剤として好適に挙げられる。また、重量平均分子量が300〜20000のポリエチレンイミン、又はポリアリルアミンのアミノ基にポリエステル鎖を付加したアミノ樹脂も分散剤として使用することができる。
分散性、現像性、沈降性の観点から、好ましくは、以下に示す樹脂が好ましく、特に、分散性の観点から、側鎖にポリエステル鎖を有する高分子分散剤が好ましい。また、分散性と、フォトリソグラフィー法により形成されたパターンの解像性の観点から、酸基とポリエステル鎖とを有する樹脂が好ましい。顔料分散剤における好ましい酸基としては、吸着性の観点から、pKaが6以下の酸基が好ましく、特にカルボン酸、スルホン酸、リン酸が好ましい。
好ましい分散樹脂としては、分子内に、水素原子を除いた原子数が40〜10000の範囲であり、ポリエステル構造、ポリエーテル構造、及びポリアクリレート構造から選択されるグラフト鎖を有するグラフト共重合体が挙げられる。より好ましくは下記式(A)で表される構造単位を含むグラフト共重合体であり、特に好ましくは式(1)〜式(5)のいずれかで表される構造単位を含むグラフト共重合体(特定分散樹脂C)である。
式中、Xは、水素原子、ハロゲン原子、又は1価の有機基を表し、Yは、単結合もしくは2価の連結基を表し、Zは、水素原子又は1価の有機基を表す。Zが有機基であるとき、アルキル基(好ましくは炭素数1〜30、より好ましくは1〜12)、アルケニル基(好ましくは炭素数2〜30、より好ましくは2〜12)、アリール基(好ましくは炭素数6〜30、より好ましくは6〜10)、ヘテロアリール基(好ましくは炭素数1〜30、より好ましくは1〜6)などが好ましい。アルキル基は分岐であっても直鎖であってもよい。アリール基、ヘテロアリール基は単環であっても多環であってもよい。これらの基はさらに置換基を有していてもよく、当該有してもよい置換基としては、ヒドロキシ基、ハロゲン原子、アシル基(好ましい炭素数2〜6)、アミノ基(好ましい炭素数0〜6)、アルコキシ基(好ましい炭素数1〜6)、またはアルコキシカルボニル基(好ましい炭素数2〜8)、アリール基(好ましい炭素数6〜24)、ヘテロ環基(好ましい炭素数1〜12)である。Lが複数あるとき、そのそれぞれは異なっていてもよい。Zはさらに置換基を有していてもよく、当該置換基としては、炭素数6〜24のアリール基、炭素数3〜24のヘテロアリール基が挙げられる。nAは1〜500の整数を表し、5〜100の整数が好ましい。
は、アルキレン基(炭素数1〜6が好ましい)、アルケニレン基(炭素数2〜6が好ましい)、アリーレン基(炭素数6〜24が好ましい)、ヘテロアリーレン基(炭素数1〜6が好ましい)、イミノ基(炭素数0〜6が好ましい)、エーテル基、チオエーテル基、カルボニル基、またはこれらの組合せに係る連結基である。なかでも、アルキレン基(炭素数1〜6が好ましい)、エーテル基、カルボニル基、またはこれらの組合せに係る連結基であることが好ましい。アルキレン基は分岐でも直鎖であってもよい。アルキレン基は置換基を有していてもよく、好ましい置換基としては、ヒドロキシ基、ハロゲン原子、アシル基(好ましい炭素数2〜6)、アミノ基(好ましい炭素数0〜6)、アルコキシ基(好ましい炭素数1〜6)、またはアルコキシカルボニル基(好ましい炭素数2〜8)、アリール基(好ましい炭素数6〜24)、ヘテロ環基(好ましい炭素数1〜12)である。Lが複数あるとき、そのそれぞれは異なっていてもよい。
式中、X〜Xは前記Xと同義である。Y〜Yは前記Yと同義である。Z〜Zは前記Zと同義である。Rは、水素原子又は1価の有機基を表し、共重合体中に構造の異なるRが存在していてもよい。n、m、p、q、及びrは、それぞれnAと同義の整数を表す。jおよびkはそれぞれ独立に2〜8の整数である。
〜Yはアルキル基(炭素数1〜12が好ましく、1〜6がより好ましく、1〜3が特に好ましい)、アルケニル基(炭素数6〜22が好ましく、6〜14がより好ましい)、イミノ基(NR:Rは水素原子または炭素数1〜6のアルキル基)、エーテル基(O)、カルボニル基(CO)、チオエーテル基(S)、またはそれらの組み合わせであることが好ましい。X〜Xが有機基のときアルキル基(炭素数1〜12が好ましく、1〜6がより好ましく、1〜3が特に好ましい)が好ましい。
n、m、p、q、rが2以上のとき、各連結基の構造は異なっていてもよい。C2j、C2kで表されるアルキレン基は直鎖でも分岐でもよい。また、そのHが適宜任意の置換基で置換されていてもよい。
なかでも、前記式(1)で示される、側鎖にポリエステル鎖を有する化合物が好ましい。これらの代表的なものとしては、特開2010−106268公報段落番号〔0046〕〜〔0078〕に記載の例示化合物1〜例示化合物71を好適に使用しうる。
なお、以下に、好適な分散剤として例示化合物を記載するが、本発明はこれらに制限されない。下記例示化合物中、各構造単位に併記される数値は、当該構造単位の含有量〔質量%:適宜、(wt%)と記載〕を表す。
前記特定分散樹脂Bの分子量としては、重量平均分子量で、3,000〜100,000であることが好ましく、4,000〜55,000重量平均分子量が前記範囲内であると、ポリマーの末端に導入された複数の前記吸着部位の効果が十分に発揮され、二酸化チタン粒子表面への吸着性に優れた性能を発揮し得る。分子量の測定方法はGPC測定を利用し前記で述べた条件等によるものとする。
本発明の組成物の全固形分に対する黒色顔料用分散剤の含有量は、分散性、分散安定性の観点から、0.05質量%以上が好ましく、1質量%以上がより好ましく、5質量%以上がさらに好ましい。上限としては、90質量%以下が好ましく、70質量%以下がより好ましく、50質量%以下がさらに好ましく、10質量%以下であることが特に好ましい。黒色顔料との関係で言うと、黒色顔料100質量部に対して、黒色顔料用分散剤が10質量部以上であることが好ましく、15質量部以上であることがより好ましい。上限としては、40質量部以下であることが好ましく、35質量部以下であることがより好ましい。
分散剤の全量としては、本発明の組成物中、固形分中で0.05質量%以上であることが好ましく、1質量%以上がより好ましく、3質量%以上がさらに好ましく、5質量%以上が特に好ましい。上限としては、30質量%以下が好ましく、20質量%以下がより好ましく、10質量%以下であることが特に好ましい。このような範囲で分散剤を用いることで、分散性及び分散安定性を効果的に付与し、かつ良好な光学特性や感光性を実現しうる点で好ましい。
[重合開始剤]
重合開始剤は、光や熱により分解し、後述する重合性化合物の重合を開始、促進する化合物であることが好ましい。光で重合を開始させる場合、波長300〜500nmの領域に吸収を有するものであることが好ましい。熱で重合を開始させる場合には、150℃〜250℃で分解する開始剤が好ましい。
重合開始剤としては、少なくとも芳香族基を有する化合物であることが好ましく、例えば、(ビス)アシルホスフィンオキシド又はそのエステル類、アセトフェノン系化合物、α−アミノケトン化合物、ベンゾフェノン系化合物、ベンゾインエーテル系化合物、ケタール誘導体化合物、チオキサントン化合物、オキシムエステル化合物、ヘキサアリールビイミダゾール化合物、トリハロメチル化合物、アゾ化合物、有機過酸化物、ジアゾニウム化合物、ヨードニウム化合物、スルホニウム化合物、アジニウム化合物、ベンゾインエーテル系化合物、ケタール誘導体化合物、メタロセン化合物等のオニウム塩化合物、有機硼素塩化合物、ジスルホン化合物などが挙げられる。
感度の観点から、オキシムエステル化合物、アシルホスフィンオキシド系化合物、アセトフェノン系化合物、α−アミノケトン化合物、トリハロメチル化合物、ヘキサアリールビイミダゾール化合物、及び、チオール化合物が好ましい。
以下、好適な重合開始剤の例を挙げるが、本発明はこれらに制限されるものではない。
アセトフェノン系化合物としては、具体的には、例えば、2,2−ジエトキシアセトフェノン、p−ジメチルアミノアセトフェノン、2−ヒドロキシ−2−メチル−1−フェニル−プロパン−1−オン、p−ジメチルアミノアセトフェノン、4’−イソプロピル−2−ヒドロキシ−2−メチル−プロピオフェノン、1−ヒドロキシ−シクロヘキシル−フェニル−ケトン、2−ベンジル−2−ジメチルアミノ−1−(4−モルフォリノフェニル)−ブタノン−1、2−トリル−2−ジメチルアミノ−1−(4−モルフォリノフェニル)−ブタノン−1、2−メチル−1−[4−(メチルチオ)フェニル]−2−モルフォリノプロパノン−1、2−メチル−1−(4−メチルチオフェニル)−2−モルフォリノプロパン−1−オン、2−ベンジル−2−ジメチルアミノ−1−(4−モルフォリノフェニル)−ブタノン−1、2−(ジメチルアミノ)−2−[(4−メチルフェニル)メチル]−1−[4−(4−モルホリニル)フェニル]−1−ブタノン、及び、2−メチル−1−(4−メチルチオフェニル)−2−モルフォリノプロパン−1−オンなどが挙げられる。なかでも好ましく用いられる市販品として入手可能な化合物として、2−メチル−1−(4−メチルチオフェニル)−2−モルフォリノプロパン−1−オン〔商品名「イルガキュア−907(チバ スペシャリティーケミカルズ社製)〕が挙げられる。
また、市販品として入手可能な開始剤として、α−アルキルアミノフェノン〔イルガキュア−379(チバ スペシャリティーケミカルズ社製)〕等も好ましく挙げられる。
トリハロメチル化合物として、より好適には、すくなくとも一つのモノ、ジ、又はトリハロゲン置換メチル基がs−トリアジン環に結合したs−トリアジン誘導体、具体的には、例えば、2,4,6−トリス(モノクロロメチル)−s−トリアジン、2,4,6−トリス(ジクロロメチル)−s−トリアジン、2,4,6−トリス(トリクロロメチル)−s−トリアジン、2−メチル−4,6−ビス(トリクロロメチル)−s−トリアジン、2―n−プロピル−4,6−ビス(トリクロロメチル)−s−トリアジン、2−(α,α,β−トリクロロエチル)−4,6−ビス(トリクロロメチル)−s−トリアジン、2−フェニル−4,6−ビス(トリクロロメチル)−s−トリアジン、2−(p−メトキシフェニル)−4,6−ビス(トリクロロメチル)−s−トリアジン、2−(3,4−エポキシフェニル)−4,6−ビス(トリクロロメチル)−s−トリアジン、2−(p−クロロフェニル)−4,6−ビス(トリクロロメチル)−s−トリアジン、2−〔1−(p−メトキシフェニル)−2,4−ブタジエニル〕−4,6−ビス(トリクロロメチル)−s−トリアジン、2−スチリル−4,6−ビス(トリクロロメチル)−s−トリアジン、2−(p−メトキシスチリル)−4,6−ビス(トリクロロメチル)−s−トリアジン、2−(p−i−プロピルオキシスチリル)−4、6−ビス(トリクロロメチル)−s−トリアジン、2−(p−トリル)−4,6−ビス(トリクロロメチル)−s−トリアジン、2−(4−メトキシナフチル)−4,6−ビス(トリクロロメチル)−s−トリアジン、2−フェニルチオ−4,6−ビス(トリクロロメチル)−s−トリアジン、2−ベンジルチオ−4,6−ビス(トリクロロメチル)−s−トリアジン、2,4,6−トリス(ジブロモメチル)−s−トリアジン、2,4,6−トリス(トリブロモメチル)−s−トリアジン、2−メチル−4,6−ビス(トリブロモメチル)−s−トリアジン、2−メトキシ−4,6−ビス(トリブロモメチル)−s−トリアジン等が挙げられる。
ヘキサアリールビイミダゾール化合物としては、例えば、特公平6−29285号公報、米国特許第3,479,185号、同第4,311,783号、同第4,622,286号等の各明細書に記載の種々の化合物、具体的には、2,2’−ビス(o−クロロフェニル)−4,4’,5,5’−テトラフェニルビイミダゾール、2,2’−ビス(o−ブロモフェニル))4,4’,5,5’−テトラフェニルビイミダゾール、2,2’−ビス(o,p−ジクロロフェニル)−4,4’,5,5’−テトラフェニルビイミダゾール、2,2’−ビス(o−クロロフェニル)−4,4’,5,5’−テトラ(m−メトキシフェニル)ビイジダゾール、2,2’−ビス(o,o’−ジクロロフェニル)−4,4’,5,5’−テトラフェニルビイミダゾール、2,2’−ビス(o−ニトロフェニル)−4,4’,5,5’−テトラフェニルビイミダゾール、2,2’−ビス(o−メチルフェニル)−4,4’,5,5’−テトラフェニルビイミダゾール、2,2’−ビス(o−トリフルオロフェニル)−4,4’,5,5’−テトラフェニルビイミダゾール等が挙げられる。
アシルホスフィンオキシド系化合物としては、例えば、[2,4,6−トリメチルベンゾイル−ジフェニル−ホスフィンオキシド]は、Darocur TPO(チバ・ジャパン社製)の商品名で入手可能であり、[ビス(2,4,6−トリメチルベンゾイル)−フェニルホスフィンオキシド]は、Irgacure 819(チバ・ジャパン社製)の商品名で入手可能である。
オキシムエステル化合物としては、J.C.S. Perkin II (1979)1653−1660、J.C.S. Perkin II (1979)156−162、Journal of Photopolymer Science and Technology(1995)202−232、特開2000−66385号公報記載の化合物、特開2000−80068号公報、特表2004−534797号公報記載の化合物が挙げられ、市販品としては、チバ スペシャリティーケミカルズ社製 IRGACURE OXE 01(1.2−オクタンジオン,1−[4−(フェニルチオ)−,2−(o−ベンゾイルオキシム)])、IRGACURE OXE 02(エタノン,1−[9−エチル−6−(2−メチルベンゾイル)−9H−カルバゾール−3−イル]−,1−(o−アセチルオキシム))、TR−PBG−304(常州強力電子新材料有限公司社製)等が好適なものとして挙げられる。
さらに、特開2007−231000公報、及び、特開2007−322744公報に記載される環状オキシム化合物も好適に用いることができる。
最も好ましい例として、特開2007−269779公報に示される特定置換基を有するオキシム化合物や、特開2009−191061公報に示されるチオアリール基を有するオキシム化合物が挙げられる。
また、以下に示すオキシム化合物も好ましく用いられる。
オキシム化合物は、350nm〜500nmの波長領域に極大吸収波長を有するものであり、360nm〜480nmの波長領域に吸収波長を有するものであることが好ましく、365nm及び455nmの吸光度が高いものが特に好ましい。
オキシム化合物は、365nm又は405nmにおけるモル吸光係数は、感度の観点から、3,000〜300,000であることが好ましく、5.000〜300,000であることがより好ましく、10000〜200,000であることが特に好ましい。
化合物のモル吸光係数は、公知の方法を用いることができるが、具体的には、例えば、紫外可視分光光度計(Varian社製Carry−5 spctrophotometer)にて、酢酸エチル溶媒を用い、0.01g/Lの濃度で測定することが好ましい。
光重合開始剤は、1種単独で使用してもよく、2種以上を併用してもよい。
感光性組成物にける光重合開始剤の含有量は、固形分中、0.01質量%〜30質量%が好ましく、0.1質量%〜20質量%がより好ましく、0.1質量%〜15質量%が特に好ましい。
[重合性化合物]
重合性化合物としては、少なくとも1個の付加重合可能なエチレン性不飽和基を有する化合物であることが好ましい。さらに、重合性化合物は沸点が常圧で100℃以上である化合物が好ましい。重合性化合物は、炭素数14〜70であることがより好ましい。
前記少なくとも1個の付加重合可能なエチレン性不飽和基を有し、沸点が常圧で100℃以上である化合物としては、例えば、ポリエチレングリコールモノ(メタ)アクリレート、ポリプロピレングリコールモノ(メタ)アクリレート、フェノキシエチル(メタ)アクリレート等の単官能のアクリレートやメタアクリレート;ポリエチレングリコールジ(メタ)アクリレート、トリメチロールエタントリ(メタ)アクリレート、ネオペンチルグリコールジ(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトールトリ(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ(メタ)アクリレート、ヘキサンジオール(メタ)アクリレート、トリメチロールプロパントリ(アクリロイルオキシプロピル)エーテル、トリ(アクリロイロキシエチル)イソシアヌレート、グリセリンやトリメチロールエタン等の多官能アルコールにエチレンオキサイドやプロピレンオキサイドを付加させた後(メタ)アクリレート化したもの、ペンタエリスリトール又はジペンタエリスリトールのポリ(メタ)アクリレート化したもの、特公昭48−41708号、特公昭50−6034号、特開昭51−37193号公報に記載のウレタンアクリレート類、特開昭48−64183号、特公昭49−43191号、特公昭52−30490号公報に記載のポリエステルアクリレート類、エポキシ樹脂と(メタ)アクリル酸との反応生成物であるエポキシアクリレート類等の多官能のアクリレートやメタアクリレートを挙げることができる。
更に、日本接着協会誌Vol.20、No.7、300〜308頁に光硬化性モノマー及びオリゴマーとして紹介されているものも使用できる。
また、特開平10−62986号公報において式(1)及び(2)としてその具体例と共に記載の、前記多官能アルコールにエチレンオキサイドやプロピレンオキサイドを付加させた後に(メタ)アクリレート化した化合物も用いることができる。
中でも、ジペンタエリスリトールペンタ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ(メタ)アクリレート、及びこれらのアクリロイル基がエチレングリコール、プロピレングリコール残基を介している構造が好ましい。これらのオリゴマータイプも使用できる。
また、特公昭48−41708号、特開昭51−37193号、特公平2−32293号、特公平2−16765号に記載されているようなウレタンアクリレート類や、特公昭58−49860号、特公昭56−17654号、特公昭62−39417号、特公昭62−39418号記載のエチレンオキサイド系骨格を有するウレタン化合物類も好適である。更に、特開昭63−277653号、特開昭63−260909号、特開平1−105238号に記載される、分子内にアミノ構造やスルフィド構造を有する付加重合性化合物類を用いることによっては、非常に感光スピードに優れた光重合性組成物を得ることができる。市販品としては、ウレタンオリゴマーUAS−10、UAB−140(山陽国策パルプ社製)、UA−7200」(新中村化学社製、DPHA−40H(日本化薬社製)、UA−306H、UA−306T、UA−306I、AH−600、T−600、AI−600(共栄社製)などが挙げられる。
また、酸基を有するエチレン性不飽和化合物類も好適であり、市販品としては、例えば、東亞合成株式会社製のカルボキシル基含有3官能アクリレートであるTO−756、及びカルボキシル基含有5官能アクリレートであるTO−1382などが挙げられる。
また、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート、ジペンタエリスリトールペンタアクリレートのコハク酸モノマー、及び、ジペンタエリスリトールトリアクリレート等も好適である。
重合性化合物としては、4官能以上のアクリレート化合物がより好ましい。
重合性化合物は、1種単独で用いてもよく、2種以上を組み合わせて用いてもよい。
感光性組成物中における含有量としては、十分な硬化反応が進行する限りにおいて特に制限はないが、例えば、質量換算で全固形分100部に対して、3〜55部が好ましく、より好ましくは10〜50部である。重合性化合物の含有量が前記範囲内において、十分な硬化反応が進行する。
[バインダーポリマー]
本発明の組成物においては、皮膜特性向上などの目的で、必要に応じて、前記成分とは構造の異なる、更に別のバインダーポリマーを、本発明の効果を損なわない範囲で使用することができる。バインダーとしては線状有機ポリマーを用いることが好ましい。このような「線状有機ポリマー」としては、公知のものを任意に使用できる。好ましくは水現像或いは弱アルカリ水現像を可能とするために、水或いは弱アルカリ水に可溶性又は膨潤性である線状有機ポリマーが選択される。線状有機ポリマーは、皮膜形成剤としてだけでなく、水、弱アルカリ水或いは有機溶剤現像剤としての用途に応じて選択使用される。
例えば、水可溶性有機ポリマーを用いると水現像が可能になる。このような線状有機ポリマーとしては、側鎖にカルボン酸基を有するラジカル重合体、例えば特開昭59−44615号、特公昭54−34327号、特公昭58−12577号、特公昭54−25957号、特開昭54−92723号、特開昭59−53836号、特開昭59−71048号に記載されているもの、すなわち、カルボキシル基を有するモノマーを単独或いは共重合させた樹脂、酸無水物を有するモノマーを単独或いは共重合させ酸無水物ユニットを加水分解若しくはハーフエステル化若しくはハーフアミド化させた樹脂、エポキシ樹脂を不飽和モノカルボン酸及び酸無水物で変性させたエポキシアクリレート等が挙げられる。カルボキシル基を有するモノマーとしては、アクリル酸、メタクリル酸、イタコン酸、クロトン酸、マレイン酸、フマル酸、4−カルボキシルスチレン等があげられ、酸無水物を有するモノマーとしては、無水マレイン酸等が挙げられる。
また、同様に側鎖にカルボン酸基を有する酸性セルロース誘導体がある。この他に水酸基を有する重合体に環状酸無水物を付加させたものなどが有用である。
また、特公平7−12004号、特公平7−120041号、特公平7−120042号、特公平8−12424号、特開昭63−287944号、特開昭63−287947号、特開平1−271741号、特願平10−116232号等に記載される酸基を含有するウレタン系バインダーポリマーは、非常に、強度に優れるので、低露光適性の点で有利である。
また、欧州特許993966、欧州特許1204000、特開2001−318463等に記載の酸基を有するアセタール変性ポリビニルアルコール系バインダーポリマーは、膜強度、現像性のバランスに優れており、好適である。更にこの他に水溶性線状有機ポリマーとして、ポリビニルピロリドンやポリエチレンオキサイド等が有用である。また硬化皮膜の強度を上げるためにアルコール可溶性ナイロンや2,2−ビス−(4−ヒドロキシフェニル)−プロパンとエピクロロヒドリンのポリエーテル等も有用である。
組成物の全固形分中に対する共存させうる他のバインダーポリマーを用いる場合の含有量は、0.1〜10.0質量%が好ましく、パターン剥がれ抑制と現像残渣抑制の両立の観点より、0.3〜6.0質量%がより好ましく、1.0〜5.0質量%がさらに好ましい。
[その他の着色剤]
併用することができる着色剤としては、有機顔料では、例えば、特開2008−224982号公報段落番号〔0030〕〜〔0044〕に記載の顔料や、C.I.Pigment Green 58、C.I.Pigment Blue 79のCl置換基をOHに変更したものなどが挙げられ、これらのなかでも、好ましく用いることができる顔料として、以下のものを挙げることができる。但し、本発明においてはこれらに限定されるものではない。
C.I.Pigment Yellow 11,24,108,109,110,138,139,150,151,154,167,180,185,
C.I.Pigment Orange 36,
C.I.Pigment Red 122,150,171,175,177,209,224,242,254、255
C.I.Pigment Violet 19,23,29、32,
C.I.Pigment Blue 15:1,15:3,15:6,16,22,60,66,
C.I.Pigment Green 7,36,37、58
C.I.Pigment Black 1
着色剤として使用可能な染料としては、特に制限はなく、公知の染料を適宜選択して使用できる。例えば、特開昭64−90403号公報、特開昭64−91102号公報、特開平1−94301号公報、特開平6−11614号公報、特登2592207号、米国特許第4,808,501号明細書、米国特許第5,667,920号明細書、米国特許第5,059,500号明細書、特開平5−333207号公報、特開平6−35183号公報、特開平6−51115号公報、特開平6−194828号公報、特開平8−211599号公報、特開平4−249549号公報、特開平10−123316号公報、特開平11−302283号公報、特開平7−286107号公報、特開2001−4823号公報、特開平8−15522号公報、特開平8−29771号公報、特開平8−146215号公報、特開平11−343437号公報、特開平8−62416号公報、特開2002−14220号公報、特開2002−14221号公報、特開2002−14222号公報、特開2002−14223号公報、特開平8−302224号公報、特開平8−73758号公報、特開平8−179120号公報、特開平8−151531号公報等に記載の色素である。
化学構造としては、ピラゾールアゾ系、アニリノアゾ系、トリフェニルメタン系、アントラキノン系、アンスラピリドン系、ベンジリデン系、オキソノール系、ピラゾロトリアゾールアゾ系、ピリドンアゾ系、シアニン系、フェノチアジン系、ピロロピラゾールアゾメチン系、キサンテン系、フタロシアニン系、ベンゾピラン系、インジゴ系等の染料が使用できる。
[有機溶剤]
本発明の組成物には、有機溶剤を用いる。有機溶剤は、各成分の溶解性や重合性組成物の塗布性を満足すれば基本的には特に制限はないが、特に紫外線吸収剤、バインダーの溶解性、塗布性、安全性を考慮して、適切な粘度固形分濃度となるような種類と量とを選択することが好ましい。また、感光性組成物を調製する際には、少なくとも2種類の有機溶剤を含むことが好ましい。
有機溶剤としては、エステル類として、例えば、酢酸エチル、酢酸−n−ブチル、酢酸イソブチル、ギ酸アミル、酢酸イソアミル、酢酸イソブチル、プロピオン酸ブチル、酪酸イソプロピル、酪酸エチル、酪酸ブチル、乳酸メチル、乳酸エチル、オキシ酢酸アルキル(例:オキシ酢酸メチル、オキシ酢酸エチル、オキシ酢酸ブチル(例えば、メトキシ酢酸メチル、メトキシ酢酸エチル、メトキシ酢酸ブチル、エトキシ酢酸メチル、エトキシ酢酸エチル等))、3−オキシプロピオン酸アルキルエステル類(例:3−オキシプロピオン酸メチル、3−オキシプロピオン酸エチル等(例えば、3−メトキシプロピオン酸メチル、3−メトキシプロピオン酸エチル、3−エトキシプロピオン酸メチル、3−エトキシプロピオン酸エチル等))、2−オキシプロピオン酸アルキルエステル類(例:2−オキシプロピオン酸メチル、2−オキシプロピオン酸エチル、2−オキシプロピオン酸プロピル等(例えば、2−メトキシプロピオン酸メチル、2−メトキシプロピオン酸エチル、2−メトキシプロピオン酸プロピル、2−エトキシプロピオン酸メチル、2−エトキシプロピオン酸エチル))、2−オキシ−2−メチルプロピオン酸メチル及び2−オキシ−2−メチルプロピオン酸エチル(例えば、2−メトキシ−2−メチルプロピオン酸メチル、2−エトキシ−2−メチルプロピオン酸エチル等)、ピルビン酸メチル、ピルビン酸エチル、ピルビン酸プロピル、アセト酢酸メチル、アセト酢酸エチル、2−オキソブタン酸メチル、2−オキソブタン酸エチル等、並びに、エーテル類として、例えば、ジエチレングリコールジメチルエーテル、テトラヒドロフラン、エチレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテル、メチルセロソルブアセテート、エチルセロソルブアセテート、ジエチレングリコールモノメチルエーテル、ジエチレングリコールモノエチルエーテル、ジエチレングリコールモノブチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノエチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノプロピルエーテルアセテート等、並びに、ケトン類として、例えば、メチルエチルケトン、シクロヘキサノン、2−ヘプタノン、3−ヘプタノン等、並びに、芳香族炭化水素類として、例えば、トルエン、キシレン等が好適に挙げられる。
これらの有機溶剤は、アルカリ可溶性樹脂の溶解性、塗布面状の改良などの観点から、2種以上を混合することも好ましい。この場合、特に好ましくは、上記の3−エトキシプロピオン酸メチル、3−エトキシプロピオン酸エチル、エチルセロソルブアセテート、乳酸エチル、ジエチレングリコールジメチルエーテル、酢酸ブチル、3−メトキシプロピオン酸メチル、2−ヘプタノン、シクロヘキサノン、エチルカルビトールアセテート、ブチルカルビトールアセテート、プロピレングリコールメチルエーテル、及びプロピレングリコールメチルエーテルアセテートから選択される2種以上で構成される混合溶液である。
有機溶剤の含有量は、塗布性の観点から、組成物の全固形分濃度が5〜80質量%になる量とすることが好ましく、5〜60質量%が更に好ましく、10〜50質量%が特に好ましい。
[増感剤]
本発明の組成物には、重合開始剤のラジカル発生効率の向上、感光波長の長波長化の目的で、増感剤を含有していてもよい。増感剤としては、併用する重合開始剤に対し、電子移動機構又はエネルギー移動機構で増感させるものが好ましい。増感剤の好ましい例としては、特開2008−214395号公報の段落番号〔0085〕〜〔0098〕に記載された化合物を挙げることができる。増感剤の含有量は、感度と保存安定性の観点から、
組成物の全固形分の質量に対し、0.1〜30質量%の範囲が好ましく、1〜20質量%の範囲がより好ましく、2〜15質量%の範囲が更に好ましい。
[重合禁止剤]
本発明の組成物の製造中或いは保存中において、重合性化合物の不要な熱重合を阻止するために少量の重合禁止剤を添加することが望ましい。重合禁止剤としては、公知の熱重合防止剤を用いることができ、具体的には、ハイドロキノン、p−メトキシフェノール、ジ−t−ブチル−p−クレゾール、ピロガロール、t−ブチルカテコール、ベンゾキノン、4,4’−チオビス(3−メチル−6−t−ブチルフェノール)、2,2’−メチレンビス(4−メチル−6−t−ブチルフェノール)、N−ニトロソフェニルヒドロキシアミン第一セリウム塩等が挙げられる。
熱重合防止剤の添加量は、組成物の全固形分に対し約0.01〜約5質量%が好ましい。
また必要に応じて、酸素による重合阻害を防止するためにベヘン酸やベヘン酸アミドのような高級脂肪酸誘導体等を添加して、塗布後の乾燥の過程で塗布膜の表面に偏在させてもよい。高級脂肪酸誘導体の添加量は、全組成物の約0.5〜約10質量%が好ましい。
[密着向上剤]
本発明の組成物には、支持体などの硬質表面との密着性を向上させるために、密着向上剤を添加することができる。密着向上剤としては、シラン系カップリング剤、チタンカップリング剤等が挙げられる。
シラン系カップリング剤としては、γ−メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン、γ−メタクリロキシプロピルトリエトキシシラン、γ−アクリロキシプロピルトリメトキシシラン、γ−アクリロキシプロピルトリエトキシシラン、γ−メルカプトプロピルトリメトキシシラン、3−メタクリロキシプロピルジメトキシメチルシラン、γ−アミノプロピルトリエトキシシラン、フェニルトリメトキシシラン、が好ましく、γ−メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン、3−メタクリロキシプロピルジメトキシメチルシラン、が好ましく挙げられる。
密着向上剤の添加量は、組成物の全固形分中0.5〜30質量%が好ましく、0.7〜20質量%がより好ましい。
[界面活性剤]
本発明の組成物には、塗布性をより向上させる観点から、各種の界面活性剤を添加してもよい。界面活性剤としては、フッ素系界面活性剤、ノニオン系界面活性剤、カチオン系界面活性剤、アニオン系界面活性剤、シリコーン系界面活性剤などの各種界面活性剤を使用できる。
特に、本発明の好ましい実施形態に係る組成物は、フッ素系界面活性剤を含有することで、塗布液として調製したときの液特性(特に、流動性)がより向上することから、塗布厚の均一性や省液性をより改善することができる。
即ち、フッ素系界面活性剤を含有する組成物を適用した塗布液を用いて膜形成する場合においては、被塗布面と塗布液との界面張力を低下させることにより、被塗布面への濡れ性が改善され、被塗布面への塗布性が向上する。このため、少量の液量で数μm程度の薄膜を形成した場合であっても、厚みムラの小さい均一厚の膜形成をより好適に行える点で有効である。
フッ素系界面活性剤中のフッ素含有率は、3質量%〜40質量%が好適であり、より好ましくは5質量%〜30質量%であり、特に好ましくは7質量%〜25質量%である。フッ素含有率がこの範囲内であるフッ素系界面活性剤は、塗布膜の厚さの均一性や省液性の点で効果的であり、組成物中における溶解性も良好である。
フッ素系界面活性剤としては、例えば、メガファックF171、同F172、同F173、同F176、同F177、同F141、同F142、同F143、同F144、同R30、同F437、同F475、同F479、同F482、同F554、同F780、同F781(以上、DIC(株)製)、フロラードFC430、同FC431、同FC171(以上、住友スリーエム(株)製)、サーフロンS−382、同SC−101、同SC−103、同SC−104、同SC−105、同SC1068、同SC−381、同SC−383、同S393、同KH−40(以上、旭硝子(株)製)、ソルスパース20000(日本ルーブリゾール(株)製)等が挙げられる。
ノニオン系界面活性剤として具体的には、グリセロール、トリメチロールプロパン、トリメチロールエタン並びにそれらのエトキシレート及びプロポキシレート(例えば、グリセロールプロポキシレート、グリセリンエトキシレート等)、ポリオキシエチレンラウリルエーテル、ポリオキシエチレンステアリルエーテル、ポリオキシエチレンオレイルエーテル、ポリオキシエチレンオクチルフェニルエーテル、ポリオキシエチレンノニルフェニルエーテル、ポリエチレングリコールジラウレート、ポリエチレングリコールジステアレート、ソルビタン脂肪酸エステル(BASF社製のプルロニックL10、L31、L61、L62、10R5、17R2、25R2、テトロニック304、701、704、901、904、150R1等が挙げられる。
カチオン系界面活性剤として具体的には、フタロシアニン誘導体(商品名:EFKA−745、森下産業(株)製)、オルガノシロキサンポリマーKP341(信越化学工業(株)製)、(メタ)アクリル酸系(共)重合体ポリフローNo.75、No.90、No.95(共栄社化学(株)製)、W001(裕商(株)製)等が挙げられる。
アニオン系界面活性剤として具体的には、W004、W005、W017(裕商(株)社製)等が挙げられる。
シリコーン系界面活性剤としては、例えば、東レ・ダウコーニング(株)製「トーレシリコーンDC3PA」、「トーレシリコーンSH7PA」、「トーレシリコーンDC11PA」,「トーレシリコーンSH21PA」,「トーレシリコーンSH28PA」、「トーレシリコーンSH29PA」、「トーレシリコーンSH30PA」、「トーレシリコーンSH8400」、モメンティブ・パフォーマンス・マテリアルズ社製「TSF−4440」、「TSF−4300」、「TSF−4445」、「TSF−4460」、「TSF−4452」、信越シリコーン株式会社製「KP341」、「KF6001」、「KF6002」、ビックケミー社製「BYK307」、「BYK323」、「BYK330」等が挙げられる。
界面活性剤は、1種のみを用いてもよいし、2種類以上を組み合わせてもよい。界面活性剤の添加量は、組成物の全固形分質量に対して、0.001質量%〜2.0質量%が好ましく、より好ましくは0.005質量%〜1.0質量%である。
[その他の添加剤]
更に、本発明の組成物に対しては、増感色素や開始剤の活性放射線に対する感度を一層向上させる、あるいは酸素による光重合性化合物の重合阻害を抑制する等の目的で共増感剤を含有してもよい。また、硬化皮膜の物性を改良するために界面活性剤、希釈剤、可塑剤、感脂化剤等の公知の添加剤を必要に応じて加えてもよい。
[灰色硬化膜]
本発明の好ましい実施形態に係る灰色硬化膜は上記の感光性組成物を硬化させることにより形成することができる。ここで、灰色について定義すると、所定の膜を透過したときの透過光について、波長400nm〜700nm(可視光領域)の光を取り出したときに、その透過率(25℃)の変動量(λ400−700)が30%以下であることを言う。前記変動量の求め方について念のため補足すると、まず、波長400nm〜700nmの領域で透過率スペクトルを求める。その中における透過率の最大値(Tmax)と最小値(Tmin)を取り出し、この差(Tmax−Tmin)を前記透過率の変動量とする。この変動量は、20%以下であることが好ましい。当該変動量に下限値は特にないが、0.1%以上であることが実際的である。これは換言すると、上記可視光領域の特定の波長に過度の吸収ピークを持たないことが好ましく、その領域において全体にフラットな状態の透過スペクトルを呈するものが好ましい。当該透過率およびその変動量は、特に断らない限り、後記実施例で測定した値によるものとする。このように、特定の波長で過度の吸収を示さない、良好な灰色硬化膜とすることで、例えば撮像素子の灰色画素として用いたときに透過率に偏りのない良好な性能を実現することができる。
灰色硬化膜の400nm〜700nmにおける透過率の最小値が50%以上であることが好ましく、60%以上であることがより好ましい。また400nm〜700nmにおける透過率の最大値が、90%以下であることが好ましく、85%以下であることがより好ましい。透過率をこのような範囲とすることで、特に撮像素子の灰色画素として利用したときに、感度の向上ないしダイナミックレンジの拡大の要求に応え、良好な性能を実現することができる。
本発明において灰色硬化膜は所定の屈性率を有することが好ましい。このようにすることで、例えば撮像素子の灰色画素として用いたときに、隣接する着色画素(R画素,G画素,B画素)との光の干渉を起こさず、灰色画素に要求される性能を好適に発揮させることができる。上記の観点から、灰色画素の屈折率(25℃)は、1.60超であることが好ましく、1.65以上であることがより好ましく、1.70以上であることが特に好ましい。上限値としては、2.00以下であることが好ましく、1.95以下であることがより好ましい。なお、本発明において膜の屈折率は、特に断らない限り、後記実施例で測定した633nmにおける値によるものとする。
以下、実施例を挙げて本発明をより詳細に説明するが、本発明は、以下の実施例に限定されるものではない。
<実施例1、比較例1>
(二酸化チタン分散液の調製)
下記組成の混合液に対し、循環型分散装置(ビーズミル)として、寿工業株式会社製ウルトラアペックスミル(商品名)を用いて、以下のようにして分散処理を行い、分散組成物として二酸化チタン分散液を得た。
<組成>
・二酸化チタン(石原産業(株)製、商品名:TTO−51(C))
:212.5部
・下記特定分散樹脂(A)(20%プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート(以下、「PGMEA」と略称する。)溶液)
:286.9部
・PGMEA :350.6部
特定分散樹脂(A)において、k:l:m:n=25:40:5:30(重合モル比)、p=60、q=60、重量平均分子量は10,000である。
また分散装置は以下の条件で運転した。
・ビーズ径:φ0.05mm
・ビーズ充填率:75体積%
・周速:8m/sec
・ポンプ供給量:10Kg/hour
・冷却水:水道水
・ビーズミル環状通路内容積:0.15L
・分散処理する混合液量:0.44Kg
得られた分散液に含まれる二酸化チタン粒子の平均粒径を後記動的光散乱法によって求めたところ、30nmであった。
(分散剤1の合成)
500mL三口フラスコに、ε−カプロラクトン600.0g、2−エチル−1−ヘキサノール22.8gを導入し、窒素を吹き込みながら、攪拌溶解した。モノブチル錫オキシド0.1gを加え、100℃に加熱した。8時間後、ガスクロマトグラフィーにて原料が消失したのを確認後、80℃まで冷却した。2,6−ジ−t−ブチル−4−メチルフェノール0.1gを添加した後、2−メタクリロイロキシエチルイソシアネート27.2gを添加した。5時間後、H−NMRにて原料が消失したのを確認後、室温まで冷却し、固体状の前駆体M1〔下記構造〕を200g得た。M1であることは、H−NMR、IR、質量分析により確認した。
前記前駆体M1を30.0gと、NKエステル CB−1(β−Methacryloyl Oxyethyl Hydrogen Phthalate)を70.0gと、ドデシルメルカプタン2.3gと、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート233.3gとを、窒素置換した三口フラスコに導入し、攪拌機(新東科学(株):スリーワンモータ)にて攪拌し、窒素をフラスコ内に流しながら加熱して75℃まで昇温した。これに、2,2−アゾビス(2−メチルプロピオン酸)ジメチル(和光純薬(株)製の「V−601」)0.2gを加え、75℃にて2時間加熱攪拌を行なった。2時間後、さらにV−601を0.2g加えて3時間、加熱攪拌の後、下記構造の分散剤1の30%溶液を得た。
x:y=90:10
分散剤1の組成比、酸価、及び重量平均分子量(Mw)は、以下の通りである。
なお、重量平均分子量は、前記で定義した測定条件により測定した。
・組成比: x=33(質量%)、y=67(質量%)
・酸価 : 85mgKOH/g ・Mw : 35,000
(チタンブラック分散液の調製)
下記組成1に示す成分を、攪拌機(IKA社製EUROSTAR)を使用して、15分間混合し、分散混合物を得た。
(組成1)
・(A)チタンブラック(三菱マテリアル製13M−T(粉体))
・・・24部
・(B)分散剤1の30質量%PGMEA溶液 ・・・25部
・(C)有機溶媒:PGMEA ・・・25部
・(D)有機溶媒:酢酸ブチル ・・・26部
得られた分散混合物に対し、シンマルエンタープライゼス社製ビーズミルNPMならびに循環式の配管および投入タンクを使用し,下記条件にて分散処理を行って、チタンブラック分散液を2000g得た。
<分散条件>
・ビーズ径:φ0.05mm
・ビーズ充填率:60体積%
・ミル周速:10m/sec
・分散処理する混合液量:5000g
・循環流量(ポンプ供給量):30kg/hour
・処理液温度:25℃〜30℃
・冷却水:水道水
・処理時間 30パス
(感光性組成物101の調製)
上記で得られた二酸化チタン分散液(分散組成物)を用いて、以下の組成となるように各成分を混合して感光性組成物を得た。
<感光性組成物の組成>
・上記で調製した二酸化チタン分散液(分散組成物) :22.9部
・上記で調整したチタンブラック分散液(分散組成物) : 3.3部
・下記構造の重合化合物(A) : 4.5部
・光重合開始剤(下記構造のオキシム化合物、商品名:IRGACURE OXE−02、BASF社製)
: 0.8部
・下記構造のバインダーポリマー(A)(20%PGMEA溶液)
:19.1部
・下記構造の紫外線吸収剤(A) : 0.6部
・界面活性剤
(フッ素系界面活性剤、1%PGMEA溶液、DIC(株)製、商品名:メガファックF−781)
: 2.5部
・シクロヘキサノン/PGMEA :46.3部
(その他の感光性組成物の調製)
カーボンブラック分散液及び赤色顔料分散液をそれぞれ調製した。得られたカーボンブラック分散液及び赤色顔料分散液を用い、各分散液添加量を下記表1に従って変更した以外は、実施例101と同様にして、実施例102〜108、及び比較例C01〜C02の感光性組成物をそれぞれ調製した。
(カーボンブラック分散液の調製)
下記組成1に示す成分を、攪拌機(IKA社製EUROSTAR)を使用して、15分間混合し、分散混合物を得た。
(組成1)
・(A)カーボンブラック(カーボンブラックMA−100R(三菱化成工業(株)製))
・・・19部
・(B)分散剤2の45質量%PGMEA溶液 ・・・18部
・(C)有機溶媒:PGMEA ・・・63部
得られた分散混合物に対し、シンマルエンタープライゼス社製ビーズミルNPMならびに循環式の配管および投入タンクを使用し,下記条件にて分散処理を行って、カーボンブラック分散組成物を2000g得た。
<分散条件>
・ビーズ径:φ0.05mm
・ビーズ充填率:60体積%
・ミル周速:10m/sec
・分散処理する混合液量:5000g
・循環流量(ポンプ供給量):30kg/hour
・処理液温度:25℃〜30℃
・冷却水:水道水
・処理時間 30パス
(赤色顔料分散液の調製)
(Red顔料分散液:PR254/PY139を含有する分散液)
Pigment Red 254を9.6部、Pigment Yellow 139を4.3部、顔料分散剤BYK−161(BYK社製)を6.8部、プロピレングリコールメチルエーテルアセテート(以下、「PGMEA」と称する。)79.3部からなる混合液を、ビーズミル(ジルコニアビーズ0.3mm径)により3時間混合・分散して、顔料分散液を調製した。その後さらに、減圧機構付き高圧分散機NANO−3000−10(日本ビーイーイー(株)製)を用いて、2000kg/cmの圧力下で流量500g/minとして分散処理を行なった。
この分散処理を10回繰り返し、Red顔料分散液を得た。
<高屈折率粒子の重量平均径の測定方法>
粒子の重量平均粒径としては、粒子を含む混合液又は分散液を、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテートで80倍に希釈し、得られた希釈液について動的光散乱法を用いて測定することにより得られる。この測定は、日機装株式会社製マイクロトラック(商品名)UPA−EX150を用いて行って得られた重量平均粒径のこととする。
<高屈折率粒子に係る屈折率の測定方法>
高屈折率粒子を構成する物質の屈折率測定方法は日本工業規格(JIS K 0062:1992)に準ずる。
<黒色顔料の平均一次粒径の測定方法>
顔料粒子の平均一次粒径は、分散した顔料粒子を透過型電子顕微鏡により観察し、得られた写真から求めることができる。具体的には、顔料粒子の投影面積を求め、それに対応する円相当径の平均を顔料粒子の平均一次粒径とする。尚、本発明における平均一次粒径は、300個の顔料粒子について求めた円相当径の算術平均値とする。
<透過率、透過率変動量 λ400−700
上記で得られた実施例及び比較例の各感光性組成物を、塗布後の膜厚が0.6μmになるように、ガラスウェハ上にスピンコート法で塗布し、その後ホットプレート上で、100℃で2分間加熱した。さらに、ホットプレート上で200℃で8分間加熱し、感光性組成物層を形成した。この感光性組成物層が形成された基板に対して、島津製作所製分光器UV3600を用いて、分光透過率を測定した。測定温度は室温(25℃)とした。
上記で作製した膜試験体101及び102の透過率スペクトルを図1に載せた。
<膜の屈折率>
上記で得られた実施例及び比較例の各感光性組成物をシリコンウェハ上に、塗布後の膜厚が0.6μmになるように、塗布し、その後ホットプレート上で、100℃で2分間加熱した。さらに、ホットプレート上で200℃で8分間加熱し、感光性組成物層を形成した。この感光性組成物層が形成された基板に対して、エリプソメトリー VUV−VASE(ジェー・エー・ウーラム・ジャパン社製)を用いて、屈折率を測定した。測定温度は室温(25℃)、測定波長は633nmとした。
<パターン形成性>
上記で得られた実施例及び比較例の各感光性組成物を、塗布後の膜厚が0.6μmになるように、下塗り層付きシリコンウェハ上にスピンコート法で塗布し、その後ホットプレート上で、100℃で2分間加熱して感光性組成物層を得た。
次いで、得られた感光性組成物層に対し、i線ステッパー露光装置FPA−3000i5+(Canon(株)製)を用い、0.9μm四方から3.0μm四方までのサイズが異なる5種のドットアレイパターンもしくはベイヤーパターンを、マスクを介して露光した。次いで、露光後の感光性組成物層に対し、水酸化テトラメチルアンモニウム(TMAH)0.3%水溶液を用い、23℃で60秒間パドル現像を行った。その後、スピンシャワーにてリンスを行い、さらに純水にて水洗し、透明パターンを得た。
得られた透明パターンの形状を測長SEM(商品名:S−7800H、(株)日立製作所製)を用いシリコンウェハ上から30000倍で観察した。
解像できたパターンサイズ(μm四方)を表1に示す。
なお、「C」で示した結果は、0.9μm四方から3.0μm四方までのサイズでパターン形成ができなかったことを示し、「B」で示した結果は、形成されたパターンに表面荒れが観察されたことを示す。「A」で示した結果は好適にパターンの形成ができ、目だった面荒れも観察されなかったものを示す。
上記膜試験体101と比較例の膜試験体C01の外観顕微鏡写真を図2(a)、図2(b)にそれぞれ載せている。実施例の膜試験体101のように表面に荒れがなく均質であることにより、灰色画素として用いたときにバラつきのない良好な光学特性が実現され好ましい。
<下塗り層付シリコンウェハ>
評価に用いた下塗り層付シリコンウェハは、以下のようにして作製した。
(下塗り層用組成物の調製)
・PGMEA 19.20部
・乳酸エチル 36.67部
・バインダー:(メタクリル酸ベンジル/メタクリル酸/メタクリル酸−2−ヒドロキシエチル)共重合体(モル比=60:20:20)41%EL溶液
30.51部
・DPHA(ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート、日本化薬(株)製、KAYARAD DPHA)
12.20部
・重合禁止剤(p−メトキシフェノール) 0.006部
・界面活性剤(メガファックF−781、DIC(株)製、1.0%PGMEA溶液)
0.83部
・光重合開始剤TAZ−107(みどり化学社製) 0.59部
(下塗り層付シリコンウェハの作製)
評価に用いた下塗り層付シリコンウェハは、以下のようにして作製した。
8インチシリコンウェハ上に、前記下塗り層用組成物をスピンコートで均一に塗布して塗布膜を形成し、形成された塗布膜を120℃のホットプレート上で120秒間加熱処理した。尚、スピンコートの塗布回転数は、前記加熱処理後の塗布膜の膜厚が約0.5μmとなるように調整した。
前記加熱処理後の塗布膜を、更に220℃のオーブンで1時間処理し、塗布膜を硬化させ、下塗り層とした。
以上のようにして、8インチシリコンウェハ上に下塗り層が形成された、下塗り層付シリコンウェハを得た。
(表の注記)
( )は配合量(質量部)・・・合計で100部とし、その他は界面活性剤(2.5部)及び溶媒(残部)であることを意味する。
* 分散組成物としての配合量
Cで始まる試験は比較例。
TiO:二酸化チタン粒子
(石原産業(株)製、商品名:TTO−51(C))
重量平均粒子径 30nm、屈折率 2.71
TB:チタンブラック(三菱マテリアル製13M−T)
数平均粒子径 75nm
CB:カーボンブラック(三菱化成工業(株)MA−100R)
数平均粒子径 24nm
OXE01:オキシム系重合開始剤
(BASF社製、イルガキュア OXE01(商品名))
OXE02:オキシム系重合開始剤
(BASF社製、イルガキュア OXE02(商品名))
IRG369:αアミノケトン系重合開始剤
(BASF社製、イルガキュア 369(商品名))
XAN: シクロヘキサノン
PGMEA: プロピレングリコール1−モノメチルエーテル2−アセタート
溶媒として2種のものを併用したものは、それぞれ等量で加えて所定量となるようにした。
BP−A:バインダーポリマーA
BP−B:バインダーポリマーB
UV−A:紫外線吸収剤A
RPD:赤色顔料分散液
樹脂A:特定分散樹脂A
MA:重合性化合物MA
本発明の組成物によれば、好適な光透過性と屈折率を有する灰色の硬化膜を作製することができることが分かる。また、本発明の当感光性組成物は特にフォトリソグラフィー性に優れ、表面荒れがなく光学特性にばらつきのない良好な灰色画素をなす硬化膜を形成することができることが分かる。
<実施例2>
前記実施例1で用いたTiO粒子を以下に記載した各高屈折率粒子に変えた以外試料101と同様にして、感光性組成物を調製し、硬化膜を形成した。この硬化膜の屈折率変動率(λ400−700)は10%前後であり、パターン形成性は「A」という結果で良好な性能を示した。
・ジルコニア粒子(屈折率2.4、第一稀元素化学工業(株)製、UEP−100)
・酸化ジルコニウム粒子(CIKナノテック株式会社製「ZRDMA30WT%−M22」)
・ITO粒子/錫ドープ酸化インジウム粉末(三菱マテリアル(株)製、P4−ITO)
また前記実施例1で用いたTiO粒子を以下に記載した各高屈折率粒子に変えた以外試料101と同様にして、感光性組成物を調製し、硬化膜を形成した。
・酸化亜鉛粒子(石原産業社製、FZO−50(商品名))
・シリカ粒子(EVONIK社製、AEROSIL(R)RX300(商品名))
・アルミナ粒子(EVONIK社製、AEROXIDE(R)Alu130(商品名))
・酸化マグネシウム粒子(境化学社製、SMO(1m)(商品名))
・酸化錫粒子(三菱マテリアル電子化成社製、S−1(商品名))
・酸化バナジウム粒子(和光純薬社製、酸化バナジウム)
・酸化ニオブ粒子(和光純薬社製、酸化ニオブ)
<実施例3>
試験101で用いた分散剤に替え、下表の分散剤を使用した以外同様にして、感光性組成物を調製し、硬化膜を形成した。この硬化膜の屈折率変動率(λ400−700)は10%前後であり、パターン形成性は「A」という結果で良好な性能を示した。
―――――――――――――――――――――――――
試験 TiO分散剤 黒色顔料分散剤
―――――――――――――――――――――――――
101 樹脂(A) 分散剤1
101a A−1 ex1
101b A−5 ex3
101c A−23 ex18
101d A−31 ex19
101e A−35 ex30
101f 下記C−1 ex43
―――――――――――――――――――――――――

Claims (17)

  1. 高屈折率粒子と、黒色顔料と、分散剤と、有機溶剤とを含む組成物。
  2. さらに、重合性化合物と、光重合開始剤と、有機溶剤とを含む請求項1に記載の組成物。
  3. 前記高屈折率粒子が二酸化チタンまたは酸化ジルコニウムの粒子である請求項1または2に記載の組成物。
  4. 前記組成物の全固形分中、前記高屈折率粒子の含有量が5〜30質量%である請求項1〜3のいずれか1項に記載の組成物。
  5. 前記黒色顔料がチタンブラックである請求項1〜4のいずれか1項に記載の組成物。
  6. 前記組成物の全固形分中、前記黒色顔料の含有量が0.5〜20質量%である請求項1〜5のいずれか1項に記載の組成物。
  7. 前記分散剤がオリゴイミン系分散剤、アクリル系分散剤である請求項1〜6のいずれか1項に記載の組成物。
  8. さらに赤色顔料を含む請求項1〜7のいずれか1項に記載の組成物。
  9. さらに紫外線吸収剤を含む請求項1〜8のいずれか1項に記載の組成物。
  10. 前記分散剤の全固形分中の含有量が0.05〜10質量%である請求項1〜9のいずれか1項に記載の組成物。
  11. 前記分散剤が下記式(I−1)で表される繰り返し単位及び式(I−2)で表される繰り返し単位、又は、式(I−1)で表される繰り返し単位及び式(I−2a)で表される繰り返し単位を含む分散樹脂である請求項1〜10のいずれか1項に記載の組成物。
    及びRは、各々独立に、水素原子、ハロゲン原子又はアルキル基を表す。aは、各々独立に、1〜5の整数を表す。*は繰り返し単位間の連結部を表す。R及びRはRと同義の基である。Lは単結合、アルキレン基、アルケニレン基、アリーレン基、ヘテロアリーレン基、イミノ基、エーテル基、チオエーテル基、カルボニル基、またはこれらの組合せに係る連結基である。LはCRCRとNとともに環構造形成する構造部位である。XはpKa14以下の官能基を有する基を表す。Yは原子数40〜10,000の側鎖を表す。
  12. 前記分散剤が下記式(1)〜(5)のいずれかの繰り返し単位を含む請求項1〜10のいずれか1項に記載の組成物。
    式中、X〜Xは水素原子、ハロゲン原子、又は1価の有機基を表す。Y〜Yは単結合もしくは2価の連結基を表す。Z〜Zは水素原子又は1価の有機基を表す。Rは、水素原子又は1価の有機基を表し、共重合体中に構造の異なるRが存在していてもよい。n、m、p、q、及びrは、それぞれ1〜500の整数を表す。jおよびkはそれぞれ独立に2〜8の整数である。
  13. 固体撮像素子の画素形成用である請求項1〜12のいずれか1項に記載の組成物。
  14. 請求項1〜13のいずれか1項に記載の組成物を硬化させてなる灰色硬化膜。
  15. 前記硬化膜が灰色であり、その灰色が、波長400nm〜700nmの可視光領域において、その透過率の最大値と最小値の差が0.1〜30%以内になる着色として定義される請求項14に記載の灰色硬化膜。
  16. 請求項14または15に記載の硬化膜からなる固体撮像素子の画素であって、前記高屈折率粒子と黒色顔料と分散剤とを含む固体撮像素子の灰色画素。
  17. 請求項16に記載の灰色画素を具備する固体撮像素子。
JP2013226501A 2012-11-01 2013-10-31 固体撮像素子の画素形成用組成物、これを用いた灰色硬化膜、灰色画素及び固体撮像素子 Active JP6071843B2 (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2013226501A JP6071843B2 (ja) 2012-11-01 2013-10-31 固体撮像素子の画素形成用組成物、これを用いた灰色硬化膜、灰色画素及び固体撮像素子

Applications Claiming Priority (3)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2012242230 2012-11-01
JP2012242230 2012-11-01
JP2013226501A JP6071843B2 (ja) 2012-11-01 2013-10-31 固体撮像素子の画素形成用組成物、これを用いた灰色硬化膜、灰色画素及び固体撮像素子

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JP2014111734A true JP2014111734A (ja) 2014-06-19
JP6071843B2 JP6071843B2 (ja) 2017-02-01

Family

ID=50627444

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2013226501A Active JP6071843B2 (ja) 2012-11-01 2013-10-31 固体撮像素子の画素形成用組成物、これを用いた灰色硬化膜、灰色画素及び固体撮像素子

Country Status (4)

Country Link
JP (1) JP6071843B2 (ja)
KR (1) KR101965175B1 (ja)
TW (1) TWI621476B (ja)
WO (1) WO2014069544A1 (ja)

Cited By (14)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2016013520A1 (ja) * 2014-07-25 2016-01-28 富士フイルム株式会社 カラーフィルタ、固体撮像素子
WO2016152368A1 (ja) * 2015-03-24 2016-09-29 富士フイルム株式会社 分散組成物、感光性組成物、カラーフィルタおよびその製造方法、ならびに、固体撮像素子
JP2017042703A (ja) * 2015-08-25 2017-03-02 アイシン精機株式会社 車両用二酸化バナジウム薄膜の製造方法及びその積層体の製造方法
JP2017125953A (ja) * 2016-01-14 2017-07-20 富士フイルム株式会社 感放射線性組成物、膜、カラーフィルタ、遮光膜および固体撮像素子
JP2017182066A (ja) * 2016-03-30 2017-10-05 東友ファインケム株式会社Dongwoo Fine−Chem Co., Ltd. 灰色感光性樹脂組成物、これを用いて製造されたカラーフィルタおよび前記カラーフィルタを含むディスプレイ素子
KR20170112960A (ko) * 2016-03-30 2017-10-12 동우 화인켐 주식회사 회색 감광성 수지 조성물, 이를 이용하여 제조된 컬러필터 및 상기 컬러필터를 포함하는 디스플레이 소자
WO2018173446A1 (ja) * 2017-03-22 2018-09-27 Jsr株式会社 パターン形成方法
WO2018179704A1 (ja) * 2017-03-27 2018-10-04 Jsr株式会社 パターン形成方法
JP2018203936A (ja) * 2017-06-07 2018-12-27 リンテック株式会社 発光膜形成用塗布液及びその調製方法、並びに発光膜の製造方法
WO2019065128A1 (ja) * 2017-09-29 2019-04-04 富士フイルム株式会社 光硬化性組成物、積層体、及び、固体撮像素子
JP2020154329A (ja) * 2020-06-08 2020-09-24 富士フイルム株式会社 感放射線性組成物、膜、カラーフィルタ、遮光膜および固体撮像素子
WO2020262270A1 (ja) * 2019-06-27 2020-12-30 富士フイルム株式会社 組成物、膜および光センサ
JP2022023971A (ja) * 2017-09-26 2022-02-08 富士フイルム株式会社 積層体、及び、固体撮像素子
WO2024154684A1 (ja) * 2023-01-16 2024-07-25 東レ株式会社 膜および前記の膜を有するシートならびに光学デバイス

Families Citing this family (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN106198579B (zh) * 2015-06-01 2019-03-26 中国石油化工股份有限公司 一种测量页岩中有机质含量的方法
CN110095940A (zh) * 2018-01-30 2019-08-06 臻鼎科技股份有限公司 印刷电路板的制备方法以及感光树脂组合物
CN111886302A (zh) * 2018-03-27 2020-11-03 富士胶片株式会社 喷墨用黑色系油墨组合物、遮光膜及光学部件以及图像形成方法
JPWO2020059374A1 (ja) * 2018-09-20 2021-05-13 富士フイルム株式会社 黒色系インク組成物、遮光膜及びその製造方法、並びに、光学部材
TW202146379A (zh) * 2020-05-22 2021-12-16 日商富士軟片股份有限公司 樹脂組成物、膜、濾光器、固體攝像元件及圖像顯示裝置

Citations (11)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH0875915A (ja) * 1994-08-31 1996-03-22 Japan Synthetic Rubber Co Ltd 着色ミクロパターンの形成方法
JPH10268121A (ja) * 1997-03-21 1998-10-09 Sumitomo Rubber Ind Ltd ブラックマトリックス用インキとこれを用いたブラックマトリックス
JP2003155318A (ja) * 2001-09-04 2003-05-27 Mitsubishi Rayon Co Ltd 黒色顔料含有活性エネルギー線硬化性組成物およびこれを使用したレンチキュラーレンズシート
WO2008133312A1 (ja) * 2007-04-25 2008-11-06 Asahi Glass Company, Limited 感光性組成物、隔壁、ブラックマトリックス、カラーフィルタの製造方法
JP2008304583A (ja) * 2007-06-06 2008-12-18 Nippon Steel Chem Co Ltd ブラックレジスト用感光性樹脂組成物及びこれを用いた遮光膜並びにカラーフィルター
WO2010098327A1 (ja) * 2009-02-26 2010-09-02 富士フイルム株式会社 分散組成物、重合性組成物、遮光性カラーフィルタ、遮光性カラーフィルタを備えた液晶表示素子、固体撮像素子、ウエハレベルレンズ及び、ウエハレベルレンズを備えた撮像ユニット
JP2010215732A (ja) * 2009-03-13 2010-09-30 Fujifilm Corp 顔料分散液、着色硬化性組成物、これを用いたカラーフィルタ及びその製造方法
JP2011095701A (ja) * 2009-02-19 2011-05-12 Fujifilm Corp 分散組成物及びその製造方法、遮光性カラーフィルタ用感光性樹脂組成物及びその製造方法、遮光性カラーフィルタ及びその製造方法、並びに該遮光性カラーフィルタを備えた固体撮像素子
JP2011186437A (ja) * 2010-02-12 2011-09-22 Canon Inc 光学素子用の遮光膜および光学素子
JP2011227467A (ja) * 2010-03-31 2011-11-10 Toray Ind Inc 感光性黒色樹脂組成物、樹脂ブラックマトリクス基板
JP2012098688A (ja) * 2010-10-04 2012-05-24 Fujifilm Corp 黒色重合性組成物、及び、黒色層の作製方法

Family Cites Families (14)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH04371923A (ja) * 1991-06-20 1992-12-24 Canon Inc 強誘電性液晶表示装置
JP2007053153A (ja) 2005-08-16 2007-03-01 Toppan Printing Co Ltd 固体撮像素子及びその製造方法
JP4621639B2 (ja) * 2006-07-21 2011-01-26 株式会社リコー 電子写真現像剤用キャリア、現像剤、画像形成方法およびプロセスカートリッジ
JP5344843B2 (ja) * 2008-03-31 2013-11-20 富士フイルム株式会社 重合性組成物および固体撮像素子
JP5274151B2 (ja) 2008-08-21 2013-08-28 富士フイルム株式会社 感光性樹脂組成物、カラーフィルタ及びその製造方法、並びに、固体撮像素子
JP5121644B2 (ja) 2008-09-24 2013-01-16 富士フイルム株式会社 感光性樹脂組成物、カラーフィルタ及びその製造方法、並びに、固体撮像素子
JP5526673B2 (ja) 2009-09-16 2014-06-18 ソニー株式会社 固体撮像装置及び電子機器
JP5701576B2 (ja) 2009-11-20 2015-04-15 富士フイルム株式会社 分散組成物及び感光性樹脂組成物、並びに固体撮像素子
JP5442571B2 (ja) 2010-09-27 2014-03-12 パナソニック株式会社 固体撮像装置及び撮像装置
JP5222922B2 (ja) * 2010-10-12 2013-06-26 富士フイルム株式会社 パターン形成方法、パターン形成材料、並びに、これらを用いた感光性膜、パターン膜、低屈折率膜、光学デバイス、及び、固体撮像素子
KR101830206B1 (ko) * 2010-12-28 2018-02-20 후지필름 가부시키가이샤 차광막 형성용 티타늄 블랙 분산 조성물과 그 제조방법, 흑색 감방사선성 조성물, 흑색 경화막, 고체촬상소자, 및 흑색 경화막의 제조방법
CN103429429B (zh) * 2011-03-07 2016-06-08 富士胶片株式会社 易粘合板和用于太阳能电池的保护板
JP5806491B2 (ja) * 2011-03-31 2015-11-10 太陽インキ製造株式会社 硬化性樹脂組成物、それを用いたドライフィルム及びプリント配線板
JP2013238923A (ja) * 2012-05-11 2013-11-28 Toppan Printing Co Ltd タッチパネル用前面板、タッチパネル用前面板とタッチパネルセンサーとの一体型センサー基板、およびこれらを備えた表示装置

Patent Citations (12)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH0875915A (ja) * 1994-08-31 1996-03-22 Japan Synthetic Rubber Co Ltd 着色ミクロパターンの形成方法
JPH10268121A (ja) * 1997-03-21 1998-10-09 Sumitomo Rubber Ind Ltd ブラックマトリックス用インキとこれを用いたブラックマトリックス
JP2003155318A (ja) * 2001-09-04 2003-05-27 Mitsubishi Rayon Co Ltd 黒色顔料含有活性エネルギー線硬化性組成物およびこれを使用したレンチキュラーレンズシート
WO2008133312A1 (ja) * 2007-04-25 2008-11-06 Asahi Glass Company, Limited 感光性組成物、隔壁、ブラックマトリックス、カラーフィルタの製造方法
JP2008304583A (ja) * 2007-06-06 2008-12-18 Nippon Steel Chem Co Ltd ブラックレジスト用感光性樹脂組成物及びこれを用いた遮光膜並びにカラーフィルター
JP2011095701A (ja) * 2009-02-19 2011-05-12 Fujifilm Corp 分散組成物及びその製造方法、遮光性カラーフィルタ用感光性樹脂組成物及びその製造方法、遮光性カラーフィルタ及びその製造方法、並びに該遮光性カラーフィルタを備えた固体撮像素子
WO2010098327A1 (ja) * 2009-02-26 2010-09-02 富士フイルム株式会社 分散組成物、重合性組成物、遮光性カラーフィルタ、遮光性カラーフィルタを備えた液晶表示素子、固体撮像素子、ウエハレベルレンズ及び、ウエハレベルレンズを備えた撮像ユニット
JP2011153283A (ja) * 2009-02-26 2011-08-11 Fujifilm Corp 分散組成物、重合性組成物、遮光性カラーフィルタ、遮光性カラーフィルタを備えた液晶表示素子、固体撮像素子、ウエハレベルレンズ及び、ウエハレベルレンズを備えた撮像ユニット
JP2010215732A (ja) * 2009-03-13 2010-09-30 Fujifilm Corp 顔料分散液、着色硬化性組成物、これを用いたカラーフィルタ及びその製造方法
JP2011186437A (ja) * 2010-02-12 2011-09-22 Canon Inc 光学素子用の遮光膜および光学素子
JP2011227467A (ja) * 2010-03-31 2011-11-10 Toray Ind Inc 感光性黒色樹脂組成物、樹脂ブラックマトリクス基板
JP2012098688A (ja) * 2010-10-04 2012-05-24 Fujifilm Corp 黒色重合性組成物、及び、黒色層の作製方法

Cited By (24)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPWO2016013520A1 (ja) * 2014-07-25 2017-04-27 富士フイルム株式会社 カラーフィルタ、固体撮像素子
WO2016013520A1 (ja) * 2014-07-25 2016-01-28 富士フイルム株式会社 カラーフィルタ、固体撮像素子
JPWO2016152368A1 (ja) * 2015-03-24 2017-12-28 富士フイルム株式会社 分散組成物、感光性組成物、カラーフィルタおよびその製造方法、ならびに、固体撮像素子
WO2016152368A1 (ja) * 2015-03-24 2016-09-29 富士フイルム株式会社 分散組成物、感光性組成物、カラーフィルタおよびその製造方法、ならびに、固体撮像素子
JP2017042703A (ja) * 2015-08-25 2017-03-02 アイシン精機株式会社 車両用二酸化バナジウム薄膜の製造方法及びその積層体の製造方法
JP2017125953A (ja) * 2016-01-14 2017-07-20 富士フイルム株式会社 感放射線性組成物、膜、カラーフィルタ、遮光膜および固体撮像素子
KR20170112960A (ko) * 2016-03-30 2017-10-12 동우 화인켐 주식회사 회색 감광성 수지 조성물, 이를 이용하여 제조된 컬러필터 및 상기 컬러필터를 포함하는 디스플레이 소자
CN107272339A (zh) * 2016-03-30 2017-10-20 东友精细化工有限公司 灰色感光性树脂组合物、使用其制造的滤色器和包含该滤色器的显示元件
CN107272339B (zh) * 2016-03-30 2021-04-02 东友精细化工有限公司 灰色感光性树脂组合物、使用其制造的滤色器和包含该滤色器的显示元件
JP2017182066A (ja) * 2016-03-30 2017-10-05 東友ファインケム株式会社Dongwoo Fine−Chem Co., Ltd. 灰色感光性樹脂組成物、これを用いて製造されたカラーフィルタおよび前記カラーフィルタを含むディスプレイ素子
KR102572753B1 (ko) * 2016-03-30 2023-08-31 동우 화인켐 주식회사 회색 감광성 수지 조성물, 이를 이용하여 제조된 컬러필터 및 상기 컬러필터를 포함하는 디스플레이 소자
WO2018173446A1 (ja) * 2017-03-22 2018-09-27 Jsr株式会社 パターン形成方法
WO2018179704A1 (ja) * 2017-03-27 2018-10-04 Jsr株式会社 パターン形成方法
JP2018203936A (ja) * 2017-06-07 2018-12-27 リンテック株式会社 発光膜形成用塗布液及びその調製方法、並びに発光膜の製造方法
US11776977B2 (en) 2017-09-26 2023-10-03 Fujifilm Corporation Laminate and solid-state imaging element
JP2022023971A (ja) * 2017-09-26 2022-02-08 富士フイルム株式会社 積層体、及び、固体撮像素子
WO2019065128A1 (ja) * 2017-09-29 2019-04-04 富士フイルム株式会社 光硬化性組成物、積層体、及び、固体撮像素子
JP7012733B2 (ja) 2017-09-29 2022-01-28 富士フイルム株式会社 光硬化性組成物、積層体、及び、固体撮像素子
JPWO2019065128A1 (ja) * 2017-09-29 2020-11-19 富士フイルム株式会社 光硬化性組成物、積層体、及び、固体撮像素子
JPWO2020262270A1 (ja) * 2019-06-27 2020-12-30
WO2020262270A1 (ja) * 2019-06-27 2020-12-30 富士フイルム株式会社 組成物、膜および光センサ
JP7068385B2 (ja) 2020-06-08 2022-05-16 富士フイルム株式会社 感放射線性組成物、膜、カラーフィルタ、遮光膜および固体撮像素子
JP2020154329A (ja) * 2020-06-08 2020-09-24 富士フイルム株式会社 感放射線性組成物、膜、カラーフィルタ、遮光膜および固体撮像素子
WO2024154684A1 (ja) * 2023-01-16 2024-07-25 東レ株式会社 膜および前記の膜を有するシートならびに光学デバイス

Also Published As

Publication number Publication date
TW201424834A (zh) 2014-07-01
JP6071843B2 (ja) 2017-02-01
KR101965175B1 (ko) 2019-04-03
WO2014069544A1 (ja) 2014-05-08
KR20150046207A (ko) 2015-04-29
TWI621476B (zh) 2018-04-21

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP6071843B2 (ja) 固体撮像素子の画素形成用組成物、これを用いた灰色硬化膜、灰色画素及び固体撮像素子
JP5398759B2 (ja) 遮光膜及びその製造方法、並びに固体撮像素子
JP6109722B2 (ja) 固体撮像素子用保持基板及びその製造方法、固体撮像装置
JP7536925B2 (ja) 感光性着色組成物、硬化膜、カラーフィルタ、固体撮像素子および画像表示装置
JP6126975B2 (ja) 白色感光性樹脂組成物、白色硬化膜、及び白色パターンの製造方法
JP5535842B2 (ja) ウェハレベルレンズ用黒色硬化性組成物、及び、ウェハレベルレンズ
KR101793114B1 (ko) 분산 조성물 및 그 제조 방법, 차광성 컬러 필터용 감광성 수지 조성물 및 그 제조 방법, 차광성 컬러 필터 및 그 제조 방법, 및 상기 차광성 컬러 필터를 구비한 고체 촬상 소자
TWI795360B (zh) 硬化膜形成用組成物、硬化膜、彩色濾光片、遮光膜、固體攝像裝置及圖像顯示裝置
WO2019176409A1 (ja) 硬化膜の製造方法、固体撮像素子の製造方法
WO2017150093A1 (ja) 組成物、組成物の製造方法、硬化膜、カラーフィルタ、遮光膜、固体撮像素子および画像表示装置
JP5813325B2 (ja) 黒色重合性組成物、及び、黒色層の作製方法
JP7016891B2 (ja) 組成物、膜、カラーフィルタ、固体撮像素子、画像表示装置および化合物の製造方法
WO2017169584A1 (ja) 組成物、硬化膜、カラーフィルタ、遮光膜、固体撮像素子および画像表示装置
JP6158765B2 (ja) 感放射線性組成物、カラーフィルタおよびその製造方法、ならびに、固体撮像素子
WO2019069609A1 (ja) 硬化膜の製造方法、固体撮像素子の製造方法、画像表示装置の製造方法
JP5657337B2 (ja) ウエハレベルレンズ用チタンブラック分散物、それを含有する感光性樹脂組成物、及び、ウエハレベルレンズ
JP5689691B2 (ja) チタンブラック分散物、感光性樹脂組成物、遮光膜及びその製造方法、並びに固体撮像素子
JP5710283B2 (ja) ウエハレベルレンズ用チタンブラック分散物、それを含有する感光性樹脂組成物、ウエハレベルレンズ、及び、固体撮像素子
WO2019065456A1 (ja) 硬化性組成物、硬化膜、固体撮像装置、及び、硬化膜の製造方法
JP6598868B2 (ja) 組成物、硬化膜、パターン、パターンの製造方法、光学センサー、及び撮像素子
JP5518656B2 (ja) 黒色重合性組成物、及び黒色層の作製方法

Legal Events

Date Code Title Description
A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20150423

A977 Report on retrieval

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007

Effective date: 20160129

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20160405

A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20160530

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20160712

A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20160909

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20161101

A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20161130

TRDD Decision of grant or rejection written
A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 20161220

A61 First payment of annual fees (during grant procedure)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61

Effective date: 20161227

R150 Certificate of patent or registration of utility model

Ref document number: 6071843

Country of ref document: JP

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250