JP2013243267A - 静電チャック、静電チャックの製造方法 - Google Patents
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Abstract
異常放電の発生を抑制した静電チャック、静電チャックを提供することを課題とする。
【解決手段】
静電チャックは、高周波電源に接続され、ガス流路が形成される金属製の台座部と、前記台座部側に配設される一方の面側から形成され、前記ガス流路に連通する第1穴部と、前記第1穴部よりも小さい開口を有し、前記第1穴部から他方の面側まで形成される第2穴部とを備える絶縁基板と、絶縁性材料で形成され、一端が前記一方の面側から前記第1穴部に挿入されるとともに、他端が前記ガス流路内に配設され、前記ガス流路から供給されるガスを前記第2穴部に通流させる絶縁通流部とを含む。
【選択図】図3
Description
図1は、比較例1の静電チャックの断面構造を示す図である。
図3は、実施の形態1の静電チャック100の断面構造を示す図である。
図6は、実施の形態2の静電チャック200の断面構造を示す図である。
図8は、実施の形態3の静電チャック300の断面構造を示す図である。
11、311 ベースプレート
13、313 ヒータプレート
115、315 セラミック基板
16 電極
120、220、320 絶縁スリーブ
Claims (6)
- 高周波電源に接続され、ガス流路が形成される金属製の台座部と、
前記台座部に搭載され、前記台座部に対向する一方の面側において、前記ガス流路に連通する第1穴部と、前記第1穴部よりも小さい開口を有し、前記第1穴部から他方の面側に連通する第2穴部とを備える絶縁基板と、
絶縁性材料で形成され、一端が前記第1穴部に挿入されるとともに、他端が前記ガス流路内に配設され、前記ガス流路から供給されるガスを前記第2穴部に通流させる絶縁通流部と
を含む、静電チャック。 - 高周波電源に接続され、ガス流路が形成される金属製の台座部と、
前記台座部に搭載され、前記台座部のガス流路に連通するガス流路が形成されるヒータプレートと、
前記ヒータプレートに搭載され、前記ヒータプレートに対向する一方の面側において、前記ヒータプレートのガス流路に連通する第1穴部と、前記第1穴部よりも小さい開口を有し、前記第1穴部から他方の面側に連通する第2穴部とを備える絶縁基板と、
絶縁性材料で形成され、一端が前記第1穴部に挿入されるとともに、他端が前記台座部又は前記ヒータプレートのガス流路内に配設され、前記ガス流路から供給されるガスを前記第2穴部に通流させる絶縁通流部と
を含む、静電チャック。 - 前記絶縁通流部の前記他端は、前記台座部のガス流路の流入口に位置する、請求項1又は2記載の静電チャック。
- 前記絶縁通流部は、絶縁性材料で形成される管状部材である、請求項1乃至3のいずれか一項記載の静電チャック。
- 前記絶縁通流部は、絶縁材料で形成される多孔質の柱状部材である、請求項1乃至3のいずれか一項記載の静電チャック。
- 絶縁基板に、一方の面側から開口する第1穴部と、前記第1穴部よりも小さい開口径を有し、前記第1穴部から他方の面側まで開口する第2穴部とを形成する工程と、
絶縁性材料で形成され、一端から他端にガスを通流可能な絶縁通流部の前記一端を前記第1穴部に挿入する工程と、
高周波電源に接続される金属製の台座部のガス流路、又は、前記台座部に搭載されるヒータプレートのガス流路に、前記絶縁通流部の他端を挿入する工程と
を含む、静電チャックの製造方法。
Priority Applications (4)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2012116035A JP5984504B2 (ja) | 2012-05-21 | 2012-05-21 | 静電チャック、静電チャックの製造方法 |
US13/890,566 US9660557B2 (en) | 2012-05-21 | 2013-05-09 | Electrostatic chuck and method for manufacturing the electrostatic chuck |
TW102116978A TWI591751B (zh) | 2012-05-21 | 2013-05-14 | 靜電夾頭及製造靜電夾頭之方法 |
KR1020130055479A KR102048789B1 (ko) | 2012-05-21 | 2013-05-16 | 정전 척 및 정전 척의 제조 방법 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2012116035A JP5984504B2 (ja) | 2012-05-21 | 2012-05-21 | 静電チャック、静電チャックの製造方法 |
Publications (3)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2013243267A true JP2013243267A (ja) | 2013-12-05 |
JP2013243267A5 JP2013243267A5 (ja) | 2015-06-18 |
JP5984504B2 JP5984504B2 (ja) | 2016-09-06 |
Family
ID=49581114
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2012116035A Active JP5984504B2 (ja) | 2012-05-21 | 2012-05-21 | 静電チャック、静電チャックの製造方法 |
Country Status (4)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US9660557B2 (ja) |
JP (1) | JP5984504B2 (ja) |
KR (1) | KR102048789B1 (ja) |
TW (1) | TWI591751B (ja) |
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JP7409536B1 (ja) | 2023-02-22 | 2024-01-09 | Toto株式会社 | 静電チャック及びその製造方法 |
JP7409535B1 (ja) | 2023-02-22 | 2024-01-09 | Toto株式会社 | 静電チャック及びその製造方法 |
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JP5811513B2 (ja) | 2014-03-27 | 2015-11-11 | Toto株式会社 | 静電チャック |
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- 2012-05-21 JP JP2012116035A patent/JP5984504B2/ja active Active
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- 2013-05-09 US US13/890,566 patent/US9660557B2/en active Active
- 2013-05-14 TW TW102116978A patent/TWI591751B/zh active
- 2013-05-16 KR KR1020130055479A patent/KR102048789B1/ko active IP Right Grant
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JP7409535B1 (ja) | 2023-02-22 | 2024-01-09 | Toto株式会社 | 静電チャック及びその製造方法 |
Also Published As
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---|---|
TWI591751B (zh) | 2017-07-11 |
US20130308244A1 (en) | 2013-11-21 |
KR102048789B1 (ko) | 2019-11-26 |
TW201409604A (zh) | 2014-03-01 |
KR20130129842A (ko) | 2013-11-29 |
JP5984504B2 (ja) | 2016-09-06 |
US9660557B2 (en) | 2017-05-23 |
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Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20150428 |
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A621 | Written request for application examination |
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A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
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|
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